JPH0643671A - 電子写真感光体 - Google Patents
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Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 高感度特性を有し、電荷保持性が良好で、画
質欠陥の少ない電子写真感光体を提供する。 【構成】 導電性支持体上に電荷発生層及び電荷輸送層
よりなる積層型の感光層を有する電子写真感光体であっ
て、感光層が、電荷発生材料としてフタロシアニン顔料
を含有し、結着樹脂として、無水マレイン酸をモノマー
成分とするビニル共重合体を含有する。
質欠陥の少ない電子写真感光体を提供する。 【構成】 導電性支持体上に電荷発生層及び電荷輸送層
よりなる積層型の感光層を有する電子写真感光体であっ
て、感光層が、電荷発生材料としてフタロシアニン顔料
を含有し、結着樹脂として、無水マレイン酸をモノマー
成分とするビニル共重合体を含有する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電子写真感光体、特
に、導電性支持体上に電荷発生層および電荷輸送層が順
次積層してなる積層型の感光層を有する電子写真感光体
に関する。
に、導電性支持体上に電荷発生層および電荷輸送層が順
次積層してなる積層型の感光層を有する電子写真感光体
に関する。
【0002】
【従来の技術】フタロシアニン顔料は、塗料、印刷イン
キ、触媒或いは電子材料として有用な材料であり、特に
近年は電子写真感光体用材料、光記録用材料、光電変換
材料として、広範に検討がなされており、フタロシアニ
ン顔料を電荷発生材料として含有する電子写真感光体に
ついても、種々のものが提案されている。一般に、フタ
ロシアニン顔料は、製造方法、処理方法の相違により、
多数の結晶型を示すことが知られており、この結晶型の
違いは、フタロシアニンの光電変換特性に大きな影響を
及ぼすことが知られている。フタロシアニン顔料を電荷
発生材料として使用する積層型感光層を有する電子写真
感光体については、これまで種々のものが提案されてお
り、そしてその場合使用する結着樹脂についての提案も
なされている。例えば、結着樹脂として、ポリビニルブ
チラール系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポ
リエステル、ポリカーボネート、スチレン−アクリル酸
共重合体等を使用することが知られている。
キ、触媒或いは電子材料として有用な材料であり、特に
近年は電子写真感光体用材料、光記録用材料、光電変換
材料として、広範に検討がなされており、フタロシアニ
ン顔料を電荷発生材料として含有する電子写真感光体に
ついても、種々のものが提案されている。一般に、フタ
ロシアニン顔料は、製造方法、処理方法の相違により、
多数の結晶型を示すことが知られており、この結晶型の
違いは、フタロシアニンの光電変換特性に大きな影響を
及ぼすことが知られている。フタロシアニン顔料を電荷
発生材料として使用する積層型感光層を有する電子写真
感光体については、これまで種々のものが提案されてお
り、そしてその場合使用する結着樹脂についての提案も
なされている。例えば、結着樹脂として、ポリビニルブ
チラール系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポ
リエステル、ポリカーボネート、スチレン−アクリル酸
共重合体等を使用することが知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、フタロ
シアニン顔料は、それを結着樹脂中に分散して使用する
場合、一般に分散性が悪く、また分散液の塗布性も劣
り、そして、形成された感光層は感度特性或いは電荷保
持性に問題があり、さらに、画像上、カブリや黒点等の
欠陥を生じ、十分満足のいく特性のものではなかった。
例えば、クロロガリウムフタロシアニン、チタンオキサ
イドフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニ
ン等は、電荷発生能は優れているが、分散性、塗布性が
悪く、これらを使用して作製された電子写真感光体は、
カブリや黒点等の画像欠陥が多発するという問題があっ
た。本発明は、従来の技術における上記のような問題点
を解決することを目的としてなされたものである。すな
わち、本発明の目的は、高感度特性を有し、電荷保持性
が良好で、画質欠陥の少ない電子写真感光体を提供する
ことにある。
シアニン顔料は、それを結着樹脂中に分散して使用する
場合、一般に分散性が悪く、また分散液の塗布性も劣
り、そして、形成された感光層は感度特性或いは電荷保
持性に問題があり、さらに、画像上、カブリや黒点等の
欠陥を生じ、十分満足のいく特性のものではなかった。
例えば、クロロガリウムフタロシアニン、チタンオキサ
イドフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニ
ン等は、電荷発生能は優れているが、分散性、塗布性が
悪く、これらを使用して作製された電子写真感光体は、
カブリや黒点等の画像欠陥が多発するという問題があっ
た。本発明は、従来の技術における上記のような問題点
を解決することを目的としてなされたものである。すな
わち、本発明の目的は、高感度特性を有し、電荷保持性
が良好で、画質欠陥の少ない電子写真感光体を提供する
ことにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、感
光層における電荷発生材料としてフタロシアニン顔料を
用い、結着樹脂として、無水マレイン酸をモノマー成分
とするビニル共重合体を用いることにより達成すること
ができる。すなわち、本発明の電子写真感光体は、導電
性支持体上に積層型の感光層を有するものであって、そ
の感光層が、電荷発生材料としてフタロシアニン顔料を
含有し、結着樹脂として、無水マレイン酸をモノマー成
分とするビニル共重合体を含有することを特徴とする。
光層における電荷発生材料としてフタロシアニン顔料を
用い、結着樹脂として、無水マレイン酸をモノマー成分
とするビニル共重合体を用いることにより達成すること
ができる。すなわち、本発明の電子写真感光体は、導電
性支持体上に積層型の感光層を有するものであって、そ
の感光層が、電荷発生材料としてフタロシアニン顔料を
含有し、結着樹脂として、無水マレイン酸をモノマー成
分とするビニル共重合体を含有することを特徴とする。
【0005】以下、本発明について詳細に説明する。図
1ないし図4は、本発明の電子写真感光体の模式的断面
図である。図1においては、導電性支持体3上に電荷発
生層1が設けられ、その上に、電荷輸送層2が設けられ
ている。図2においては、導電性支持体3と電荷発生層
1との間に、さらに下引き層4が設けられており、ま
た、図3においては、表面に保護層5が設けられてい
る。また、図4においては、下引き層4と保護層5の両
者が設けられている。
1ないし図4は、本発明の電子写真感光体の模式的断面
図である。図1においては、導電性支持体3上に電荷発
生層1が設けられ、その上に、電荷輸送層2が設けられ
ている。図2においては、導電性支持体3と電荷発生層
1との間に、さらに下引き層4が設けられており、ま
た、図3においては、表面に保護層5が設けられてい
る。また、図4においては、下引き層4と保護層5の両
者が設けられている。
【0006】本発明において、導電性支持体としては、
アルミニウム、ニッケル、クロム、ステンレス鋼等の金
属類、およびアルミニウム、チタニウム、ニッケル、ク
ロム、ステンレス鋼、金、バナジウム、酸化錫、酸化イ
ンジウム、ITO等の薄膜を設けたプラスチックフィル
ム等、或いは導電性付与剤を塗布、または含浸させた紙
およびプラスチックフィルム等があげられる。これらの
導電性支持体は、ドラム状、シート状、プレート状等、
適宜の形状のものとして使用されるが、特に限定される
ものではない。さらに、必要に応じて、導電性支持体の
表面は、画質に影響のない範囲で各種の処理を施すこと
ができる。例えば、表面の酸化処理や薬品処理、および
着色処理等、または砂目立て等の乱反射処理等を行うこ
とができる。
アルミニウム、ニッケル、クロム、ステンレス鋼等の金
属類、およびアルミニウム、チタニウム、ニッケル、ク
ロム、ステンレス鋼、金、バナジウム、酸化錫、酸化イ
ンジウム、ITO等の薄膜を設けたプラスチックフィル
ム等、或いは導電性付与剤を塗布、または含浸させた紙
およびプラスチックフィルム等があげられる。これらの
導電性支持体は、ドラム状、シート状、プレート状等、
適宜の形状のものとして使用されるが、特に限定される
ものではない。さらに、必要に応じて、導電性支持体の
表面は、画質に影響のない範囲で各種の処理を施すこと
ができる。例えば、表面の酸化処理や薬品処理、および
着色処理等、または砂目立て等の乱反射処理等を行うこ
とができる。
【0007】導電性支持体の上には、下引き層を設けて
もよい。下引き層は、積層構造からなる感光層を帯電し
た際に、導電性支持体から感光層への電荷の注入を阻止
すると共に、感光層を導電性支持体に対して、一体的に
接着保持させる接着層としての作用、或いは場合によっ
て導電性支持体の反射光防止作用等を示す。下引き層に
用いる材料としては、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレ
ン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアミド樹
脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、フェノール樹
脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイ
ミド樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリビニルアセタール
樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルア
ルコール樹脂、水溶性ポリエステル樹脂、ニトロセルロ
ース、カゼイン、ゼラチン、ポリグルタミン酸、澱粉、
スターチアセテート、アミノ澱粉、ポリアクリル酸、ポ
リアクリルアミド、ジルコニウムキレート化合物、ジル
コニウムアルコキシド化合物、チタニルキレート化合
物、チタニルアルコキシド化合物、有機チタニル化合
物、シランカップリング剤等の公知の材料があげられ
る。下引き層の膜厚は、0.01〜10μm、好ましく
は0.05〜2μmの範囲である。
もよい。下引き層は、積層構造からなる感光層を帯電し
た際に、導電性支持体から感光層への電荷の注入を阻止
すると共に、感光層を導電性支持体に対して、一体的に
接着保持させる接着層としての作用、或いは場合によっ
て導電性支持体の反射光防止作用等を示す。下引き層に
