JPH0319357A - 基板電位発生回路 - Google Patents
基板電位発生回路Info
- Publication number
- JPH0319357A JPH0319357A JP15406789A JP15406789A JPH0319357A JP H0319357 A JPH0319357 A JP H0319357A JP 15406789 A JP15406789 A JP 15406789A JP 15406789 A JP15406789 A JP 15406789A JP H0319357 A JPH0319357 A JP H0319357A
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- JP
- Japan
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- mos transistor
- potential
- substrate
- gate
- transistor
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- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 55
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 16
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims description 9
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 4
- 230000008878 coupling Effects 0.000 abstract description 5
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 abstract description 5
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 abstract description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 12
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明はMOS半導体装置に搭載され、基板電位を発生
させる基板電位発生回路に関する。
させる基板電位発生回路に関する。
[従来の技術コ
従来から例えばダイナミックRAM等のMOS半導体装
置では、ポンピング動作によって基板電位を接地電位よ
りも低いある一定の電圧に設定する基板電位発生回路を
内蔵している。従来のこの種の基板電位発生回路は第6
図に示すように、基板と接地との間にダイオード接続さ
れた2つのMOSトランジスタQe++Qa。と、これ
らMOSトランジスタQe++Qe。の接続点に一端が
接続された容量C6と、この容量C6の他端に出力端が
接続されたリングオシレータ1とにより構成されていた
。
置では、ポンピング動作によって基板電位を接地電位よ
りも低いある一定の電圧に設定する基板電位発生回路を
内蔵している。従来のこの種の基板電位発生回路は第6
図に示すように、基板と接地との間にダイオード接続さ
れた2つのMOSトランジスタQe++Qa。と、これ
らMOSトランジスタQe++Qe。の接続点に一端が
接続された容量C6と、この容量C6の他端に出力端が
接続されたリングオシレータ1とにより構成されていた
。
第7図及び第8図に基づいて、この基板電位発生回路の
動作を説明する。
動作を説明する。
第7図は電源が投入された直後の未だ基板電位が接地電
位に略等しい状態における波形を表わし?いる。
位に略等しい状態における波形を表わし?いる。
リングオシレータ1の出力点N0が“H”から“L”に
なると、接続点であるMOSトランジスタQst+ Q
a2の節点N8■は、容量C8のカップリングにより接
地電位以下の電位に降圧される。基板電位が未だ接地電
位であると、トランジスタQesがオンし、基板から電
荷が流入して節点N8。
なると、接続点であるMOSトランジスタQst+ Q
a2の節点N8■は、容量C8のカップリングにより接
地電位以下の電位に降圧される。基板電位が未だ接地電
位であると、トランジスタQesがオンし、基板から電
荷が流入して節点N8。
はトランジスタQe,がオフする−VTI(V7Iはト
ランジスタQ8.のしきい値電圧)近くの電位まで上昇
する。
ランジスタQ8.のしきい値電圧)近くの電位まで上昇
する。
次に、節点N8■が“L”から“H”になると節点N6
■の電位は容量C6のカップリングによりーV■付近か
ら昇圧される。そうすると、トランジスタQ。2がオン
するので、節点N8■から接地電位へ電荷が流出し、節
点N6■の電位はトランジスタQ6■がオフするV 7
