JPH03194560A - 電子写真記録材料 - Google Patents

電子写真記録材料

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JPH03194560A
JPH03194560A JP2305909A JP30590990A JPH03194560A JP H03194560 A JPH03194560 A JP H03194560A JP 2305909 A JP2305909 A JP 2305909A JP 30590990 A JP30590990 A JP 30590990A JP H03194560 A JPH03194560 A JP H03194560A
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JP
Japan
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recording material
layer
photoconductive
charge
electrophotographic recording
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JP2305909A
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English (en)
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David R Terrell
ダビッド・リシャール・テレル
Meutter Stefaan K De
ステフアーン・カレル・ド・ムテル
Bernd Kaletta
ベルン・カレツタ
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Agfa Gevaert NV
Original Assignee
Agfa Gevaert NV
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Publication date
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/06Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
    • G03G5/0664Dyes
    • G03G5/0696Phthalocyanines
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B47/00Porphines; Azaporphines

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は電子写真に使用するのに好適な感光性記録材料
に関する。
電子写真においては、トナーと称される微粒子化着色材
料で現像できる静電潜像を形成するため光導電性材料が
使用されている。
次に現像された像は光導電性記録材料、例えば光導電性
酸化亜鉛−結合剤層に永久的に定着できる、或いは光導
電体層、例えばセレン層から受容体材料、例えば平らな
紙に転写し、その上jこ定着するこさができる。受容体
材料へのトナー転写を用いる電子写真複写又印刷法Iこ
おいて、光導電性記録材料は再使用できる。
急速多数印刷又は複写を可能にするため、露光したとき
その電荷を急速に失い、次の像形成のため充分に高い静
電荷を再び受容するため露後これも急速にその絶縁状態
を再び得る光導電体層を使用しなければならない。引き
続く帯電/像形成工程前にその相対的絶縁状態に完全に
戻るため材料の疲労は「疲労」として当業者に普通に知
られている。
光導電性層の疲労は達成しうる複写速度を制限するから
、疲労現象は産業上有用な光導電性材料の選択における
ガイドとして使用されている。
個々の光導電性材料が電子写真複写に好適であるか又は
ないかを決定する別の重要な性質は、かなり低い強度の
複写光源で操作する複写装置に使用するのに充分な高さ
でなければならないその光感度にある。
更に産業上の有用性は、複写機の光源の光例えばレーザ
ーの波長にマツチした色感度を有すること、及びバラン
スして全ての色の再現を可能にする全色感度を有するこ
とを求めている。
前記要求を満すため非常な努力がなされて来た、例えば
セレンのスペクトル感度はセレン、テルル及び砒素の合
金を作ることによって可視スペクトルの長波長にまで拡
大された。事実、多くの有機光導電体が発見されたが、
セレン基光導電体が長い開維−の実際に有用な光導電体
であった。
最も有効であったポリ(N−ビニルカルバゾール)層の
有機光導電体層は、速度の不足、不充分なスペクトル感
度及びかなり大きい疲労のため興味がなかった。
ボl (N−ビニルカルバゾール(PvC2)中の2.
4.7− トリニトロ−9−フルオレノン(TNF )
が強力に光感度を改良する電荷移動複合体を形成した発
見(米国特許第3484237号参照)は、セレン基機
械に対抗できる複写機における有機光導電体の使用の道
を開いた。
TNFは電子受容体として作用し、−万PVC2は電子
供与体として作用する。1:1のモル比でTNF : 
PVC7を有する前記電荷移動複合体からなるフィルム
は暗褐色で殆んど黒色であり、高電荷受容性及び低暗減
衰速度を示す。全体的な光感度はアモルファスセレンの
それに匹敵する(IBM J、 Res、 Devel
op、第15巻、1971年、第75頁のアール・エム
・シャツアートの論文参照)。
それ以後の研究では結合剤としてポIJ (N −ビニ
ルカルバゾール)を用いたフタロシアニン−結合剤層の
発見をもたらした[ J、Chem、 Phys第55
巻、1971年、第3178頁のシー・エフ・バケット
の論文参照)、フタロシアー7は金員不含X−型で使用
され、一つの実施態様によれば前記フタロシアー/の薄
層がpvc’7S層で被覆された多層構造で用いられた
。バケットは光導電性はPvC1中への孔注入及びフタ
ロシアニン中の電子孔対の電場依存光発生ζこ原因があ
ることを見出した。孔キャリヤーの輸送、即ち正孔伝導
は2702層中で容易に進行した。その時から電荷発生
材料及び電荷輸送材料を二つの隣接層に分離するような
改良された光導電系を開発するために非常な研究がなさ
れて来た(例えば英国特許第1577859号8照)。
電荷発生層は電荷輸送層の下又は上に付与できる。摩耗
に対する感度の小さいこと及び製造の容易なことの如き
実際上の理由のため、例えばChemikerZe i
 tung第106巻(1982年)第9号、第315
頁のr Organische Photoleite
r−EinUberblick、 l Jの表題の論文
でボルフガング・ヴイーデマンによって発表された如く
、電荷発生層は導電性支持体及び光透明性電荷検層の間
に挟まれた初めに述べた配置が好ましい。
前述したことから知ることができるように光導電性記録
材料は、導電性基体上に被覆された一つ以上の活性層を
有する種々の構成であることができる。活性層によって
、静電荷像の形成に役割を果す層を意味する。かかる層
は電荷キャリヤー発生及び電荷キャリヤー輸送の両方に
役立つ単層光導電性層又は二つの活性層の系においては
電荷キャリヤー発生又は電荷輸送に寄与する膚であるこ
とができる。
入射光に対して高光感度を有する光導電性二層系を形成
するため、有効な電荷輸送物質と共に作用する有効な電
荷発生物質が必要である。
電荷発生物質として種々の有機染料及び顔料が提案され
ている。
電荷発生層の有機染料又は顔料の大部分は、顔料−染料
/電荷輸送化合物が相互に接触し又は電荷移動複合体が
形成される界面での電場が下げられたバリヤーを通る電
子注入よりも有効な孔注入を提供する。
有効なp型電荷輸送化合物は、芳香族同素環式アミノ化
合物、例えばトリアリールアミノ化合物、複素芳香族ア
ミン化合物、不飽和複素環式アミン化合物、ヒドラゾン
化合物、トリフェニルメタン、オキサゾール及びピラゾ
リン誘導体又は上述した化合物の一つに相当する基を導
入した重合体状p型電荷輸送物からなる群に見出すこと
ができる。
電荷輸送物質として複素芳香族化合物又はアミノ置換不
飽和複素環式化合物を含有する二重層系の例は、ドイツ
特許(DE −P )第2237539号、米国特許第
3837851号、及び本出願人の出願に係る公開され
たヨーロッパ特許出願(EP −A )第347960
号、第347967号及び第349034号、及び未公
開ヨーロッパ特許出願筒89200707.1号及び第
90201600.5号に記載されている。
二重層光導電性系における電荷輸送化合物として有用で
あるトリアリールアミノ誘導体ノ例は米国特許第426
5990号に示されている。
電荷輸送物質としてのヒドラゾン化合物の例は米国特許
第4278747号及び第436=5014号及び本出
願人の出願に係る未公開ヨーロッパ特許出願筒9020
0717.8号及び第90200968.7号に記載さ
れている。
二重層光導電性系における電荷輸送化合物として有用で
あるトリフェニルメタン誘導体の例は、米国特許第40
50935号、第4140529号及び第433060
8号に記載されている。
有効なn型電荷輸送化合物は、場合によって少なくとも
一つの電子吸引性置換基、例えばハロゲン、ニトロ、ニ
トリル、カルバメート基、アシル基又はアルポン酸エス
テル基で置換え、そして場合によってはマロンジニトリ
ル、マロノニトリルモノカルボキシエステル又はアロン
酸ジエステルと縮合した芳香族ケトン:シアノアルキレ
ノ化合物、電子吸引性置換基を有する芳香族化合物、一
つ以上のケト基が二つのメルカプト基、スルホン基、イ
ミノシアナイド基(=N−CN)によって置換されてい
る芳香族ケトン又は上述した種類の化合物の一以上に相
当する基を導入した重合体状n型物質からなる群中に見
出すことができる。
電子吸引性置換基の少なくとも一つで置換さレタ芳香族
ケトンの例は例えばカナデイアン・ジャーナル・オン・
ケミストリー第62巻、第1877頁(1984年)に
アール・オー・ラウドファイ等によって発表されている
。これらの発表者は又マロノジニトリル、マロノニトリ
ルモノカルボキシエステル又はアロン酸ジエステルと縮
合した芳香族ケトン及びケト基が2個のメルカプト基で
置換された芳香族ケトンも記載している。少なくとも一
つのケト基がイミノシアナイド基又はスルホン基で置換
された芳香族ケトンはドイツ公開特許(DE −O8)