用いる材料としては、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレ
ン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアミド樹
脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、フェノール樹
脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイ
ミド樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリビニルアセタール
樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルア
ルコール樹脂、水溶性ポリエステル樹脂、ニトロセルロ
ース、カゼイン、ゼラチン、ポリグルタミン酸、澱粉、
スターチアセテート、アミノ澱粉、ポリアクリル酸、ポ
リアクリルアミド、ジルコニウムキレート化合物、ジル
コニウムアルコキシド化合物、チタニルキレート化合
物、チタニルアルコキシド化合物、有機チタニル化合
物、シランカップリング剤等の公知の材料があげられ
る。下引き層の膜厚は、0.01〜10μm、好ましく
は0.05〜2μmの範囲である。
【0008】導電性支持体またはその上の下引き層の上
には電荷発生層が設けられるが、電荷発生層は、電荷発
生材料が結着樹脂中に分散されて構成される。本発明に
おいては、電荷発生材料として、フタロシアニン顔料が
用いられる。具体的には、無金属フタロシアニン、バナ
ジウムフタロシアニン、チタンオキサイドフタロシアニ
ン、クロロインジウムフタロシアニン、ヒドロキシガリ
ウムフタロシアニン、クロロスズフタロシアニン等のフ
タロシアニン結晶が用いられる。
には電荷発生層が設けられるが、電荷発生層は、電荷発
生材料が結着樹脂中に分散されて構成される。本発明に
おいては、電荷発生材料として、フタロシアニン顔料が
用いられる。具体的には、無金属フタロシアニン、バナ
ジウムフタロシアニン、チタンオキサイドフタロシアニ
ン、クロロインジウムフタロシアニン、ヒドロキシガリ
ウムフタロシアニン、クロロスズフタロシアニン等のフ
タロシアニン結晶が用いられる。
【0009】これらフタロシアニン結晶は、公知の方法
で製造されたフタロシアニン化合物を、ボールミル、乳
鉢、サンドミル、ニーダー等を用いて機械的に粉砕する
ことによって製造することができる。粉砕する際には、
食塩、ぼう硝等の磨砕助剤を用いるのが好ましく、それ
によりフタロシアニン化合物を、非常に効率よく、粒径
の整った結晶型のものに転移させることができる。磨砕
助剤は、フタロシアニン化合物に対して0.5〜20
倍、好ましくは1〜10倍の範囲で使用すればよい。粉
砕によって得られたフタロシアニン結晶は、さらに、ト
ルエン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、2−ブ
タノン、フェノール、ベンジルアルコール等の有機溶剤
で処理し、さらに結晶性、粒径を整えることができる。
これらの有機溶剤による処理は、必要に応じてガラスビ
ーズ、スチールビーズ等の磨砕媒体等を用いてミーリン
グしながら行ってもよい。また、公知の方法で製造され
たフタロシアニン化合物について、酸またはアルカリ水
溶液中で加水分解またはアシッドペースティング等の処
理を施してフタロシアニン結晶を製造することもでき
る。なお、アシッドペースティングとは、顔料を90〜
100%の濃硫酸に溶解した溶液を、水、有機溶剤、ま
たは水と有機溶剤との混合物中に滴下して、顔料を析出
する方法であり、溶解時の温度或いは濃度によって、生
成する顔料の特性が異なってくる。通常、顔料の特性に
応じて、30〜50℃の温度、飽和溶解度の1/100
〜9/10の濃度が採用され、本発明においても、これ
らの温度および濃度範囲において、適宜選択して実施す
ることができる。フタロシアニン顔料の粒子サイズは、
0.5μm以下の場合は、結着樹脂への分散が好適に行
われるので好ましい。より好ましくは0.3μm以下、
さらに好ましくは0.15μm以下である。
で製造されたフタロシアニン化合物を、ボールミル、乳
鉢、サンドミル、ニーダー等を用いて機械的に粉砕する
ことによって製造することができる。粉砕する際には、
食塩、ぼう硝等の磨砕助剤を用いるのが好ましく、それ
によりフタロシアニン化合物を、非常に効率よく、粒径
の整った結晶型のものに転移させることができる。磨砕
助剤は、フタロシアニン化合物に対して0.5〜20
倍、好ましくは1〜10倍の範囲で使用すればよい。粉
砕によって得られたフタロシアニン結晶は、さらに、ト
ルエン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、2−ブ
タノン、フェノール、ベンジルアルコール等の有機溶剤
で処理し、さらに結晶性、粒径を整えることができる。
これらの有機溶剤による処理は、必要に応じてガラスビ
ーズ、スチールビーズ等の磨砕媒体等を用いてミーリン
グしながら行ってもよい。また、公知の方法で製造され
たフタロシアニン化合物について、酸またはアルカリ水
溶液中で加水分解またはアシッドペースティング等の処
理を施してフタロシアニン結晶を製造することもでき
る。なお、アシッドペースティングとは、顔料を90〜
100%の濃硫酸に溶解した溶液を、水、有機溶剤、ま
たは水と有機溶剤との混合物中に滴下して、顔料を析出
する方法であり、溶解時の温度或いは濃度によって、生
