JPH03190102A - 厚膜抵抗 - Google Patents
厚膜抵抗Info
- Publication number
- JPH03190102A JPH03190102A JP1329106A JP32910689A JPH03190102A JP H03190102 A JPH03190102 A JP H03190102A JP 1329106 A JP1329106 A JP 1329106A JP 32910689 A JP32910689 A JP 32910689A JP H03190102 A JPH03190102 A JP H03190102A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrodes
- resistance value
- electrode
- pectinated
- trimming
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Non-Adjustable Resistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、絶縁基板上に印刷形成された厚膜抵抗に関す
る。
る。
従来の技術
従来、混成集積回路に使用されるこの種の厚膜抵抗は、
第３図に示すように、図示されないセラミック基板上に
予め印刷された二つの引き出し電極１と２の間に目的と
する抵抗値に対応した平面矩形状の抵抗膜３をマスクを
用いてスクリーンまたは描画印刷することにより形成さ
れる。
第３図に示すように、図示されないセラミック基板上に
予め印刷された二つの引き出し電極１と２の間に目的と
する抵抗値に対応した平面矩形状の抵抗膜３をマスクを
用いてスクリーンまたは描画印刷することにより形成さ
れる。
セラミック基板上に形成された抵抗膜３は、予め所要の
抵抗値より低くなるように形成される。
抵抗値より低くなるように形成される。
そして、厚膜抵抗単体の製造工程における抵抗値のばら
つきまたは混成集積回路に実装される他の回路部品等の
ばらつきを補正するため、抵抗膜３をトリミングという
作業で抵抗値を観測しながら徐々に抵抗値を上げて行き
、所要の抵抗値になるように修正される。
つきまたは混成集積回路に実装される他の回路部品等の
ばらつきを補正するため、抵抗膜３をトリミングという
作業で抵抗値を観測しながら徐々に抵抗値を上げて行き
、所要の抵抗値になるように修正される。
トリミング方法としては、直径が５０〜２５０ａｍ程度
に集光されたＮｄ、ＹＡＧ、ＣＯ２，Ｘｅ等のレーザビ
ームにより、所定の抵抗値になるまで抵抗膜３を蒸発さ
せて行なうレーザ法と、粒子径が３０〜６０μｍのアル
ミパウダーを圧縮空気と一緒に抵抗膜３に吹き付け、機
械的に削り取るサンドブラスト法とがあり、最近ではト
リミング速度の速いレーザ法が主流になっている。
に集光されたＮｄ、ＹＡＧ、ＣＯ２，Ｘｅ等のレーザビ
ームにより、所定の抵抗値になるまで抵抗膜３を蒸発さ
せて行なうレーザ法と、粒子径が３０〜６０μｍのアル
ミパウダーを圧縮空気と一緒に抵抗膜３に吹き付け、機
械的に削り取るサンドブラスト法とがあり、最近ではト
リミング速度の速いレーザ法が主流になっている。
第４図および第５図には、上記方法で行なったトリミン
グの異なる態様が示されている。第４図におけるトリミ
ング４は抵抗膜３の一方の側面から進入し、ある程度目
的とする抵抗値に近づいた所で９０度方向転換して微調
整を行なうＬ型を示しており、第５図のトリミング５は
抵抗膜３の両側面から進入するＳ型を示している。
グの異なる態様が示されている。第４図におけるトリミ
ング４は抵抗膜３の一方の側面から進入し、ある程度目
的とする抵抗値に近づいた所で９０度方向転換して微調
整を行なうＬ型を示しており、第５図のトリミング５は
抵抗膜３の両側面から進入するＳ型を示している。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、上記従来のトリミング方法では、レーザ
装置の分解能やレーザビームと印刷された抵抗膜３との
温度差等により、トリミング終了点で抵抗膜３にマイク