第3437814号及び米国特許第4514481号に
記載されている。
有用な電荷発生物質は下記の群中にある:(a)ペリル
イミド、例えばドイツ特許第2237539号に記載さ
れたC、1.71130 (C,Iはカラーインデック
スである)、 (b) 多核キノン、例えばドイツ特許第223767
8号に記載されたC、 1.59300の如きアンタン
トロン、 (C)キナクリドン、例えばドイツ特許第223767
9号に記載されたC、1.46500、 (d)ヘリノンを含むナフタレン−1,4,5,8テト
ラカルボン酸誘導顔料、例えばドイツ特許第22399
23号に記載されたオレンジGR,C,1,71105
、 (e)フタロシアニン、例えばX結晶形のH2−フタロ
シアニン(x −H2PO) 、金属フタロシアニン、
例えばドイツ特許第2239924号に記載された銅フ
タロシアニン、C,L74160、米国特許第4713
312号及び第4728592号に記載されたインジウ
ムフタロシアニン及びチタニルフタロシアニン、 (f)インジゴ及びチオインジゴ染料、例えばドイツ特
許第2237680号に記載されたピグメント・レッド
8B 、 C,1,73312、(g)例えばドイツ公
告特許(DAS )第2355075号に記載されてい
る如きベンゾチオキサンチン誘導体、 (h)例えばドイツ公告特許(DAS )第23140
51号に記載されている如き0−ジアミンとの縮合生成
物を含むペリレン−3、4、9、10−テトラカルボン
酸誘導顔料、 (i)ポリアゾ染料又は顔料、ドイツ公告特許(DAS
 )第2635887号に記載されているクロルジアン
・ブルー〇、1.21180、ドイツ公開特許(DO8
)第2919791号、(DO8)第3026653号
、(DO8)第3032117号及び米国特許第412
3270号に記載されているビスアゾ染料、及び米国特
許第4687721号に記載されているトリスアゾ染料
、 (j)例えばドイツ公告特許(DAS )第24012
20号に記載されている如きスクアリリウム染料、及び (k)ポリメチン染料、 (1)トリアリールメタン染料、及び (m) 1 、5−ジアミノアンスラキノン基を含む染
料。
電荷発生染料及び顔料は、白熱光電球、蛍光管球及びレ
ーザーの如き実際上有効な露光源のスペクトル範囲で高
電荷発生容量の要件を満さなければならないばかりでな
く、特性において許容し得ない劣化なしに反復使用のた
め性質を維持しなければならない。
劣化することのない光感度と電荷発生容量及び露光後の
低残存電位との最適に組合された電荷発生物質を見出す
べく研究がなお続けられている。レーザーダイオード組
成に依存し780〜850 nmでの発光を有するコン
パクト近IR発光レーザーダイオードの出現と共に、こ
の波長範囲で最高感度を有する電荷発生顔料に対する増
大した要求がある。
米国特許第3895944号には下記一般式に相当する
染料の電荷キャリヤー生成染料が記載されている。
上記式中: Zは水素であるか又は二つの基Zが一緒になって2価金
属原子を表わし、 Aは窒素又はCRであり、Rは水素、炭素原子数1〜4
のアルキル基、フェニル基であり、これは炭素原子数1
〜4のアルキル基又はハロゲンで置換されていてもよい
、 Bはm−フェニレン基、2,6−ピリシレン基、1.3
−インインジレン基又はピロリレン基であり、 Dは水素であるか、又は二つの基りが一緒になって基 を表わす、但し、 1、 Bがm−フェニレン基又は2,6−ピリシレン基
であるとき、Aは窒素であり、二つの基りは一緒になっ
て基 を表わし、 2、 Bが1,3−イソイントリレン基であるとき、A
は窒素であり、二つの基りは一緒になって基 を表わし、 3、 Bがピロリレン基であるとき、AはCRであり、
Dは水素である。
前記特許には更に最上電荷輸送を有す4多層材料に使用
するとき、フタロシアニンは550〜750 nmのス
ペクトル範囲内で非常に高度の光感度を示すことが記載
されている。更にそれらの実施例から、メソ−テトラフ
ェニルポルフィリンの如きポルフィリン顔料を用いた多
層光導電体は、フタロシアニン顔料を用いたものより非
常劣った光感度を示すことが明らかである。
驚いたことに、成る種のポルフィリン顔料が多層又は単
一層有機感光性層材料中に導入したときすぐれた光感度
を示し、それぞれのポルフィリン顔料が780〜850
 nmの波長範囲で高い光感度を示し、前記波長範囲に
最高感度を有することを見出した。
本発明の目的は、導電性支持体、及び高電荷発生効率を
有する光導電性ポルフィリン化合物を含有する感光性層
を含む電子写真記録材料を提供することにある。
本発明の別の目的は、反復使用において良好なサイクル
挙動と組合された、高電子発生容量即ち高n型電荷発生
容量及び高電子発生容量即ち高n型電荷発生容量を有す
る光導電性ポルフィリン顔料を含有する電荷発生層と接
触関係にある電荷輸送層及び導電性支持体を含む光導電
性記録材料を提供することにある。
本発明の更に別の目的は、780〜850 nmの波長
範囲で改良された光感度を有する感光性層及び導電性支
持体を含む電子写真記録材料を提供することにある。
本発明の更に別の目的は、780〜850 nmの波長
範囲で改良された光感度を有する電荷発生層と接触関係
にある電荷輸送層及び導電性支持体を含む光導電性記録
材料を提供することにある。
本発明の別の目的は、p型電荷輸送層を負に帯電し、光
導電性ポルフィリン化合物を含有する前記電荷発生層を
像に従って露光することにより、前記光導電性複合層記
録材料上に負電荷の電荷パターンを形成する記録法を提
供することにある。
本発明の別の目的は、n型電荷輸送層を正に帯電し、光
導電性ポルフィリン化合物を含有する前記電荷発生層を
像に従って露光することにより前記光導電性複合層記録
材料上に正電荷の電荷パターンを形成する記録法を提供
することにある。
本発明の他の目的及び利点は以下の説明及び実施例から
明らかになるであろう。
本発明によれば、導電性支持体、及びp型電荷発生容量
を有し、下記一般式(1)で表わされるテトラベンゾポ
ルフィリン系化合物である光導電性化合物の少゛なくと
も1種を含有する感光性層を含む電子写真記録材料を提
供する:1 式中x’ 、 x” 、 x’及びでは同じか又は異な
り、ハロゲン、例えば塩素もしくは臭素、ニトロ基、シ
アノ基、C7〜Ctアルギル基及びアルコキシ基、例え
ばメトキシ基もしくはエトキシ基からなる群から選択し
た置換基を表わす、又は2個のxl、2個の?、2 、
frn x8又は2個のでか一緒になって置換もしくは
非置換炭素環式もしくは複素環式環系を形成するのに必
要な原子を表わす;k。
/、m及びnはそれぞれ独立に0又は1〜4の整数を表
わす、R1は水素、01〜C,アルキル基、アラルキル
基又はアリール基を表わす;Aの各々は同じか又は異な
り、窒素又はCR”基を表わし、R1の各々は同じか又
は異なり、水素、CIW C,アルキル基、アラルキル
基、又はアリール基を表わす;Zは水素であるか又は二
つの基Zが一緒になって、例えばチタンの如き、2より
大なる原子価状態の場合、追加原子価補償原子又は基例
えばハロゲン又は酸素に結合する金属原子を表わす。
第1a図、第1b図及び第1C図は、熱液体での処理前
の金属不含テトラベンシトリアザポルフィリンのa−β
−及びω−結晶変態のそれぞれの吸収スペクトルを表わ
す。相対吸収(α)は縦軸であり、ナノメーター(nm
)で示した波長は横軸である。
第1d図及び第1e図は、熱メチルベンゾエート及び熱
キシレンでそれぞれ処理した後の金属不合テトラベンシ
トリアザポルフィリンのω−結晶変態のそれぞれの吸収
スペクトルを表わす。
第2図は、半分1/(工。1′A)まで初期帯電レベル
を低下させるのlこ要する露光[rrl / mJ 〕
の逆数を波長(nm)lこ対してプロットした金属不含
テトラベンシトリアザポルフィリンのω−結晶変態のス
ペクトル感度曲線を表わす。
第3図は、β−結晶変態での銅テトラベンシトリアザポ
ルフィリンの吸収スペクトルを表わす。
第4図は実施例41に記載した臭素化鋼テトラベンシト
リアザポルフィリンの吸収スペクトルを表わす。
第5図は実施例42に記載した塩素化鋼テトラベンシト
リアザポルフィリンの吸収スペクトルを表わす。
第6図は、実施例43に記載した臭素化金属不含テトラ
ベンシトリアザポルフィリンの吸収スペクトルを表わす
第7図は、実施例44に記載したテトラナフタロトリア
ザポルフィリンの吸収スペクトルを表わす。
本発明よる好ましい実施態様において、一般式(1)に
よる電荷発生化合物は、Z及びR1の定義において共に
水素を有し、Aの定義に対し窒素を有する、そして更に
奸才しくは金属不含テトラベンシトリアザポルフィリン
である。
本発明による特に好ましい実施態様においては、一般式
(1)の範囲内の光導電性化合物である電荷発生物質が
、第1C図に示すその吸収スペクトル及び8.5:10
.2;11.9:14.4:18.0 ; 20.4 
+ 22.6 : 24.0 : 24.7及び29.
8度のブラッグ角(2θ)で強力線を示すそのX線回折
パターンで特性づけされるω−変態の形で存在する電子
写真記録材料を提供する。
ω−変態での前記物質の製造は本明細書実施例1及び4
に記載されており、又同様にドイツ国のバイエル・アク
チェンゲゼルシャフトによって出願された発明の名称r
 HeterocyolischeVerbindug
en und daras erhaeltliche
 Porphyrin−Varbindugen Jで
ある未公開ドイツ特許出願第P3937716.4号に
記載されている。
テトラベンゾポルフィリン、テトラベンゾモノアザボル
フィリン及びテトラベン/ジアザポルフィリンの合成は
、アンナーレン、第529巻(1937年)、第205
頁〜第218頁Iζヘルバーガーによって報告されてい
る。フタロシアニン及びフタロニトリルからのテトラベ
ンシトリアザポルフィリンこの製造は、ジャーナル・オ
フ・ザ・ケミカル・ソサイエティ(1939年)、第1
809頁〜第1820頁lこパレット等によって発表さ
れている。テトラベンゾポルフイリ/、テトラベンゾモ
ノアザポルフィリン及びそれらの誘導体の製造は、それ
らのクロロナフタレン溶液中での吸収スペクトルと共に
、ジャーナル・オフ・ザ・ケミカル・ソサイエテイ(1
940年)、第1079頁〜第1092頁にパレット等
によって発表されている。テトラベンシトリアザポルフ
ィリンの製造は米国特許第2156240号に記載され
ており、種々な数の窒素架橋原子を有するアザベンゾポ
ルフィリンの製造はVestsi Akad、 Nau