成する顔料の特性が異なってくる。通常、顔料の特性に
応じて、30〜50℃の温度、飽和溶解度の1/100
〜9/10の濃度が採用され、本発明においても、これ
らの温度および濃度範囲において、適宜選択して実施す
ることができる。フタロシアニン顔料の粒子サイズは、
0.5μm以下の場合は、結着樹脂への分散が好適に行
われるので好ましい。より好ましくは0.3μm以下、
さらに好ましくは0.15μm以下である。
【0010】本発明において、電荷発生層における結着
樹脂は、無水マレイン酸をモノマー成分とするビニル共
重合体が使用されるが、好ましくは、下記式(I)で示
される共重合体をあげることができる。
樹脂は、無水マレイン酸をモノマー成分とするビニル共
重合体が使用されるが、好ましくは、下記式(I)で示
される共重合体をあげることができる。
【化1】 (式中、R1 およびR2 は、互いに異なるものであっ
て、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ア
ルコシキ基、アシロキシ基またはアリール基を表し、
k、mおよびnはモル比であって、k=0.05〜0.
4、m=0.6〜0.95、nは0〜0.15であ
る。)
て、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ア
ルコシキ基、アシロキシ基またはアリール基を表し、
k、mおよびnはモル比であって、k=0.05〜0.
4、m=0.6〜0.95、nは0〜0.15であ
る。)
【0011】上記式(I)で示されるビニル共重合体の
具体例としては、R1 およびR2 が、下記表1に示す基
を表すものをあげることができる。
具体例としては、R1 およびR2 が、下記表1に示す基
を表すものをあげることができる。
【表1】 上記式(I)で示されるビニル共重合体は、重量平均分
子量300〜80000の範囲のものから適宜選択して
使用することができる。また、同種の単量体よるなるが
分子量の異なる2種以上のビニル共重合体を混合して用
いることもできる。上記式(I)で示されるビニル共重
合体のうち、特に好ましいものはスチレン−無水マレイ
ン酸共重合体、塩化ビニル−無水マレイン酸共重合体、
酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、ビニルエーテル
−無水マレイン酸共重合体等があげられ、これらのもの
は電荷発生材料の分散を良好に保つことができる。
子量300〜80000の範囲のものから適宜選択して
使用することができる。また、同種の単量体よるなるが
分子量の異なる2種以上のビニル共重合体を混合して用
いることもできる。上記式(I)で示されるビニル共重
合体のうち、特に好ましいものはスチレン−無水マレイ
ン酸共重合体、塩化ビニル−無水マレイン酸共重合体、
酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、ビニルエーテル
−無水マレイン酸共重合体等があげられ、これらのもの
は電荷発生材料の分散を良好に保つことができる。
【0012】フタロシアニン顔料と結着樹脂との配合比
は、10:1〜1:10(重量比)の範囲が好ましい。
フタロシアニン顔料を結着樹脂中に分散させる方法とし
ては、ボールミル分散法、アトライター分散法、サンド
ミル分散法、ダイノ−ミル分散法、ペイントシェーカー
による方法等、通常使用している方法を用いることがで
きるが、その際、分散によってフタロシアニン顔料の結
晶型が変化しないような条件で行うことが必要である。
ちなみに、本発明において実施する上記の分散法は、い
ずれも分散前と分散後では結晶型が変化していないこと
が確認されている。また、分散処理時間についても、1
0分から50時間の範囲で、分散状態、異物の混入度等
を考慮しながら適当な時間を選択する必要がある。な
お、分散方法によっては、異物が混入する場合がある
が、その場合には、遠心分離、磁気処理、濾過等によっ
て異物を除去することが必要になる。上記分散処理に際
して使用する溶剤としては、メタノール、エタノール、
n−プロパノール、n−ブタノール、ベンジルアルコー
ル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、アセトン、
2−ブタノン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸n
−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレン
クロライド、クロロホルム、キシレン、トルエン、モノ
クロロベンゼン等の有機溶剤があげられ、これらは単独
或いは2種以上混合して用いることができる。
は、10:1〜1:10(重量比)の範囲が好ましい。
フタロシアニン顔料を結着樹脂中に分散させる方法とし
ては、ボールミル分散法、アトライター分散法、サンド
ミル分散法、ダイノ−ミル分散法、ペイントシェーカー
による方法等、通常使用している方法を用いることがで
きるが、その際、分散によってフタロシアニン顔料の結
晶型が変化しないような条件で行うことが必要である。
ちなみに、本発明において実施する上記の分散法は、い
ずれも分散前と分散後では結晶型が変化していないこと
が確認されている。また、分散処理時間についても、1
0分から50時間の範囲で、分散状態、異物の混入度等
を考慮しながら適当な時間を選択する必要がある。な
お、分散方法によっては、異物が混入する場合がある