ロクラック６を発生させることがあった。このマイクロ
クラック６は、トリミング方向に沿って延びる傾向があ
り、トリミングを抵抗膜３中を流れる電流方向に対して
横切る方向に行なう場合、発生したマイクロクラック６
が電流路を横切ってドリフト特性を悪化させ、この厚膜
抵抗を使用した回路に大きな支障を来たすという問題が
あった。
装置の分解能やレーザビームと印刷された抵抗膜３との
温度差等により、トリミング終了点で抵抗膜３にマイク
ロクラック６を発生させることがあった。このマイクロ
クラック６は、トリミング方向に沿って延びる傾向があ
り、トリミングを抵抗膜３中を流れる電流方向に対して
横切る方向に行なう場合、発生したマイクロクラック６
が電流路を横切ってドリフト特性を悪化させ、この厚膜
抵抗を使用した回路に大きな支障を来たすという問題が
あった。
本発明は、このような従来の問題を解決するものであり
、抵抗膜にマイクロクラックを発生させずに抵抗値の調
整を行なうことのできる優れた厚膜抵抗を提供すること
を目的とする。
、抵抗膜にマイクロクラックを発生させずに抵抗値の調
整を行なうことのできる優れた厚膜抵抗を提供すること
を目的とする。
課題を解決するための手段
本発明は、上記目的を達成するために、二つの引き出し
電極間隔を実効的に調整可能に構成することにより、抵
抗膜自体のトリミングを行なわずに抵抗膜の長さを変え
て抵抗値を調整するようにしたものである。
電極間隔を実効的に調整可能に構成することにより、抵
抗膜自体のトリミングを行なわずに抵抗膜の長さを変え
て抵抗値を調整するようにしたものである。
作用
したがって本発明によれば、抵抗膜をトリミングするこ
となく、抵抗値を決定する他の要素の一つである引き出
し電極間の距離を実効的に変えることにより抵抗値の調
整を行なうようにしたので、抵抗膜をトリミングするこ
とにより発生するマイクロクラックの弊害を除去するこ
とができ、信頼性の高い厚膜抵抗を実現することができ
る。
となく、抵抗値を決定する他の要素の一つである引き出
し電極間の距離を実効的に変えることにより抵抗値の調
整を行なうようにしたので、抵抗膜をトリミングするこ
とにより発生するマイクロクラックの弊害を除去するこ
とができ、信頼性の高い厚膜抵抗を実現することができ
る。
実施例
第１図は本発明の一実施例を示すものである。
第１図において、１１および１２は図示されない絶縁セ
ラミック基板上に予め印刷された二つの分離された引き
出し電極である。一方の引き出し電極１２は、他方の引
き出し電極１１に対面する電極部１２ａの他に、他方の
引き出し電極１１に向けて直角に曲がる延長部１２ｂと
、ここからさらに内側に直角に曲がる複数の櫛歯状電極
１３ａを有する補助電極１３を一体に備えている。１４
は二つの引き出し電極１１．１２間に、各櫛歯状電極１
３ａの先端部が掛かるようにマスクを用いてスクリーン
または描画印刷された平面矩形状の抵抗膜である。補助
電極１３は、各櫛歯状電極１３ａの数が多いほど調整範
囲が広く取れ、また各櫛歯状電極１３ａのピッチ間隔が
小さいほど微細な調整を行なうことができる。
ラミック基板上に予め印刷された二つの分離された引き
出し電極である。一方の引き出し電極１２は、他方の引
き出し電極１１に対面する電極部１２ａの他に、他方の
引き出し電極１１に向けて直角に曲がる延長部１２ｂと
、ここからさらに内側に直角に曲がる複数の櫛歯状電極
１３ａを有する補助電極１３を一体に備えている。１４
は二つの引き出し電極１１．１２間に、各櫛歯状電極１
３ａの先端部が掛かるようにマスクを用いてスクリーン
または描画印刷された平面矩形状の抵抗膜である。補助
電極１３は、各櫛歯状電極１３ａの数が多いほど調整範
囲が広く取れ、また各櫛歯状電極１３ａのピッチ間隔が
小さいほど微細な調整を行なうことができる。
次に上記実施例の動作について説明する。上記実施例に
おいて、補助電極１３として線幅１００μｍの同じ長さ
の櫛歯状電極１３ａをピッチ間隔２００μｍで揃え、計
算式から導いた目的の抵抗値に対する長さを引き出し電
極１１のＡ点から補助電極・１３のＢ点までとした場合
、Ｂ点の両側に櫛歯状電極１３ａを３本ずつ抵抗膜１４
と接続するように配置し、抵抗値の調整を各櫛歯状電極