k、 Be1arus、 SSR。
Ser、 Khim、 Nauk発行AI(1969年
)第65頁〜第72頁に、T、 F、 Kachura
等によって発表されている。
実施例1で使用する中間体1−アミン−3−イミノ−イ
ソインドレニンの製造はAngewandteChem
ie、第72巻(1960年)、第963頁〜第966
頁にW、Wolf等によって発表されている。他の可能
な中間体にはメチレンフタルイミジン、フタロジニトリ
ル、フタルイミジル酢酸、無水フタル酸、O−ブロモア
セトフェノン、0−プロモーベンゾアセト−酢酸エステ
ル等がある。
合成についての前記文献から、フタロシアニン中のアザ
架橋のCH架橋での置換が、短波長吸収帯(400〜5
00 nm )による長波長吸収帯(600〜700 
nm )の吸光係数における減少及び溶液での吸収スペ
クトルにおける浅色効果を生ぜしめることを知ることが
できる。
本発明により使用するのに好適な顔料の化学構造の特別
の例を下記表1に示す。
本発明者等により、一般式(1)による顔料は、異なる
X線回折及び吸収スペクトルによって特性が表わされる
種々の結晶変態に存在できることが見出′された。これ
らの変態は例えば特別な摩砕条件、酸ペースト化、特別
の温度で特殊溶媒との接触等によって作られる。電荷発
生効率は結晶変態と共に変化することが見出された。
本発明により使用する電荷発生顔料は、化学構造及び個
々の結晶変態によって550〜850nmの波長範囲で
光感度を示す。本発明により使用する顔料のスペクトル
感度を第2図に示す、第2図において、初期の価の半分
まで帯電レベルを低下させるのに要するrrl / m
Jでの入射光霧光の逆数をモノクロメータ−からの入射
光のnmでの波長に対してプロットしである。測定は。
実施例4に記載した如く、加水分解シラン接着剤層、ビ
スフェノールAポリカーボネート940重量にの顔料か
らなる電荷発生層、及び電荷発生層で使用したものより
大なる分子量のビスフェノールAポリカーボネート中5
0重量にの1゜2−ビス(1,2−ジヒドロ−2,2,
,4−ト」メチル−キノリン−1−イル)エタンからな
る電荷輸送層を含有する記録材料について行った。
本発明による記録材料の製造のため、一般弐mによる少
なくとも1種の顔料は: (1)樹脂結合剤中で導電性基体に付与する;又は(2
)電荷輸送材料と共に導電性基体に付与する;又は (3)電荷輸送層に直接接着する電荷発生層を形成する
ため樹脂結合剤と組合せて付与する、この二層は導電性
基体によって支持する。
樹脂結合剤は最良の機械的強度、接着及び有利な電気的
性質を基準Jこして選択する。
電荷輸送層に使用するのに好適な電子的に不活性な結合
剤樹脂には、例えばセルロースエステル、アクリレート
及びメタクリレート樹脂、シアノアクリレート樹脂、ポ
リビニルクロライド、ビニルクロライドの共重合体、例
えばビニルクロライドさビニルアセテート及び無水マレ
イン酸の共重合体、ポリエステル樹脂、例えばイソフタ
ル酸及びテレフタル酸とグリコールのコポリエステル又
は芳香族ポリカーボネート樹脂がある。
芳香族ポリカーボネート結合剤と組合せて使用するのに
特に好適なポリエステル樹脂lこはダイナボールt、 
206 (DYNAPOL L 206 :テレフタル
酸対イソフタル酸のモル比が3/2である、テレフタル
酸及びイソフタル酸とエチレングリコール及びネオペン
チルグリコールのコポリエステルに対するダイナマイト
・ノーベルの登録商標)がある。前記ポリエステル樹脂
は、記録材料の支持体上に導電性被覆を形成しうるアル
ミニウムlこ対する接着を改良する。
好適な芳香族ポリカーボネートは、ウィリー・アンド・
サンズ・インコーホレイテッド1988年発行、エンサ
イクロビープイア・オン・ポリマー・サイエンス・アン
ド・エンジニアリング第2版、第■巻第648頁〜第7
18頁にデイ・フライターフ等によって記載されている
方法の如き方法で作ることができ、下記一般式(n)の
範囲の反復単位の一つ以上を有する: へ、へ、へ、へ、各及びへの各々は同じか又は異なり、
水素、ハロゲン、アルキル基、又はアリール基を表わし
、へ及び馬は同じか又は異なり、水素、アルキル基、ア
リール基又は−緒になって脂環式環例えばシクロヘキサ
ン環を閉環するのに必要な原子を表わす。
10000〜200000の範囲の分子量を有する芳香
族ポリカーボネートが好ましい。好適なポリカーボネー
トはドイツ国のフアルペンファプリケン・バイエル・ア
ーゲーの登録商標マクロロン(MAKROLON )で
市販されている。
マクロロンco 2000 (登録商標)は、R1=馬
=R5=八=Hで、Xが八−C−馬であり、凡= % 
a CH,である12000〜25000の分子量を有
するビスフェノールAポリカーボネートである。
マクロロン5700(登録商標)は、R+ = 4=R
3=馬=Hで、Xが八−C−馬であり、八=R,= C
H3である50000〜120000の分子量を有する
ビスフェノールAポリカーボネートである。
ビスフェノールAポリカーボネートは、式=馬=馬=馬
=Hで、Xが凡−C−八であり、へは八と共にシクロヘ
キサン環を閉環するのに必要な原子を表わす反復単位を
含有する芳香族ポリカーボネートである。
更に有用な結合剤にはシリコーン樹脂、ポリスチレン及
びスチレンと無水マレイン酸の共重合体及びブタジェン
とスチレンの共重合体がある。
電子的に活性な樹脂結合剤の例にはポリ−N −ビニル
カルバゾール又はその共重合体がある。
電荷発生ポルフィリン顔料及び樹脂結合剤を混合する割
合は変えるこ♂ができる。しかしながら例えば凝集を避
けるため、相対的に特別な限界がある。感光性層中で本
発明により用いるポルフィリン顔料の有用な含有率は、
前記層の全重責に対して0.05〜90重量%、好まし
くは5〜70重量にの範囲である。
電荷発生層中の好ましいポルフィリン顔料含有率は前記
層の全重量に対して30〜70重量にの範囲である。感
光性層は厚さ30μm未満であるのが好ましく、電荷発
生層は厚さ5μm未満であるのが好ましく、更に好まし
くは厚さ2μm未満である。
本発明による記録材料の製造のための好ましい実施態様
において、電荷輸送層は電荷発生層の上に被覆する。電
荷輸送層の厚さは5〜50μmの範囲が好ましく、5〜
30μmの範囲であるのが更に好ましい。
p型電荷輸送層は、p型電荷輸送化合物と分子間電荷移
動複合体を形成する電子受容体基で置換された化合物を
含有できる。電子受容性基を有する有用な化合物には、
ニトロセルロース及び芳香族ニトロ化合物例えばニトロ
化フルオレノン−9誘導体、ニトロ化9−ジシアノメチ
レンフルオレノン誘導体、ニトロ化ナフタレン、塩素化
ベンゾキノン及びニトロ化無水ナフタル酸又はイミド誘
導体がある。前記誘導体の最適濃度範囲は、供与体/受
容体モル比が10=1〜1000:1、及びその逆であ
るようなものである。
1種以上のスペクトル増感剤の存在は電荷輸送時に有利
な効果を有しうる。この関係において、米国特許第38
32171号及び第4028102号に記載されている
増感染料を参照できる。好ましくはこれらの染料は、電
荷発生層が、電荷輸送層を通して露光した時の露出光の
実質的な量を受容できるように、電荷輸送層の可視光帯
域(420〜750 nm )での透明性を実質的に低
下させない量で使用する。
紫外放射線による劣化に対する安定剤として作用する化
合物、いわゆるUV安定剤も前記電荷輸送層に混入でき
る。UV安定剤の例にはベンズトリアゾールがある。
被覆組成物の粘度を制御し、それらの光学的透明性を制
御するため、電荷輸送層にシリコーン油を加えることが
できる。
本発明による記録材料において使用するための電荷輸送
化合物として、前述した任意の既知の電荷輸送化合物を
使用できる。特に良好な結果は、本出願人の出願に係る
公開されたヨーロッパ特許出願(EP−A)第3479
60号、第347967号及び第349034号及び未
公開ヨーロッパ特許出願第89200707.1号、第
90200717.8号、第90200968.7号及
び第90201600.5号に記載された光導電性記録
材料で使用された電荷輸送化合物を用いて得られる。
成る場合には、電荷発生層及び/又は電荷輸送層中で可
塑剤、例えばハロゲン化パラフィン、ポリビフェニルク
ロライド、ジメチルナフタレン又はジブチルフタレート
を使用することが有利でありうる。
本発明の記録材料において、接着剤層又はバリヤー層を
電荷発生層と支持体の間又は電荷輸送層と支持体の間に
存在させることができる。
その目的のために有用なものには、例えば支持体側から
の正電荷又は負電荷注入を防止するブロッキング層とし
て作用する酸化アルミニウム層、加水分解シラン層、ニ
トロセルロース層、又はポリアミド層がある。前記バリ
ヤー層の厚さは1μm以下であるのが好ましい。
導電性支持体は任意の好適な導電性材料から作ることが
できる。代表的な導電体にはアルミニウム、鋼、黄銅及
び導電性増強物質、例えば真空蒸着金属、分散カーボン
ブラック、グラファイト及び導電性単量体塩又は導電性
重合体、例えば米国特許第3832171号に記載され
たカルボン・コンダクティブ・ポリマー261(米国の
カルボン・コーポレイション・インコ−ポレイテツドの
商標)の如き四級化窒素原子を含む重合体を混入するか
それで被覆した紙及び樹脂材料を含む〇 支持体は箔、ウェブの形又はドラムの一部であることが
できる。
本発明による電子写真記録法は: (1)本発明の二層系記録材料の電荷輸送層又は感光性
電荷発生層を、例えばコロナ装置で、全面的に静電的に
帯電する、又は本発明の単層記録材料の感光性層を全面
的に静電的に帯−電する、そして (2)前記記録材料の感光性層を像に従って露光し、か
くして静電潜像を得る 工程を含む。
電荷発生層の露光は、電荷輸送層の下に電荷発生層を有
する二層記録材料の場合、電荷輸送層を通して行うのが
好ましい、しかし電荷発生層が最上にあるとき直接であ
ることができる、又は導電性支持体が露出光に対して充
分に透明であるとき導電性支持体を通して同様に行うこ
とができる。
静電潜像の現像は、静電荷パターンlこクーロン力によ
って引きつけられるトナー粒子と称される微粒子化され
た静電的に吸引しうる材料で普通に生ぜしめるのが好ま
しい。トナー現像は当業者に知られている乾燥又は液体
トナー現像である。
ポジーポジ現像においては、原像に対してポジーポジ関
係にある電荷担持面の部域に付着する。反転現像におい
ては、トナー粒子は原画に対してネガ−ポジ像関係にあ
る記録面部域に移動し付着する。後者の場合、露光によ
って放電された部域が、適切にバイアスされた現像電極