が、その場合には、遠心分離、磁気処理、濾過等によっ
て異物を除去することが必要になる。上記分散処理に際
して使用する溶剤としては、メタノール、エタノール、
n−プロパノール、n−ブタノール、ベンジルアルコー
ル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、アセトン、
2−ブタノン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸n
−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレン
クロライド、クロロホルム、キシレン、トルエン、モノ
クロロベンゼン等の有機溶剤があげられ、これらは単独
或いは2種以上混合して用いることができる。
【0013】電荷発生層の膜厚は、一般には0.1〜5
μm、好ましくは0.2〜2μmの範囲に設定される。
また、電荷発生層を設ける際の塗布方法としては、ブレ
ードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、ビ
ードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カ
ーテンコーティング法等、通常採用される方法が使用で
きる。
μm、好ましくは0.2〜2μmの範囲に設定される。
また、電荷発生層を設ける際の塗布方法としては、ブレ
ードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、ビ
ードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カ
ーテンコーティング法等、通常採用される方法が使用で
きる。
【0014】電荷輸送層は、電荷輸送材料を適当な結着
樹脂中に含有させて形成される。電荷輸送材料として
は、2,5−ビス(p−ジエチルアミノフェニル)−
1,3,4−オキサジアゾール等のオキサジアゾール誘
導体、1、3、5−トリフェニルピラゾリン、1−[ピ
リジル−(2)]−3−(p−ジエチルアミノスチリ
ル)−5−(p−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン
等のピラゾリン誘導体、トリフェニルアミン、ジベンジ
ルアニリン等の芳香族第3級アミノ化合物、N,N′−
ジフェニル−N,N′−ビス(3−メチルフェニル)−
[1,1′−ビフェニル]−4,4′−ジアミン等の芳
香族第3級ジアミノ化合物、3−(4′−ジエチルアミ
ノフェニル)−5,6−ジ(4′−メトキシフェニル)
−1,2,4−トリアジン誘導体、4−ジエチルアミノ
ベンズアルデヒド−1,1′−ジフェニルヒドラゾン等
のヒドラゾン誘導体、2−フェニル−4−スチリルキナ
ゾリン等のキナゾリン誘導体、6−ヒドロキシ−2,3
−ジ(p−メトキシフェニル)ベンゾフラン等のベンゾ
フラン誘導体、p−(2,2′−ジフェニルビニル)−
N,N−ジフェニルアニリン等のα−スチルベン誘導
体、「Journal of imaging Science」29:7−10(1985)
に記載されているエナミン誘導体、N−エチルカルバゾ
ール、ポリ−N−ビニルカルバゾールおよびその誘導
体、ポリ−γ−カルバゾールエチルグルタメートおよび
その誘導体、さらにはピレン、ポリビニルピレン、ポリ
ビニルアントラセン、ポリビニルアクリジン、ポリ−9
−ビフェニルアントラセン、ピレン−ホルムアルデヒド
樹脂、エチルカルバゾール−ホルムアルデヒド樹脂等の
公知の電荷輸送材料を用いることができるが、これらに
限定されるものではない。これら電荷輸送材料は単独或
いは2種以上混合して用いることができる。
樹脂中に含有させて形成される。電荷輸送材料として
は、2,5−ビス(p−ジエチルアミノフェニル)−
1,3,4−オキサジアゾール等のオキサジアゾール誘
導体、1、3、5−トリフェニルピラゾリン、1−[ピ
リジル−(2)]−3−(p−ジエチルアミノスチリ
ル)−5−(p−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン
等のピラゾリン誘導体、トリフェニルアミン、ジベンジ
ルアニリン等の芳香族第3級アミノ化合物、N,N′−
ジフェニル−N,N′−ビス(3−メチルフェニル)−
[1,1′−ビフェニル]−4,4′−ジアミン等の芳
香族第3級ジアミノ化合物、3−(4′−ジエチルアミ
ノフェニル)−5,6−ジ(4′−メトキシフェニル)
−1,2,4−トリアジン誘導体、4−ジエチルアミノ
ベンズアルデヒド−1,1′−ジフェニルヒドラゾン等
のヒドラゾン誘導体、2−フェニル−4−スチリルキナ
ゾリン等のキナゾリン誘導体、6−ヒドロキシ−2,3
−ジ(p−メトキシフェニル)ベンゾフラン等のベンゾ
フラン誘導体、p−(2,2′−ジフェニルビニル)−
N,N−ジフェニルアニリン等のα−スチルベン誘導
体、「Journal of imaging Science」29:7−10(1985)
に記載されているエナミン誘導体、N−エチルカルバゾ
ール、ポリ−N−ビニルカルバゾールおよびその誘導
体、ポリ−γ−カルバゾールエチルグルタメートおよび
その誘導体、さらにはピレン、ポリビニルピレン、ポリ
ビニルアントラセン、ポリビニルアクリジン、ポリ−9
−ビフェニルアントラセン、ピレン−ホルムアルデヒド
樹脂、エチルカルバゾール−ホルムアルデヒド樹脂等の
公知の電荷輸送材料を用いることができるが、これらに
