JPH03187736A - 熱線遮断ガラス - Google Patents
熱線遮断ガラスInfo
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- JPH03187736A JPH03187736A JP2047136A JP4713690A JPH03187736A JP H03187736 A JPH03187736 A JP H03187736A JP 2047136 A JP2047136 A JP 2047136A JP 4713690 A JP4713690 A JP 4713690A JP H03187736 A JPH03187736 A JP H03187736A
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- film
- refractive index
- oxide
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- glass
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野]
本発明は、熱線遮断ガラスに関するものである。
[従来の技術]
従来から、窓ガラスを通して建物の室内に流入する太陽
エネルギーを遮断して室内の温度上昇を抑え、冷房負荷
を軽減するために熱線遮断ガラスが使われている。従来
の熱線遮断ガラスとしては、スプレー法、CVD法、あ
るいは浸漬法などで酸化チタン、酸化錫などの酸化物薄
膜をガラス上に数百人形底したものが知られている。最
近では、スパッタリング法により酸化物ばかりでなく、
金属や窒化物などの薄膜が大面積に自由に形成できるよ
うになった。このため、クロムやチタンなどの遷移金属
の単層膜系、金属/酸化物膜、あるいは窒化物膜/酸化
物膜の2層膜系、または酸化物膜/窒化物膜/酸化物膜
、あるいは酸化物膜/金属/酸化物膜の3層膜系、ある
いはそれ以上の多層膜構成の熱線遮断ガラスも使われる
ようになってきた。
エネルギーを遮断して室内の温度上昇を抑え、冷房負荷
を軽減するために熱線遮断ガラスが使われている。従来
の熱線遮断ガラスとしては、スプレー法、CVD法、あ
るいは浸漬法などで酸化チタン、酸化錫などの酸化物薄
膜をガラス上に数百人形底したものが知られている。最
近では、スパッタリング法により酸化物ばかりでなく、
金属や窒化物などの薄膜が大面積に自由に形成できるよ
うになった。このため、クロムやチタンなどの遷移金属
の単層膜系、金属/酸化物膜、あるいは窒化物膜/酸化
物膜の2層膜系、または酸化物膜/窒化物膜/酸化物膜
、あるいは酸化物膜/金属/酸化物膜の3層膜系、ある
いはそれ以上の多層膜構成の熱線遮断ガラスも使われる
ようになってきた。
単層膜と異なり、3層、またはそれ以上の多層膜構成の
熱線遮断ガラスは、干渉を利用することで反射率や反射
色調をかなり自由に選択することが可能である。このた
め、意匠性を重視する建築用に需要が伸びている。
熱線遮断ガラスは、干渉を利用することで反射率や反射
色調をかなり自由に選択することが可能である。このた
め、意匠性を重視する建築用に需要が伸びている。
この他に、Low−Eガラス(低放射率ガラス)と呼ば
れ、室内からの熱線を反射することにより室内の温度の
低下を防ぎ、暖房負荷を軽減するための熱線反射ガラス
も知られている。
れ、室内からの熱線を反射することにより室内の温度の
低下を防ぎ、暖房負荷を軽減するための熱線反射ガラス
も知られている。
これは、酸化膜/A g/酸化膜、あるいは酸化膜/A
g/酸化膜/Ag/酸化膜の構成の積層膜を有し、主に
寒冷地で用いられている。しかし、Ag膜を使用してい
るので耐久性に劣る。
g/酸化膜/Ag/酸化膜の構成の積層膜を有し、主に
寒冷地で用いられている。しかし、Ag膜を使用してい
るので耐久性に劣る。
このため、合わせガラスか複層ガラスのかたちで積層膜
が外部に露出しない様にして用いられる。このLow−
Eガラスは、太陽光の熱線遮断効果も有するため、一部
の自動車ガラスにもこの目的で採用されている。
が外部に露出しない様にして用いられる。このLow−
Eガラスは、太陽光の熱線遮断効果も有するため、一部
の自動車ガラスにもこの目的で採用されている。
従来のスプレー法、CVD法、浸漬法などで酸化チタン
や酸化錫などの酸化物膜をガラス上に形成した熱線遮断
ガラスは、低コストで生産性良く製造できる反面、最近
のスパッタリング法によって形成された金属又は合金系
の単層又は多層系の熱線遮断ガラスと比べると、熱線遮
断性能がやや劣ること、又、酸化錫は酸に弱く、化学的
安定性が十分でないという問題点を有していた。
や酸化錫などの酸化物膜をガラス上に形成した熱線遮断
ガラスは、低コストで生産性良く製造できる反面、最近
のスパッタリング法によって形成された金属又は合金系
の単層又は多層系の熱線遮断ガラスと比べると、熱線遮
断性能がやや劣ること、又、酸化錫は酸に弱く、化学的
安定性が十分でないという問題点を有していた。
又、クロムやチタンなどの遷移金属の単層膜系熱線遮断
ガラスは、一般に可視光線反射率Rvが10〜50%と
高く、反射色もデザイン面からブロンズ、ブルー、グリ
ーン、グレー ゴールド、シルバーなどの色がついてい
る。又、可視光線透過率Tvも10〜60%と低い。こ
のため、自然な色、即ちニュートラル色で低い反射率、
且つ70%以上の可視光線透過率が要求される自動車用
や一般家庭の窓ガラスに応用するには、不適当であった
。又、かかる金属の単層膜では、耐擦傷性、化学的安定
性といった耐久性もあまり十分でな(、自動車用など、
使用環境も厳しい用途には単板で用いることは不可能で
あった。
ガラスは、一般に可視光線反射率Rvが10〜50%と
高く、反射色もデザイン面からブロンズ、ブルー、グリ
ーン、グレー ゴールド、シルバーなどの色がついてい
る。又、可視光線透過率Tvも10〜60%と低い。こ
のため、自然な色、即ちニュートラル色で低い反射率、
且つ70%以上の可視光線透過率が要求される自動車用
や一般家庭の窓ガラスに応用するには、不適当であった
。又、かかる金属の単層膜では、耐擦傷性、化学的安定
性といった耐久性もあまり十分でな(、自動車用など、
使用環境も厳しい用途には単板で用いることは不可能で
あった。
又、前述したタイプのLow−Eガラスは、比較的ニュ
ートラルな反射色を有し、70%以上の可視光線透過率
を有するが、Ag膜を用いているので耐擦傷性が不十分
な為、単板では使用できず、必ず合せガラス化あるいは
複層ガラス化しなければならないという難点があった。
ートラルな反射色を有し、70%以上の可視光線透過率
を有するが、Ag膜を用いているので耐擦傷性が不十分
な為、単板では使用できず、必ず合せガラス化あるいは
複層ガラス化しなければならないという難点があった。
又、従来の金属/酸化物膜や窒化物膜/酸化物膜などの
2層系の熱線遮断ガラスにおいては、ニュートラルな色
