JPH03187141A - Ｘ線発生装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、ターゲットに電子を当ててそこからＸ線を発
生させるＸ線発生装置に関する。特に、ターゲットのＸ
線照射面と反対の面に冷却液、例えば水を流してそのタ
ーゲットを冷却する形式のＸ線発生装置に関する。

［従来の技術］ 上記形式のＸ線発生装置として、第３図および第４図に
示す装置が知られている。このＸ線発生装置では、はぼ
円筒状のターゲット５１が弾性を有する環状の封止部材
、いわゆるＯリング５２を介してベース部材５３にはめ
込まれる。第４図に示すように、フィラメント５４が固
定されている管体５５は、その下端がベース部材５３の
上面に接合されており、これにより真空室５６が形式さ
れている。真空室５６内において、フィラメント５４か
ら放出された電子がターゲット５１に当り、そこからＸ
線が放射される。放射されたＸ線は、管体５５の適所に
設けられたベリリウムなどのＸ線透過性材料から成るＸ
線取出し用窓５７から適宜の取出し角度で外部へ取り出
される。

ベース部材５３の内部には、次のような通水路が設けら
れている。すなわち、ベース部材５３の右端部に設けら
れた受水口５８、連通路５９、ベース部材５３の中央部
に設番すられた十字形状（第３図参照）の噴出口６０．
　　連通路６１．そして排水口６２から成る通水路であ
る。冷却液である水は、この通水路を矢印のように流れ
、ターゲット５１を冷却する。

一般に、ターゲットへ照射される電子は、そのうちのほ
んの数パーセントがＸ線に変換されるだけであって、は
とんどのものは熱に変わってしまう。それ故、ターゲッ
トは非常に高温になる。上記のように、通水路を流れる
水によってターゲット５１を冷却しているのは、電子の
衝突によって異常高温になるおそれのあるターゲット５
１を冷却するためである。

冷却水を用いてターゲットを冷却するようにしたこの種
のＸ線発生装置においては、冷却水が通水路の外部、特
に真空室５６内へ漏れるおそれがある。これを防止する
ため従来の装置では、ターゲット５１とベース部材５３
との間にＯリング５２を配置し二　これにより、冷却水
の漏れを防止していた。

［発明が解決しようとする！＋！！０］しかしながら上
記の従来装置では、Ｏリング５２がターゲット５１によ
って加熱されることにより、そのＯリング５２からガス
が発生し、発生したガスが真空室５６内へ入って、真空
室内の真空度を低下させるという事態が生じていた。そ
の結果、真空室５６内において異常放電が発生したり、
ターゲット５１の電子照射面が酸化するなどといった不
都合が発生していた。

本発明は、従来装置における上記の点に鑑みてなされた
ものであって、冷却水の漏れを防止するためのＯリング
、すなわち環状封止部材から発生するガスが真空室内へ
漏れ込むのを防止することを目的とする。

［課題を解決するための手段］ 上記の目的を遠戚するため１本発明に係るＸ線発生装置
は、真空室を形成する管体が、ベース部材ではなくてタ
ーゲットそれ自体の電子照射面と一体な面に接合され、
モして封止部材が、ターゲットの電子照射面と反対の面
に設けられることを特徴としている。

［作用］ 管体（５）は、ターゲット（１）の電子照射面（１５）
の側に接合されている。よって、ターゲットの電子照射
面と反対側の面は、管体によって形成される真空室（６
）に面していない。Ｏリング（２）などの封止部材は、
真空室に面していないその電子照射面と反対の面に設け
られている。

よって、高温のために封止部材から発生したガスが真空
室内へ入り込むことがない。

［実施例］ 第１図は本発明に係るＸ線発生装置の要部を分解して示
している。

同図において、ターゲットｌは電子照射面１５とフラン
ジ１６とから成っている。このターゲット１は、ボルト
などの締結手段（図示せず）によって、Ｏリング２を介
してベース部材３に固定される。この場合、Ｗ２図に示
すように、ターゲットフランジ１６の下面全域がベース
部材３に接触する。ターゲット１とベース部材３が結合
された状態で、受水口８、連通路９、十字状噴出口１０
、連通路１１．そして排水口１２によって、第４図に示
した従来装置と同様に、通水路が形成される。