限定されるものではない。これら電荷輸送材料は単独或
いは2種以上混合して用いることができる。
【0015】電荷輸送層に用いる結着樹脂としては、ポ
リカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹
脂、メタクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビ
ニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセター
ル樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデ
ン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸
共重合体、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹
脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−ア
ルキッド樹脂等、公知の樹脂を用いることができる。こ
れらの結着樹脂は単独で或いは2種以上のものを混合し
て用いることができる。
リカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹
脂、メタクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビ
ニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセター
ル樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデ
ン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸
共重合体、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹
脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−ア
ルキッド樹脂等、公知の樹脂を用いることができる。こ
れらの結着樹脂は単独で或いは2種以上のものを混合し
て用いることができる。
【0016】電荷輸送材料と結着樹脂との配合比は、1
0:1〜1:5(重量比)の範囲が好ましい。電荷輸送
層を形成する際に用いる溶剤としては、ベンゼン、トル
エン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素
類、アセトン、2−ブタノン等のケトン類、メチレンク
ロライド、クロロホルム等のハロゲン化脂肪族炭化水素
類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状また
は直鎖状エーテル類等があげられ、これらは単独で或い
は2種以上混合して用いることができる。電荷輸送層の
膜厚は、一般には5〜50μm、好ましくは10〜30
μmの範囲に設定される。また、電荷輸送層を設ける際
の塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤ
ーバーコーティング法、ビードコーティング法、エアー
ナイフコーティング法、カーテンコーティング法等、通
常採用される方法が使用できる。
0:1〜1:5(重量比)の範囲が好ましい。電荷輸送
層を形成する際に用いる溶剤としては、ベンゼン、トル
エン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素
類、アセトン、2−ブタノン等のケトン類、メチレンク
ロライド、クロロホルム等のハロゲン化脂肪族炭化水素
類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状また
は直鎖状エーテル類等があげられ、これらは単独で或い
は2種以上混合して用いることができる。電荷輸送層の
膜厚は、一般には5〜50μm、好ましくは10〜30
μmの範囲に設定される。また、電荷輸送層を設ける際
の塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤ
ーバーコーティング法、ビードコーティング法、エアー
ナイフコーティング法、カーテンコーティング法等、通
常採用される方法が使用できる。
【0017】また、電荷発生層または電荷輸送層には、
複写機中で発生するオゾンや酸化性ガス、或いは光、熱
による感光体の劣化を防止する目的で、酸化防止剤、光
安定剤、熱安定剤等の添加剤を含有させることができ
る。例えば、酸化防止剤としては、ヒンダードフェノー
ル、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリ
ールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピ
ロインダノンおよびそれらの誘導体、有機硫黄化合物、
有機燐化合物等があげられる。光安定剤の例としては、
ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、ジチオカルバメ
ート、テトラメチルピペリジン等があげられる。また、
感度の向上、残留電位の低減、繰り返し使用時の疲労低
減等の目的で、1種以上の電子受容性物質を含有させる
こともできる。使用可能な電子受容性物質としては、例
えば、無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マ