調、耐久性、高透過率、低反射率を有するものは得られ
ていなかった。
2層系の熱線遮断ガラスにおいては、ニュートラルな色
調、耐久性、高透過率、低反射率を有するものは得られ
ていなかった。
又、チタン、ジルコニウム、クロムなどの金属、又はこ
れらの金属の窒化物からなる膜を高屈折率酸化物膜で挟
んだ3層構成の熱線遮断ガラスも、十分に良好な熱線遮
断性能を有しており、酸化物膜の厚みを調整し、光の干
渉を利用して可視光の反射率を抑えて可視光線透過率を
70%以上にすることが可能であり、最外層が酸化物膜
であるため、耐久性も優れているので単板の熱線遮断ガ
ラスとして好適ではあるが、光の干渉によってブルー
ピンク、あるいは黄色などの色を帯びてしまい、自然で
ニュートラルな外観が得られに(いという問題を有して
いた。
れらの金属の窒化物からなる膜を高屈折率酸化物膜で挟
んだ3層構成の熱線遮断ガラスも、十分に良好な熱線遮
断性能を有しており、酸化物膜の厚みを調整し、光の干
渉を利用して可視光の反射率を抑えて可視光線透過率を
70%以上にすることが可能であり、最外層が酸化物膜
であるため、耐久性も優れているので単板の熱線遮断ガ
ラスとして好適ではあるが、光の干渉によってブルー
ピンク、あるいは黄色などの色を帯びてしまい、自然で
ニュートラルな外観が得られに(いという問題を有して
いた。
このように、単板で使用できる程度の高耐久性を有し、
可視光線透過率が高く、特に自動車の窓ガラスとして使
用できる様70%以上であって、透過率、反射色共にニ
ュートラルな熱線遮断ガラスは得られていなかった。
可視光線透過率が高く、特に自動車の窓ガラスとして使
用できる様70%以上であって、透過率、反射色共にニ
ュートラルな熱線遮断ガラスは得られていなかった。
そこで本発明者は、透明基板上に熱線吸収膜、酸化物膜
の少なくとも2層が順次積層された熱線遮断ガラスであ
って、該酸化物膜が空気側最外層であり、かつ2.0以
下の屈折率を有することを特徴とする熱線遮断ガラスを
既に提供した。(特願昭63−144827号)しかし
ながら、屈折率2.0以下の低屈折率膜として酸化珪素
、酸化アルミニウム、酸化錫等を用いる場合には耐アル
カリ性、耐酸性等の長期化学的耐久性に劣っていた。
の少なくとも2層が順次積層された熱線遮断ガラスであ
って、該酸化物膜が空気側最外層であり、かつ2.0以
下の屈折率を有することを特徴とする熱線遮断ガラスを
既に提供した。(特願昭63−144827号)しかし
ながら、屈折率2.0以下の低屈折率膜として酸化珪素
、酸化アルミニウム、酸化錫等を用いる場合には耐アル
カリ性、耐酸性等の長期化学的耐久性に劣っていた。
[発明の解決しようとする課題]
本発明の目的は、従来技術が有していた上記の欠点を解
決し、耐久性、特に化学的安定性に優れた熱線遮断ガラ
スを提供しようとするものである。
決し、耐久性、特に化学的安定性に優れた熱線遮断ガラ
スを提供しようとするものである。
[課題を解決するための手段]
即ち、本発明は、透明基板上に熱線遮断膜、低屈折率酸
化物膜、保護膜と順次積層された少なくとも三層よりな
り、その低屈折率酸化物膜の屈折率が2.0以下である
熱線遮断ガラスであって、その保護層が硼素と珪素のう
ち少なくとも1種とジルコニウム、チタン、ハフニウム
、錫、タンタル、インジウムのうち少なくとも1種とを
含む酸化物を主成分とする非晶質膜からなることを特徴
とする熱線遮断ガラス。
化物膜、保護膜と順次積層された少なくとも三層よりな
り、その低屈折率酸化物膜の屈折率が2.0以下である
熱線遮断ガラスであって、その保護層が硼素と珪素のう
ち少なくとも1種とジルコニウム、チタン、ハフニウム
、錫、タンタル、インジウムのうち少なくとも1種とを
含む酸化物を主成分とする非晶質膜からなることを特徴
とする熱線遮断ガラス。
を提供するものである。
第1図は本発明の熱線遮断ガラスの一例の断面図であり
、lは透明基板、2は熱線遮断膜、3は低屈折率酸化膜
、4は保護膜である。
、lは透明基板、2は熱線遮断膜、3は低屈折率酸化膜
、4は保護膜である。
透明基板1としては、ソーダライムガラス板や熱線吸収
ガラス板等の各種ガラス板や、プラスチックなどが使用
でき、特に限定されるものではない。
ガラス板等の各種ガラス板や、プラスチックなどが使用
でき、特に限定されるものではない。
次に透明基板上lに第1層として熱線遮断膜2を形成す
る。この上に反射率を下げかつ干渉による色が目立たな
(するために屈折率の低い酸化膜(第2層)3を形成す
る。これに先立ち、熱線遮断層が酸化されないためにメ
タル等からなる薄いバリア層を形成しておくことは、透
過率、反射率、色調などのコントロールを容易にする。
る。この上に反射率を下げかつ干渉による色が目立たな
(するために屈折率の低い酸化膜(第2層)3を形成す
る。これに先立ち、熱線遮断層が酸化されないためにメ
タル等からなる薄いバリア層を形成しておくことは、透
過率、反射率、色調などのコントロールを容易にする。
次に、耐久性特に化学的安定性に優れる保護膜(第3層
)4を形成する。
)4を形成する。
低屈折率酸化物膜3の膜材料としては、屈折率が2.0
以下であれば可視光線透過率が70%以上の熱線遮断ガ
ラスが得られやすいので特に限定されないが、硼素又は
珪素のうち少なくとも一種とジルコニウム、チタン、タ
ンタル、ハフニウム、インジウム、錫のうち少なくとも
1種とを含む酸化物や、酸化錫、あるいは酸化珪素など
が好適な例として挙げられる。
以下であれば可視光線透過率が70%以上の熱線遮断ガ
ラスが得られやすいので特に限定されないが、硼素又は
珪素のうち少なくとも一種とジルコニウム、チタン、タ
ンタル、ハフニウム、インジウム、錫のうち少なくとも
1種とを含む酸化物や、酸化錫、あるいは酸化珪素など
が好適な例として挙げられる。
硼素又は珪素のうち少なくとも一種とジルコニウム、チ
タン、タンタル、ハフニウム、インジウム、錫のうち少
なくとも1種とを含む酸化物膜は、非晶質であるため、
耐摩耗性が大変良好であり、特に高耐久性が要求される
用途に最適である。硼素及び珪素とジルコニウム、チタ
ン等の含有割合は特に限定されないが、硼素又は珪素の
含有割合があまり少ないと屈折率が2.0を超えてしま
い、可視光線透過率が70%以上の熱線遮断ガラスが得
られにくくなってしまう為、ジルコニウム 100部に
対して硼素、珪素、又はその合計が原子比で30以上、
特に80部以上含むことが望ましい。
タン、タンタル、ハフニウム、インジウム、錫のうち少
なくとも1種とを含む酸化物膜は、非晶質であるため、
耐摩耗性が大変良好であり、特に高耐久性が要求される
用途に最適である。硼素及び珪素とジルコニウム、チタ
ン等の含有割合は特に限定されないが、硼素又は珪素の
含有割合があまり少ないと屈折率が2.0を超えてしま
い、可視光線透過率が70%以上の熱線遮断ガラスが得
られにくくなってしまう為、ジルコニウム 100部に
対して硼素、珪素、又はその合計が原子比で30以上、