lこよる誘導によって、トナー粒子の電荷符号に対して
反対の電荷符号の電荷を得、かくしてトナーが像に従っ
た露光で放電された露光部域に付着するようになる(ロ
ンドン及びニューヨークのフォーカル・プレス1975
年発行、アール・エム・シャツアート著、エレクトロフ
ォトグラフィ拡大改訂版第50頁〜第51頁、及びロン
ドンのアカデミツク・プレス1979年発行、ティ・ピ
ー・マツリーン著、エレクトロニック・イメージング第
231頁参照)。
特別の実施態様によれば、例えばコロナによる静電帯電
及び像に従った露光を同時に行う。
トナー現像後の残存電荷は次の複写サイクル開始前に、
全面露光及び/又は交流コロナ処理によって消散させる
ことができる。
得られたトナー像は記録材料上に定着することができる
、或いは記録材料に転写し、定着後その上に最終可視像
を形成できる。
特に低疲労効果を示す本発明による記録材料は、全面帯
電、像に従った露光、トナー現像及び受容体材料へのト
ナー転写の逐次工程を含む急速連続複写サイクルで操作
する記録装置で使用できる。
下記実施例の記録材料について測定した電子写真特性の
評価は再使用できる光受容体を用いる電子写真法におけ
る記録材料の性能に関する。
性能特性の測定は次の如く行った: 光導電性記録シート材料をその導電性裏側をアルミニウ
ムドラム上に装着した、ドラムは接地し、10ff+/
秒の周速で回転させた。記録材料はコロナワイヤー1α
について約1μAのコロナ電流で操作する−4,5kV
の電圧で負コロナで引き続いて帯電した。続いて記録材
料を、コロナ源に対して45°の角度でドラムの周囲1
こ置いたモノクロメータ−から得られる「単色光」(帯
幅−20nm )の特有の光量で露光した(像に従った
露光に擬した)。露光は200 ms続けた。
次に露光した記録材料をコロナ源に対して1800の角
度で置いた電気計探針を通した。
コロナ源に対して270°の角度で置いた27000m
J/rrtを生ずるハロゲンランプで全面後露光を行っ
た後、新しい複写サイクルを開始した。
各測定は、露光なしの10サイクルを、露光を用いる5
サイクルと交互に行った100複写サイクルに関する。
帯電レベル(CL )は90回サイクルと100回サイ
クルにわたる平均帯電レベルとしてとった、残存電(R
P)は85回サイクルと90回サイクルにわたる残存電
位としてとり、放電%はCL としてとり、疲労(F)は10回サイクルと15回サイ
クルにわたるRPと平均残存電位の間のボルトでの残存
電位の差としてとった。
一定のコロナ電圧、コロナ電流、コロナワイヤーの配録
面との分離距離及びドラム周速に対して、帯電レベルC
Lは電荷輸送層の厚さ及びその比固有抵抗によってのみ
決る。実際にはポルとで表わしたCLは好ましくは≧3
0clであるべきである、ここにdは電荷輸送層のμm
での厚さである。
電荷発生と共に電荷輸送層を用い、実際の複写条件に擬
して用いた露光条件下に、放電%は少なくとも35%で
あるべきであり、好ましくは少なくとも50%であるべ
きである。疲労Fは、多数の複写サイクルにわたって均
一な像品質を保つため、負又は正の何れでも20vを好
ましくは越えるべきでない。
スペクトル感度特性(nmでの入射光の波長に対してプ
ロットした初期の値の半分に表面電荷を低下させるのに
要するmJ/lriで入射露光の逆数)は、25 nm
の間隔での個々の波長での感度測定を行い、得られた感
度測定曲線から(400msの一定露出時間での露光に
対してプロットした表面電圧)、個々の波長に対するそ
の初期の値の半分への表面電圧の低下に相当する露光を
内挿して測定した。前記感度測定は100回複写サイク
ル擬態実験について使用したのと同じ装置を用いて行っ
た、但し5crn/秒の回転周速54000mJ/−の
後露光及び100サイクルの代りに40サイクルで行っ
た。一定露光の代りに下記の如き鮮鋭な(well−d
efined)光学密度を有するグレーフィルターを用
い各5サイクル後に露光を変えた: 第1回5サイクルエ、x O,4mJlrd (グレー
フィルターなし) 第2回5サイクル[IO×0.4 X log−’ 0
.5 ] mJ/1ri(グレーフィルター〇、D、 
= 0.5 )第3回5サイクル〔Io X O,4X
 log、” 1.0 ) mJ/1ri(グレーフィ
ルター〇、D、= 1.0 )第4回5サイクル[IO
×0.4 X log−1,5〕mJ/1ri(グレー
フィルターo、o、 = 1.5 )第5回5サイク/
l/ CI。X 0.4 X 10g−’ 2.0 〕
mJ/yd(グレーフィルター〇、D、= 2.0 )
第6回5サイクルしI。X O,4X 10g−’ 2
.5 〕mJ/1ri(グレーフィルター〇、 D、 
=2.5 )第7回5サイクルCI。X O,4X l
og、−’ 3.0 ) mJlrd(グレーフィルタ
ー〇、D、=3.0)第8回5サイクル〔工o X O
,4x □″l mJ/d (シャッターを閉じた) m w/atでの工。は−次光強度である。
式(1)による電荷発生顔料の吸収スペクトルは、結合
剤としてビスフェノールAポリカーボネートを用い薄層
に顔料を流延し、マツチスキャン(MATCH8CAN
 :発鈴商標)分光光度計を用いて透過における相対吸
収(α)を測定して測定した。
X線回折スペクトルは、X線源の入射角に無関係に試料
の露出面を作る可変スリット及びCuk、、X線源を用
いるフィリップスX、11回折計を用いて測定した。
下記実施例は本発明を更に説明する。全ての比及び百分
率は他に特記せぬ限り重量による。
実施例 1 β−及びω−結晶変態での金属不含テトラベンシトリア
ザポルフィリン(表1の化合物1)の製造 (A) 1−アミノ−3−二トロメチレンーイソインド
ールの製造。
72.59のアミノイミノ−イソインドレニン、81−
のニトロメタン及び400−のメタノールの混合物を1
2時間還流加熱した。形成された冷却懸濁液を沖過して
629の1−アミノ−2−ニトロメチレン−イソインド
ールを得り。
収率:66%。
(B)β−変態での金属不含テトラベンシトリアザポル
フィリンの製造。
700−のニトロベンゼン中の1459(7)アミノイ
ミノイソインドレニン及び189gの1−アミノ−3−
ニトロメチレン−イソインドールの懸濁液を、180℃
に加熱した500−のニトロベンゼンに30分間にわた
って徐々に加えた。形成された水は約100m/のニト
ロベンゼンき共に連続的溜去した。得られた結晶を冷濾
過し、完全にジメチルホルムアミド及びメタツルで洗っ
た。β−結晶変態での金属不含テトラベンシトリアザポ
ルフィリン102gが得られた。この変態は第1b図に
示す如き吸収スペクトル、及び7.0:8.9:17.
9:20.3;23.7 : 26.0 : 26.8
 : 27.7及び30.0度のフラッグ角(2θ)で
強力線を示すX線回折パターンによる特徴を有する。
(C)ω−変態での金属不含テトラベンシトリアザポル
フィリン(表1の化合物l)の製造。
ω−結晶変態は、109のβ−結晶変態を、909の塩
化ナトリウム及び6009の鋼粉砕球を用い振動ミル中
で10時間粉砕してβ−変態から得、その後それを熱水
で撹拌し、塩を含まなくなるまで洗った。主としてω−
変態の金属不含テトラベンシトリアザポルフィリン9.
99を得た(X線回折分析は少量のβ−変態がなお存在
することを示した)。X線回折パターンより全体がω−
変態である〔約6.9°及び約8.8゜のブラッグ角(
2θ)でのピークがない〕金属不含テトラベンシトリア
ザポルフィリンは、なお少しのβ−変態を含有するω−
変態生成物をメチルベンゾエートで100℃で10時間
加熱することによって得た。この処理は、第1d図及び
第1C図を比較することによって判るように、790 
nm帯での吸収の相対強度をも増強した。
ω−変態は、α−及びβ−変態との吸収スペクトルの差
異(それぞれα−β−及びω−変態Jこ対する第1a図
、第1b図及び第1c図参照)により、及び8.5 :
 10.2 : 11.9 :14.4;18.0 :
 20.4 : 22.6 : 24.0 ; 24.
7及び29.8度のブラッグ角(2θ)で強力線を示す
X線回折パターンによる特徴を有する。
(D)ω−変態での金属不含テトラベンシトリアザポル
フィリン(表1の化合物l)の別の製造。
ω−結晶変態は、24時間沸とうα−メチルナフタレン
450dで309のβ−結晶変態を調質(temeri
ng )することによってβ−変態から得た。形成され
た金属不含テトラベンシトリアザポルフィリンは、X#
i1回折分析によると専らω−結晶変態であった。
実施例 2 実施例IIζ記載した如く、β−結晶変態を塩粉砕する
ことにより得た金属不含テトラベンシトリアザポルフィ
リンのω−結晶変態をキシレンで100℃で10時間加
熱した。この処理は、X@回折パターンにおける約6.
9及び約8.8度のブラッグ角(2θ)での極大の相対
強度の低下によって見られる如く存在する未変化β−変
態の濃度を減少した。この処理は又第1e図及び第1C
図を比較することによって判るように、790 nm帯
での吸収の相対強度も増強した。
実施例 3 β−結晶変態からのα−結晶変態での金属不含テトラベ
ンシトリアザポルフィリン0表1の化合物1)の製造 金属不含テトラベンシトリアザポルフィリンのα−結晶
変態は、実施例1に記載した如くして作ったβ−結晶変
態の109を1009の濃硫酸中に溶解し、溶液を30
分以内に900艷の水中に放出して作った。得られた微
細沈澱を濾過し、硫酸塩がな(なるまで洗い、強力空気
乾燥棚で50℃で乾燥した。α−結晶変態のテトラベン
シトリアザポルフィリン9,5gが得られた、この変態
は第1a図に示す吸収スペクトル及び6.7 : 13
.6 : 15.0 ; 24.5及び26.9度のブ
ラッグ角(2θ)で強力線を示すX線回折パターンによ
る特徴を有する。沸とう水中での24時間処理はα−変
態生成物の形態を変化させなかった。
実施例 4 α−結晶変態からのω−結晶変態での金属不含テトラベ
ンシトリアザポルフィリン(表1の化合物1)の製造 金属不含テトラベンシトリアザポルフィリンのω−結晶
変態は、実施例3に記載した如く作ったα−結晶変態か
ら、α−結晶変態の9.5gヲ100 m1O)メチル
ベンゾエート中に懸濁し、180℃で10時間撹拌する
ことによって作った。次に懸濁液を冷却し、濾過し、生
成物をメタノールで完全に洗い、乾燥した。ω−結晶変
態のテトラベンシトリアザポルフィリン9gを得た、こ
れは第1C図に示す如く異なる吸収スペクトル及び、8
.5;10.2;11.9:14.418.0:20.
