JPH03188919A - 流体力学ヒュームスクラッバー - Google Patents

Abstract

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め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の分野 この発明は、気体状流出物（ｇａｓｅｏｕｓｅｆｆｌｕ
ｅｎｔｓ）から可溶物を除去するためのスクラッバーに
関するものである。より特定的には、この発明は、可溶
成分を溶解するためおよび粒子の成分を湿らせかつ運び
去るために、蛇口（ｔａｐ）の水のような洗浄液体を非
常に毒性の気体状流出物と有効に混合するための流体力
学ヒュームスクラッバーーに関するものである。

発明の背景 ある科学的気相成長方法、特にエピタキシャルの半導体
装置の大規模の製作に相関したものは、ジクロルシラン
、トリクロルシラン、ホスフィン（ｐｈｏｓｐｈｅｎｅ
）　、アルシンならびに製作反応器内で変化している水
素および窒素導体のような、非常に毒性の流出物気体を
発生する。これらの毒性の気体流出物には、典型的には
シリカ粒子が大量に含まれ、それは気体が周囲の環境に
放出する前にさらに処理され、希釈されかつ／または中
和されることができる前に除去されなければならない。

流出物において存在する他の水可溶成分は、塩化水素酸
ならびにホスフィンおよびアルシンの残留物を含む。

気体状流出物の粒子の成分の高い含量のために、先行技
術のスクラッバーの１つの重大な欠点は、それが粒子状
物質の集塊または団塊のプラグ・アップおよび蓄積の挿
入を受ける可能性があることである。ここでは「プラグ
−アップ」により、シリコンベースのガスが水分と接触
するようになるときの反応残留物の形成が意味される。

反応残留物は、典型的には、洗浄装置の入口において形
成されるようになりかつ蓄積し、かつそれを塞ぐ。

先行技術のスクラッバーの他の部分および区域には、典
型的には粒子状物質の集塊または集積を蓄積しており、
かつ周期的掃除口を必要としている。団塊状の粒子状蓄
積および残留物の累積は、洗浄の有効性を減少させるだ
けではなく、それは爆発の危険をももたらす。こわれる
残留物の集塊は、水素の豊富な環境において火花および
結果として生ずる爆発を引起こすために十分な静電気放
電を結果として生じてもよい。また、残留物のより大き
い部分および蓄積は、スクラッバープロセスを通じて洗
浄液体を再循環する、再循環ポンプに重大な損傷および
過度の摩耗を引起こしてもよ０ い。

したがって、先行技術のスクラッバーは、典型的には、
非常に反型なる入口プランジングおよび周期的な内部の
洗浄を必要としてお′す、それは析出された流出物成分
を除去しかつそれの付随する爆発の危険により残留物蓄
積を妨げるために、通常手を使って実施される。手を使
う洗浄の労働は、集中的であるだけではなく、それらは
オペレータを毒性材料にさらしかつオペレータの安全の
ために広範囲の予防措置を必要としてもよく、洗浄プロ
セスそれ自体の休止時間はいうまでもない。先行技術の
スクラッバーは、典型的には、１日に約２回の、または
それより多い位の入口のプランジングを必要とし、それ
は、気体流出物の流れおよびインプットにおける蓄積の
速度に存在する粒子のレベルに依存する。

一度気体流出物が洗浄装置に引かれれば、気体を洗浄す
る、すなわち可溶成分を溶解しかつシリカ粒子を湿らせ
かつそれによって除去するために、その上に従来の洗浄
技術が与えられてもよい。典１ 型内には、それらの先行技術は、フィルタ媒質を介した
流出物／洗浄液体の通路が続く静水スプレーを含んでい
る。フィルタ媒質は、典型的には、洗浄液体により移動
される所与の距離のためのスクラッバーの湿らされた区
域における最大の可能の障害を与えるように配置される
。静水スプレー技術の１つの欠点は、静スプレーが、洗
浄有効性における付随する損失により、フィルタ媒質を
介してチャネルおよびトンネルが形成されるようにする
傾向である。したがって、容易に入手可能の標準の要素
および材料から形成されてもよく、時間にわたった蓄積
および障害なしにスクラッバーに粒子が詰まれた気体状
流出物の流れを有効に引き、かつ残留物または析出の蓄
積なしに、かつ洗浄液体の非常に適度の消費により、連
続的なプロセスにおける流出物の流れから粒子および可
溶物を有効にかつ能率的に洗浄する、ヒュームスクラッ
バーーのためのこれまで解決されない必要性が発生して
いる。

発明の概要と目的 ２ この発明の一般的な目的は、先行技術の制限および欠点
を能率よくかつ有効に克服する態様において、製造プロ
セスからの気体流出物流れ内で可溶物および粒子を洗浄
しかつ湿らせるためのヒュームスクラッバーーを提供す
ることである。

この発明のより特定的な目的は、比較し得る容量の先行
技術のヒュームスクラッバーーの大きさの小さい割合を
含む体積における特殊な充てんされたフィルタ媒質およ
び流体力学再循環洗浄液体の流れを用いる、高い粒子状
の流出物の流れのためのヒュームスクラッバーーを提供
することである。

この発明の他の特定的な目的は、洗浄または保守の必要
性なしに何日も何週間も連続して動作することができる
、自己洗浄流体力学ヒュームスクラッバーーを提供する
ことである。

この発明のもう１つの特定的な目的は、プランジングま
たは洗浄の必要性なしに何日も何週間も連続して動作す
ることができる、ヒュームスクラッバーーのための改良
された、塞がない、自己洗浄インプット装置を提供する
ことである。

３ この発明のもう１つの特定的な目的は、フィルタ媒質の
領域にわたった洗浄液体の流体力学の移動のための回転
噴霧バーアセンブリを用い、それによってフィルタ媒質
を介した流れチャネルまたは導管の形成を最小にする、
垂直に段にされた流体力学ヒュームスクラッバーーを提
供することである。

この発明のさらに特定的な目的は、プロセス−不活性の
標準の大きさのプラスチック配管、嵌め合いおよび材料
から構成され、洗浄動作のすべての段の視覚の検査を可
能にする透明な部分を含む、２倍の封じ込めの流体力学
ヒュームスクラッバーーを提供することである。

この発明のさらに他の特定的な目的は、歩留りおよび生
産性を最適化し、また開ループシステムにおける水また
は閉ループシステムにおける過マンガン酸カリウム溶液
のような、洗浄液体の消費を最小にするために、すべて
の操作上のパラメータにおいて調整されてもよい、流体
力学ヒュームスクラッバーーを提供することである。

４ この発明のさらに他の特定的な目的は、再循環ポンプ圧
の損失の場合には、小範囲の水供給の存在する水圧の」
二で動作する、フェイルセイフの流体力学ヒュームスク
ラッバーーを提供することである。

この発明のさらに他の特定的な目的は、動作動力および
洗浄液体の消費を最小にするために、気体状流出物の流
れを発生する製造プロセスと同期において必要とされる
ように動作する、開ループおよび閉ループヒュームスク
ラッバーーを提供することである。