特に80部以上含むことが望ましい。
以上、本発明の熱線遮断ガラスの低屈折率酸化物膜3と
して、硼素又は珪素のうち少なくとも一種とジルコニウ
ム、チタン等のうち少なくとも1種とを含む酸化物膜、
酸化錫膜、酸化珪素膜を挙げたが、特にこれだけに限定
されるものではなく、又、これらの酸化物膜が耐久性向
上、光学定数調整、成膜時の安定性、あるいは成膜速度
の向上などのために、他の成分を含んでいても差しつか
えない、又、本発明の低屈折率酸化物膜3は必ずしも完
全に透明である必要はな(、酸素欠損の状態の吸収性膜
であってもよいし、一部窒素や炭素を含有していてもよ
い。
して、硼素又は珪素のうち少なくとも一種とジルコニウ
ム、チタン等のうち少なくとも1種とを含む酸化物膜、
酸化錫膜、酸化珪素膜を挙げたが、特にこれだけに限定
されるものではなく、又、これらの酸化物膜が耐久性向
上、光学定数調整、成膜時の安定性、あるいは成膜速度
の向上などのために、他の成分を含んでいても差しつか
えない、又、本発明の低屈折率酸化物膜3は必ずしも完
全に透明である必要はな(、酸素欠損の状態の吸収性膜
であってもよいし、一部窒素や炭素を含有していてもよ
い。
低屈折率酸化物膜層3の膜厚は限定されないが、あまり
薄いと十分な耐久性が得られない為、用途にもよるが、
50八以上、好ましくは100Å以上、特に150Å以
上であることが望ましい。一方、あまり厚くなると、屈
折率にも依るが、干渉効果が生じてきて反射色も強くな
るので、1000Å以下、好ましくは700Å以下、特
に500Å以下であることが好ましい。
薄いと十分な耐久性が得られない為、用途にもよるが、
50八以上、好ましくは100Å以上、特に150Å以
上であることが望ましい。一方、あまり厚くなると、屈
折率にも依るが、干渉効果が生じてきて反射色も強くな
るので、1000Å以下、好ましくは700Å以下、特
に500Å以下であることが好ましい。
熱線遮断膜2の膜材料は特に限定されず、用途によって
、あるいは要求仕様によって、金属、炭化物、酸化物、
又はこれらの複合膜から選定される。具体的には、チタ
ン、クロム、ジルコニウム、タンタル、ハフニウム、窒
化チタン、窒化クロム、窒化ジルコニウム、窒化タンタ
ル、窒化ハフニウムのうち一種を主成分とした膜が熱線
遮断性能が良好なため好ましい。
、あるいは要求仕様によって、金属、炭化物、酸化物、
又はこれらの複合膜から選定される。具体的には、チタ
ン、クロム、ジルコニウム、タンタル、ハフニウム、窒
化チタン、窒化クロム、窒化ジルコニウム、窒化タンタ
ル、窒化ハフニウムのうち一種を主成分とした膜が熱線
遮断性能が良好なため好ましい。
かかる熱線遮断膜2の膜厚としては、あまり厚くなると
可視光線透過率が低下してしまうので、基板1の種類、
低屈折率酸化物膜3の屈折率と膜厚にも依るが、100
0Å以下、好ましくは800Å以下が望まれる。800
人を超えると、特に窒化物膜の場合には、内部応力が大
きくなり膜の剥離が生じやすくなる。又、あまり薄いと
十分な熱線遮断性能が得られないので、膜材料と基板ガ
ラスの板厚、種類にも依るが、20Å以上、好ましくは
20〜100人であることが好ましい。
可視光線透過率が低下してしまうので、基板1の種類、
低屈折率酸化物膜3の屈折率と膜厚にも依るが、100
0Å以下、好ましくは800Å以下が望まれる。800
人を超えると、特に窒化物膜の場合には、内部応力が大
きくなり膜の剥離が生じやすくなる。又、あまり薄いと
十分な熱線遮断性能が得られないので、膜材料と基板ガ
ラスの板厚、種類にも依るが、20Å以上、好ましくは
20〜100人であることが好ましい。
保護膜3としては、チタン、ジルコニウム、ハフニウム
、錫及びタンタル、インジウムの群から選ばれた少なく
とも1種と硼素、珪素の群から選ばれた少なくとも1種
からなる酸化物膜が好ましい。
、錫及びタンタル、インジウムの群から選ばれた少なく
とも1種と硼素、珪素の群から選ばれた少なくとも1種
からなる酸化物膜が好ましい。
保護膜3の組成は特に限定はないが、膜が非晶質化して
耐擦傷性や信頼性向上のためには、チタン、ジルコニウ
ム、ハフニウム、錫、タンタル、インジウム、硼素、珪
素の酸化物膜をそれぞれTi0g、ZrOs、HfO*
、Sn0m、Ta1Os、InaOi、Ba0a。
耐擦傷性や信頼性向上のためには、チタン、ジルコニウ
ム、ハフニウム、錫、タンタル、インジウム、硼素、珪
素の酸化物膜をそれぞれTi0g、ZrOs、HfO*
、Sn0m、Ta1Os、InaOi、Ba0a。
Stow ト表わすトキ、Ties、 ZrOs、 H
fO*、 Snow、 TatO++。
fO*、 Snow、 TatO++。
及びIn10mから選ばれた酸化物の合計100部に対
して、B*Os、SIO□から選ばれた酸化物の合計が
モル比で5部以上、好ましくは10部以上、特に20部
以上あるのが良い、またB、03の場合、あまり多いと
信頼性が低下するので、用途によっては、Ties、
ZrOs、 HfO*、 Snow、TazOs、及び
In、0.から選ばれた酸化物の合計100部に対して
モル比で200部以下好ましくは100部以下、特に5
0部以下が良い、 Sin、の場合は、あまり多いとア
ルカリに対する耐久性が低下するので、TiO,、Zr
O□。
して、B*Os、SIO□から選ばれた酸化物の合計が
モル比で5部以上、好ましくは10部以上、特に20部
以上あるのが良い、またB、03の場合、あまり多いと
信頼性が低下するので、用途によっては、Ties、
ZrOs、 HfO*、 Snow、TazOs、及び
In、0.から選ばれた酸化物の合計100部に対して
モル比で200部以下好ましくは100部以下、特に5
0部以下が良い、 Sin、の場合は、あまり多いとア
ルカリに対する耐久性が低下するので、TiO,、Zr
O□。
Hf0z、 SnO*+ TazOs及びInaOiか
ら選ばれた酸化物の合計100部に対してモル比で19
00部以下、好ましくは900部以下、特に400部以
下が良い。
ら選ばれた酸化物の合計100部に対してモル比で19
00部以下、好ましくは900部以下、特に400部以
下が良い。
表1は、具体的に本発明の保護膜に最適な各種非晶質酸
化物膜の性質を示したものである。
化物膜の性質を示したものである。
それぞれ表に挙げた組成のターゲットを用いて、反応性
スパッタリングにより製膜したものである。結晶性は、
薄膜X線回折により観測した。又、耐擦傷性は、砂消し
ゴムによる擦り試験の結果で、○は傷が殆どつかなかっ
たもの、×は容易に傷が生じたものである。
スパッタリングにより製膜したものである。結晶性は、
薄膜X線回折により観測した。又、耐擦傷性は、砂消し
ゴムによる擦り試験の結果で、○は傷が殆どつかなかっ
たもの、×は容易に傷が生じたものである。
耐摩耗性は、テーパー試験(摩耗輪C5−10F、加重
soo g、 tooo回転)の結果、ヘイズ4%以内
のものを○、ヘイズ4%超のものを×とした。耐酸性は