4;22.6;24.0;24.7及び2968度のブ
ラッグ角(2θ)での強力線を示すX線回折パターンに
よる特徴を有していた。
実施例 5 アルミニウムの導電性層で蒸着被覆し、次いで加水分解
シラン接着剤層で被覆した厚さ10011mのポリエス
テルフィルムを、電荷発生顔料の分散液で厚さ0.6μ
mに被覆し、電荷輸送物質及び結合剤の濾過溶液で厚さ
14μmに被覆して光導電体シートを作った。被覆はそ
れぞれの場合においてドクターブレードコーターで行っ
た。
加水分解シラン接着剤層は、アルミニウム化ポリエステ
ル基体上にγ−アミノプロピルトリエトキシシランの1
重責%溶液を被覆し、30分間100℃でそれを加水分
解/重合して作った。
電荷発生顔料分散液は、実施例2に記載した如く作った
金属不含テトラベンシトリアザポルフィリンのω−変態
19.マクロロンCD 2000(登録商標)1.59
及びジクロロメタン22.59を20分間パールミル中
で混合して作った、この分散液をジクロロメタンで更に
稀釈するこ々なく流延塗布した。前記層を80℃で15
分間乾燥し、次いで2gの1,2−ビス(1,2−ジヒ
ドロ−2,2,4−1−リフチル−キノリン1−イル)
エタン、2gのマクロロン5700(登録商標)及び2
6.6gのジクロロメタンの濾過溶液で電荷輸送層を上
塗被覆した。次いでこの層を50℃で16時間乾燥した
かくして得られた光導電性記録材料の特性を、前述した
如< 780 nm光のIQ、35mJ/イの光線量で
測定し、下記結果を得た: CL=−484V RP=−135V 放電%−72,1 実施例 6 マクロロン5700(登録商標)中50重量にの1,2
−ビス(l、2−ジヒドロ−2,2゜4−トリフチル−
キノリン−1−イル)エタンの代りに、マクロロン57
00中40重量にのトリス(p−h lル)アミンから
電荷輸送層を構成したこと以外は実施例5に記載した如
くして光導電性記録材料を作った。
かくして得られた光導電性記録材料の特性を前述した如
< 780 nm光の10.35 mJ/−の光線量で
測定し、下記結果を得た: CL=−351V RP=−82V 放N%−76,6 実施例 7 光導電シートは、アルミニウムの導電層で蒸着被覆した
厚さ100μmのポリエステルフィルムを、電荷発生顔
料の分散液で厚さ0.6μmに、続いて電荷輸送物質及
び結合剤の濾過溶液で厚さ16μmに被覆して作った。
被覆はそれぞれの場合ドクターブレードコーターで行っ
た。
電荷発生顔料分散液は、実施例1に記載した如<シて作
った金属不含テトラベンシトリアザポルフィリンのω−
変態0.689、マクロロンCD 2000 (登録商
標>1.439、ダイナポールL206(登録商標)0
.1.69及びジクロロメタン20.439を5分間パ
ールミル中で混合して作った、この分散液はジクロロメ
タンで更に稀釈することなく塗布した。前記層は80℃
で15分間乾燥し、次いで4gの1,2−ビス(1,2
−ジヒドロ−2,2,4−トリメチル−キノリン−1−
イル)エタン、49のマクロロンco 2000 (登
録商標)及び429のジクロロメタンの濾過溶液で輸送
層上塗被覆した。この層は次いで50℃で16時間乾燥
した。
かくして得られた光導電性記録材料の特性を前述した如
< 780 nm光の10.35mJ/−の光線量で測
定し、下記の結果を得た: CL =−375V 王(P=−157V 放電%−58,1 実施例 8 電荷発生層中の金属不含テトラベンシトIJアザポルフ
ィリンのω−変態を、実施例1に記載した如くして作っ
た金属不含テトラベンシトリアザポルフィリンのβ−変
態で置換して、実施例5に記載した如くして光導電性記
録材料を作った。
かくして得られた光導電性記録材料の特性を前述した如
< 650 nm光の26.4mJ/−の光線量で測定
して、下記の結果を得た。
CL−−253V RP=−152V 放電%= 39.9 実施例 9 電荷発生材料を、ω−変態の代りに実施例3に記載した
如くして作った表1の化合物1のα−変態として実施例
5に記載した如くして光導電性記録材料を作った。
かくして得られた光導電性記録材料の特性を、前述した
如< 650 nm光の26.4mJ/イの光線量で測
定し、下記の結果を得た: CL=−95V RP=−90V 放電%=5.3 実施例 10 β−結晶変態での銅テトラベンツ゛トリアザポルフィリ
ン(表1の化合物2)を、金属不含テトラベンヅトリア
ザポルフイリンから、それを先づナトリウムメチレート
でジナトリウムテトラベンシトリアザポルフィリンに変
え、次いでこのジナトリウムを酢酸鋼と反応させて銅テ
トラベンシトリアザポルフィリンを形成させて作つた。
β−変態は鮮明吸収スペクトル(第3図参照)及び6.
9;9.0;12.3;18.0;21.3:231 
; 26.0 : 27.8及び30.2度のブラッグ
角(2θ)での強力線を示すX線回折パターンによる特
徴を示した。
実施例 11 電荷発生材料を表1の化合物1のβ−変態の代りに表1
の化合物2のβ−変態として実施例6に記載した如く光
導電性記録材料を作った。
紡記電荷発生材料は実施例10に記載した如く作った。
かくして得られた光導電性記録材料の特性を前述した如
< 650 nm光の26.4mJ/−の光線量で測定
し、下記の結果を得た: C’L=−528V RP=−475V 放電%=10.0 実施例 12 光導電性材料は、実施例5に記載した如くして作った、
但し接着剤層は1重量に溶液の代りにγ−アミンプロピ
ルトリメトキシシランの3重量%溶液で被覆して作り、
使用した金属不含テトラベンシトリアザポルフィリンの
ω−変態を実施例2に記載した如くでな〈実施例10に
記載した如く作り、電荷発生顔料分散液はパールミル中
で20分でなくボールミル中で16時間で混合して作っ
た。
かくして得られた光導電性記録材料の特性を前述した如
< 780 nm光の20.7 mJ /rrtの光線
量で測定し、下記結果を得た: CL=−534V RP=−IQ3V 放電%=80.7 実施例 13 電荷輸送材料として1,2−ビス(1,2−ジヒドロ−
22,4−トリメチルキノリン1−イル)エタンの代り
にα、α′−ビス(6−ニトキシー12−ジヒドロ−2
,2,4−トリメチル−キノリン−1−イル)−p−キ
シレンを用い、実施例12に記載した如く光導電性材料
を作った。
かくして得られた光導電性記録材料の特性を前述した如
< 780 nm光の20.7mJ/rrlの光線量で
測定し、下記の結果を得た: CL=−532V RP=−95V 放電%−82,1 実施例 14 電荷輸送材料として、1,2−ビス(1,2ジヒドロ−
2,2,4−トリメチル−キノリン−1−イル)エタン
の代りにα、α′−ビス(6−メドキシー1.2−ジヒ
ドロ−224〜トJメチル−キノリン−1−イル)−p
−キシレンを用いて実施例12に記載した如くして光導
電性材料を作った。
かくして得られた光導電性記録材料の特性を前述した如
<780nm光の20.7 mJ /rdの光線量で測
定し、下記結果を得た: cr==−476V RP  = −f3 4  V 放電%= 82.4 実施例 15 電荷輸送材料として、1,2−ビス(1,2−ジヒドロ
−2,2,4−トリメチル−キノリン−1−イル)エタ
ンの代りに6−ホルミル−1,2−ジヒドロ−1,2,
2,4−テトラメチル−キノリン−1’、1’−ジフェ
ニルヒドラゾンを使用し、実施例12に記載した如く光
導電性材料を作った。
かくして得られた光導電性記録材料の特性を前述した如
< 780 nm光の20.77FIJ/−の光線量で
測定して下記の結果を得た: CL=−529V RP= −9QV 放電%=83.0 実施例 16 電荷輸送材料として、1,2−ビス(1,2−ジヒドロ
−2,2,4−トリメチル−キノリン−1−イル)エタ
ンの代りに1−ベンジル−6−ホルミル−1,2−ジヒ
ドロ−224−トリメチル−キノリン−17−α−ナフ
チル−1′−フエニルヒドラゾンを用い実施例12に記
載した如く光導電性材料を作った。
かくして得られた光導電性記録材料の特性を前述した如
<780r+m光の20.7mJ/イの光線量で測定し
、下記結果を得た: CL=−542V RP=−92V 放電%= 83.0 実施例 17 電荷輸送層を、50重1にの1.2−ビス(1,2−ジ
ヒドロ−2,2,4−トリメチル−キノリン−1−イル
)エタン及び50重量にのマクロロン5700(登録商
標)の代りに40重量にのN−(4−N、N−ジベンジ
ルアミノフェニル)−力ルバゾール及び60重量%ツマ
クロロン5700(登録商標)から構成して実施例12
に記載した如く光導電性材料を作った。
かくして得られた光導電性記録材料の特性を前述した如
<780nm光の20.7mJ/イの光線量で測定し、
下記結果を得た: CL−一478V RP=−139V 放電%= 70.9 実施例 18 電荷輸送材料として、1,2−ビス(1,2−ジヒドロ
−2,2,4−トリメチル−キノリン−1−イル)エタ
ンの代りに1.3.5−トリス〔4−ビス(4′−エチ
ルフェニル)−アミノフェニルツーベンゼンを用い、実
施例12に記載した如くして光導電性材料を作った。
かくして得られた光導電性記録材料の特性を前述した如
<780nm光の20.7mJ/−の光線量で測定し、
下記結果を得た: CL=−462V RP=−82V 放電%−82,3 実施例 19 電荷輸送材料として、1,2−ビス(1,2−ジヒドロ
−2,2,4−トリメチル−キノリン−1−イル)エタ
ンの代りに1.3.5−トリス(4−エチル−ベンジル
−アミンフェニル)−ベンゼンを用い、実施例12に記
載した如く光導電性材料を作った。
かくして得られた光導電性記録材料の特性を前述した如
<780nm光の20.7 mJ/イの光線量で測定し
、下記の結果を得た: CL=−563V RP=−130V 放電%−76,9 実施例 20 電荷発生輸送材料として、1,2−ビス(1゜2−ジヒ
ドロ−2,2,4−トリメチル−キノノン−1−イル)
エタンの代りに1.3.5−トリスし4−N、N−ビス
(4′−メトキシフェニル)−アミノフエニル〕−ヘン
ゼン用い、実施例12に記載した如く光導電性材料を作
った。
かくして得られた光導電性記録材料の特性を前述した如
<780nm光の20.7mJ lrdの光線量で測定
し、下記結果を得た: CL=−3Q4V RP −−8Q V 放電%=73.7 実施例 21 電荷輸送材料として、1,2−ビス(1,2−ジヒドロ
−2,2,4−1−リフチル−キノリン−1−イル)エ
タンの代りにビス(1,2−ジヒドロ−12,2,4−
テトラメチルキノリン−6−イル)−フェニルメタンを
用い、実施例12に記載した如く光導電性材料を作った
かくして得られた光導電性記録材料の特性を前述した如
< 780 nm光の20.7mJ/イの光線量で測定
し、下記の結果を得た: CL=−58Qv RP −−99V 放電%−829 実施例 22 電荷輸送材料として、1,2−ビス(1,2−ジヒドロ
−22,4−トリメチル−キンリン−1−イル)エタン
の代りにビス(1−ベンジル−12−ジヒドロ−2,2
,4,7−テトラメチル−キノリン−6−イル)−フェ
ニルヲ用い、実施例12に記載した如く光導電性材料を
作った。
かくして得られた光導電性記録材料の特性を前述した如
< 780 nm光の20.7 mJ/−の光線量で測
定し、下記結果を得た: CI’L −−434V RP=−121V 放電%= 72.1 実施例 23 電荷輸送材料として、1,2−ビス(1,2−ジヒドロ
−2,2,4−トリメチル−キノリン−1−イル)エタ
ンの代りにα−(1,2−ジヒドロ−2,2,4,7−
テトラメチル−キノリン−1−イル)−1−メチルナフ
タレンを用い、実施例12に記載した如く光導電性材料
を作った。
かくして得られた光導電性記録材料の特性を前述した如
< 780 nm光の20.7 mJ7’mの光線量で
測定し、下記の結果を得た: C’L=−542V RP=−102V 放電%=81.2 実施例 24 電荷輸送材料として、1,2−ヒ゛ス(1,2−ジヒド
ロ−2,2,4−1−リメチル−キノ1]ンー1−イル
)エタンの代りにα−(1,2−ジヒドロ−2,2,4
,6−チトラメチル−キノ1jンー1−イル)−1−メ
チルナフタレンを用G)、実施例12に記載した如く光
導電性材料を作った。
かくして得られた光導電性記録材料の特性を前述した如