この発明の原理に従って、水または液相洗浄化学薬品の
ような洗浄液体により気相流出物を洗浄するために、流
体力学ヒュームスクラッバーーが提供される。ヒューム
スクラッバーーは、粒子の含まれた気体状流出物をスク
ラッバー内に受取るための入口段を含む。負の圧力を与
える段は、入口段からたとえばベンチュリとして機能す
る制限された領域の方へ通過する流出物の流れに洗浄液
の第１の加圧された成分をスプレーすることにより、５ 負の圧力（吸引）を生ずる。主洗浄チャンバは、洗浄液
体の第２の加圧された成分により駆動されてチャンバの
上部領域にわたって洗浄液体を流体力学的にスプレーす
るための１つまたはより多くの流体力学スプレーアセン
ブリと、チャンバの中央の領域に配置されて流出物ガス
および洗浄液体をフィルタしかつ混合しそれによって洗
浄液体において可溶性の流出物内で成分の溶解を促進す
るためのフィルタ媒質層と、そこに集められた洗浄され
た気体流出物を分離しかつ放出するためのフィルタ媒質
手段より下のチャンバ内の洗浄液体、洗浄された気体分
離領域と、それがフィルタ媒質の下部表面から分離領域
を介して滴下するときに洗浄液体内に形成された粒子の
集積をさらに分散させるための分離領域の下部境界にお
けるはねかけプレートまたは分流加減器プレートと、超
過の洗浄液体を受取るためのチャンバの最も低い領域に
おけるはねかけプレート手段より下の洗浄液体貯蔵器と
を含む。ヒュームスクラッバーーは、それの源からスク
ラッバーに洗浄液体を供給するため６ の洗浄液体供給と、供給から入来する洗浄液体の流量に
近い流量で貯蔵器から洗浄液体を放出するための放出と
をさらに含む。

この発明の１つの局面においては、流体力学ヒュームス
クラッバーーは、貯蔵器から洗浄液体の一部分を受取る
ためのおよび圧力の下に洗浄液体の第１および第２の成
分をそれぞれに負の圧力を与える装置におよび流体力学
スプレーアセンブリに与えるための１つまたはより多く
の再循環ポンプをさらに含む。

この発明のさらに他の局面においては、入口段は、気体
状流出物の源と直接に連通ずる加圧気体プレナム領域お
よび気体プレナム領域のすぐ下の洗浄液体チャンバ領域
を規定しかつそれとともに気体−洗浄液体インタフェー
スを形成する構造と、インタフェースにおいて形成され
てチャンバ領域からの洗浄液体の流れおよびそこを介し
たプレナム領域からの入来気体状流出物および混合気体
の同時通路を可能にするための洗浄液体余水路とを含み
、気体プレナム領域には、入来気体状流出物７ を混合するために圧力の下で混合気体が供給され、洗浄
液体チャンバには洗浄液体の一部分が供給される。

この発明のさらに他の局面においては、負の圧力を与え
る段は、洗浄液体を流れ領域に向けるためのノズルを含
み、それは、負の圧力を生ずるようにかつ入来気体流出
物の洗浄液体との混合を促進するようにされる。

この発明のもう１つの局面においては、外部コンテナは
、混合チャンバの二次封じ込めを囲みかつ与え、外部コ
ンテナおよび混合チャンバの間の空間は、混合チャンバ
における室温を調整するために温度制御プレナムを与え
る。この局面において、再循環ポンプからの熱は、ヒュ
ームスクラッバーーの冷たい温度の操作の間の洗浄液体
の凝固を妨げるためにそれによって混合チャンバを加熱
するために、再瞬間循環ポンプからの熱は、空気流にお
いて温度制御プレナムに伝導されてもよい。

この発明のもう１つの局面において、再循環ポンプから
の圧力の損失の場合には、小範囲の水供８ 給のような、それの直接の供給から洗浄液体を供給する
ために、バイパス流れ経路が設けられる。

この発明のさらに他の局面において、フィルタ媒質は、
多数の別個の、−膜内には球形リブ付充てんセルの充て
んグルーピングを含む。

この発明のなおもう１つの局面において、気体相流出物
は、シーケンスの製造プロセスにおいて生じ、かつヒュ
ームスクラッバーーは、製造プロセスに応答して製造プ
ロセスの動作状態に応答してヒュームスクラッバーーの
動作を自動的に始動および停止するための自動シーケン
ス制御装置を含む。

この発明のさらに他の局面において、回転可能のノズル
アセンブリは、周囲に均一に間隔を開けられかつアセン
ブリの周辺マニホルドから延在する、複数個のスプレー
アームを含む。

この発明のさらにもう１つの局面において、再循環ポン
プへの入口と協働して、そこに集められた洗浄液体が、
気体状流出物から洗浄された粒子状の残留物の蓄積を妨
げるためにそこにおいてはわかしかつ循環するようにさ
せ、それによってさ９ らにヒュームスクラッバーーの自己洗浄を促進するため
のバフルプレートが洗浄液体貯蔵器に与えられる。

この発明のこれらおよび他の目的、局面、利点および特
徴は、添付の図面に関連して与えられた、以下の好まし
い実施例の詳細な説明の考慮の下で、より完全に理解さ
れかつ認識されるであろう。

好ましい実施例の詳細な説明 第１図を参照すると、製造プロセス１０は、エピタキシ
ャルの半導体製造操作において通常用いられる型式の化
学的気相成長反応器のような、反応器プロセス１２を含
む。反応器プロセス１２は、典型的には、シリカ質粒子
が大量に含まれる気体流出物の流れを発生しかつ放出す
る。気体流出物の流れは、非腐食導管１４において、こ
の発明の原理に従って構成される流体力学ヒュームスク
ラッバーー１６に配管される。

スフラッパ−１６は、入口段１８と、負の圧力発生器段
２０と、主洗浄チャンバ２２と、配管および再循環ポン
プ要素（第１図において示されな０ い）のためのベースハウジング２４とを含む。スフラッ
パ−１６は、好ましくは、プラスチックパイプ、嵌め合
いおよびシート材料から構成され、それらは、気体状流
出物の流れの含量に関して化学的に不活性であるように
、形成されかつ適当な溶剤により一緒に張合わせられる
。

小範囲水供給からまたは再生貯蔵器（示されない）から
の蛇口の水のような、洗浄液体は、供給パイプ２６を介
してスクラッバーに入る。放出パイプ２８は、スクラッ
バーからの可溶物および湿らされたシリカ質粒子を含む
放出された水溶液を搬送する。放出された洗浄水溶液の
粘性は、入来蛇口の水に非常に近く、典型的には乳白ホ
ワイトの外観を有する。

溶液のｐＨは典型的には酸性であり、かつしたがって、
ｐＨを中性（７）に増加させるための中和プロセスはス
フラッパ−１６からの下流に含まれる。使われた洗浄水
は、下流に置かれたポンプと高度に両立でき、それは、
たとえばｐＨ調整プロセス３０のような、後続の再生プ
ロセスを介し１ て水を移動させるために与えられてもよい。放出パイプ
３２は、直接に小範囲の下水道へまたは局部プラント水
再生および循環処理プロセスへのどちらかへの、中和さ
れた、使われた洗浄液体水溶液の放出を可能にする。