2 ( V t。はトランジスタQ82のしきい値電圧
)近くまで下降する。
■の電位は容量C6のカップリングによりーV■付近か
ら昇圧される。そうすると、トランジスタQ。2がオン
するので、節点N8■から接地電位へ電荷が流出し、節
点N6■の電位はトランジスタQ6■がオフするV 7
2 ( V t。はトランジスタQ82のしきい値電圧
)近くまで下降する。
第8図は上述した動作によって基板電位がある程度引抜
かれてVBB(くO)になっている状況を示している。
かれてVBB(くO)になっている状況を示している。
?の場合でも、節点Netが“H I1から“L”にな
ると、節点N 82がカップリング容量C。により降圧
され、トランジスタQe+がオンする。これにより、電
荷が基板から節点N6。へと流れ込み、節点N。2はV
[lB−Vア,付近まで上昇する。次に、節点No+が
“L”から“H”になると、節点N。2が昇圧され、ト
ランジスタQ8■がオンする。これにより、電荷がN8
2から接地電位へ流出し、NG2はV7■近くまで下降
する。
ると、節点N 82がカップリング容量C。により降圧
され、トランジスタQe+がオンする。これにより、電
荷が基板から節点N6。へと流れ込み、節点N。2はV
[lB−Vア,付近まで上昇する。次に、節点No+が
“L”から“H”になると、節点N。2が昇圧され、ト
ランジスタQ8■がオンする。これにより、電荷がN8
2から接地電位へ流出し、NG2はV7■近くまで下降
する。
第9図は基板電位発生回路が動作し始めてからの基板電
位と経過時間との関係を示した図である。
位と経過時間との関係を示した図である。
最終到達電位は、節点N81が“H I1から゜“L“
に変化し、節点N6■のレベルがーVcc+Vア2近く
まで低下した場合でも、トランジスタQ。,がオンしな
くなる条件から決定され、略−V cc+ V H +
Vt■である。この電圧のオフセット分vTI+vT■
の内、VTIはトランジスタQ6■がオンとオフとで切
換わるときのしきい値電圧、VT■は同じくトランジス
タQ6■のしきい値電圧が夫々オフセット分として現れ
たものである。
に変化し、節点N6■のレベルがーVcc+Vア2近く
まで低下した場合でも、トランジスタQ。,がオンしな
くなる条件から決定され、略−V cc+ V H +
Vt■である。この電圧のオフセット分vTI+vT■
の内、VTIはトランジスタQ6■がオンとオフとで切
換わるときのしきい値電圧、VT■は同じくトランジス
タQ6■のしきい値電圧が夫々オフセット分として現れ
たものである。
?発明が解決しようとする課題]
上述した従来の基板電位発生回路では、基板とポンビン
グのための容量C8との間に挿入されたトランジスタQ
a+が単純なダイオード接続になっているため、ポンピ
ング中に節点N6。が降圧され、トランジスタQ■を通
して基板から電荷が流入してきた場合でも、節点N。2
の電位がV..−Vア1近くになり、トランジスタQ
a+のゲート●ソース間電圧がしきい値電圧付近になる
と、トランジスタQ■の電流能力が急激に低下し、間も
なくオフして電荷の流入が停止されてしまう。
グのための容量C8との間に挿入されたトランジスタQ
a+が単純なダイオード接続になっているため、ポンピ
ング中に節点N6。が降圧され、トランジスタQ■を通
して基板から電荷が流入してきた場合でも、節点N。2
の電位がV..−Vア1近くになり、トランジスタQ
a+のゲート●ソース間電圧がしきい値電圧付近になる
と、トランジスタQ■の電流能力が急激に低下し、間も
なくオフして電荷の流入が停止されてしまう。
このように、従来の基板電位発生回路では、基板電位に
しきい@IN圧VTIのオフセットが付いてしまい、基
板電位を十分に低下させることができないという問題点
がある。また、ポンピング中の最後の段階でトランジス
タQelの能力低下が著しいという問題点がある。
しきい@IN圧VTIのオフセットが付いてしまい、基
板電位を十分に低下させることができないという問題点
がある。また、ポンピング中の最後の段階でトランジス
タQelの能力低下が著しいという問題点がある。
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、
基板電位を十分に低下させることができ、しかも基板電
荷引抜き用MOSトランジスタの能力を向上させること
ができる基板電位発生回路を提供することを目的とする
。
基板電位を十分に低下させることができ、しかも基板電
荷引抜き用MOSトランジスタの能力を向上させること
ができる基板電位発生回路を提供することを目的とする
。
[課題を解決するための手段]
本発明に係る基板電位発生回路は、矩形波を出力する発
振回路と、ドレインが基板に接続された電荷引抜き用の
第1のMOSトランジスタと、この第1のMOSトラン
ジスタのソースと、前記発振回路の出力端との間に接続
された第1の容量と、前記第1のMOSトランジスタの
ゲートとドレインとの間に接続され、ゲートが前記第1