0.1N HISO,中に240時間浸漬した結果、
Tv (可視光透過率)、Rv (可視光反射率)の
浸漬前に対する変化率が1%以内のものをO,1〜4%
のものを△、膜が溶解して消滅してしまったものを×と
した。耐アルカリ性は0.lN NaOH中に240時
間浸漬した結果、TV、Rvの浸漬前に対する変化率が
1%以内のものを○、2%以内のものをΔ、膜が溶解し
てしまったものを×とした。煮沸テストは、1気圧下、
100℃の水に2時間浸漬した後、Tv。
soo g、 tooo回転)の結果、ヘイズ4%以内
のものを○、ヘイズ4%超のものを×とした。耐酸性は
0.1N HISO,中に240時間浸漬した結果、
Tv (可視光透過率)、Rv (可視光反射率)の
浸漬前に対する変化率が1%以内のものをO,1〜4%
のものを△、膜が溶解して消滅してしまったものを×と
した。耐アルカリ性は0.lN NaOH中に240時
間浸漬した結果、TV、Rvの浸漬前に対する変化率が
1%以内のものを○、2%以内のものをΔ、膜が溶解し
てしまったものを×とした。煮沸テストは、1気圧下、
100℃の水に2時間浸漬した後、Tv。
R,の浸漬前に対する変化率が1%以内であるとき○、
1%超のとき×とした。
1%超のとき×とした。
ZrBxOy膜に関しては、表1から明らかなように、
膜中のBが少ないと結晶性の膜ができ、Bが多いと非晶
質の膜ができる傾向があることがわかる。そして、結晶
性の膜は耐擦傷性及び耐摩耗性が劣るのに対して非晶質
の膜は優れていることがわかる。これは非晶質の膜は、
表面が平滑である為であると考えられる。従って、Zr
BxOv膜(膜中のZrに対するBの原子比Xが0.1
0<x)の膜は耐擦傷性、耐摩耗性に優れている。B2
0.膜は吸湿性で空気中の水分を吸収して溶けてしまう
ので、ZrBxOy膜においてx<4程度が好ましい。
膜中のBが少ないと結晶性の膜ができ、Bが多いと非晶
質の膜ができる傾向があることがわかる。そして、結晶
性の膜は耐擦傷性及び耐摩耗性が劣るのに対して非晶質
の膜は優れていることがわかる。これは非晶質の膜は、
表面が平滑である為であると考えられる。従って、Zr
BxOv膜(膜中のZrに対するBの原子比Xが0.1
0<x)の膜は耐擦傷性、耐摩耗性に優れている。B2
0.膜は吸湿性で空気中の水分を吸収して溶けてしまう
ので、ZrBxOy膜においてx<4程度が好ましい。
ZrB、tO,膜中のZrに対する0(酸素)の原子比
は特に限定されないが、多すぎると膜構造が粗になりボ
ッボッの膜になってしまうこと、又、あまり少ないと膜
が金属的になり透過率が低下したり膜の耐擦傷性が低下
する傾向があることなどの理由によりZr0iとB20
.の複合系となる量程度であることが好ましい。即ち、
複合酸化物をZrO□+xBO+、sと表すと、すがZ
rに対して原子比でX含まれる時に、y=2+1.5z
程度であることが好ましい。
は特に限定されないが、多すぎると膜構造が粗になりボ
ッボッの膜になってしまうこと、又、あまり少ないと膜
が金属的になり透過率が低下したり膜の耐擦傷性が低下
する傾向があることなどの理由によりZr0iとB20
.の複合系となる量程度であることが好ましい。即ち、
複合酸化物をZrO□+xBO+、sと表すと、すがZ
rに対して原子比でX含まれる時に、y=2+1.5z
程度であることが好ましい。
又、表1より、ZrB、Oy腹膜中Bの量が増えるにつ
れ、膜の屈折率が低下する傾向があることがわかる。膜
の組成と屈折率nとの関係を第2図(a)に示す。膜中
のBを増やすことにより、屈折率nは2.0ぐらいから
1.5程度まで低下する。
れ、膜の屈折率が低下する傾向があることがわかる。膜
の組成と屈折率nとの関係を第2図(a)に示す。膜中
のBを増やすことにより、屈折率nは2.0ぐらいから
1.5程度まで低下する。
従って0.10<x<4.2<y<8のZrBxOy膜
は良好な耐擦傷性及び耐摩耗性を有し、かつ、Bの量に
よって自由に屈折率を選択できる本発明の目的に好適な
非晶質酸化物膜である。
は良好な耐擦傷性及び耐摩耗性を有し、かつ、Bの量に
よって自由に屈折率を選択できる本発明の目的に好適な
非晶質酸化物膜である。
さらに、表1に示したように、膜中のBの含有量が増え
るにつれ、耐酸性、耐アルカリ性が劣化する傾向がある
。X≧2.3で耐酸性が悪くなり、x>4で耐アルカリ
性の低下及び煮沸テストで劣化を示すようになる。従っ
て、空気中で露出した状態で使用される用途には、Zr
B、0゜(x<2.3 、y<5.45 )の保護膜が
好ましい。
るにつれ、耐酸性、耐アルカリ性が劣化する傾向がある
。X≧2.3で耐酸性が悪くなり、x>4で耐アルカリ
性の低下及び煮沸テストで劣化を示すようになる。従っ
て、空気中で露出した状態で使用される用途には、Zr
B、0゜(x<2.3 、y<5.45 )の保護膜が
好ましい。
以上のように、z「0.膜に酸化硼素B30.を加えた
ことにより、膜が非晶質化し、表面が平滑化し、これが
耐摩耗性及び耐擦傷性の向上に寄与していると考えられ
る。又%Bの量で屈折率の調節が可能となり、さらに、
ZrOs膜と比べて、内部応力が小さいため、接する膜
との密着性の点で有利である。これは特に厚い膜を形成
する場合に有利である。
ことにより、膜が非晶質化し、表面が平滑化し、これが
耐摩耗性及び耐擦傷性の向上に寄与していると考えられ
る。又%Bの量で屈折率の調節が可能となり、さらに、
ZrOs膜と比べて、内部応力が小さいため、接する膜
との密着性の点で有利である。これは特に厚い膜を形成
する場合に有利である。
次に、Zr5ixOy膜に関しては、やはりアモルファ
スであり、耐擦傷性、耐摩耗性の高い膜が得られる。
スであり、耐擦傷性、耐摩耗性の高い膜が得られる。
屈折率については、ZrO,(n = 2.14)と5
ins(n = 1.46)の間でその組成割合によっ
て上下する(第2図(b)参照)、さらに詳しくは、Z
r5LOy膜において、0.05≦2(膜中のZrに対
するStの原子比)<19であることが好ましい。
ins(n = 1.46)の間でその組成割合によっ
て上下する(第2図(b)参照)、さらに詳しくは、Z
r5LOy膜において、0.05≦2(膜中のZrに対
するStの原子比)<19であることが好ましい。
z<0.05だと、膜が非晶質化せず、十分な物理的耐
久性が得られない、又、2≧19だと、耐アルカリ性が
悪くなる。又、y (Zr51m0y膜中のZrに対す
る0の原子比)は、ZrBxOy膜について述べたのと
同様の理由により、SLがZrに対して原子比で2含ま
れる時に、y=2+2z程度であることが好ましい、即
ち、0.05≦2≦19.2.1≦y〈40であること
が好ましい。
久性が得られない、又、2≧19だと、耐アルカリ性が
悪くなる。又、y (Zr51m0y膜中のZrに対す
る0の原子比)は、ZrBxOy膜について述べたのと
同様の理由により、SLがZrに対して原子比で2含ま
れる時に、y=2+2z程度であることが好ましい、即