洗浄された気体状流出物は、ヒュームスクラ・ソバ−１
６を気体放出導管３４を介して去り、かつ導管３を介し
て周囲の環境に放出される前に毒性のまたは有害な不溶
性の気体状残留物のレベルを除去するまたは減少させる
ためのプロセスを与えることができる化学的中和プロセ
ッサ３６を通過する。

反応器１２およびヒュームスクラッバーー１６（第１図
）の間の導管１４の長さ−ｄ−は、導管１４が周囲への
熱交換器として作用することを可能にし、かつそれは、
高温気体流出物がヒュームスクラッバーー１６に入る前
に安全取扱レベルまで冷却されることを可能にするため
に十分に長く作られる。もし必要であれば、周囲への気
体流出物の流れの対流冷却を増加させるために、フィン
ま２ たは強制空気のような、正の熱交換器技術が、導管］４
に沿って用いられてもよい。代替的には、導管１４は、
それによって伝導による高温気体流出物の冷却を増加さ
せるために、冷却コイルまたはジャケットで包まれても
よい。

流体力学ヒュームスクラッバーー１６の局面は、第２図
、第３図、第４図、第５図、第６図、第７図、第８図、
第９図および第１０図においてより構造的詳細にわたっ
て示され、かつ次に以下の論議のためにこれらの図の参
照が行なわれる。

入口段１８および負の圧力を与える段２０先に述べられ
たように、典型的なエピタキシャルの反応器からの気体
状流出物の流れとの水分接触は、粒子状フィルム集積の
沈澱を結果として生じ、それは通常従来のスクラッバー
入口構造を塞ぐであろう。第５図、第６図および第６Ａ
図においてそれぞれに描かれた、入口段１８および負の
圧力を与える段２０の代替的構成は、気体状流出物を結
果として生ずるフィルム粒子のためのプラグ・アップを
結果として生じない水分と混合する３ ために有効なインタフェースを与えるために導入されて
いる。

構造上、入口段１８は、頂部フランジ４０を含む。フラ
ンジを介して放射状に延在する通路は、導管４２を介し
て圧力計４４と連通し、それは、オペレータに、導管１
４内の入来気体状流出物の流れの圧力を視覚的に示すた
めに使用される。外部管４６は、下部フランジ４８へ下
方に延在する。

上部内部管５０は、上部フランジ４０から下方へ垂れ下
がる。管５０は、外部管４６と同軸に整列させられ、か
つ第５図において例示されるような相対的な長さおよび
直径を有する。外部管４６および内部管の向かい合って
面する壁の間の空間は、気体プレナム領域５２を規定す
る。

窒素のような、不活性気体は、気体プレナム領域５２に
入ることを許される。不活性気体は、可搬の圧力容器（
示されない）のような源から、制御可能な圧力調整器５
４（第３図）を介して与えられ、それは圧力インジケー
タ５６を含む。入口構造１８の側壁４６を介して形成さ
れたニップル４ ５６は、圧力調整器５４およびゲージ５６から導く不活
性気体導管５８への接続を可能にする。不活性気体の圧
力は、入来気体流出物の流れの圧力に等しく、それによ
ってプレナム領域５２内の平衡を確立するように、バル
ブ５４により設定される。プレナム領域５２内に不活性
乾燥窒素気体を設けることは、水分がそこから除外され
、そのため粒子の汚染するフィルムまたは集塊が気体プ
レナム領域５２内に沈澱しないであろうことを確実にす
る。不活性気体は、また、流出物の流れ内にやはり存在
してもよい不溶性の毒性気体の濃度を有利に希釈する。

下部内部管６０は、外部管４６内で軸方向整列において
下部フランジ４８から垂直に上方に延在する。第５図に
おいて示されるように、下部内部管６０の上部内形端縁
は、上部内部管５０の下部円形端縁から離れて間隔を開
けられる。洗浄液体プレナム領域６２は、外部管４６お
よび下部内部管６０の向かい合った面する側壁の間に規
定される。ニップル６４は、洗浄液体を液体ブレナム領
５ 域６２に供給するために、洗浄液体パイプ６６の接続を
可能にする。パイプ６６は、バルブ６８および流量計７
０に導く。バルブ６８は、オペレータが、洗浄液体（た
とえば蛇口の水）の流量を、液体プレナム領域６２内に
、かつスクラッバー１６内に、設定することを可能にす
る（流量は、導管２８からの洗浄液体の放出の速度と一
致するように設定される）。液体の流れは、洗浄液体が
、下部内部管６０の上部周辺端縁６１にわたって、かつ
管６０内に、重力流量により湾状に流れ落ちるように設
定される。したがって、端縁６１の近くの洗浄液体表面
は、気体流出物との第１の水分インタフェースを形成す
る。

沈澱された材料のリングは、第１の水分インタフェース
を形成し、それは、余水路周辺端縁６１においてかつそ
れの外側に隣接して形成された環状の氷表面に沿って横
たわる。沈澱リングは、典型的には厚さが１０００分の
３０から１０００分の５０であり、かつそれは、気体状
流出物が端縁６１に沿って水分と接触するようになると
きに連６ 続的に形成される。しかしながら、第５図において下方
を向く矢印により示されるように、液体の流れは余水路
端縁６１の全体にわたって湾状に流れ落ち、沈澱された
材料は、内部に成長し、かつ連続して分散されかつ粒子
状集塊の状態で下部内部管６０を介して降りる。小開口
部６３は、液体プレナム６２を規定する底部壁を介して
延在し、それによってプレナム６２の底部に制御された
量の循環を与え、かつさらに粒子状汚染物質の蓄積を妨
げる。

したがって、適正に動作するときには、第５図の入口装
置１８は完全に自己洗浄しており、塞がず、かつ流出物
、不活性気体および洗浄液体の種々の流量が適正な平衡
のままであることを確実にすること以外に、実質的に連
続的な使用の長い間隔にわたってオペレータの注意を必
要としない。

動作においては、スフラッパ−１６の内部表面が洗浄液
体に適合させられかつすべての汚染物質を除去すること
を可能にするために、流れがより大きいときには約５分
間の初期設定期間の後で、７ 洗浄液体は毎分的２，５ガロンの速度で液体プレナム領
域６２内を流される。始動の間に、液体プレナム領域６
２内にエアポケットまたはボイドがないことを確実にす
ることが重要である。このために、外部管４６および下
部内部管６０は、透明プラスチック材料で作られ、それ
は、オペレータがエアポケットが形成されないことを確
実にするために液体プレナム６２の全体を見ることを可
能にする。動作の間に、公称洗浄液体（たとえば水）の
レベルは、下部内部管６０の上部端縁６１より約４分の
１インチ上である。このレベルは、洗浄液体入口バルブ
６８により設定された圧力の関数である。−度設定され
れば、入口洗浄液体圧力は、洗浄動作の間に一定のまま
であるべきである。

ヒュームスクラッバーー１６の動作の間に、新鮮な洗浄
液体（たとえば小範囲の水供給からまたは再生供給から
の）は、プレナム領域６２におけるスフラッパ−１６に
入り、スフラッパ−１６の動作のために必要とされるす
べての他の洗浄液体は、再循環される。もし望まれるな
らば、バルブ７２、８ 流量計７４およびパイプ７６を介して、主洗浄チャンバ
２２に直接に補助的な新鮮な水の供給が与えられてもよ
い。

