JPH0319063Y2

JPH0319063Y2 -

Info

Publication number: JPH0319063Y2
Application number: JP1982175553U
Authority: JP
Priority date: 1982-11-22
Filing date: 1982-11-22
Publication date: 1991-04-23
Also published as: JPS5982342U

Description

【考案の詳細な説明】この考案はヒートモードで記録を行なう光記録
用媒体に関するものであり、更に詳しくは、基板
上に光吸収層、さらにその上に熱可塑性層を形成
して得られる媒体の光記録機能を利用した書換え
可能な光記録用媒体に関するものである。

近年、情報処理の分野において情報の多量化、
多様性の急速な伸びに伴い、一般的な記録方式と
して従来の磁気メモリーでは不十分になりつつあ
り、上記多様性に応じがたい傾向にある。そこ
で、従来のかかる記録方式に代わるものとして、
光記録用媒体を用いた光記録方式が考えられてい
る。かかる光記録方式に用いる媒体の一例として
金属薄膜あるいは金属含有ポリマ材料があるが、
これはレーザビームによつて記録部分の媒体を蒸
着、燃焼させ穴をあける書込み方式であることか
ら、その記録の消去、書換えは不可能である。

一方、この書換え可能な光記録用媒体の第１の
例としては光磁気材料が知られている。これは磁
気力−効果を用いて読出しを行うが、当効果が小
さいため読出しのＳ／Ｎが非常に悪い。また、均
質な媒体を作製するのが難しい。第２の例として
は非晶質カルコゲナイドのフオトダークニングの
利用があるが、この材料はフオトダークニング感
光波長が短波長であり、使用波長に著しい制限が
ある。第３の例としては熱可塑性ポリマーと光導
電体を組合せた媒体が知られているが、記録時に
コロナ放電、全面加熱が必要であり、簡便でな
く、また感光波長は光導電体によつて制限され
る。

このように従来の光記録用媒体は、その多くが
書換え不可能であるとか、あるいは書換えのでき
るものにおいては種々の特性が不十分であるなど
数多くの問題、欠点を免がれないのが実情であ
る。

膏案者らはこのような欠点を解決するために多
数の試験研究を行つた結果、ネサガラス等の通電
により発熱し得る電導性ガラスから成る基板上に
反射層と光吸収層と熱可塑性層を積層形成すると
により、くり返し消去および書換え可能な光記録
性が著しく向上すると共に、前記基板をネサガラ
ス等の電導性ガラス基板として、該基板への通
電、発熱により記録の消去を良好に行い得る媒体
を実現したものであり、以下図面を参照しつつこ
の考案を具体的に説明する。

第１図はこの考案の光記録用媒体の一実施例を
示す断面図である。この図において、１はネサガ
ラスから成る透明基板、２は光吸収層、３は熱可
塑性層、４は基板１と光吸収層２との間に設けら
れる反射層である。反射層４、光吸収層２、熱可
塑性層３はこの順に基板１上に形成される。反射
層４としては例えばアルミニウムの蒸着膜が用い
られる。また光吸収層２としては銅−フタロシア
ニンの蒸着膜またはカーボンブラツク塗布膜が用
いられる。一方、熱可塑性層３としては膜厚約
1μmのポリスチレン膜をスピンコート法にて形成
した。使用したポリスチレンの分子量は1500〜
500である。

この媒体に対しヒートモードで記録の書込みを
行なうが、これはArレーザビームを出力5mW以
下、照射時間2mSで照射することにより、1μm径
程度の微小ピツトを書込むことができた。また、
媒体全体をポリスチレンのガラス転移温度以上に
加熱することにより、記録ピツトの消去をするこ
とができ、冷却後再書込みが可能であつた。しか
も、この実施例において概ね500回以上の消去・
再書込みに十分耐える性能を有していることを確
認した。ピツトの読出しは光吸収率の差、屈折率
の差、反射率の差などで可能であつた。

この考案における上記の光吸収層２としては、
書込み波長での吸収係数の大きなものが望まし
く、銅−フタロシアニン、カーボンブラツク以外
に、他の金属フタロシアニン、各種色素などがあ
る。熱可塑性層３としては、記録保持温度（室温
など）で十分に硬質であり、かつ比較的ガラス転
移温度が低く、ガラス転移温度以上で十分に軟か
く、容易に塑性流動変形をおこす熱可塑性材料が
望ましい。例としては上述のポリスチレンの他に
ロジンエステル、アクリル樹脂、ポリエチレンな
どのポリマーがあり、比較的低分子量かつ分子量
分布が略単分散であるものが特性が良い。上記ポ
リマーの分子量は1500〜5000が適当である。分子
量が低すぎると室温で軟かく記録の安定保持がで
きない。