ち、0.05≦2≦19.2.1≦y〈40であること
が好ましい。
又、ZrBmSi、O,膜も本発明の目的に合った膜で
ある。かかる膜中のZrに対するBの原子比x、Siの
原子比z、Oの原子比yは、x十Z≧0.05であれば
膜が非晶質化し、耐擦傷性及び耐摩耗性の高い膜となる
ので好ましい。
ある。かかる膜中のZrに対するBの原子比x、Siの
原子比z、Oの原子比yは、x十Z≧0.05であれば
膜が非晶質化し、耐擦傷性及び耐摩耗性の高い膜となる
ので好ましい。
又、x+z<19であれば耐アルカリ性も良好であるの
で、ZrBgSxxOy膜においては、0.05≦x+
z<19であるのが好ましい。ただし、上述のように、
B803は吸湿性で空気中の水分を吸収して溶けてしま
うため、ZrBxSi*Oy膜中にあまり多く含有され
ない方がよい、具体的には、膜中において、0(酸素)
以外のZr、 B 、Slの合計に対してZr< 25
原子%かつSt<25原子%で残りがBとなる程Bが含
まれていると化学的耐久性が不十分となる。即ち、 Z
rBmSimOy膜中のZr:B:Si(原子比)を1
:x:zとすると。
で、ZrBgSxxOy膜においては、0.05≦x+
z<19であるのが好ましい。ただし、上述のように、
B803は吸湿性で空気中の水分を吸収して溶けてしま
うため、ZrBxSi*Oy膜中にあまり多く含有され
ない方がよい、具体的には、膜中において、0(酸素)
以外のZr、 B 、Slの合計に対してZr< 25
原子%かつSt<25原子%で残りがBとなる程Bが含
まれていると化学的耐久性が不十分となる。即ち、 Z
rBmSimOy膜中のZr:B:Si(原子比)を1
:x:zとすると。
1/ (1+x+z)<0.25かつZ/(1+x+Z
)<0.25、即ち、x+z−3>0かつx−32+1
>0の組成は化学的耐久性が好ましくない、yは、Zr
BxOyの場合に述べたのと同様の理由によりこの膜を
ZrOs + B*Os + 5iftの複合系と考え
て、yは2+1.5 x+ 2z程度であることが好ま
しい、よってほぼ2<、y<40程度であることが好ま
しい、B+Slの含有量が多い程ZrB+gSimOy
膜の屈折率は低下する* ZrB+Si+tOy膜の例
を第2図(c)に示す。
)<0.25、即ち、x+z−3>0かつx−32+1
>0の組成は化学的耐久性が好ましくない、yは、Zr
BxOyの場合に述べたのと同様の理由によりこの膜を
ZrOs + B*Os + 5iftの複合系と考え
て、yは2+1.5 x+ 2z程度であることが好ま
しい、よってほぼ2<、y<40程度であることが好ま
しい、B+Slの含有量が多い程ZrB+gSimOy
膜の屈折率は低下する* ZrB+Si+tOy膜の例
を第2図(c)に示す。
Zr以外の金属、即ち、T 1 e Hf * S n
e Ta e I n と、BとSLのうち少なく
とも1種とを含む酸化物も同様に非晶質となり、十分な
耐擦傷性、及び耐摩耗性が得られるe Tl51m0y
膜を表1のサンプル28に一例として示した。
e Ta e I n と、BとSLのうち少なく
とも1種とを含む酸化物も同様に非晶質となり、十分な
耐擦傷性、及び耐摩耗性が得られるe Tl51m0y
膜を表1のサンプル28に一例として示した。
以上、 ZrBxO,系%Zr5nxOy系、ZrBI
IS1mOy系等の膜において、膜設計に応じて所望の
屈折率を有するように、BやSLの添加量を調節すれば
良い。
IS1mOy系等の膜において、膜設計に応じて所望の
屈折率を有するように、BやSLの添加量を調節すれば
良い。
この保護層4の膜厚は特に制限されないが、余り薄いと
連続膜とならないため、成膜法にもよるが30Å以上好
ましくは50Å以上が良い。また厚い方は干渉による色
が顕著になるのでニュートラルな外観のものを要求する
場合は500Å以下好ましくは200Å以下が良い。
連続膜とならないため、成膜法にもよるが30Å以上好
ましくは50Å以上が良い。また厚い方は干渉による色
が顕著になるのでニュートラルな外観のものを要求する
場合は500Å以下好ましくは200Å以下が良い。
本発明における低屈折率酸化物層3として、Zr、Ti
、Hf、Ta、Sn、 Inのうち少なくとも1種と、
SiとBのうち少なくとも1種とを含む酸化物を用いる
こともできる。この場合、ジルコニウムと硼素を含む酸
化物ZrBxOytジルコニウムと珪素を含む酸化物Z
r5izOy−ジルコニウムと硼素と珪素を含む酸化物
ZrB、51m0yからなる膜において、その最適組成
については、B(硼素)。
、Hf、Ta、Sn、 Inのうち少なくとも1種と、
SiとBのうち少なくとも1種とを含む酸化物を用いる
こともできる。この場合、ジルコニウムと硼素を含む酸
化物ZrBxOytジルコニウムと珪素を含む酸化物Z
r5izOy−ジルコニウムと硼素と珪素を含む酸化物
ZrB、51m0yからなる膜において、その最適組成
については、B(硼素)。
SL(珪素)、0(酸素)各々の膜中におけるZr(ジ
ルコニウム)に対する原子比をそれぞれX+Z+ yと
すると、次のような範囲である。
ルコニウム)に対する原子比をそれぞれX+Z+ yと
すると、次のような範囲である。
表1から明らかなようにZrBxOyについては1.0
≦Xであるのが好ましい、x<1.0であると膜の屈折
率が2.0を超えてしまい、可視光線透過率が70%以
上の熱線遮断ガラスが得られに(くなってしまう為であ
る。一方、Xが増加する程膜の屈折率が下がるので(第
2図(a)参照)、xの上限は特に制限されないが、X
≧2.3耐酸性が低下し、X≧4で耐アルカリ性の低下
及び煮沸テストで劣化を示すようになるので、本発明の
低屈折率酸化物膜3としてのZrBxO,膜においては
1.0≦x<2.3であるのが好ましい、yについては
、特に限定されないが、Zr0gとB、0.の複合系と
考えて、Zr0g+xBO+ と表すと、y=2+1
.5z程度、即ち、2.5≦y<s、4sであるのが好
ましい。
≦Xであるのが好ましい、x<1.0であると膜の屈折
率が2.0を超えてしまい、可視光線透過率が70%以
上の熱線遮断ガラスが得られに(くなってしまう為であ
る。一方、Xが増加する程膜の屈折率が下がるので(第
2図(a)参照)、xの上限は特に制限されないが、X
≧2.3耐酸性が低下し、X≧4で耐アルカリ性の低下
及び煮沸テストで劣化を示すようになるので、本発明の
低屈折率酸化物膜3としてのZrBxO,膜においては
1.0≦x<2.3であるのが好ましい、yについては
、特に限定されないが、Zr0gとB、0.の複合系と
考えて、Zr0g+xBO+ と表すと、y=2+1
.5z程度、即ち、2.5≦y<s、4sであるのが好
ましい。
Zr5iiO,膜については、ZrBxOy膜と同様に
2が増加する程、屈折率が下がるが(第2図(b)参照
)、BよりもSLの方が屈折率低下に対する寄与度が高
いため、Bより少量でn=2.0以下となるので、0.