１３ａをトリミングすることにより行なう。例えば、櫛
歯状電極１３ａの６本全てをトリミング装置によりトリ
ミングすれば、目的の抵抗値ＩＫΩの抵抗値に対して約
９４０Ω〜１１００Ωの調整が可能である。
おいて、補助電極１３として線幅１００μｍの同じ長さ
の櫛歯状電極１３ａをピッチ間隔２００μｍで揃え、計
算式から導いた目的の抵抗値に対する長さを引き出し電
極１１のＡ点から補助電極・１３のＢ点までとした場合
、Ｂ点の両側に櫛歯状電極１３ａを３本ずつ抵抗膜１４
と接続するように配置し、抵抗値の調整を各櫛歯状電極
１３ａをトリミングすることにより行なう。例えば、櫛
歯状電極１３ａの６本全てをトリミング装置によりトリ
ミングすれば、目的の抵抗値ＩＫΩの抵抗値に対して約
９４０Ω〜１１００Ωの調整が可能である。
第２回は本発明の第２の実施例を示すものである。上記
第１の実施例では、補助電極１３が抵抗膜１４の一方の
側面にのみ配置されていたが、第２図に示す実施例にお
いては、抵抗膜１４の両方の側面に補助電極１３が配置
され、各櫛歯状電極１３ａの先端部が抵抗膜１４に接続
されている。
第１の実施例では、補助電極１３が抵抗膜１４の一方の
側面にのみ配置されていたが、第２図に示す実施例にお
いては、抵抗膜１４の両方の側面に補助電極１３が配置
され、各櫛歯状電極１３ａの先端部が抵抗膜１４に接続
されている。
抵抗膜１４の両側においてそれぞれ対向する線幅１０１
００ｕピッチ間隔２００μｍの櫛歯状電極１３ａは、互
いにピッチを１１００ｔ１ずつずらして形成されており
、櫛歯状電極全体における実質的なピッチ間隔は１００
μｍになっている。
００ｕピッチ間隔２００μｍの櫛歯状電極１３ａは、互
いにピッチを１１００ｔ１ずつずらして形成されており
、櫛歯状電極全体における実質的なピッチ間隔は１００
μｍになっている。
第１の実施例においては、補助電極１３の櫛歯状電極１
３ａを引き出し電極１１側から１本ずつ切断することに
より抵抗膜１４の長さは２００μｍずつ長くなり、抵抗
値は約２ｏΩ変化する。これに対し第２の実施例では、
抵抗膜１４の両側に配置された補助電極１３の各櫛歯状
電極１３ａを交互に１本ずつ切断することにより、抵抗
膜１３の長さを１１００ｕずつ長くすることができ、抵
抗値をさらに微細に調整することができる。この実施例
では、櫛歯状電極１３ａを１本切断することにより約４
Ωの調整が可能である。
３ａを引き出し電極１１側から１本ずつ切断することに
より抵抗膜１４の長さは２００μｍずつ長くなり、抵抗
値は約２ｏΩ変化する。これに対し第２の実施例では、
抵抗膜１４の両側に配置された補助電極１３の各櫛歯状
電極１３ａを交互に１本ずつ切断することにより、抵抗
膜１３の長さを１１００ｕずつ長くすることができ、抵
抗値をさらに微細に調整することができる。この実施例
では、櫛歯状電極１３ａを１本切断することにより約４
Ωの調整が可能である。
櫛歯状電極１３ａのピッチ間隔は、製造技術上の問題か
らあまり細かくすることができないので、上記のように
各櫛歯状電極１３ａのピッチを抵抗膜１４の両側におい
て互いにずらすことによりピッチ間隔を実質的狭くする
ことは極めて有用である。
らあまり細かくすることができないので、上記のように
各櫛歯状電極１３ａのピッチを抵抗膜１４の両側におい
て互いにずらすことによりピッチ間隔を実質的狭くする
ことは極めて有用である。
発明の効果
本発明は、上記各実施例から明らかなように、厚膜抵抗
の抵抗値の調整を、一方の引き出し電極に一体に設けた
櫛歯状の補助電極をトリミングすることにより行なうの
で、抵抗膜をトリミングすることにより発生するマイク
ロクラックの弊害を除去することができ、信頼性の高い
厚膜抵抗を実現することができる。
の抵抗値の調整を、一方の引き出し電極に一体に設けた
櫛歯状の補助電極をトリミングすることにより行なうの
で、抵抗膜をトリミングすることにより発生するマイク
ロクラックの弊害を除去することができ、信頼性の高い
厚膜抵抗を実現することができる。
第１図は本発明の一実施例における厚膜抵抗の概略平面
図、第２図は本発明の他の実施例における厚膜抵抗の概
略平面図、第３図は従来の厚膜抵抗の概略平面図、第４