ターゲット１とベース部材３の組立体には、第１図に示
すように、管体５がボルトなどの締結手段（図示せず）
によって結合される。管体５には、予め軸方向に沿って
給水路１７ａおよび排水路１７ｂの２本の通水路が形成
されていて、給水路１７ａがターゲットの受水口８に連
通し、排水路１７ｂがターゲットの排水口１２に連通ず
る。管体５には、フィラメント４および図示しない空気
吸引手段が取り付けられている。

その空気吸引手段によって空気が引かれることにより、
管体５によって囲まれる空間である真空室６が真空とな
る。この真空状態において、フィラメント４から電子が
放出され、その電子がターゲット１の電子照射面１５に
衝突してそこからＸ線が発生する。このＸ線は、第４図
に示したＸ線取出用窓５７と同様の窓（第２図では給水
管１７ａに隠れている）を介して外部に取り出される。

給水管１７ａには、予め給水手段（図示せず）が接続さ
れている。上記のようにＸ線が発生されている間、その
給水手段から送り出された冷却水が、ターゲット１とベ
ース部材３との間に形成された上記の通水路を流れ、こ
れによりターゲット１が冷却される。

本実施例では管体５が、ターゲット１の電子照射面１５
と同一面であるフランジ１６の上面に直接に接合されて
おり、しかもＯリング２はターゲットｌの電子照射面１
５と反対側の面、すなわちフランジ１６の下面に設けら
れている。従って。

ターゲットエが高温となってＯリング２からガスが発生
したとしても、そのガスが真空室６内へ流れ込むことが
ない。これにより、真空室６内における、真空度の低下
、あるいはターゲットの電子照射面■５の酸化などを未
然に防ぐことができる。

また、Ｏリング２は、ターゲット１のフランジ１６部分
に設けられており、そしてこのフランジ部分は、ベース
部材３と全面的に接触しているために比較的低温度に冷
却されているので、Ｏリングそれ自体が余り高温度にな
ることがなく、よってＯリング２からのガスの発生自体
も減少する。

以上、一つの実施例をあげて本発明を説明したが、本発
明はその実施例に限定されることはない。

例えば、ターゲット１、ベース部材３、管体５などの材
質および形状は、本発明の範囲内で種々に変更すること
ができる。

また、０リング２は、冷却水が外部へ漏れるのを防止す
ることを目的とするものであって、この目的が遠戚され
る限りにおいて、他の任意の材質および形状のものを用
いることができる。

［発明の効果］ 本発明によれば、真空室を形成するための管体がターゲ
ットの電子照射面と同一の面に直接接合され、その上、
封止部材（Ｏリング〉がその電子照射面の裏側に設けら
れている。従って、封止部材それ自体があまり高温とな
らないので、その封止部材からのガスの発生を低く抑え
ることができ、また仮に、ガスが発生したとしてもそれ
が管体内の真空室に入り込むことを完全に防止すること
ができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係るＸ線発生装置の一実施例の要部の
分解斜視図、第２図はその実施例の側断面図、第３図お
よび第４図は従来のＸ線発生装置の一例を示す図である
。 ｌ・・・ターゲット　　　　　２・・・Ｏリング５・・
・管体　　　　　　　　６・・・真空室８・・・受水口
　　　　　　　９，１１・・・連通路１０・・・噴出口
　　　　　　１２・・・排水口１５・・・電子照射面 １７ａ、１７ｂ−通水路

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 管体によって形成された真空室内において、ターゲット
   の電子照射面に電子を当ててそこからＸ線を発生させ、
   それと同時にターゲットの電子照射面と反対の面に冷却
   液を流してターゲットを冷却するＸ線発生装置であつて
   、 上記管体は、ターゲットの電子照射面側に接合されてお
   り、 ターゲットの電子照射面と反対の面に、冷却液が外部へ
   漏れるのを防止する封止部材を設けたことを特徴とする
   Ｘ線発生装置。