28≦2であるのが好ましい。上限は特に制限されない
が、Z2!:19であると膜の耐アルカリ性が不十分と
なり、Zrを含有している優位性があまり認められなく
なるので、0.28≦z<19であるのが好ましい。y
については同様にZrO*と5iftの複合系を考えて
y=2+2Z程度、すなわち2.56≦y<40である
のが好ましい。
2が増加する程、屈折率が下がるが(第2図(b)参照
)、BよりもSLの方が屈折率低下に対する寄与度が高
いため、Bより少量でn=2.0以下となるので、0.
28≦2であるのが好ましい。上限は特に制限されない
が、Z2!:19であると膜の耐アルカリ性が不十分と
なり、Zrを含有している優位性があまり認められなく
なるので、0.28≦z<19であるのが好ましい。y
については同様にZrO*と5iftの複合系を考えて
y=2+2Z程度、すなわち2.56≦y<40である
のが好ましい。
ZrBxSizO,膜については、同様に屈折率の点か
ら0.28≦X+Zであるのが好ましい。又、同様に上
限の制限は特にないが、又、x+z<19であれば耐ア
ルカリ性も良好であるので、ZrBwSLxOsp膜に
おいては、0.28≦x+z<19であるのが好ましい
、ただし、上述のように、B2O,は吸湿性で空気中の
水分を吸収して溶けてしまうため、ZrBxSixO,
膜中にあまり多く含有されない方がよい。具体的には、
上で保護膜について述べたのと同様に、膜中において、
Zr< 25原子%、かつSL< 25原子%で残りが
Bとなる程Bが含まれていると化学的耐久性が不十分と
なる。即ち、ZrBmSi、0.膜中のZr:B:St
(原子比)を1:x:zとすると、1/(1十x +
z ) <0.25、かつZ/ (1+x+z)<0.
25、即ち、x+z−3>O,かつx−3z+1>0の
組成は化学的耐久性が好ましくない。
ら0.28≦X+Zであるのが好ましい。又、同様に上
限の制限は特にないが、又、x+z<19であれば耐ア
ルカリ性も良好であるので、ZrBwSLxOsp膜に
おいては、0.28≦x+z<19であるのが好ましい
、ただし、上述のように、B2O,は吸湿性で空気中の
水分を吸収して溶けてしまうため、ZrBxSixO,
膜中にあまり多く含有されない方がよい。具体的には、
上で保護膜について述べたのと同様に、膜中において、
Zr< 25原子%、かつSL< 25原子%で残りが
Bとなる程Bが含まれていると化学的耐久性が不十分と
なる。即ち、ZrBmSi、0.膜中のZr:B:St
(原子比)を1:x:zとすると、1/(1十x +
z ) <0.25、かつZ/ (1+x+z)<0.
25、即ち、x+z−3>O,かつx−3z+1>0の
組成は化学的耐久性が好ましくない。
yは、ZrB++Oyの場合に述べたのと同様の理由に
よりこの膜をZrOヨ+B*Om+SiO雪の複合系と
考えて、yは2+1.5 x+ 2z程度であることが
好ましい、よってほぼ2.5≦y<40程度であること
が好ましい、BやSiの含有量が多い程ZrBmSix
O,膜の屈折率は低下する(第2図(c)参照)。
よりこの膜をZrOヨ+B*Om+SiO雪の複合系と
考えて、yは2+1.5 x+ 2z程度であることが
好ましい、よってほぼ2.5≦y<40程度であること
が好ましい、BやSiの含有量が多い程ZrBmSix
O,膜の屈折率は低下する(第2図(c)参照)。
以上より、本発明の低屈折率酸化物膜3としての、硼素
と珪素のうち少なくとも1種とジルコニウムとを含む酸
化物膜としては、ZrB、0.膜(1,0≦x<2.3
.2.5≦y < 5.45)、Zr5ixOy膜(0
,28≦z<19.2.56≦y < 40 、 Zr
BxStxO,。
と珪素のうち少なくとも1種とジルコニウムとを含む酸
化物膜としては、ZrB、0.膜(1,0≦x<2.3
.2.5≦y < 5.45)、Zr5ixOy膜(0
,28≦z<19.2.56≦y < 40 、 Zr
BxStxO,。
膜(0,28≦x+z<19.2.5≦y<40、ただ
しx + z −3> Oかつx−3z+l>Oの部分
を除く)が特に好ましい。
しx + z −3> Oかつx−3z+l>Oの部分
を除く)が特に好ましい。
これらの膜はZrBxOy膜についてはX≧0.1O1
ZrS1!OF膜については2≧0.05、ZrB+t
SixO,膜についてはx+z≧0.05であれば膜が
非晶質化し、優れた耐摩耗性を有している。
ZrS1!OF膜については2≧0.05、ZrB+t
SixO,膜についてはx+z≧0.05であれば膜が
非晶質化し、優れた耐摩耗性を有している。
Tiと、BとSLのうち少なくとも1種を含む酸化物も
本発明の低屈折率酸化物3として用いることができる。
本発明の低屈折率酸化物3として用いることができる。
この場合第2図(d)より、Ti5ixOy膜について
は、Z≧0.56で屈折率2以下となる。
は、Z≧0.56で屈折率2以下となる。
又、熱線遮断膜2、低屈折率酸化物層3および保護膜4
の膜形成法も特に限定されるものではな(、真空蒸着法
、イオンブレーティング法、スパッタリング法などが可
能であるが、大面積コーティングが必要な場合は、均一
性に優れる反応性スパッタリング法が好ましい。
の膜形成法も特に限定されるものではな(、真空蒸着法
、イオンブレーティング法、スパッタリング法などが可
能であるが、大面積コーティングが必要な場合は、均一
性に優れる反応性スパッタリング法が好ましい。
「作用」
第1層は熱線を反射、吸収する層であり、第2層は反射
率を下げ、且反射の干渉による色を目立たなくする働き
をする。第3層は、耐擦傷性と化学的安定性に優れた膜
からなる保護膜の役割を果たす、第3層に含まれる硼素
や珪素は酸化ジルコニム等からなる膜に不足する耐擦傷
性を向上させる働きをする。硼素により酸化ジルコニウ