< 780 nm光の20.7 mJiイの光線量で測
定し、下記の結果を得た: CL=−522V RP= −92V 放電%=82.4 実施例 25 1.2−ビス(1,2−ジヒドロ−2,2゜4−トリメ
チル−キノリン−1−イル)エタンの代りにα−(6−
ホルミル−1,2−ジヒドロ−2,2,4−トリメチル
−キノリン−1イル)−1−メチルナフタレン−1′1
′−ジフェニルヒドラゾンを用い実施例12に記載した
如く光導電性材料を作った。
かくして得られた光導電性記録材料の特性を前述した如
< 780 nm光の20.7 ntJ/イの光線量で
測定し、下記の結果を得た: CI−=−411V Ri)=−75V 放電%−81,8 使用した電荷輸送材料力月、2−ビス(l、2ジヒドロ
−2,2,4−トリメチル−キノリンl−イル)エタン
の代りIこ、式 を有するものであり、実施例12に記載した如くして光
導電性材料を作った。
かくして得られた光導電性記録材料の特性を前述した如
< 780 nm光の20.7 mJ/lriの光線量
で測定し、下記結果を得た: CL=−374V RP =−49V 放電%=86.9 実施例 27 使用した電荷輸送が、1,2−ビス(1,2−ジヒドロ
−2,2,4−トリメチル−キノリン−1−イル)エタ
ンの代りに式 を有すること以外は実施例12に記載した如く光導電性
材料を作った。
かくして得られた光導電性記録材料の特性を前述した如
< 780 nm光の20.7 mJ/イの光線チジン
を用い、実施例17に記載した如く光導量で測定し、下
記結果を得た: CL=−592V 1’(P=−177V 放1!19fr = 70.1 実施例 28 電荷輸送材料としてN−(4−ジベンジルアミノフェニ
ル)−力ルバゾールの代りlこトリス(p −h ’)
ル)アミンを用い、実施例171こ記載した如く光導電
性材料を作った。
かくして得られた光導電性記録材料の特性を前述した如
< 780 nrP1光の20.7 mJ/ryeの光
線量で測定し、下記結果を得た: CL=−498v RP  =  −96V 放電%−80,7 実施例 29 電荷輸送材料としてN−(4−ジベンジルアミノフェニ
ル)−カルバゾールの代りに4 、4’−ビス(N−フ
ェニル−N−m−トリル)−ベン電性材料を作った。
かくして得られた光導電性記録材料の特性を前述した如
< 780 nm光の20.7 m、T/イの光線量で
測定し、下記結果を得た: CL=−469V RP=−72V 放電%−84,6 実施例 30 電荷輸送材料として、1.2−ビス(1,2−ジヒドロ
−224−1−リフチル−キノリン−1−イル)エタン
の代りに、1,1−ビス(4−ジエチルアミノフェニル
)−4,4−ジフェニルブタジェンを用い、実施例12
に記載の如く光導電性材料を作った。
かくして得られた光導電性記録材料の特性を前述した如
< 780 nm光の20.7 mJiイの光線量で測
定し、下記結果を得た: C’L −−463V RP −−62V 放電%−86,6 実施例 31 電荷輸送材料として、1,2−ビス(1,2−ジヒドロ
−2,2,4−1−リフチル−キノリン1−イル)エタ
ンの代りに4−N、N−ジエチルアミンベンズアルデヒ
ド−1′1′−ジフェニルヒドラゾンを用い、実施例1
2に記載の如く光導電性材料を作った。
かくして得られた光導電性記録材料の特性を前述した如
< 780 nm光の20.7 mJ/イの光線量で測
定し、下記結果を得た: CL、=−494V Rp=−156V 放電%−684 実施例 32 電荷輸送材料として、1,2−ビス(1,2ジヒドロ−
2,2,4−トリメチル−キノリン1−イル)エタンの
代りにp−ジエチルアミンベンズアルデヒド−1’、1
’−ジフェニルヒドラゾンを用い実施例12に記載の如
く光導電性材料を作った。
かくして得られた光導電性記録材料の特性を前述した如
< 780 nm光の20.7mJl−の光線量で測定
し、下記結果を得た。
CL=−563V RP=−114V 放電%= 79.8 実施例 33 電荷発生材料として、1,2−ビス(1,2−ジヒドロ
−2,2,4−トリメチル−キノリン−1−イル)エタ
ンの代りに3−ホルミル−N−エチルカルバゾール−1
′−メチル−1′−フェニルヒドラゾンを用い、実施例
12に記載した如く光導電性材料を作った。
かくして得られた光導電性記録材料の特性を前述した如
< 780 nm光の20.7 mJ/lriの光線量
で測定し、下記の結果を得た: CL=−487V RP = −99V 放電%=79.7 実施例 34 電荷輸送材料として、1,2−ビス(1,2−ジヒドロ
−2,2,4−1−リメチルーキノリン=1−イル)エ
タンの代りに4−ジベンジルアミノ−2−メチル−ベン
ズアルデヒド−1′1′ジフエニルヒドラゾンを用い、
実施例12の如く光導電性材料を作った。
かくして得られた光導電性記録材料の特性を前述した如
< 780 nm光の20.7 mJ/イの光線量で測
定し、下記結果を得た: CL=−497V RP =−39V 放電%−82,1 実施例 35 電荷輸送材料として、1,2−ビス(1,2−ジヒドロ
2,2.4−トリメチル−キノリン−1−イル)エタン
の代りにビス(4−ジエチルアミノ−2−メチルフェニ
ル)−フェニルメタンを用い、実施例12に記載した如
く光導電性材料を作った。
かくして得られた光導電性記録材料の特性を、前述した
如< 780 nm光の20.7mJ/ゴの光線量で測
定し、下記の結果を得た: cr、=−634v RP=−190V 放電%=70゜0 実施例 36 電荷輸送材料として、1,2−ビス(1,2ジヒドロ−
22,4−トリメチル−キノリン−1−イル)エタンの
代りに2,5−ビス(4−ジエチルアミノフェニル)−
1,3,4−オキサジアゾールを用い、実施例12に記
載の如く光導電性材料を作った。
かくして得られた光導電性記録材料の特性を前述した如
< 780 nm光の20.7mJ/イの光線量で測定
し、下記結果を得た: 0L=−591V RP−−155V 放電%−73,8 実施例 37 実施例37の光導電性記録材料の製造に当って使用した
金属不含テトラベンシトリアザポルフィリンのω−変態
は次の如くして作った:実施例1(B)に記載した如く
作ったβ−金属不含テトラベンシトリアザポルフィリン
を1−メチルナフタレンから再結晶し、実施例1(C)
に記載した如く塩粉砕し、最後に蒸溜水で還流加熱下1
0時間処理した。
実施例37の光導電性記録材料は、アルミニウムの導電
性層で蒸着被覆した厚さ100 pmのポリエステルフ
ィルムを最初γ−アミノプロピルートリエトキシ−シラ
ンの1重食%溶液で被覆し、形成された層を100℃で
30分間加水分解及び重合し、これによって接着剤層を
形成して作った。次いでこの接着剤層を、30.859
のジクロロメタン中の0.0759のフエナントラキノ
ン及び6.679のマクロロンCD2000(登録商標
)の溶液中の0.759のω−金属不含テトラベンシト
リアザポルフィリン(前述した如く作った)の分散液を
パールミル中で200分間混した後のこの分散液で13
μmの厚さに被覆した。次にこの層を50℃で16時間
乾燥した。
かくして得られた光導電性記録材料を正に帯電し、感度
測定を前述した如< 780 nmの波長で行った。
非常に急勾配の感度測定曲線が観察された。
単色780 nm光露光に対する感度を、+100Vの
残存電位を達成するのに要するその露光(I780t)
として表わし、放電露光依存のステイープネスは、露光
における3、16倍の差である6、56mJ/−と20
.7mJ/イの間(エフsoj )で観されたΔ%放電
として表わす。結果を下記に示す: CL= −805V 工ysot →+100 V = 100 mJ /r
re656及び20.7mJ/ぜのl7sutの間のΔ
%放電=58.8 実施例 38 実施例38の光導電性記録材料の製造に使用した金属不
含テトラベンシトリアザポルフィリンのω−変態は次の
如くして作った:実施例1(D)に記載した如く作った
ω−金属不含テトラベンシトリアザポルフィリンを、0
.4〜0.5朋ガラスピーズを用いたパールミル中で1
時間、ボッエチレングリコール−水混合物中で粉砕した
実施例38の光導電性記録材料は、アルミニウムの導電
性層で蒸着被覆した厚さ100μmのポリエステルフィ
ルムヲ、ジクロロメタン中のマクロロンCD 2000
 (登録商標)及びダイナポールL206(登録商標)
の溶液中のω−金属不含テトラベンシトリアザポルフィ
リン(前述した如く作った)の分散液で厚さ13μmに
被覆して作ったっこの分散液は先づ1.5gのω−金属
不含テトラベンシトリアザポルフィリン、1、149の
マクロロンCD 2000 (登録商標)及び14.9
69のジクロロメタンをパールミル中で155分間混し
、次いで6.519のマクロロンCD 2000 (登
録商標)、0.85gのダイナボールL206(登録商
標)及び29.4499のジクロロメタ/を加え、パー
ルミル中で更に5分間混合し、その後8.959のジク
ロロメタンを蒸発除去して必要流延被覆粘度にした。
次いで層を50℃で16時間乾燥した。
かくして得られた光導電性記録材料を正に帯電し、前述
した如< 780 nmの波長で感度測定を行った。非
常に急勾配の感度測定曲線が観察された。単色780 
nm光に対する感度は6.56mJ/rdの露光(l7
sot )に対する放電%として表わし、放電−露光依
存性のステイープネスは、露光における3、16倍の差
の、2.07mJ/−と6.56mJ/イの間(rys
ot )で観察されたΔ%放電さして表わす。結果を下
記に示す。
C’L=+911V 6、56 mJ/ryeのl780 tでの放電%−9
2,52,07と6.56 mJ/rdの間のrtso
 tでのΔ%放電=90.5 実施例 39 実施例39の光導電性記録材料は、アルミニウムの導電
性層で蒸着被覆した厚さ100μmのポリエステルフィ
ルムを先づγ−アミノプロピルートリエトキシ−シラン
の3重量に溶液で被覆し、形成された層を100℃で3
0分間加水分解及び重合をし、これによって接着剤層を
形成して作った。この接着剤層を次にジクロロメタン中
のマクロロンco 2000 (登録商標)の溶液中の
ω−金属不含テトラベンシトリアザポルフィリン(実施
例38に記載した如く作った)の分散液で厚さ15μm
に被覆した。この分散液は先づ2gのω−金属不含テト
ラベンシトリアザポルフィリン、1.7gのマクロロン
CD2000(登録商標)及び20.979のジクロロ
メタンをパールミル中で15分間混合し、次いで9.6
339のマクロロンco 2000 (登録商標)及び
38.5379のジクロロメタンを加え、パールミル中
で更に5分間混合し、その後12.239のジクロロメ
タンを蒸発除去して必要流延被覆粘度として作った。次
に層を50℃で16時間乾燥した。
かくして得られた光導電性記録材料を正に帯電し、感度
測定を前述した如< 780 nmの波長で行った。非
常に急勾配な感度測定曲線が観察された。単色780 
nm光に対する感度は6.56mJ /dの露光(It
sot )に対する放電%として表わし、放電−露光依
存性のステイープネスは、露光における3、16倍の差
の、2.07mJ/イと6.56mJ/イの間(l7s
oj )で観察されたΔに放電として表わす。結果を下
記に示す: CL=+1065v 656777J/−のI7!10 tでの放電%−91
4207と6.56 mJ /ldのエフ80 tの間
のΔ%放電=82.7 実施例 40 実施例40の光導電性記録材料の製造において使用した
ω−金属不含テトラベンシトリアザポルフィリンは、顔
料をポリエチレ7− りIJ :1−ルー水混合物中で
0.4〜0.5朋直径のガラスピーズを用いたパールミ
ルで1時間2回粉砕して実施例38に記載した如く作っ
た。
実施例40の光導電性記録材料は、使用したω−金属不
含テトラベンシトリアザポルフィリンを前述した如く作
り、その濃度を15重量にの代りに200重量とし、マ
クロロン2808(登録商標)をマクロロンCD 20
00 (登録商標)の代りに使用し、層の厚さを15μ
mの代りに12μmとして実施例39に記載した如く作
った。
かくして得られた光導電性記録材料を正に帯電し、感度
測定を前述した如く行った。非常に急勾配の感度測定曲
線が観察された。単色780nm光に対する感度は6.