不活性気体圧力ゲージ５６、制御バルブ５４．６８およ
び７２、ならびに流量計７０および７４は、入口装置１
８に隣接して、スフラッパ−１６の頂部上に装着された
液体流れ制御パネル７８において都合よく一緒に形状化
される。また、第２図および第３図において示唆される
ように、マノメータ４４は、制御パネル７８に隣接して
都合のよい目視のためにスフラッパ−１６の頂部上に装
着される。

第５図の負の圧力（吸引）段２０は、入口装置１８の底
部に都合よく形成される。この吸引供給段２０は、また
流出物の流れを洗浄液体と有利に混合する。外部円筒壁
８０は、フランジ４８から装着フランジ８２へ延在する
。外部壁８２と軸方向整列し、かつまたフランジ４８お
よび８２の間に延在する内部円錐台状構造８４は、それ
の上部端部における水平のリングにおいて一連のノズル
９ 開口部８６を規定する。各ノズル開口部は、構造８４の
内部にスプレーフィールド８８を形成するために下方に
向けられる。構造８４の内部表面９０は、ベンチュリを
形成するように収束する。

プレナム９２は、外部壁８０および内部構造８４の間に
形成され、かつそれは高い圧力の下に洗浄液体により充
てんされる。この態様において、高い容量の洗浄液体が
、パイプ９６に接続されるニップル９４を介してプレナ
ム９２に供給される。

パイプ９６における流れ制御バルブ９８は、洗浄液体の
圧力および容量がオペレータにより制御されることを可
能にする。パイプ９６は、再循環ポンプ１００に導く。

高い容量の洗浄液体（たとえば１２ｐｓｉにおいて４０
ｇｐｍ）は、プレナム９２を介して通過し、かつノズル
８６によってスプレーフィールド８８にスプレーされる
ようになる。このスプレー動作は、流れ収斂９０と一緒
に、気体状流出物を主洗浄チャンバ２２に引くために、
かつ同時に密に流出物を洗浄液体と混合させるために十
分な吸引を生ずるように調整される。

０ 第６図は、簡単にされかつより好ましい入口段１９およ
び負の圧力を与える段２１を描く。要素が実質的には第
５図の実施例から変更されないところでは、同一の参照
番号が用いられる。それの簡易化された構成のために、
かつ実際に相当により大きい負の入口圧力がポンプ１０
０からの導管９６を介する洗浄液体の再循環の同一の流
れのために実現されるので、入口／負の圧力段の第６図
の実施例は最も好ましい。

第６図の実施例は、長手の外部管４７を含み、それは、
入口段１８および負の圧力段２０を含む。

入口段２０内の下部内部管６０は、内部に面取りされた
上部端縁６３を含み、それは、液体プレナム６２内の洗
浄液体のための余水路を形成する。

面取り６３は、また液体の表面において内部に形成され
かつ成長する沈澱フィルムを分散させることを援助する
。

環状のプレート４９は、入口段１８のために底部壁を与
える。プレート４９の外部端縁は、長手の外部管４７の
内部壁に張合わせられる。１つま３ま たはより多くの小さいオリフィス６３は、液体プレナム
６２の底部における洗浄液体のいくらかの流れを可能に
し、それによってそこにおける粒子の蓄積を妨げ、かつ
プレナム６２内に自己洗浄作用を与える。

負の圧力を与える段２０は、第６図の実施例において相
当に簡易化される。第６図において示されるように、高
容積洗浄液体再循環供給ライン嵌め合い９４は、長手の
外部管４７の下の部分を介して延在する。エルボ嵌め合
い８５は、面取りされた端縁８７を含み、それは、流れ
の通路を締付け、かつ再循環洗浄液体の流れの速度を増
加させる。エルボ嵌め合い８５の付近において長手の外
部管４７の内部に自己洗浄スプレーを与えるために、小
さいオリフィス８９がエルボ嵌め合い８５の曲げられた
部分に与えられる。

主流れ経路へのさらなる締付けは、エルボ嵌め合い８５
の下方にぶら下がる部分に螺入されるねじ切りされたサ
イズレジューサ９１により与えられる。サイズレジュー
サ嵌め合い９１はノズルと２ して作用し、かつ再循環洗浄液体の高速度の流れを内部
管９５を介して下方に向ける。内部管９５の上部端縁は
、ノズル嵌め合い９１の下部端縁から約４分の１インチ
離れて間隔を開けられ、それは、それを介して入口段１
８から下方に降りる気体流出物−水の混合物がノズル９
１からの再循環洗浄液体の流れにより発生された負の圧
力により引かれる空間を与える。外部長手の管４７およ
び内部管９５の間の液体プレナム９３は、洗浄液体によ
り充てんされかつ管９５の頂部にわたって溢れ、それに
よって負の圧力段２０に自己洗浄を与える。小さいオリ
フィス９９は、プレナム９３の底部におけるいくらかの
流れがそれによって循環および自己洗浄を促進すること
を可能にする。ノズル９１からの流れは、主チヤンバ２
２内の回転スプレーバ−アセンブリ１１０の扁平なプレ
ート１１５を打ち、それは下に詳細に述べられるであろ
う。

第６Ａ図の管９５への修正はわずかである。管９５ａは
、円錐台状断面において、リング９７へ３ 発散する底部を有して作られ、それは管９５ａのための
フランジとなる。小さいオリフィス９９ａは、オリフィ
ス９９のために先に述べられた排水機能を与えるために
、円錐台状管９５ａの壁を介して与えられる。第６Ａ図
の実施例は、第６図の実施例により達成されたよりわず
かに良好なミスチングおよびいくぶんか高い真空（引く
こと）を与える。

主チャンバ２２ 第２図、第３図および第１０図に移ると、−膜内に方形
の外部ハウジング１０２は、円筒形の主洗浄チャンバ２
２を含み、かつまた囲われた加熱プレナム１０４を形成
する。空気冷却ポンプモータ１０６を介して引かれた空
気は、洗浄チャンバ２２に加熱を与えるために、プレナ
ム１０４を介して向けられる。この配置は、冬の間に凝
固する室温またはそれの近くにおいて洗浄液体としての
水により、スフラッパ−１６の連続された動作を有効に
可能にする。外部ハウジング１０２における排出スロッ
ト１０６（第３図）は、加温空気が４ 加熱プレナム１０４を出ることを可能にする。

主洗浄液体チャンバは、４つの別個のプロセス領域を含
み、それらは、洗浄チャンバを形成する円筒形構造の上
部および底部壁により、かつ第１０図において示される
ような４つの積重ねられた環状プレート構造により分離
され、それは下に詳細に論議されるであろう。

上部領域１０８は、回転スプレーバ−アセンブリ１１０
を含み、それは、環状反応壁１１１により囲まれる。中
央の導管１１２は、高い体積において洗浄液体をスプレ
ーバ−アセンブリ１１０に供給する。スプレーバ−アセ
ンブリ］１０は、たとえば４つのスプレーバ−を含み、
各々はノズル１１４により終端となり、各々は第８図に
おいて示されるようにそのスプレーバ−に対して角度法
めされる。ノズル１１４の端部における開口部から発す
る再循環洗浄液体のスプレーは、反応壁］１１を打ち、
それはアセンブリ］１０が回転する結果を有する。ノズ
ル１１４の端部開口部より小さい、スプレーバ−におけ
る付加的なオリフィス５ １０９は、いくらかのスプレーが上部領域内に」三方に
向けられることを結果として生ずる。