のMOSトランジスタのゲートに接続された第2のMO
Sトランジスタと、前記第1及び第2のMOSトランジ
スタのゲートと前記発振回路の出力端との間に接続され
た第2の容量と、前記発振回路から前記第1の容量を介
して前記第1のMOSトランジスタのソースに与える矩
形波と前記発振回路から前記第2の容量を介して前記第
1のMOSトランジスタのゲートに与える矩形波とを位
相反転させる反転回路とを有することを特徴とする。
振回路と、ドレインが基板に接続された電荷引抜き用の
第1のMOSトランジスタと、この第1のMOSトラン
ジスタのソースと、前記発振回路の出力端との間に接続
された第1の容量と、前記第1のMOSトランジスタの
ゲートとドレインとの間に接続され、ゲートが前記第1
のMOSトランジスタのゲートに接続された第2のMO
Sトランジスタと、前記第1及び第2のMOSトランジ
スタのゲートと前記発振回路の出力端との間に接続され
た第2の容量と、前記発振回路から前記第1の容量を介
して前記第1のMOSトランジスタのソースに与える矩
形波と前記発振回路から前記第2の容量を介して前記第
1のMOSトランジスタのゲートに与える矩形波とを位
相反転させる反転回路とを有することを特徴とする。
[作用コ
本発明においては、矩形波によって第1のMOSトラン
ジスタのソースレベルが引下げられ第1のMOSトラン
ジスタがオンする際に、第2のMOSトランジスタのゲ
ート及びドレインのレベルが上昇して第2のMOSトラ
ンジスタがオンするので、第1のMOSトランジスタの
ゲートレベノレは基板電位よりも更に第2のMOSトラ
ンジスタのスレッシロルド電圧分だけ高いレベルに引上
げられる。
ジスタのソースレベルが引下げられ第1のMOSトラン
ジスタがオンする際に、第2のMOSトランジスタのゲ
ート及びドレインのレベルが上昇して第2のMOSトラ
ンジスタがオンするので、第1のMOSトランジスタの
ゲートレベノレは基板電位よりも更に第2のMOSトラ
ンジスタのスレッシロルド電圧分だけ高いレベルに引上
げられる。
このため、第1のMOSトランジスタのソースレベルは
、略基板電位まで引上げられ、従来、最終到達電位に含
まれていた第1のMOSトランジスタのしきい値電圧分
のオフセットが無くなり、基板電位を十分に引下げるこ
とができる。
、略基板電位まで引上げられ、従来、最終到達電位に含
まれていた第1のMOSトランジスタのしきい値電圧分
のオフセットが無くなり、基板電位を十分に引下げるこ
とができる。
また、第1のMOSトランジスタのゲートレベルが引上
げられることによって、第1のMOSトランジスタの基
板電荷引抜きの能力を向上させることができる。
げられることによって、第1のMOSトランジスタの基
板電荷引抜きの能力を向上させることができる。
[実施例コ
以下、添付の図面を参照しながら本発明の実施?につい
て説明する。
て説明する。
第1図は本発明の第1の実施例に係る基板電位発生回路
を示す図である。
を示す図である。
基板と接地端子との間には、電荷引抜き用のNチャネル
MOSトランジスタQ.とNチャネルMOSトランジス
タQ.■とが直列に接続されている。
MOSトランジスタQ.とNチャネルMOSトランジス
タQ.■とが直列に接続されている。
MOSトランジスタQ 11のドレインとゲートとの間
にはNチャネルMOSトランジスタQ 13がダイオー
ド接続されている。また、MOSトランジスタQ 12
もゲーFとドレインとが接続されてダイオードを構成し
ている。
にはNチャネルMOSトランジスタQ 13がダイオー
ド接続されている。また、MOSトランジスタQ 12
もゲーFとドレインとが接続されてダイオードを構成し
ている。
リングオシレータ1の出力端子とMOSトランジスタQ
z+t Qsmの接続点との間にはインバータ2と容
量Cl1とが直列に介挿されている。また、リングオシ
レータ1の出力端子とMOSトランジスタQI3のゲー
トとの間には容IjkC.■が介挿されている。
z+t Qsmの接続点との間にはインバータ2と容
量Cl1とが直列に介挿されている。また、リングオシ
レータ1の出力端子とMOSトランジスタQI3のゲー
トとの間には容IjkC.■が介挿されている。
第2図は上記のように構成された本実施例の回路の動作
を示す波形図である。
を示す波形図である。
リングオシレータ1の出力端である節点NIOが?L”
から“H′′に変化すると、トランジスタQI3がオン
するので、節点NlffはV a B+ V T 3(
Vア。はQl3のしきい値電圧)付近まで昇圧される。
から“H′′に変化すると、トランジスタQI3がオン
するので、節点NlffはV a B+ V T 3(
Vア。はQl3のしきい値電圧)付近まで昇圧される。
このとき、節点N1,は“H”から“L”に変化し、節
点N,2は降圧され、トランジスタQ.がオンするので
、基板から節点N■2に電荷が流れ込む。このとき、節
点NI3の電位はV aa + V 73付近であり、
また、VT3はV T Iと略等しいので、トランジス