図および第５図は従来の厚膜抵抗のトリミング状態を示
す概略平面図である。 １１．１２・・・引き出し電極、１２ａ・・・対面電極
部、１２ｂ・・・延長部、１３・・・補助電極、１３ａ
・・・櫛歯状電極、１４・・・・・・抵抗膜、１５・・
・トリミング。
図、第２図は本発明の他の実施例における厚膜抵抗の概
略平面図、第３図は従来の厚膜抵抗の概略平面図、第４
図および第５図は従来の厚膜抵抗のトリミング状態を示
す概略平面図である。 １１．１２・・・引き出し電極、１２ａ・・・対面電極
部、１２ｂ・・・延長部、１３・・・補助電極、１３ａ
・・・櫛歯状電極、１４・・・・・・抵抗膜、１５・・
・トリミング。
Claims (2)
- （１）絶縁基板上に印刷形成された二つの分離された引
き出し電極の間を接続する抵抗膜を備え、前記抵抗膜の
長手方向に沿う少なくとも一方の側面に接続された複数
の櫛歯状電極を有する補助電極を前記引き出し電極の一
方に一体に設けた厚膜抵抗。 - （２）絶縁基板上に印刷形成された二つの分離された引
き出し電極の間を接続する抵抗膜を備え、前記抵抗膜の
長手方向に沿う両方の側面に互いに対向して接続された
それぞれ複数の櫛歯状電極を有する補助電極を前記引き
出し電極の一方に一体に設けるとともに、前記互いに対
向するそれぞれの櫛歯状電極のピッチを相互にずらして
形成した厚膜抵抗。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1329106A JPH03190102A (ja) | 1989-12-19 | 1989-12-19 | 厚膜抵抗 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1329106A JPH03190102A (ja) | 1989-12-19 | 1989-12-19 | 厚膜抵抗 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03190102A true JPH03190102A (ja) | 1991-08-20 |
Family
ID=18217679
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1329106A Pending JPH03190102A (ja) | 1989-12-19 | 1989-12-19 | 厚膜抵抗 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03190102A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5338919A (en) * | 1991-12-28 | 1994-08-16 | Rohm Co., Ltd. | Heater for sheet material and method for adjusting resistance of same |
| JP2005266158A (ja) * | 2004-03-17 | 2005-09-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | ストロボ装置およびストロボ内蔵カメラ |
-
1989
- 1989-12-19 JP JP1329106A patent/JPH03190102A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5338919A (en) * | 1991-12-28 | 1994-08-16 | Rohm Co., Ltd. | Heater for sheet material and method for adjusting resistance of same |
| JP2005266158A (ja) * | 2004-03-17 | 2005-09-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | ストロボ装置およびストロボ内蔵カメラ |
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