スプレーバ−アセンブリ１］０には円筒形のハブ１１３
が形成され、それは、中央の導管］１２の上部部分の周
囲を自由に回転するように寸法決めされる。頂部プレー
ト１１５および底部プレ）　１．１７は、導管１１２に
張合わせられ、かつそれによって第９図において示され
るようにハブ１１３を多数の特大の開口部］１９との適
正な整列において正しく合わせる。開口部１１９は、−
殻内には４つの嵌め合い１２１により規定される開口部
と整列し、それらはハブ１１３に張合わせられ、かつそ
こからスプレーバ−およびノズル１１４が導管１１２の
周囲に延在する。導管１１２およびアセンブリ１１０の
間の開口部（示されない）は、洗浄液体が導管からアセ
ンブリへ通過することを可能にする。４つのノズル１］
４は、アセンブリが、ノズルを介した洗浄液体の流れか
らの力に反応して回転するようにさせるように向けられ
る。スプレーアセンブリおよび導管１１２に対す６ るノズル１］４の角度は、液体流量と一緒に、アセンブ
リ１１０の回転速度を調整する。好ましくは、スプレー
バ−アセンブリ］１０は、洗浄動作の間に主チャンバに
わたった密なミスチングおよびスプレーを確実にするた
めに、毎分約３００回転で回転する。洗浄液体は、中央
の導管１１２に関してハブ１１３を回転させるために、
潤滑および冷却媒質を与える。

洗浄チャンバ２２の第２のフィルタ領域］１６が与えら
れる。領域１１６は、上部穴アキプレート１１８および
下部穴アキプレート１２０の間に規定される。上部プレ
ート１２０におけるいくつかの大きい開口部１１２は、
ディスクリートなフィルタ媒質１２４が領域１１６内に
詰込まれることを可能にする。補強リング１２３および
１２５は、それの表面に増加された機械的剛性を与える
ために、上部穴アキプレート１１８に、かつ下部穴アキ
プレート１２０に、それぞれに張合わせられる。

第７図において例示されるように、フィルタ媒７ 質１２４は、開環状ループから形成されるプラスチック
充てん球形からなる。フィルタ媒質１１４の１つの適当
な例は、米国特許第４，２０３，９３５号においてより
詳細に述べられ、それへの参照がさらに詳細に行なわれ
る。ジーガー（Ｊｅａｇｅｒ）の［トリ・パックス（Ｔ
ｒｉ−Ｐａｃｋｓ）Ｊは、媒質１２４のためによく働く
。

フィルタ媒質１２４は、進まれる所与の垂直の距離のた
めに、かつ流れへの過度の障害または背圧なしに垂直に
降りる洗浄液体の流れに最大の物理的障害を与える態様
において、選択されかつ一緒に詰込まれる。フィルタ媒
質１２４は、さらに任意の粒子および沈澱の集塊を分散
し、かつ洗浄液体への伝達によりそれらを気体の流れか
ら除去するように、流出物の流れ内で可溶物の溶解およ
び湿りテーブルを湿らせることを促進する。

主チヤンバ２２内の流体力学作用は、回転スプレーバ−
アセンブリ１１０および詰込まれたフィルタ媒質１２４
の協働により達成される。洗浄液体はスプレーアームア
センブリ１１０によりサイ８ クロンの効果が与えられるので、洗浄液体は、フィルタ
媒質１２４を介して運動の一定でかつ非常に均一の状態
にある。フィルタ媒質１２４にわたった洗浄液体の流体
力学の流れは、媒質を介したコースおよびチャネルの発
展を妨げ、かつさらにオペレータまたは保守の介在なし
に長い動作サイクルにわたった有効な洗浄作用を向上さ
せる。

主洗浄チャンバ２２の第３のプロセス領域１２６は、洗
浄された残留物気体状流出物および洗浄液体の分離を可
能にする。嵌め合い１２８は、気体流出導管３４に導き
、かつ洗浄された気体状流出物が領域１２６から引かれ
ることを可能にする。

領域１２６は、フィルタ領域１１６の下部穴アキプレー
ト１２０および穴アキ分流加減器プレート１２８により
規定される。分流加減器プレート１２８は下部フィルタ
プレート１２０から十分な距離間隔を開けられ、そのた
め洗浄液体の滴下は、洗浄液体において溶解されずに残
っている粒子のさらなる分散を与えるために十分な力で
分流加減器プレート１２８を打つ。

９ 中央の洗浄チャンバ２２の第４の領域１３０は、そこに
洗浄液体が集まる洗浄液体貯蔵器を与える。

チャンバ２２の底部壁１３６を介した再循環ドレイン１
３４に隣接した垂直のバフルプレート１３２は、洗浄液
体が貯蔵器領域１３０にわたって循環し、それによって
さらにたとえば洗浄されたシリカ質粒子の生成および蓄
積を抑制するようにさせる。この循環を誘導する構造上
の配置は、さらにスフラッパ−１６の自己洗浄特徴を向
上させ、かつそれによってオペレータ介在の保守の必要
性を減少させる。

オーバーフロードレインパイプ１３８は、貯蔵器領域１
３０において上方に延在し、かつ放出パイプ２８と連通
ずる。新鮮な洗浄液体が入口装置１８においてスフラッ
パ−１６に付加されるので、貯蔵器レベルは上がり、か
つそこにおける超過した（かつそのとき使われた）洗浄
液体は、重力流れによりドレインパイプ１３８に流すこ
とにより貯蔵器を出る。したがって、動作においては、
スクラッバーは、ただ毎分的２ないし３ガロンの洗０ 浄液体を費やし、またたとえば毎分７０ガロンの液体の
流れを必要とする従来のスクラッバータワーの効率を達
成する。

主洗浄チャンバ２２は、好ましくは、透明なプラスチッ
ク材料の長手の円筒形の管１４０として形成される。円
形の頂部カバー１４２は、爆発ボルト１４４により円筒
形の管１４０にボルトで締められるＯリングガスケット
は、頂部カバーおよび管１４０の間に気密封止を与える
。反応表面１１１、上部穴アキプレート１１８、下部穴
アキプレート１２０および分流加減器プレート１２８は
、好ましくは、第１０図において示されるように３つの
パイプ脚部１３１の使用により整列させられかつ製作さ
れる。次いで、そのように形成されたアセンブリは、円
筒形の管チャンバ１４０に挿入される。次いで、スプレ
ーバ−アセンブリ１１０および中央の導管１１２が設置
される。次いで、媒質１２４は領域１１６内にロードさ
れ、かつ次いで頂部カバー１４２は所定位置にボルトで
締められ、主洗浄チャンバ２２の構成を完了する。