次に、この光記録用媒体の書込み、消去原理に
ついて述べる。第２図ａは書込み前の状態で、１
は透明基板、４は反射層、２は光吸収層、３は熱
可塑性層、である。同図ｂに示すようにレーザ光
線５を照射すると、光吸収層２は、熱可塑性層を
通つて直接入射するレーザ光線５及び光吸収層２
を透過して反射層４により反射されてくる一部の
レーザ光線５を吸収して、これによりその温度が
速やかに上昇する。それにより、熱可塑性層３の
温度も上昇しガラス転移温度以上になり、同図ｃ
のように熱可塑性層３が軟化し、凹みができる。
そして、すぐに冷却され、凹みは室温で安定に残
る。このようにして形成された凹み（書込みピツ
ト）は光吸収率の差、屈折率の差などで検出可能
であるし、表面反射の違いでも検出できる。ま
た、基板１と光吸収層２の間に反射層４を形成し
たことにより、反射光の違いとしても検出でき
る。一方、媒体全体を加熱することにより熱可塑
性層３全体が軟化し、同図ｄに示すように凹みを
埋め全体が平坦な膜に戻る。すなわち、書込みピ
ツトの消去が行われる。この消去における前記加
熱方法は、ネサガラス等の通電により発熱し得る
電導性ガラスから成る透明基板１に外部電源（図
示せず）より電流を流すことによる抵抗加熱によ
り行う。この通電による基板１の発熱により、媒
体全体が加熱され、これにより熱可塑性層３もそ
の全面が一様に加熱されて軟化（塑性流動変形）
し、その表面が平坦化して記録の消去が行なわれ
る。なお、先の書込みにおけるレーザパワーが大
きすぎると熱可塑性層３または光吸収層２の破壊
がおこり、上記消去が不可能になる。

以上詳述したようにこの考案の光記録用媒体
は、基板上に反射層、光吸収層、熱可塑性層をこ
の順に形成したので、レーザ光による反復性の大
きな繰返し高速書込みおよび消去が可能となる。
しかも、レーザ光照射加熱により記録を行うので
非常に微小な記録が可能となり、従来の磁気記録
に代り得る高密度記録媒体として利用できる効果
がある。また、本考案の媒体は、基板を導電性ガ
ラスとし、該基板へ通電し発熱させることにより
熱可塑性層を軟化（塑性流動変形）させて記録の
消去を行うものであるため、消去を容易かつ良好
に行い得る。さらに、本考案の媒体は、記録層
（熱可塑性層）と光吸収層を分離したために、熱
可塑性層の硬化←→軟化による劣化が非常に少い。
一方、３層とせずに、熱可塑性層内に光吸収体を
混合させたものは、硬化合←→軟化のくり返しに
より不均一化、光吸収体の分解、劣化がおきる可
能性が大きく、感度低下、くり返し特性劣化をき
たす。また、この考案の光記録用媒体によれば、
熱可塑性層として分子量が1500〜5000で且つ分子
量分布が略単分散のポリマーを使用することで感
度、高速書込み性もよく、くり返し特性はさらに
非常にすぐれる。さらに、この考案の媒体は塗布
などの方法だけでも形成でき、非常にコストを下
げることができ、かつ大型化も容易である。さら
に上述のように消去性が良いので、再書込みも良
好に行い得る。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの考案の光記録用媒体の一実施例を
示す断面図、第２図は前記一実施例の媒体に対す
る書込みおよび消去を説明するための断面図であ
る。１……透明基板、２……光吸収層、３……熱可
塑性層、４……反射層、５……レーザ光。

Claims

【実用新案登録請求の範囲】

書き換え可能で且つ所定の波長のレーザビーム
光を照射することによりヒートモードで記録の書
込みを行なう光記録用媒体であつて、通電により
発熱し得る電導性ガラスから成る基板上に、反射
層と、前記書込み波長での吸収係数の大きい光吸
収材料から成る光吸収層と、分子量が1500〜5000
で且つ分子量分布が略単分散のポリマーから成る
熱可塑性層とをこの順に備えたことを特徴とする
光記録用媒体。