タQ ++は節点N.■の電位が基板電位と等しくなる
までオン状態を維持し、電流を流し続ける.次に、節点
N,。が“H IIから“L I1に変化すると、節点
Nl3は降圧されV na+ V T3 V cc付
近になる。このとき、節点N.は“L”から“H”に変
化し、節点N1■は昇圧され、トランジスタQ +2が
オンし、節点NI2から接地端子へ電荷が流れ出す。節
点N.■の電位はトランジスタQ12がオフするVT2
付近まで下降する。
点N,2は降圧され、トランジスタQ.がオンするので
、基板から節点N■2に電荷が流れ込む。このとき、節
点NI3の電位はV aa + V 73付近であり、
また、VT3はV T Iと略等しいので、トランジス
タQ ++は節点N.■の電位が基板電位と等しくなる
までオン状態を維持し、電流を流し続ける.次に、節点
N,。が“H IIから“L I1に変化すると、節点
Nl3は降圧されV na+ V T3 V cc付
近になる。このとき、節点N.は“L”から“H”に変
化し、節点N1■は昇圧され、トランジスタQ +2が
オンし、節点NI2から接地端子へ電荷が流れ出す。節
点N.■の電位はトランジスタQ12がオフするVT2
付近まで下降する。
基板電位と経過時間との関係を示したのが第3図である
。この図にも示すように、この実施例の回路によれば、
最終到達電位は略一V。C+vT2になる。つまり、ト
ランジスタQI,のしきい値電圧Vア,のオフセット分
が無くなった分だけ、基板電位を引下げることができる
。
。この図にも示すように、この実施例の回路によれば、
最終到達電位は略一V。C+vT2になる。つまり、ト
ランジスタQI,のしきい値電圧Vア,のオフセット分
が無くなった分だけ、基板電位を引下げることができる
。
第4図は本発明の第2の実施例に係る基板電位発生回路
の回路図である。この実施例では、第1の実施例の回路
に加え、更に基板電荷引抜き用のMOSトランジスタQ
llのゲートと基板との間に既にダイオード接続されて
いるMOSトランジスタQ 13に対して逆並列にMO
SトランジスタQ 14をダイオード接続している。な
お、第1図と同一物には同一符号を付して詳しい説明は
省略する。
の回路図である。この実施例では、第1の実施例の回路
に加え、更に基板電荷引抜き用のMOSトランジスタQ
llのゲートと基板との間に既にダイオード接続されて
いるMOSトランジスタQ 13に対して逆並列にMO
SトランジスタQ 14をダイオード接続している。な
お、第1図と同一物には同一符号を付して詳しい説明は
省略する。
第5図はこの回路の動作を示す波形図である。
この実施例においては、節点N4。が17 H $1か
ら“L”に変化し、節点N43が降圧された際にトラン
ジスタQ 14がオンするので、節点N43はVBB−
VT4(VT4はQ.のしきい値電圧)付近まで上昇す
る。次に節点N4oが“L”から“H”に変化すると、
節点N43は更に昇圧され、トランジスタQl3がオン
する。これにより、節点N4Gは最終的にVBB+Vア
,付近まで下降する。
ら“L”に変化し、節点N43が降圧された際にトラン
ジスタQ 14がオンするので、節点N43はVBB−
VT4(VT4はQ.のしきい値電圧)付近まで上昇す
る。次に節点N4oが“L”から“H”に変化すると、
節点N43は更に昇圧され、トランジスタQl3がオン
する。これにより、節点N4Gは最終的にVBB+Vア
,付近まで下降する。
この実施例では、節点J’J4gのレベルが低電位側に
振れて基板から電荷を引抜くとき、節点NnaがVBB
+Vt3以上に昇圧されているので、トランジスタQI
Iの能力を第1の実施例よりも更に引上げることができ
る。
振れて基板から電荷を引抜くとき、節点NnaがVBB
+Vt3以上に昇圧されているので、トランジスタQI
Iの能力を第1の実施例よりも更に引上げることができ
る。
[発明の効果コ
以上説明したように、本発明は基板電荷引抜き用の第1
のMOSトランジスタのゲートと基板との間にダイオー
ド接続された第2のMOSトランジスタを介挿し、その
ゲートを容量カップリングにより制御して昇降圧するこ
とにより、最終到達電位を、従来に比して第1のMOS
トランジスタのしきい値電圧分だけ引下げることができ
る。また、基板電荷の引抜きサイクル中の最終段階にお
いても、電荷引抜き用のトランジスタの能力を高いレベ
ルに維持しておくことができるので、ポンビング能力が
向上し、速やかに所定の基板電位に到達させることがで
きるという効果がある。
のMOSトランジスタのゲートと基板との間にダイオー
ド接続された第2のMOSトランジスタを介挿し、その
ゲートを容量カップリングにより制御して昇降圧するこ
とにより、最終到達電位を、従来に比して第1のMOS
トランジスタのしきい値電圧分だけ引下げることができ
る。また、基板電荷の引抜きサイクル中の最終段階にお
いても、電荷引抜き用のトランジスタの能力を高いレベ
ルに維持しておくことができるので、ポンビング能力が