レイン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、
テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、o
−ジニトロベンゼン、m−ジニトロベンゼン、クロラニ
ル、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノ
ン、ピクリン酸、o−ニトロ安息香酸、p−ニトロ安息
香酸、フタル酸等があげられる。これらの中でも、フル
オレノン系、キノン系のものや、Cl,CN,NO2 等
の電子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特に好ま
しい。
複写機中で発生するオゾンや酸化性ガス、或いは光、熱
による感光体の劣化を防止する目的で、酸化防止剤、光
安定剤、熱安定剤等の添加剤を含有させることができ
る。例えば、酸化防止剤としては、ヒンダードフェノー
ル、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリ
ールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピ
ロインダノンおよびそれらの誘導体、有機硫黄化合物、
有機燐化合物等があげられる。光安定剤の例としては、
ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、ジチオカルバメ
ート、テトラメチルピペリジン等があげられる。また、
感度の向上、残留電位の低減、繰り返し使用時の疲労低
減等の目的で、1種以上の電子受容性物質を含有させる
こともできる。使用可能な電子受容性物質としては、例
えば、無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マ
レイン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、
テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、o
−ジニトロベンゼン、m−ジニトロベンゼン、クロラニ
ル、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノ
ン、ピクリン酸、o−ニトロ安息香酸、p−ニトロ安息
香酸、フタル酸等があげられる。これらの中でも、フル
オレノン系、キノン系のものや、Cl,CN,NO2 等
の電子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特に好ま
しい。
【0018】本発明の電子写真感光体においては、さら
に必要に応じて電荷輸送層の上に保護層を設けてもよ
い。保護層は、積層構造からなる感光層の帯電時におけ
る電荷輸送層の化学的変質を防止すると共に、感光層の
機械的強度を改善する作用をする。保護層は、導電性材
料を適当な結着樹脂中に含有させることによって形成さ
れる。導電性材料としては、N,N′−ジメチルフェロ
セン等のメタロセン化合物、N,N′−ジフェニル−
N,N′−ビス(3−メチルフェニル)−[1,1′−
ビフェニル]−4,4′−ジアミン等の芳香族アミン化
合物、酸化アンチモン、酸化錫、酸化チタン、酸化イン
ジウム、酸化スズ−酸化アンチモン等の金属酸化物等の
材料を用いることができる。また、保護層に用いる結着
樹脂としては、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポ
リエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリケトン樹脂、ポリ
カーボネート樹脂、ポリビニルケトン樹脂、ポリスチレ
ン樹脂、ポリアクリルアミド樹脂等の公知の樹脂を用い
ることができる。保護層は、その電気抵抗が109 〜1
014Ω・cmになるように構成するのが好ましい。電気
抵抗が1014Ω・cmよりも高くなると、残留電位が上
昇し、カブリの多い複写物が形成される。また、109
Ω・cmよりも低くなると、画像ボケ、解像力の低下が
生じるようになる。また、保護層は、像露光に用いる光
の透過を実質的に妨げないように構成する必要がある。
保護層の膜厚は、0.5〜20μm、好ましくは1〜1
0μmの範囲に設定される。
に必要に応じて電荷輸送層の上に保護層を設けてもよ
い。保護層は、積層構造からなる感光層の帯電時におけ
る電荷輸送層の化学的変質を防止すると共に、感光層の
機械的強度を改善する作用をする。保護層は、導電性材
料を適当な結着樹脂中に含有させることによって形成さ
れる。導電性材料としては、N,N′−ジメチルフェロ
セン等のメタロセン化合物、N,N′−ジフェニル−
N,N′−ビス(3−メチルフェニル)−[1,1′−
ビフェニル]−4,4′−ジアミン等の芳香族アミン化
合物、酸化アンチモン、酸化錫、酸化チタン、酸化イン
ジウム、酸化スズ−酸化アンチモン等の金属酸化物等の
材料を用いることができる。また、保護層に用いる結着
樹脂としては、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポ
リエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリケトン樹脂、ポリ
カーボネート樹脂、ポリビニルケトン樹脂、ポリスチレ
ン樹脂、ポリアクリルアミド樹脂等の公知の樹脂を用い