ム膜は結晶質から非晶質化し表面摩擦がガラス並みに平
滑になり、摩擦抵抗が低下し、耐擦傷性が向上している
ものと考えられる。又、内部応力もこれに従って低(な
るので下地層との付着性が向上する。一方、硼素の含有
量が多くなると徐々に耐酸性が低下し、更に増えると耐
アルカリ性、耐水性なども低下する。従って、酸化ジル
コニウム等に含まれる硼素や珪素量を上述した範囲に制
御するのが好ましい。
率を下げ、且反射の干渉による色を目立たなくする働き
をする。第3層は、耐擦傷性と化学的安定性に優れた膜
からなる保護膜の役割を果たす、第3層に含まれる硼素
や珪素は酸化ジルコニム等からなる膜に不足する耐擦傷
性を向上させる働きをする。硼素により酸化ジルコニウ
ム膜は結晶質から非晶質化し表面摩擦がガラス並みに平
滑になり、摩擦抵抗が低下し、耐擦傷性が向上している
ものと考えられる。又、内部応力もこれに従って低(な
るので下地層との付着性が向上する。一方、硼素の含有
量が多くなると徐々に耐酸性が低下し、更に増えると耐
アルカリ性、耐水性なども低下する。従って、酸化ジル
コニウム等に含まれる硼素や珪素量を上述した範囲に制
御するのが好ましい。
[実施例]
実施例1
ガラス基板をスパッタリング装置の真空槽にセットしI
X 10−’ Torrまで排気した。ガラス基板と
しては4mm厚の青板を用いた。実施例2以下も同様の
ガラス基板を用いた。アルゴンと窒素の混合ガスを導入
して圧力を2 X 10−”Torrとした後、チタン
を反応性スパッタリングして熱線遮断膜2として窒化チ
タンを約20人形成した0次に該窒化チタンの酸化バリ
ア層としてArガス中でZrB1ターゲットをスパッタ
リングしてZrBx膜を15人形成した0次にアルゴン
と酸素の混合ガスに切り替え圧力を2 X 10−”T
orrにして、ZrB *ターゲットを反応性スパッタ
リングして低屈折率酸化物膜3としてジルコニウムと硼
素からなる酸化膜(ZrBxOy、 x=2. y=5
屈折率n:1.80)を約60人形成した0次にアルゴ
ンと酸素の混合ガス中でZf”tBsターゲットを反応
性スパッタリングして保護膜4としてZrBx’ Oy
’ (X’ !10、43.y’ =2.6)膜を約1
00人形成し、本発明の熱線遮断ガラスを製造した。
X 10−’ Torrまで排気した。ガラス基板と
しては4mm厚の青板を用いた。実施例2以下も同様の
ガラス基板を用いた。アルゴンと窒素の混合ガスを導入
して圧力を2 X 10−”Torrとした後、チタン
を反応性スパッタリングして熱線遮断膜2として窒化チ
タンを約20人形成した0次に該窒化チタンの酸化バリ
ア層としてArガス中でZrB1ターゲットをスパッタ
リングしてZrBx膜を15人形成した0次にアルゴン
と酸素の混合ガスに切り替え圧力を2 X 10−”T
orrにして、ZrB *ターゲットを反応性スパッタ
リングして低屈折率酸化物膜3としてジルコニウムと硼
素からなる酸化膜(ZrBxOy、 x=2. y=5
屈折率n:1.80)を約60人形成した0次にアルゴ
ンと酸素の混合ガス中でZf”tBsターゲットを反応
性スパッタリングして保護膜4としてZrBx’ Oy
’ (X’ !10、43.y’ =2.6)膜を約1
00人形成し、本発明の熱線遮断ガラスを製造した。
こうして得られた熱線遮断ガラスの可視光線透過率TV
、太陽光線透過率TE%コート面可面光視光反射率r、
ガラス面可視光反射率RV)は、それぞれ72,57.
10.8(%)であった。
、太陽光線透過率TE%コート面可面光視光反射率r、
ガラス面可視光反射率RV)は、それぞれ72,57.
10.8(%)であった。
又、透過色、反射色も素板のガラスと殆ど見分けがつか
ない程ニュートラル色であった。
ない程ニュートラル色であった。
膜の耐久性を調べるために0.1規定の硫酸、水酸化ナ
トリウム中に200時間、あるいは沸騰水中に2時間浸
漬したが、透過率変化が1%以内であり、光学性能にほ
とんど変化は認められなかった。
トリウム中に200時間、あるいは沸騰水中に2時間浸
漬したが、透過率変化が1%以内であり、光学性能にほ
とんど変化は認められなかった。
砂消しゴムによる擦り試験でも、傷は殆どつかず極めて
優れた耐擦傷性を示した。
優れた耐擦傷性を示した。
実施例2
実施例1における第1層の窒化チタン膜のかわりにアル
ゴンと窒素と酸素の混合ガス中でCrターゲットを反応
性スパッタリングして熱線遮断膜2としてCrNx0y
膜を約20人形成した以外は全〈実施例1と同様に熱線
遮断ガラスを製造した、光学的性能、耐久性は全〈実施
例1と同様であった。
ゴンと窒素と酸素の混合ガス中でCrターゲットを反応
性スパッタリングして熱線遮断膜2としてCrNx0y
膜を約20人形成した以外は全〈実施例1と同様に熱線
遮断ガラスを製造した、光学的性能、耐久性は全〈実施
例1と同様であった。
比較例1
実施例1と同様に熱線遮断膜2としてTiN膜(20人
)、及び酸化バリア膜15人を形成した後、低屈折率酸
化物膜としてZr5Byターゲツトをアルゴンと酸素の
混合ガス中で反応性スパッタリングしてZrBxOy膜
(x=2.3.y=5.5.屈折率n=1.76)
200人を形成し、その上には保護膜は形成しなかった
。Tv 、 Tt 、 Rvr、RVQは、それぞれ?
1.56.13.12(%)であった、耐擦傷性は実施
例1.2と同様だったが、実施例1における耐酸性テス
ト(0,1N H,SO,中に200時間浸漬)でTV
1%以上の変化を示した。
)、及び酸化バリア膜15人を形成した後、低屈折率酸
化物膜としてZr5Byターゲツトをアルゴンと酸素の
混合ガス中で反応性スパッタリングしてZrBxOy膜
(x=2.3.y=5.5.屈折率n=1.76)
200人を形成し、その上には保護膜は形成しなかった
。Tv 、 Tt 、 Rvr、RVQは、それぞれ?
