JPH0319065Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は透明な基体と、この基体上にあつて、
該基体を通る集光放射ビームにより局部的にモデ
イフアイ可能な記録層と、基体にガス封止して取
付けられたカバーデイスクとを具え、このカバー
デイスクを少なくとも記録層から或る距離離して
基体及びカバーデイスク間に封止スペースを画成
し、カバーデイスクを、第１平面において基体に
封止結合した第１部分と、第１平面に平行でこの
第１平面から或る距離離れた第２平面内にあつて
封止スペースを画成する第２部分とからなる浅い
皿状とした光学的に読取可能な記録デイスクに関
するものである。

かかる記録デイスクは例えば米国特許第
4074282号明細書において周知のもので、複数個
の第１デイスクを具え、これらを環状スペーサに
より相互に離間させ、環状スペーサ間を中心孔の
近く及び記録円板の外周縁近くにおいて接着す
る。実際上今日迄は、２個のガラス製基体間に２
個の同心環状スペーサを接着して具える記録デイ
スクが最も多用されていた。各ガラス製基体に記
録層を設け、これを封止スペースと対向する基体
の側に位置させる。これにより両面デイスクが得
られ、一方の基体は他方の基体のカバーデイスク
として作用する。

かかる周知の記録デイスクの封止スペースは次
の２つの理由からガス封止を必要とする。第１の
理由は、ガラス製基体上にテルル合金を真空蒸着
させて記録層を形成するためである。記録中レー
ザービームは局部的な溶融によりテルル層にピツ
トを形成する。この時放出される不所望なガス状
副産物が少ない。封止スペースはこれらガス状副
産物を捕らえる作用をなす。第２の理由は、テル
ル層を周辺環境、特に湿気及び酸素から保護し
て、テルル層の酸化により記録情報の読取性に悪
影響が及ぶことのないようにするのがよいからで
ある。従つて、ガス封止スペースの存在は重要で
ある。しかし、この封止スペースは問題も生ず
る。特に、記録デイスクが大気圧の変化による影
響で変形する。前記周知の記録デイスクは直径が
約30cmであり、又ガラス製基体の厚さが数ミリメ
ートルであつたが、不所望な程度に変形を生じて
いた。この変形は記録及び読取りに悪影響を及ぼ
し、加えて基体及び環状スペーサ間の接着層に負
荷をかけていた。本考案は上述した型式の光学的
に読取可能な記録デイスクをこの点において改良
し、海抜数千メートルまでの使用も原理的に可能
にすることを目的とする。本考案は従つて、封止
スペース内のガス圧と大気圧との圧力差に基づく
カバーデイスクの変形抵抗を基体のそれより小さ
くしようとするものである。この目的のため本考
案は基体を中心孔のない扁平な円板で構成し、カ
バーデイスクを該基体の外周縁部のみにおいてこ
の基体に封止結合し、基体に比較してカバーデイ
スクを、封止スペース内のガス圧と大圧との圧力
差に対する変形抵抗が小さなものとして、該圧力
差による基体の変形をカバーデイスクの変形より
小さくなるようにし、記録層のない基体の中心部
と対向する皿状カバーデイスクの中心部分を、前
記第１及び第２平面に平行でこれら平面間におけ
る面内に位置するよう窪ませたことを特徴とす
る。

本考案記録デイスクは基体と異なるカバーデイ
スクを使用し、これにより記録デイスクを一側で
のみ使用し得るようにする。封止スペース内の圧
力及び大気圧間の差に対するカバーデイスクの変
形抵抗を小さくすることにより、基体の変形が従
来のものより小さくなる。又記録デイスクの一側
のみの記録容量に制限されるが、これは、使用回
数が多くなるため問題とならず、更に基体があら
ゆる大気圧変化に対しても扁平を保ち得ることこ
そ重要である。

好ましくは、カバーデイスクを薄い金属板で造
るのが良い。この場合カバーデイスクがガス封止
体であり、容易に造ることができ、更に厚さに応
じて原理的に極めて小さくすることができ、又基
体との比較において十分な可撓性を持つ。