56mJ/−の露光(Iysot)に対する放電%とし
て表わし、放電−露光依存性のステイープネスは、露光
において3.16倍の差である2、07mJ/−と6.
56 mJ/rdの間(Ivsot )で観察されたΔ
%放電として表わす。結果を下記に示す: CL−十849V 6、56 mJ/イのbso tでの放電%−93,4
2,07と6.56 mJ /iのI7g+ltの間の
2%放電−81,5 実施例 41 実施例10に記載した如く作った銅テトラベンシトリア
ザポルフィリンを、米国特許第2.166240号の実
施例12に記載された方法を用いて臭素化した。形成さ
れた顔料を実施例1(C)に記載した如く塩粉砕した。
塩粉砕した顔料は、26.′f′(非常に強力):30
.9°:40.5°;47.6°:及び50.7°で2
0極による特徴を有すルXRDスペクトルを有し、マク
ロロンCD2000(登録商標)及びダイナポールL2
06(登録商標)の9:1重量混合物中50重量%濃度
で第4図に示す吸収スペクトルを有する。
光導電性記録材料は、アルミニウムの導電性層で蒸着被
覆した厚さ100μmのポリエステルフィルムを順次、
ジクロロメタン中のマクロロンCD 2000 (登録
商標)及びダイナポールL206(登録商標)の溶液中
の臭素化鋼テトラベンシトリアザポルフィリンの分散液
で被覆して厚さ0.6μmの電荷発生層を形成し、そし
てジクロロメタン中の1,2−ビス(1,2−ジヒドロ
ー2.2.4−トリメチル−キノリン−1−イル)エタ
ンとマクロロン5700(登録商標)の同重童の溶液で
被覆し、厚さ15.4μmの電荷輸送層を形成して作っ
た。
臭素化鋼テトラベンシトリアザポリフィリン分散液は、
顔料1g、マクロロンCD 2000 (登録商標)1
,259、ダイナポールL206(登録商標) 0.1
59及びジクロロメタン19.289をパールミル中で
20分間混合して作った。
形成された光導電性記録材料を50℃で16時間乾燥し
た。
かくして得られた光導電性記録材料の特性を、前述した
如< 650 nm光の26.4mJ/−の光線量で測
定した、結果を下記に示: CL=−690V RP=−559V 放電%=190 実施例 42 実施例10に記載した如く作った銅テトラベンシトリア
ザポルフィリンを米国特許第2166240号の実施例
10に記載された方法で塩素化した。
形成された顔料について元素分析を行い、次の結果を得
た: Cu5,2%(AAS ): C37,0%;Hl、1
%;N9.2%及びCl 45.1%、これは1分子に
ついてCI!原子13〜14に相通。
次いで顔料を実施例1(C)に記載した如く塩粉砕した
。塩粉砕した顔料は、5.7 + 9.9 : 13.
3;15.2:16.4:26.3(非常に強力):3
1.O:33.7 : 40.2 : 42.6及び4
7.1度で20極大による特徴を有するXRDスペクト
ルを有し、マクロロンCD 2000 (登録商標)及
びダイナポールL206(登録商標)の9=1重量混合
物中50重量%濃度で第5図に示す吸収スペクトルを有
する。
光導電性記録材料は、使用した顔料を塩素化鋼テトラベ
ンシトリアザポルフィリンとして実施例41に記載した
如く作った。
かくして得られた光導電性記録材料の特性を前述した如
< 650 nm光の26.4ry+J/−の光線量で
測した、結果を下記に示す: CL=−357V RP=−243V 放電%=31.9 実施例 43 実施例1(B)に記載した如く作ったβ−金属不含テト
ラヘンシトリアザポルフィリンを、米国特許第2166
240号の実施例11に記載された方法を用いて臭素化
した。形成された顔料を実施例1(C)に記載した如く
塩粉砕した。塩粉砕した顔料は、13、O: 25.8
 ; 31.8;39.9及び46.1度での2θ極大
による特徴を有するXRDスペクトル、及びマクロロン
CD 2000 (登録商標)及びダイナポールL20
6(登録商標)の9:1重量混合物中50重量X濃度で
第6図に示す吸収スペクトルを有する。
光導電性記録材料は、使用した顔料を臭素化金属不含テ
トラベンシトリアザポルフィリンとして実施例41に記
載した如く作った。
かくして得られた光導電性記録材料の特性を前述した如
< 650 nm光の26.4mJ/イの光線量で測定
した、結果を下記ζこ示す: OL= −285■ 650 nm光の26.4mJ/イの光線線以下では光
感度は見られなかった。
実施例 44 金属不含テトラナフタロトlアザポルフィ1jンは、先
づJ、 Amer、 Chem、 Soc、第106巻
、第7405頁(1981f:)Jこビー・エル・ホイ
ーラー等によって記載されてG)る如くメタノール中で
アンモニアと反応させて2,3−ナフタロジニトリルを
1,3−ジアミノベンズ(f)イソインドリンに変換し
、次G1で1.3−ジアミノベンズ(f)イソインドリ
ンを200 rnlのメタノール中で30rttlのニ
トロメタンと3日間還流加熱して反応させてニトロ−メ
チレン化合物:を形成して作った、メタノールで洗浄後
収量22.99であった。その組成はその質量スペクト
ルで239(100%)のm/eにより確認した。ニト
ロベンゼン中の19.59の1.3−ジイミノベンズ(
f)イソインドリン及び23.99の前記ニトロ−メチ
レン化合物を、還流加熱しているニトロベンゼン中に3
0分間で加えた、このキキニトロベンゼンは全体で40
0 #!/’になるようにした。形成された懸濁液を次
いで還流下16時間加熱した。形成された水をニトロベ
ンゼンの少量と共に連続的に追い出した。生成した緑色
顔料を熱濾過し、次いでエタノール及びジメチルポルム
アミドで洗って残存ニトロベンゼンを除去し、最後に2
日間1.51の1−メチル−ナフタレンで抽出して不純
物を除去し、これによって高度に結晶質の緑色顔料8.