1.56.13.12(%)であった、耐擦傷性は実施
例1.2と同様だったが、実施例1における耐酸性テス
ト(0,1N H,SO,中に200時間浸漬)でTV
1%以上の変化を示した。
実施例3
実施例1と同様にしてガラス上に窒化チタンを約20人
形成し、次に酸化錫膜(n=2.0)を約60人形成し
、さらに保護層としてZr5izOy(z=1.y=4
.n=1.74)膜を約80人形成して本発明の熱線遮
断ガラスを形成した。この熱線遮断ガラスの光学性能は
、T v 、 T z、RVF% RVOがそれぞれ7
2.58.10.8(%)であった、又、外観は殆どニ
ュートラルであった。耐久性は実施例1と同様であった
。
形成し、次に酸化錫膜(n=2.0)を約60人形成し
、さらに保護層としてZr5izOy(z=1.y=4
.n=1.74)膜を約80人形成して本発明の熱線遮
断ガラスを形成した。この熱線遮断ガラスの光学性能は
、T v 、 T z、RVF% RVOがそれぞれ7
2.58.10.8(%)であった、又、外観は殆どニ
ュートラルであった。耐久性は実施例1と同様であった
。
比較例2
実施例3において、保護膜を形成せず、ガラス/TiN
(20人)/Snow(60人)(n=2.0)という
構成の熱線遮断ガラスを形成した。その光学性能は、T
V、 Tt 、 RVF、 RVOがそれぞれ72、5
8.10.7(%)であった、耐久性については耐擦傷
性は実施例1.2.3と同様だったが、耐酸性テスト(
0,I N HgSO4中に200時間浸漬)でTvが
3%程度上昇した。
(20人)/Snow(60人)(n=2.0)という
構成の熱線遮断ガラスを形成した。その光学性能は、T
V、 Tt 、 RVF、 RVOがそれぞれ72、5
8.10.7(%)であった、耐久性については耐擦傷
性は実施例1.2.3と同様だったが、耐酸性テスト(
0,I N HgSO4中に200時間浸漬)でTvが
3%程度上昇した。
[発明の効果]
本発明の熱線遮断ガラスは、透明基板上に熱線遮断膜、
屈折率が2.0以下の低屈折率酸化物膜、その上に保護
膜を積層した構成を有しているので、自然な、ニュート
ラル色調を有し、可視光透過率が高く、且つ高耐久性を
有している。従って、単板としても建築用、自動車用な
ど、使用環境の厳しい用途において充分使用できる。
屈折率が2.0以下の低屈折率酸化物膜、その上に保護
膜を積層した構成を有しているので、自然な、ニュート
ラル色調を有し、可視光透過率が高く、且つ高耐久性を
有している。従って、単板としても建築用、自動車用な
ど、使用環境の厳しい用途において充分使用できる。
熱線遮断膜にクロムの酸・窒化膜は抵抗値が窒化チタン
を用いたものに比べて高抵抗(1M07口以上)になる
ため、自動車のりャガラスに用いる場合にプリントアン
テナの機能を低下させない自動車用ガラス窓を提供でき
る等の有利な点も生じる。
を用いたものに比べて高抵抗(1M07口以上)になる
ため、自動車のりャガラスに用いる場合にプリントアン
テナの機能を低下させない自動車用ガラス窓を提供でき
る等の有利な点も生じる。
第1図は本発明の熱線遮断ガラスの一例を示す断面図で
ある。 第2図(a)はZrB、0.膜中のBの含有量と膜の屈
折率nとの関係を示した図、第2図(b)はZrS、1
xOy膜中のSiの含有量とnとの関係を、第2図(C
)はZrB+5iaOy膜中のStの含有量とnとの関
係を示した図、第2図(d)はT iS i! Oy膜
中のSiの含有量とnとの関係図である。 l:透明基板、 2:熱線遮断膜、3:低屈折率
酸化物膜、4:保護膜 第 2 図 Cb) lrBxOBp(Ktfey)−一一−p=Sシしm−
(:e、ル /、)’i!roz+BxOs 第2図(a) ”lr f5+ S; 101!71% f ノjOx HrOLす5jOz (モIしγ・) 第 図 (C)
ある。 第2図(a)はZrB、0.膜中のBの含有量と膜の屈
折率nとの関係を示した図、第2図(b)はZrS、1
xOy膜中のSiの含有量とnとの関係を、第2図(C
)はZrB+5iaOy膜中のStの含有量とnとの関
係を示した図、第2図(d)はT iS i! Oy膜
中のSiの含有量とnとの関係図である。 l:透明基板、 2:熱線遮断膜、3:低屈折率
酸化物膜、4:保護膜 第 2 図 Cb) lrBxOBp(Ktfey)−一一−p=Sシしm−
(:e、ル /、)’i!roz+BxOs 第2図(a) ”lr f5+ S; 101!71% f ノjOx HrOLす5jOz (モIしγ・) 第 図 (C)
Claims (5)
- (1)透明基板上に熱線遮断膜、低屈折率酸化物膜、保
護膜と順次積層された少なくとも三層よりなり、その低
屈折率酸化物膜の屈折率が2.0以下である熱線遮断ガ
ラスであって、上記保護層が硼素と珪素のうち少なくと
も1種とジルコニウム、チタン、ハフニウム、錫、タン
タル、インジウムのうち少なくとも1種とを含む酸化物
を主成分とする非晶質膜からなることを特徴とする熱線
遮断ガラス。 - (2)保護膜が硼素と珪素のうち少なくとも1種とジル
コニウム原子とを含む酸化物を主成分とする膜からなる
ことを特徴とする請求項1記載の熱線遮断ガラス。 - (3)低屈折率酸化物膜がジルコニウムと、硼素と珪素
のうち少なくとも1種を含む酸化物を主成分とする膜か
らなることを特徴とする請求項1又は2記載の熱線遮断
ガラス。 - (4)熱線遮断膜が、チタン、クロム、ジルコニウム、
タンタル、これらの金属窒化物、これらの金属酸窒化物
、またはこれらの吸収性酸化物の少なくとも一種を主成
分とする酸化物からなることを特徴とする請求項1〜3
いずれか一項記載の熱線遮断ガラス。 - (5)熱線遮断膜が窒化チタン又は酸窒化クロムからな
ることを特徴とする請求項1〜4いずれか一項記載の熱
線遮断ガラス。
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5300989 | 1989-03-07 | ||
| JP1-53009 | 1989-03-07 | ||
| JP13461089 | 1989-05-30 | ||
| JP1-134610 | 1989-05-30 | ||
| JP1-224491 | 1989-09-01 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03187736A true JPH03187736A (ja) | 1991-08-15 |
Family
ID=27292883
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2047136A Pending JPH03187736A (ja) | 1989-03-07 | 1990-03-01 | 熱線遮断ガラス |
| JP2049199A Pending JPH03187737A (ja) | 1989-03-07 | 1990-03-02 | ソーラーコントロール物品 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2049199A Pending JPH03187737A (ja) | 1989-03-07 | 1990-03-02 | ソーラーコントロール物品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (2) | JPH03187736A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8587739B2 (en) | 2008-07-15 | 2013-11-19 | Sharp Kabushiki Kaisha | Display device |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3296277B1 (en) | 2015-05-11 | 2021-01-13 | AGC Inc. | Heat insulating glass unit for vehicle and manufacturing method thereof |
| JP6760273B2 (ja) | 2015-05-11 | 2020-09-23 | Agc株式会社 | 車両用の断熱ガラスユニット |
-
1990
- 1990-03-01 JP JP2047136A patent/JPH03187736A/ja active Pending
- 1990-03-02 JP JP2049199A patent/JPH03187737A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8587739B2 (en) | 2008-07-15 | 2013-11-19 | Sharp Kabushiki Kaisha | Display device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03187737A (ja) | 1991-08-15 |
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