１ ベースハウジング２４ ベースハウジング２４は、うず巻きポンプ１００および
モータ１０６のために囲い込みを与える。

ポンプ１００は、４０ｐｓ　ｉにおいて毎分１６０ガロ
ンの容量を有し、かつ溶解されるようになるかまたは他
の態様で洗浄液体により搬送される化学薬品に不活性で
かつそれにより影響を受けないように強化プラスチック
樹脂（ファイバーグラス）から形成されたインペラを有
する。ポンプ１００は、モータ１０６により直接駆動さ
れ、それは、好ましくは、空気冷却された、１．５馬力
の単相玉軸受電気モータである。封じ込めパン１４６は
、二次封じ込めベースハウジング２４における洗浄液体
の蓄積のためのショートアウトを妨げるために、モータ
１０６を囲む。

ポンプ１００への入口は、主洗浄チャンバの底部壁１３
６におけるドレイン１３４から導く。ポンプ１００から
の流出は２つの流れ経路に分かれ、それは、負の圧力を
与える段２０へ導くパイプ９６を介した第１の経路と、
パイプ１１２を介して２ 回転スプレーバ−アセンブリ］００へ導く第２の経路で
ある。圧力スイッチ１４８は、ポンプ１００により生じ
られた圧力をモニタする。

圧力スイッチ１４８により検出された、ポンプ１００か
らの圧力が失われる場合には、スフラッパ−１６の連続
された動作を可能にするために、予備バイパス流体流れ
経路が与えられてもよい。

予備経路は、第２図および第３図において最もよく例示
される。洗浄液体供給（それは、典型的には水が洗浄液
体であるときには小範囲の水供給または再生された水供
給である）からの高い流量の入口１５０は、通常開ソレ
ノイド流れ制御バルブ１５２を介して導く。モータ１０
６に力が（＝Ｊ与されかつポンプ１００からの動作圧力
が圧力スイッチ１４８において検出されるときには、ソ
レノイドバルブ１５２は、バイパスの流れを妨げるため
に閉じる。これは、通常の動作状態である。ワンウェイ
チエツクバルブ１５４および１５６は、入口１５０への
またはポンプ１００を介したどちらかの逆流を妨げる。

圧力が失われる場合には、ソ３ レノイドバルブ１５２が開き、かつ次いて直接に小範囲
の水供給からの液体の流れはパイプ９６および１１２に
通過する。これは、スフラッパ−１６が動作を続けるこ
とを可能にするが、それは洗浄液体のための非常に高い
消費速度においてである。このバイパス動作モードを収
容するために、オーバーフロードレイン１３８および放
出パイプ２８は、非常バイパスモードの間に起こる最大
の液体流量を取扱うように寸法決めされなければならな
い。除去可能のハツチ１５８は、通常ベース２４に接近
し、さらにポンプ１００、モータ１０６および関連の配
管への容易な近接を許容する。

オン−オフスイッチ１６０は、−次動力が、ポンプモー
タ１０６を動作するために、オンおよびオフにスイッチ
されることを可能にする。補助ドレイン１６２は、二次
封じ込めハウジング２４の内部が排水されることを可能
にし、それは必要であるべきである。

ヒュームスクラッバーーは、高い水素レベルの環境内で
動作していてもよいので、穴アキ鋼板（示４ されない）から形成された爆発保持器が、動作人員の付
加的な保護とｌ、て、外部Ｉ＼ウジング１０２の周囲に
与えられてもよい。

制御装置１６４ ヒュームスクラッバーー１６のための自動制御装置１６
４は、第１１図において描かれる。第１図において示さ
れるように、制御装置１６４は、反応器プロセス１２に
応答する。ケーブル１６６を介した制御信号は、制御装
置１６４に入り、それにプロセス１２の動作に関連する
情報を与える。

プロセス１２が気体状流出物の流れを発することを始動
しかつ停止するときには、制御装置は情報を与えられ、
かつそこで、制御装置１６４は、電力および洗浄液体を
、たとえそれが水であるときにも、保存するために、ス
フラッパ−１６の動作を制御する。制御可能の時間遅延
回路１６８は、プロセス１２が気体状流出物の流れを発
することを終了した後で、スフラッパ−１６が３ないし
９分間動作し続けることを可能にする。出力ライン１７
０および１７２は、モータ１０６へ、液体を５ 入口装置１８へ送る洗浄液体ソレノイドバルブへおよび
バイパスソレノイドバルブ１５２へ導く。

制御装置１６４は、また、システムオーバーライドスイ
ッチ１７４、システム「オン」インジケータ１７６およ
びシステム自動モード「オフ」インジケータ１７８のよ
うな、他の適当なスイッチおよびインジケータを含んで
もよい。制御装置１６４は、適当なブラケット１８２に
よりスフラッパ−１６の側部に装着されてもよい、適当
なハウジング１８０において構成されてもよい。

高い容量のスフラッパ−２１６ 第１２図および第１３図において描かれたスフラッパ−
２１６の使用により、増加されたヒユーム洗浄容量が得
られてもよく、そこにおいてスフラッパ−１６と共通の
要素は同一の参照番号を有する。スフラッパ−２１６は
、１個の入口装置１８および負の圧力を与える装置２０
を用い、かつ１個の気体状流出物出口３４を有する。長
手の楕円形の主洗浄チャンバ２２には、２つの垂直の送
りパイプ１１２により送られる２つの四転スプレ６ バー１１０が装備される。適当に寸法決めされた、楕円
形の要素１１８′、１２０′、１３６′および１４８′
は、スフラッパ−１６における同一の機能の円形の要素
を置換する。並行に動作する２つのポンプ１００は、負
の圧力を与える装置およびスプレーパー１１０を動作す
るために、必要とされる洗浄液体圧力を与える。その他
の点では、スフラッパ−２１６は、ちょうどスフラッパ
−１６のように機能し、しかしながら、増加されたヒユ
ーム洗浄容量および洗浄される流出物の体積当たりのよ
り少ない費用による。

閉ループスクラッパ− 気体状流出物に存在する大量の毒性材料を含むいくつか
の処理状態においては、閉ループヒュム洗浄プロセスが
必要とされてもよい。例は、イオン注入プロセス、ＣＶ
Ｄ反応器および半導体製作装置の種々の他の通常・遭遇
される部分を含む。

付加的な装置により、スフラッパ−１６またはスフラッ
パ−２１６のどちらかは、アルシン、ホスフィンおよび
ジボラン化合物を有効に洗浄するた７ めに、たとえばＫＭｎＯ４のような、液相化学洗浄剤を
使用するようにされてもよい。

第１４図および第１５図は、スフラッパ−２１６を閉ル
ープ動作に適合させるための装置を例示する。再循環タ
ンク２１８は、導管２２０および２２２により、スフラ
ッパ−２１６に接続される。

冷却用コイルは、熱をタンク２１８から引火るために与
えられてもよく、かつ制御パネル２２４は、タンク２１
８の頂上に与えられてもよい。第１１図において描かれ
た制御パネル２２４は、流量計２２８により測定された
、冷却ループを介して流れを調整するために、制御２２
６を与える。ｐＨ制御装置２３０は、タンク２１８のハ
ウジング内に含まれた適当なｐＨ補正プロセッサを介し
た化学的洗浄剤の陽のｐＨ補正を可能にする。主パワー
スイッチ２３２、主パワーインジケータランプ２３４、
ポンプアウトスイッチ２３６およびポンプアウトインジ
ケータランプ２３８は、また制御パネル２２４に含まれ
てもよい。閉ループ構造においては、スイッチ２３２お
よび２３６ならびに８ インジケータランプ２３４および２３８は、スフラッパ
−２１６のポンプモータ１０６および圧力スイッチ１４
８を制御しかつモニタするために使用される。タンクハ
ウジングは、また、水酸化ナトリウムまたは他の適当な
アルカリ性溶液のような、低ｐＨの中和物質のための貯
蔵器を含んでもよい。