7gを形成した。この顔料は金属不含テトラナフタロト
ノアザポルフィリンであり、これは元素分析で確認した
: C4@ H2? N2 理論値:CB2.45%、N13.74%、H3,81
%実測値:C81,36%、N13.44%、H3,6
9%前記顔料は、5.8;6.2:11.7;13.4
:16.5;17.6:18.5:23.4:24.0
;24.6:26.1 ; 26.8 : 29.4及
び30.2度の2θ値で鮮鋭な線を有する粉末X線回折
スペクトルを示し、Mo1. Cryst、 Liqu
id Cryst 第112巻、第345頁〜第358
頁(1984年)にエム・エル・カブラン等によって発
表された金属不含ナフタロシアニンとしても知られてい
る金属不含テトラアザテトラナフタロポルフィリンの既
知のX線回折スペクトルに相当せず、又683nmで主
極大を有する1−クロロナフタレン中でのその吸収スペ
クトルも、Zhurnal ObShcheiKhim
ii第39巻(1969年)第2554頁〜第2558
頁にS、 A、 Mikhalenkoによって発表さ
れた如き780 nmでの主極大を有する金属不含ナフ
タロシアニンのそれと対応しない。
マクロロンco 2000 (登録商標)中40重量に
の濃度でのその吸収スペクトフルを第7図に示す。
光導電性記録材料の製造に当って、厚さ100μmのポ
リエステルフィルム基体(これはアルミニウムの導電性
層で真空蒸着被覆した)を、続けて、電荷発生顔料の分
散液で厚さ0.6μmに、そして電荷輸送物質と結合剤
の濾過溶液で厚さ14μmにドクターブレード被覆した
電荷発生顔料分散液は、前記した如く作った金属不含テ
トラナフタロトリアザポルフィリンの1gを、ジャゴテ
ツクスF 218 (JAGOTEXF218+キシレ
ン/エチルグリコールアセテトの2対1容量溶媒混合物
中のヒドロキシ基含有スチレン−アクリル共重合体の6
0重量%溶液に対する登録商標)の1.149及びジク
ロロメタンの17.449と混合し、次いでデスモジュ
ールN 75 (DESMODURN 75 : 1−
メトキシ−プロピルアセテート/キシレンの1対1容量
溶媒混合物中のトリイソシアネートの75重量%溶液に
対する登録商標)の0.3159を加え、更に2分間混
合して作った。
形成された層を100℃で2時間乾燥し、次いで、4g
の1,2−ビス(112−ジヒドロ2 2.4−1−リ
フチル−キノリン−l−イル)エタン、42のマクロロ
ン5700(登録商標)及び42g、のジクロロメタン
の濾過溶液で電荷輸送層を被覆した。この層は次いで5
0℃で16時間乾燥した。
かくして得られた光導電性記録材料の特性を、前述した
如< 700 nm光の195.7 mJ/meの光線
量で測定した、結果を下記に示す: CL=−15QV RP=−135V 放電%−10
【図面の簡単な説明】
第1a図、第1b図及び第1C図は熱液体で処理する前
の金属不含テトラベンシトリアザポルフィリンのそれぞ
れα−1β−及びω−結晶変態の吸収スペクトルを表わ
す。相対吸収(α)が縦軸で、nmでの波長が横軸であ
る。 第1d図及び第1e図は、それぞれ熱メチルベンゾエー
ト及び熱キシレンで処理した後の金属不含テトラベンシ
トリアザポルフィリンのそれぞれのω−結晶変態の吸収
スペクトルを表わす。 第2図は初期帯電レベルを半分まで1/(■。t%)低
下させるのに要する露光(tri/mJ )の逆数を波
長(nm)lこ対してプロットした金属不含テトラベン
シトリアザポルフィリンのω−結晶変態のスペクトル感
度曲線を表わす。 第3図はβ−結晶変態の銅テトラベンシトリアザポルフ
ィリンの吸収スペクトルを表わす。 第4図は実施例41に記載した臭素化鋼テトラベンヅト
リアザポルフィリンの吸収スペクトルを表わす。 第5図は実施例42に記載した塩素化鋼テトラベンシト
リアザポルフィリンの吸収スペクトルを表わす。 第6図は実施例43に記載した臭素化金属不含テトラベ
ンシトリアザポルフィリンの吸収スペクトルを表わす。 第7図は実施例44に記載したテトラナフタロトリアザ
ポルフィリンの吸収スペクトルを表わす。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、導電性支持体、及び少なくとも1種の光導電性化合
    物を含有する感光性層を含む電子写真記録材料において
    、前記光導電性化合物が、p型電荷発生容量を有し、下
    記一般式( I ):( I )▲数式、化学式、表等があり
    ます▼ (式中X^1、X^2、X^3及びX^4は同じか又は
    異なり、ハロゲン、ニトロ基、シアノ基、C_1〜C_
    2アルキル基及びアルコキシ基からなる群から選択した
    置換基を表わし、2個のX^1、2個のX^2、2個の
    X^3又は2個のX^4が一緒になつて置換又は非置換
    炭素環式又は複素環式環系を形成するのに必要な原子を
    表わし、k、l、m及びnはそれぞれ独立に0又は1〜
    4の整数を表わし、R^1は水素、C_1〜C_2アル
    キル基、アラルキル基又はアリール基を表わし、Aの各
    々は同じか又は異なり、窒素又はCR^2基を表わし、
    R^2の各々は同じか又は異なり、水素、C_1〜C_
    2アルキル基、アラルキル基、又はアリール基を表わし
    、Zは水素又は二つの基Zが一緒になつて、2より大な
    る原子価状態の場合追加原子価補償原子又は基に結合す
    る金属原子を表わす)によつて表わされるテトラベンゾ
    ポルフィリン系化合であることを特徴とする光導電性記
    録材料。 2、前記導電性支持体が、その上に電荷輸送層と接触関
    係にある電荷発生層を有し、前記電荷発生層が請求項1
    に記載の如きテトラベンゾポルフィリン系化合物の少な
    くとも1種を含有する請求項1記載の電子写真記録材料
    。 3、前記化合物が下表のテトラベンゾポルフィリンであ
    る請求項1又は2記載の電子写真記録材料。 表 1、▲数式、化学式、表等があります▼ 2、▲数式、化学式、表等があります▼ 3、▲数式、化学式、表等があります▼ 4、▲数式、化学式、表等があります▼ 5、▲数式、化学式、表等があります▼ 6、▲数式、化学式、表等があります▼ 7、▲数式、化学式、表等があります▼ 8、▲数式、化学式、表等があります▼ 9、▲数式、化学式、表等があります▼ 10、▲数式、化学式、表等があります▼ 11、▲数式、化学式、表等があります▼ 12、▲数式、化学式、表等があります▼ 13、▲数式、化学式、表等があります▼ トリアザポルフィリンである請求項1又は2記載の電子
    写真記録材料。 5、前記光導電性化合物が、第1C図に示すその吸収ス
    ペクトル及び8.5;10.2;11.9;14.4;
    18.0;20.4;22.6;24.0;24.7及
    び29.8度のブラッグ角(2θ)で強力線を示すその
    X線回折パターンを特徴とするω−変態での金属不含テ
    トラベンゾトリアザポルフィリンである請求項1又は2
    記載の電子写真記録材料。 6、前記光導電性化合物が、熱メチルベンゾエート又は
    熱キシレンで処理されたω−結晶変態での金属不含テト
    ラベンゾトリアザポルフィリンである請求項1又は2記
    載の電子写真記録材料。 7、前記光導電性化合物を、導電性支持体に直接接着す
    る電荷発生層を形成するため樹脂結合剤と組合せて付与
    する請求項1〜6の何れか1項記載の電子写真記録材料
    。 8、樹脂バインダーを、セルロースエステル、アクリレ
    ート及びメタクリレート樹脂、ポリビニルクロライド、
    ビニルクロライドの共重合体、ポリエステル樹脂、芳香
    族ポリカーボネート樹脂、シリコーン樹脂、ポリスチレ
    ン及びスチレンと無水マレイン酸の共重合体、ブタジエ
    ンとスチレンの共重合体、ポリ−N−ビニルカルバゾー
    ル及び少なくとも40重量%のN−ビニルカルバゾール
    含有率を有するN−ビニルカルバゾールの共重合体から
    なる群から選択する請求項7記載の電子写真記録材料。 9、電荷発生層中の前記光導電性化合物の含有率が前記
    層の全重量に対して0.05〜90重量%の範囲である
    請求項2〜8の何れか1項記載の電子写真記録材料。 10、前記電荷発生層の厚さが30μm未満である請求
    項2〜9の何れか1項記載の電子写真記録材料。 11、電荷発生層中の前記光導電性化合物の含有率が前
    記層の全重量に対して30〜70重量にの範囲である請
    求項2〜10の何れか1項記載の電子写真記録材料。 12、前記電荷発生層の厚さが5μm未満である請求項
    2〜11の何れか1項記載の電子写真記録材料。 13、前記電荷輸送層の厚さが5〜50μmの範囲であ
    る請求項2〜8及び11及び12の何れか1項記載の電
    子写真記録材料。 14、記録材料において、接着剤層又はバリヤー層が電
    荷発生層又は電荷輸送層と支持体の間に存在し、前記バ
    リヤー層の厚さが1μ以下である請求項2〜13の何れ
    か1項記載の電子写真記録材料。 15、導電性支持体が、アルミニウム、鋼、黄銅又は導
    電性増強物質を混入又はそれで被覆された紙もしくは樹
    脂材料から作られ、支持体が箔ウェブの形又はドラムの
    一部である請求項1〜14の何れか1項記載の電子写真
    記録材料。 16、(1)電荷発生層中に請求項1記載のテトラベン
    ゾポルフィリンを含有する二層系記録材料の感光性電荷
    発生層又は電荷輸送層を全面的に静電的に帯電し、又は
    感光性層中に請求項1記載のテトラベンゾポルフィリン
    を含有する単層記録材料の感光性層を全面的に静電的に
    帯電し、 (2)前記記録材料の感光性層を像に従つて露光しかく
    して静電潜像を得る、 工程を含む電子写真記録法。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0643671A (ja) * 1992-07-24 1994-02-18 Fuji Xerox Co Ltd 電子写真感光体
JP2003057437A (ja) * 2001-08-20 2003-02-26 Mitsui Chemicals Inc 光学フィルター
WO2005022649A1 (en) * 2003-08-28 2005-03-10 Canon Kabushiki Kaisha Field effect transistor and method of manufacturing the same
JP2007171955A (ja) * 2005-12-19 2007-07-05 Xerox Corp 画像形成部材
JP2008176310A (ja) * 2006-12-20 2008-07-31 Mitsubishi Chemicals Corp 電子写真感光体
JP2011074161A (ja) * 2009-09-29 2011-04-14 Mitsubishi Chemicals Corp ジアザポルフィリン化合物又はその塩、半導体材料、膜、電子デバイス、電界効果トランジスタ、及び光電変換素子
JP2013097300A (ja) * 2011-11-04 2013-05-20 Ricoh Co Ltd 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5304445A (en) * 1992-02-12 1994-04-19 Hitachi Chemical Co., Ltd. Phthalocyanine composition, process for preparing the same and electrophotographic photoreceptor using the same
US5721080A (en) * 1992-06-04 1998-02-24 Agfa-Gevaert, N.V. Electrophotographic material containing particular phthalocyanines
US6068956A (en) * 1998-04-09 2000-05-30 Ricoh Company, Ltd. Electrophotographic photoconductor
US6984734B2 (en) 2002-02-26 2006-01-10 Board Of Regents, The University Of Texas System Cyclo[n]pyrroles and methods thereto
KR102155239B1 (ko) * 2012-05-29 2020-09-11 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 착색 경화성 수지 조성물

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2156240A (en) * 1938-04-30 1939-04-25 Lilly Co Eli Streptococcus antigen
DE2239924C3 (de) * 1972-08-14 1981-08-13 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial
JPS6261981A (ja) * 1985-09-11 1987-03-18 Mitsubishi Chem Ind Ltd ポルフイリン誘導体
JPS63106662A (ja) * 1986-10-23 1988-05-11 Fuji Xerox Co Ltd 電子写真感光体
US5006435A (en) * 1988-10-05 1991-04-09 Fuji Xerox Co., Ltd. Electrophotographic photosensitive member with additive in charge generating layer

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0643671A (ja) * 1992-07-24 1994-02-18 Fuji Xerox Co Ltd 電子写真感光体
JP2003057437A (ja) * 2001-08-20 2003-02-26 Mitsui Chemicals Inc 光学フィルター
WO2005022649A1 (en) * 2003-08-28 2005-03-10 Canon Kabushiki Kaisha Field effect transistor and method of manufacturing the same
US7285441B2 (en) 2003-08-28 2007-10-23 Canon Kabushiki Kaisha Field effect transistor and method of manufacturing the same
US7394096B2 (en) 2003-08-28 2008-07-01 Canon Kabushiki Kaisha Field effect transistor and method of manufacturing the same
JP2007171955A (ja) * 2005-12-19 2007-07-05 Xerox Corp 画像形成部材
JP2008176310A (ja) * 2006-12-20 2008-07-31 Mitsubishi Chemicals Corp 電子写真感光体
JP2011074161A (ja) * 2009-09-29 2011-04-14 Mitsubishi Chemicals Corp ジアザポルフィリン化合物又はその塩、半導体材料、膜、電子デバイス、電界効果トランジスタ、及び光電変換素子
JP2013097300A (ja) * 2011-11-04 2013-05-20 Ricoh Co Ltd 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置

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