本考案の他の例では、カバーデイスク第１部分
に軸線方向へ延在する外周縁を設け、ここでもカ
バーデイスク及び基体間の封止結合を行うのが良
い。基体はカバーデイスクににかわ付けする。こ
のにかわ付けはエボキシ樹脂の場合、正確さ及び
速い硬化を期すために製品を80〜90℃の温度に過
熱する必要がある。本例では、カバーデイスク及
び基体をにかわ層の硬化の前に相互に心出しする
のが、効率の良い生産にとつて重要である。又、
カバーデイスク第１部分の上記外周縁は大きな幅
のにかわ層を提供することができる。封止スペー
スのガス封止は、大気中からにかわ層を経て封止
スペースに至る通路長を長くするように改良す
る。この点において本考案の他の例では、カバー
デイスク第１部分の外周縁を基体の外周縁にかぶ
さるよう折曲げるのが有利である。こ場合通路長
が更に長くなる。しかし、本例の基本的な利点
は、にかわ層が熱処理される前に基体及びカバー
デイスクが単一ユニツトを形成し、問題なく取扱
えることである。本例の付加的利点は、カバーデ
イスクを基体に接着せず、カバーデイスク及び基
体間に永久的な弾性封止層が存在することであ
る。折曲線はこの弾性封止層を永久的に提供し、
これはガスシールの質にとつて重要である。かか
る記録デイスクは、カバーデイスクを基体に接着
した記録デイスクより寿命が短い。しかし、この
記録デイスクは迅速且つ安価に造ることができ、
使用寿命より価格を重視する客にとつて重要であ
る。

カバーデイスクを基体にガス封止下に結合する
ことに関する問題は本考案によつてなくすことが
でき、この目的のため例えば基体を中心孔のない
扁平な円板で構成し、カバーデイスクを基体の外
周縁近くにおいてのみこれに結着する。本例は前
述した周知の記録デイスクに較べ、基体及びカバ
ーデイスク間に１種の結着が必要なだけである。
基体及びカバーデイスクが中心付近で結着されな
いため、次の付加的利点が得られる。即ち、基体
及びカバーデイスクが封止スペース内の圧力及び
大気圧間の圧力差にともなう変形に対してより小
さな抵抗を示す。しかし、両者の剛性の比は更に
大きくなり、基体の変形特性が更に好ましいもの
となる。しかし、カバーデイスクが大きなスパン
を持ち、一層可撓性に富むため、或る条件下で、
例えば取扱いミス又は極めて高い大気圧により、
カバーデイスクが記録層の一部に押付けられ、こ
れら一部が損傷することがある。

これを防止するため本考案によれば更に、記録
層のない基体の中心部と対向する皿状カバーデイ
スクの中心部分を第１及び第２平面間の平面内に
位置するよう窪ませる。

本考案の他の例では、極めて薄く可撓性に富む
材料を用いても、カバーデイスクが第２部分にお
いて記録層に押圧されることのないようにするこ
とができ、この目的のためにはカバーデイスクに
半径方向補強部を形成する。金属カバーデイスク
の場合、扁平なカバーデイスクを局部的に変形さ
せて補強部を形成することができる。

以下、本考案の実施例を図面により詳細に説明
する。

本考案の光学的に読取可能な記録デイスクは透
明なガラス又はプラスチツクの基体１を具える。
放射ビームにより部分的にモデイフアイ可能な反
射記録層２をこの基体１上に設ける。本例ではこ
の記録層２を、実際に記録を行う基体１上の領域
のみに設ける。しかし、記録層は基体１のもつと
広範囲に、所要に応じ基体の全体に亘り設けるこ
ともできる。情報の記録及び読取りは図示せざる
レーザービームにより透明な基体を経て行なう。
カバーデイスク３を基体１にガス封止して固着
し、カバーデイスク３及び記録層２間に封止スペ
ース４を画成する。カバーデイスク３を全体的に
基体１より薄くし、封止スペース４内の圧力及び
大気圧の圧力差にともなう変形に対するカバーデ
イスク３の抗力を小さくする。

カバーデイスク３を例えばアルミニウムシート
のような薄い金属板で、浅い皿状に造り、その第
１部分３Ａを基体１に連結するための環状フラン
ジとし、第１平面内に配置する。浅い皿の底面を
構成して封止スペース４を画成する第２部分３Ｂ
は第１平面に平行な第２平面内に位置させる。フ
ランジ３Ａの近くに第３部分を設け、これを折曲
リム３Ｃの型式のものとし、基体１の周縁とな
す。第３部分３Ｃは基体１の周縁にかぶさるよう
折曲する。基体１を全体的に扁平な円板とし、こ
れに駆動装置への心出し及び位置決め用の通常の
中心孔を設けない。従つてカバーデイスクは周縁
近くにおいてのみ基体に連結する。カバーデイス
クには更に円形窪みの型式の第４部分３Ｄを設
け、その底面を前述した２個の平面間における平
面内及び記録に使用しない基体部分上に位置させ
る。第４部分は基体から或る距離隔てて配置する
も、部分３Ｂよりは基体に接近させる。カバーデ
イスクを押下げると、第４部分はこれが特に中心
部分であるため、まず基体に接触するようになる
が、不所望な結果を招くことはない。この点にお
いて、極めて薄い金属板を用いる場合特に、カバ
ーデイスクに部分的な変形を加えて半径方向へ延
びる補強部３Ｅを設けることが重要である。これ
ら補強部により部分３Ｂに所望の剛性を与えるこ
とができる。