この発明が関係する当業者には、多くの変更および広く
変化する実施例は、それら自体を示唆するであろう。前
述の説明は、ただ例示によってだけ与えられ、かつそれ
の範囲が前掲の特許請求の範囲においてより特定的に指
示される、この発明を制限するとして解釈されるべきで
はない。

【図面の簡単な説明】

第１図は、この発明の流体力学ヒュームスクラッバーー
を含む、流出物の流れ発生プロセスのブロック図である
。 第２図は、この発明の原理を組入れる流体力学ヒューム
スクラッバーーの立面および部分断面図におけるいくぶ
んか概略の正面図である。 ４つ 第３図は、それの構造上の要素のいくつかを表わすため
に破断されたそれの部分を有する、第２図のヒュームス
クラッバーーのいくぶんか概略の等測投影図である。 第４図は、第２図のヒュームスクラッバーーの上面図で
ある。 第５図は、第２図のヒュームスクラッバーーの入口およ
び負の圧力を与える要素の拡大されたかついくぶんか概
略の断面図である。 第６図は、第２図のヒュームスクラッバーーの入口およ
び負の圧力を与える要素の代替的な好ましい実施例の拡
大されたかついくぶんか概略の断面図である。 第６Ａ図は、第６図の実施例に非常に類似した負の圧力
を与える要素のためのさらに他の現在好ましい構成の拡
大されたかついくぶんか概略の断面図である。 第７図は、第２図のヒュームスクラッバーーのフィルタ
領域内で使用される３つのディスクリートなフィルタ媒
質の概略図である。 ０ 第８図は、第２図のヒュームスクラッバーー内で使用さ
れる回転スプレーバ−アセンブリのいくぶんか概略の等
測投影図である。 第９図は、回転スプレーバ−が点線により仮想的な輪郭
において所定位置において示された状態の、第８図にお
いて示された回転スプレーバ−アセンブリハブの拡大さ
れた詳細な図である。 第１０図は、それの主洗浄チャンバ内にディスクリート
なプロセス領域を規定しかつ与えるために第２図のヒュ
ームスクラッバーー内で使用されるバフルプレート構成
のいくぶんか概略の等測投影図である。 第１１図は、第２図のヒュームスクラッバーーのための
制御装置要素のいくぶんか概略の図である。 第１２図は、この発明の原理に従った高い容量のヒュー
ムスクラッバーーの正両立面および部分的断面における
いくぶんか概略の図である。 第１３図は、それの部分がそれの構成要素のいくつかを
表わすために破断された状態の、第１２図のヒュームス
クラッバーーのいくぶんか概略の等１ 測投影図である。 第１４図は、この発明の原理を組入れる、閉ループヒュ
ームスクラッバーーの立面における正面図である。 第１５図は、第１４図の閉ループスクラッパーシステム
のための制御装置要素の正面図である。 図において、１０は製造プロセス、１２は反応器プロセ
ス、１６は流体力学ヒュームスクラッバー、１８は入口
段、２０は負の圧力発生器段、２２は主洗浄チャンバ、
２４はベースハウジング、２６は供給パイプ、２８は放
出パイプ、３０は中和プロセス、３２は放出パイプ、３
４は気体放出導管、３６は化学的中和プロセッサ、４０
は頂部フランジ、４２は導管、４４は圧力計、４６は外
部管、４８は下部フランジ、５０は管、５２は気体プレ
ナム領域、５４は制御可能な圧力調整器、５６は圧力イ
ンジケータ、５８は不活性気体導管、６０は下部内部管
、６２は洗浄液体プレナム領域、６４はニップル、６６
は洗浄液体パイプ、６８はバルブ、７０は流量計、７２
は制御バルブ、７４２ は流量計、７６はパイプ、７８は液体流れ制御パネル、
８０は外部円筒壁、８２はフランジ、８４は内部円錐台
状構造、８６はノズル開口部、８８はスプレーフィール
ド、９２はプレナム、９４はニップル、９６はパイプ、
９８は流れ制御バルブ、１００は再循環ポンプ、１０２
は外部ノ＼ウジング、１０４は囲われた加熱プレナム、
１０６は空気冷却ポンプモータ、１０８は上部領域、１
１０は回転スプレーバ−アセンブリ、１１２は中央の導
管、１１３は円筒形のハブ、１１４はノズル、１１７は
底部プレート、１１８は上部穴アキプレート、１１９は
開口部、１２０は下部穴アキプレート、１２２は開口部
、１２４はフィルタ媒質、１２６は第３のプロセス領域
、１２８は嵌め合い、１３０は第４の領域、１３２はバ
フルプレート、１３４は再循環ドレイン、１３６は底部
壁、１３８はドレインパイプ、１４０は長手の円筒形の
管、１４２は円形の頂部カバー、１４４は爆発ボルト、
１４６は封じ込みパン、１４８は圧力スイッチ、１５０
は高い流量の入口、１５２はソレノイドバ３ ルブ、１５４はワンウェイチエツクバルブ、１５８はハ
ツチ、１６０はオン−オフスイッチ、１６２は補助ドレ
イン、１６４は制御装置、１６６はケーブル、１６８は
時間遅延回路、１７０および１７２は出力ライン、１７
４はシステムオーバーライドスイッチ、］７６はシステ
ム「オン」インジケータ、１７８はシステム自動モード
「オフ」インジケータ、１８０はハウジング、１８２は
ブラケット、２１６はスクラッバー、２１８は再循環タ
ンク、２２０および２２２は導管、２２４は制御パネル
、２２６は制御、２２８は流量計、２３０はｐＨ制御装
置、２３２は主電源スイッチ、２３４は主電力インジケ
ータランプ、２３６はポンプアウトスイッチ、２３８は
ポンプアウトインジケータランプである。

Claims (18)