向上し、速やかに所定の基板電位に到達させることがで
きるという効果がある。
第1図は本発明の第1の実施例に係る基板電位発生回路
の回路図、第2図は同回路の動作波形図、第3図は同回
路における基板電位と経過時間との関係を示す図、第4
図は本発明の第2の実施例に係る基板電位発生回路の回
路図、第5図は同回路の動作波形図、第6図は従来の基
板電位発生回路の回路図、第7図及び第8図は同回路の
動作波形図、第9図は同回路における基板電位と経過時
間との関係を示す図である。 Q III Q+21 Ql31 Ql4! Qe+
+ Qa。;MOSトランジスタ、C ID Ch2
r Ca ;容■、1;リングオシレー夕、2;イン
バータ
の回路図、第2図は同回路の動作波形図、第3図は同回
路における基板電位と経過時間との関係を示す図、第4
図は本発明の第2の実施例に係る基板電位発生回路の回
路図、第5図は同回路の動作波形図、第6図は従来の基
板電位発生回路の回路図、第7図及び第8図は同回路の
動作波形図、第9図は同回路における基板電位と経過時
間との関係を示す図である。 Q III Q+21 Ql31 Ql4! Qe+
+ Qa。;MOSトランジスタ、C ID Ch2
r Ca ;容■、1;リングオシレー夕、2;イン
バータ
Claims (1)
- (1)矩形波を出力する発振回路と、ドレインが基板に
接続された電荷引抜き用の第1のMOSトランジスタと
、この第1のMOSトランジスタのソースと、前記発振
回路の出力端との間に接続された第1の容量と、前記第
1のMOSトランジスタのゲートとドレインとの間に接
続され、ゲートが前記第1のMOSトランジスタのゲー
トに接続された第2のMOSトランジスタと、前記第1
及び第2のMOSトランジスタのゲートと前記発振回路
の出力端との間に接続された第2の容量と、前記発振回
路から前記第1の容量を介して前記第1のMOSトラン
ジスタのソースに与える矩形波と前記発振回路から前記
第2の容量を介して前記第1のMOSトランジスタのゲ
ートに与える矩形波とを位相反転させる反転回路とを有
することを特徴とする基板電位発生回路。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15406789A JPH0319357A (ja) | 1989-06-16 | 1989-06-16 | 基板電位発生回路 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15406789A JPH0319357A (ja) | 1989-06-16 | 1989-06-16 | 基板電位発生回路 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0319357A true JPH0319357A (ja) | 1991-01-28 |
Family
ID=15576171
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15406789A Pending JPH0319357A (ja) | 1989-06-16 | 1989-06-16 | 基板電位発生回路 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0319357A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5179296A (en) * | 1991-06-21 | 1993-01-12 | Sharp Kabushiki Kaisha | Charge pump substrate bias circuit |
| JPH061492U (ja) * | 1992-06-12 | 1994-01-11 | 誠一 丸田 | 岩盤破砕機 |
| JP2016063031A (ja) * | 2014-09-17 | 2016-04-25 | 株式会社ソシオネクスト | 静電気保護回路および集積回路 |
-
1989
- 1989-06-16 JP JP15406789A patent/JPH0319357A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5179296A (en) * | 1991-06-21 | 1993-01-12 | Sharp Kabushiki Kaisha | Charge pump substrate bias circuit |
| JPH061492U (ja) * | 1992-06-12 | 1994-01-11 | 誠一 丸田 | 岩盤破砕機 |
| JP2016063031A (ja) * | 2014-09-17 | 2016-04-25 | 株式会社ソシオネクスト | 静電気保護回路および集積回路 |
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