記録デイスクは中心軸線５の周りに回転させ
る。記録層２とは反対の基体の側に軸線方向へ突
出する心出し部材６を設ける。この部材は、記録
デイスクに情報を記録したり、記録情報を光学に
読取るために図示せざる装置のスピンドル７、つ
まり心出し手段に共働させるようにする。僅かに
構成が異なり、デイスクの中心孔と共働するよう
にした心出し手段は別として適当な装置を本願人
は先に出願済である。心出し部材６を全体的に金
属板で造り、にかわ層８により基体に連結する。
心出し部材６の底面６Ａに中心孔６Ｃを形成し、
これに僅かなクリアランスをもつてスピンドル７
を貫入させる。このスピンドルは駆動モータのス
ピンドルを可とし、簡単ながら十分正確に記録デ
イスクを駆動装置上に心出しすることができる。

スピンドル７にターンテーブル９を設け、これ
により基体１を支持する。ターンテーブルに環状
の永久磁石１０を設け、これにより金属板の心出
し部材６をターンテーブル９上で軸線方向に吸引
する。ターンテーブル９には更に適当な弾性材料
のリング１１を設け、これを永久磁石１０の吸引
力により僅かに弾性変形するものとする。本例で
は、リング１１を直接基体１に共働させる。この
代わりに、心出し部材６をフランジ６Ｂにより一
層大径とし、リング１１を直接基体１と共働させ
ず、フランジ６Ｂに直接共働させることができ
る。スピンドル７の遊端を基体の下側に当てが
い、従つてスピンドル遊端がターンテーブル上に
おける情報デイスクの軸方向位置を決定するスト
ツパを構成するようになし得る。

又、カバーデイスクは金属以外の材料、例えば
適当なプラスチツクで造ることがでる。プラスチ
ツク材料は絶対に防湿性のものでなければならな
いという訳ではなく、デイスクの寿命を阻害しな
いものであればよい。

中心孔のない基体の場合、実開昭59−238030号
公報において説明したような付加的利点が得られ
る。

【図面の簡単な説明】

図面は本考案デイスクの一部破断斜視図であ
る。 １……基体、２……記録層、３Ａ……カバーデ
イスク第１部分、３Ｂ……カバーデイスク第２部
分、３Ｃ……カバーデイスク第３部分、３Ｄ……
カバーデイスク第４部分、３Ｅ……第２部分補強
部、４……封止スペース、６……心出し部材、６
Ａ……底面、６Ｃ……中心孔、７……スピンド
ル、８……にかわ層、９……ターンテーブル、１
０……永久磁石、１１……弾性リング。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 １ 透明な基体１と、 この基体上にあつて、該基体を通る集光放射
   ビームにより局部的にモデイフアイ可能な記録
   層２と、 基体にガス封止して取付けられたカバーデイ
   スク３とを具え、このカバーデイスクを少なく
   とも記録層から或る距離離して基体及びカバー
   デイスク間に封止スペース４を画成し、カバー
   デイスク３を、第１平面において基体１に封止
   結合した第１部分３Ａと、第１平面に平行でこ
   の第１平面から或る距離離れた第２平面内にあ
   つて封止スペース４を画成する第２部分３Ｂと
   からなる浅い皿状とした光学的に読取可能な記
   録デイスクにおいて、 基体１に比較してカバーデイスク３を、封止
   スペース４内のガス圧と大気圧との圧力差に対
   す変形抵抗が小さなものとして、該圧力差によ
   る基体の変形をカバーデイスクの変形より小さ
   くなるようにし、 記録層のない基体１の中心部と対向する皿状
   カバーデイスクの中心部分３Ｄを、前記第１及
   び第２平面に平行でこれら平面間における面内
   に位置するよう窪ませたことを特徴とする光学
   的に読取可能な記録デイスク。 ２ カバーデイスク３の第１部分は軸線方向へ延
   在する外周縁３Ｃを有し、カバーデイスク及び
   基体間の封止結合を外周縁３Ｃにおいても行う
   よう構成した実用新案登録請求の範囲第１項記
   載の光学的に読取可能な記録デイスク。 ３ カバーデイスク３を薄い金属板で造つた実用
   新案登録請求の範囲第２項記載の光学的に読取
   可能な記録デイスク。 ４ カバーデイスクの第２部分に半径方向補強部
   を形成した実用新案登録請求の範囲第３項記載
   の光学的に読取可能な記録デイスク。 ５ カバーデイスク第１部分の外周縁３Ｃを基体
   １の外周縁にかぶさるよう折曲した実用新案登
   録請求の範囲第２項又は第３項記載の光学的に
   読取可能な記録デイスク。