【特許請求の範囲】
1. （１）洗浄液体により気相流出物を洗浄するための流体
   力学ヒュームスクラッバーであって、ヒュームスクラッ
   バーは、 粒子が含まれた気体状流出物をスクラッバーに受取るた
   めのおよび洗浄液体インタフェースに第１の流出物を与
   えるための入口手段と、 流出物に関して負の圧力を発生する態様において洗浄液
   体の第１の加圧された成分に入口手段から通過する流出
   物の流れを引くための負の圧力を与える手段とを含み、 主洗浄チャンバは、 洗浄液体の第１の加圧された成分および流出物の流れを
   、負の圧力を与える手段からチャンバの上部領域に受取
   るための手段と、 洗浄液体の第２の加圧された成分により駆動されて、チ
   ャンバの上部領域にわたって第２の成分を流体力学的に
   スプレーするための流体力学スプレー手段と、 チャンバの中央の領域に配置されて、流出物気体および
   洗浄液体をフィルタおよび混合して、それによって洗浄
   液体において可溶性の流出物内の成分の溶解を促進する
   ためのフィルタ媒質手段と、そこに集められた洗浄され
   た気体状流出物を分離しかつ放出するためのフィルタ媒
   質手段より下のチャンバ内の洗浄液体、洗浄気体分離領
   域と、それがフィルタ媒質手段の下部表面から分離領域
   を介して滴下するときに、洗浄液体内に形成された粒子
   の集積をさらに分散させるための分離領域の下部境界に
   おけるはねかけプレート手段と、超過の洗浄液体を受取
   るためのチャンバの最も低い領域におけるはねかけプレ
   ート手段より下の洗浄液体貯蔵器手段とを含み、 スクラッバーは、それの源からスクラッバーに洗浄液体
   を供給するための洗浄液体供給手段と、供給手段から入
   来する洗浄液体の流量に近い流量において貯蔵器手段か
   ら洗浄液体を放出するための放出手段とをさらに含む、
   流体力学ヒュームスクラッバー。
2. （２）貯蔵器手段から洗浄液体の一部分を受取るための
   および洗浄液体の第１および第２の成分を圧力の下でそ
   れぞれに負の圧力を与える手段にかつ流体力学スプレー
   手段に与えるための再循環ポンプ手段をさらに含む、請
   求項１に記載の流体力学ヒュームスクラッバー。
3. （３）入口手段は、気体状流出物の源と直接に連通する
   加圧された不活性気体プレナム領域および気体プレナム
   領域のすぐ下の洗浄液体チャンバ領域を規定しかつそれ
   とともに気体−洗浄液体インタフェースを形成する構造
   と、インタフェースにおいて形成されてチャンバ領域か
   らの洗浄液体の流れならびにそこを介したプレナム領域
   からの入来気体状流出物および混合気体の同時通路を可
   能にするための洗浄液体余水路手段とを含み、不活性気
   体プレナム領域は、入来気体状流出物と混合するために
   圧力の下で不活性混合気体が供給され、かつ洗浄液体チ
   ャンバ領域には洗浄液体の一部分が供給される、請求項
   １に記載の流体力学ヒュームスクラッバー。
4. （４）洗浄液体に供給される洗浄液体の部分は洗浄液体
   供給手段から直接に与えられ、貯蔵器手段から洗浄液体
   の一部分を受取るためのおよび洗浄液体の第１および第
   ２の成分を圧力の下でそれぞれに負の圧力を与える手段
   にかつ流体力学スプレー手段に与えるための再循環ポン
   プ手段をさらに含む、請求項３に記載の流体力学ヒュー
   ムスクラッバー。
5. （５）負の圧力を与える手段は、洗浄液体を管の方へ向
   け、それによって負の圧力を生じるためのかつ入来気体
   状流出物の洗浄液体との混合を促進するための管および
   ノズル手段を含む、請求項３に記載の流体力学ヒューム
   スクラッバー。
6. （６）混合チャンバを囲みかつ含むための外部コンテナ
   をさらに含み、外部コンテナおよび混合チャンバの間の
   空間は、混合チャンバの室温を調整するための温度制御
   プレナムを規定する、請求項１に記載の流体力学ヒュー
   ムスクラッバー。
7. （７）混合チャンバの温度を上げるために温度制御プレ
   ナムに加熱気体が供給される、請求項６に記載の流体力
   学ヒュームスクラッバー。
8. （８）洗浄液体の一部分を貯蔵器手段から受取るための
   および洗浄液体の第１および第２の成分を圧力の下でそ
   れぞれに負の圧力を与える手段にかつ流体力学スプレー
   手段に与えるための再循環ポンプ手段をさらに含み、再
   循環ポンプ手段からの熱は、それによって混合チャンバ
   を加熱するために空気流において温度制御プレナムに伝
   導される、請求項７に記載の流体力学ヒュームスクラッ
   バー。
9. （９）洗浄液体は水である、請求項１に記載の流体力学
   ヒュームスクラッバー。
10. （１０）水を供給するための供給手段は小範囲の水供給
    と直接に連通し、供給手段は、水の一部分を貯蔵器手段
    から受取るためのおよび水の第１および第２の成分を圧
    力の下でそれぞれに負の圧力を与える手段にかつ流体力
    学スプレー手段に与えるための再循環ポンプ手段をさら
    に含み、再循環ポンプバイパス手段は、再循環ポンプ手
    段の故障の場合には水を小範囲の水供給から直接に負の
    圧力を与える手段にかつ流体力学スプレー手段に供給す
    ることにより再循環ポンプをバイパスし、それによって
    増加された水の流れにより流体力学ヒュームスクラッバ
    ーの動作を続けるためのソレノイドバルブ手段を含む、
    請求項９に記載の流体力学ヒュームスクラッバー。
11. （１１）フィルタ媒質手段は、多数のディスクリートな
    、一般的に球形のリブ付充てんセルを含む、請求項１に
    記載の流体力学ヒュームスクラッバー。
12. （１２）気相流出物は、シーケンスにされた製造プロセ
    スにおいて発し、かつ製造プロセスに応答して、製造プ
    ロセスの動作状態に応答してヒュームスクラッバーの動
    作を自動的に始動しかつ停止するための自動シーケンス
    制御装置手段をさらに含む、請求項１に記載の流体力学
    ヒュームスクラッバー。
13. （１３）ハウジング手段をさらに含み、前記ハウジング
    手段は洗浄液体の２次封じ込めを与える、請求項１に記
    載の流体力学ヒュームスクラッバー。
14. （１４）再循環ポンプ手段は洗浄液体より下に形成され
    たハウジングに含まれ、ハウジングは洗浄液体のための
    ２次封じ込めを与える、請求項２に記載の流体力学ヒュ
    ームスクラッバー。
15. （１５）流体力学スプレー手段は、チャンバ内で上方に
    延在する中央の導管にわたって軸方向に装着された集積
    平衡回転可能ノズルアセンブリを含み、洗浄液体の第２
    の成分の流れは、回転可能のノズルアセンブリが回転し
    、かつ洗浄チャンバの上部領域にわたって洗浄液体を均
    一にスプレーするようにさせる、請求項１に記載の流体
    力学ヒュームスクラッバー。
16. （１６）回転可能のノズルアセンブリは、アセンブリの
    周辺マニホルドの周囲に均一に間隔を開けられかつそれ
    から延在する複数個のスプレーアームを含む、請求項１
    ５に記載の流体力学ヒュームスクラッバー。
17. （１７）再循環ポンプ手段への入口と協働して洗浄液体
    貯蔵器手段に配置されて、そこに集められた洗浄液体が
    、気体状流出物から洗浄された粒子状残留物の蓄積を妨
    げるためにそこにおいてはねかしかつ循環するようにさ
    せるためのはねかしプレート手段をさらに含む、請求項
    ２に記載の流体力学ヒュームスクラッバー。
18. （１８）放出手段は、貯蔵器手段内にストアされた洗浄
    液体のレベルを確立するように洗浄液体貯蔵器手段の頂
    部と整列した開口部を有するドレインパイプを含み、ド
    レインパイプは、供給手段からの洗浄液体の供給の最大
    の速度より少なくない速度において洗浄液体を放出する
    ように寸法決めされる、請求項１に記載の流体力学ヒュ
    ームスクラッバー。