ることができる。保護層は、その電気抵抗が109 〜1
014Ω・cmになるように構成するのが好ましい。電気
抵抗が1014Ω・cmよりも高くなると、残留電位が上
昇し、カブリの多い複写物が形成される。また、109
Ω・cmよりも低くなると、画像ボケ、解像力の低下が
生じるようになる。また、保護層は、像露光に用いる光
の透過を実質的に妨げないように構成する必要がある。
保護層の膜厚は、0.5〜20μm、好ましくは1〜1
0μmの範囲に設定される。
【0019】
【作用】本発明の電子写真感光体の電荷発生層におい
て、電荷発生材料の結着樹脂として、無水マレイン酸を
モノマー成分とするビニル共重合体を使用するが、この
ビニル共重合体はフタロシアニン顔料への吸着状態が良
好であり、その結果、塗布液でのフタロシアニン顔料の
分散安定性が良好になり、経時においても良好な分散状
態が保持できるようになる。特にスチレン或いはビニル
エーテルをモノマー成分として含む共重合体を用いる場
合には、電荷移動錯体が生じる場合があり、これらが電
子写真特性を改善するように作用する。したがって、形
成される電子写真感光体は、優れた電気的特性を有し、
良質な画質の画像を形成するようになる。
て、電荷発生材料の結着樹脂として、無水マレイン酸を
モノマー成分とするビニル共重合体を使用するが、この
ビニル共重合体はフタロシアニン顔料への吸着状態が良
好であり、その結果、塗布液でのフタロシアニン顔料の
分散安定性が良好になり、経時においても良好な分散状
態が保持できるようになる。特にスチレン或いはビニル
エーテルをモノマー成分として含む共重合体を用いる場
合には、電荷移動錯体が生じる場合があり、これらが電
子写真特性を改善するように作用する。したがって、形
成される電子写真感光体は、優れた電気的特性を有し、
良質な画質の画像を形成するようになる。
【0020】
【実施例】以下、本発明を実施例によって説明する。な
お、実施例中「部」は、全て「重量部」を意味する。 実施例1 アルミニウム基板(1mm×40mmφ×310mm)
上に、ジルコニウム化合物(オルガチックスZC54
0、マツモト製薬社製)10部およびシラン(A111
0、日本ユニカー社製)1部と、i−プロパノール40
部およびブタノール20部とよりなる溶液を、浸漬塗布
法によって塗布し、120℃において10分間加熱乾燥
し、膜厚0.1μmの下引き層を形成した。次に、ヒド
ロキシガリウムフタロシアニン結晶l部を、例示樹脂N
o.4のビニル共重合体(Mw=20,000、k=
0.1、m=0.9)1部を含む10部のモノクロロベ
ンゼンに溶解した溶液に添加し、ガラスビーズと共にサ
ンドミルで12時間分散処理した。得られた分散液につ
いて、遠心分離(10000G×30分間)を行い、分
散中に混入した鉄、クロム、ニッケル、および原料中に
含まれているAl、Ca、Si等の重い成分を除去した
後、浸漬塗布に適する濃度である約3%になるように、
トルエン/テトラヒドロフラン(1:1)混合溶剤で希
釈し、濾過精度3μmのピュアセルロースフィルター
(ポールセルDC、ポース社製)によって濾過を行っ
た。得られた塗布液を、上記のようにして形成された下
引き層の上に浸漬塗布法によって塗布し、100℃にお
いて10分間加熱乾燥し、膜厚0.10μmの電荷発生
層を形成した。なお、X線回折によって、分散後のヒロ
ドキシガリウムフタロシアニン結晶の結晶型は、分散前
の結晶型から変化していないことを確認した。また、塗
布液中のヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶の平均
粒径をレーザー散乱光型分布計(LA700、堀場製作
所製)で測定したところ、0.25μmであった。次
に、下記構造式(1)で示される化合物8部と、下記構
造式(2)で示される化合物2部と、下記式(3)で示
される構造単位から構成されるポリ(4,4′−シクロ
ヘキシリデンジフェニレンカーボネート)10部とを、
モノクロロベンゼン80部に溶解し、得られた塗布液
を、電荷発生層の上に浸漬塗布法によって塗布し、12
0℃において1時間加熱乾燥して、膜厚20μmの電荷
輸送層を形成した。
お、実施例中「部」は、全て「重量部」を意味する。 実施例1 アルミニウム基板(1mm×40mmφ×310mm)
上に、ジルコニウム化合物(オルガチックスZC54
0、マツモト製薬社製)10部およびシラン(A111
0、日本ユニカー社製)1部と、i−プロパノール40
部およびブタノール20部とよりなる溶液を、浸漬塗布
法によって塗布し、120℃において10分間加熱乾燥
し、膜厚0.1μmの下引き層を形成した。次に、ヒド
ロキシガリウムフタロシアニン結晶l部を、例示樹脂N
o.4のビニル共重合体(Mw=20,000、k=
0.1、m=0.9)1部を含む10部のモノクロロベ
ンゼンに溶解した溶液に添加し、ガラスビーズと共にサ
ンドミルで12時間分散処理した。得られた分散液につ
いて、遠心分離(10000G×30分間)を行い、分
散中に混入した鉄、クロム、ニッケル、および原料中に
含まれているAl、Ca、Si等の重い成分を除去した
後、浸漬塗布に適する濃度である約3%になるように、
トルエン/テトラヒドロフラン(1:1)混合溶剤で希
釈し、濾過精度3μmのピュアセルロースフィルター
(ポールセルDC、ポース社製)によって濾過を行っ
た。得られた塗布液を、上記のようにして形成された下
引き層の上に浸漬塗布法によって塗布し、100℃にお
いて10分間加熱乾燥し、膜厚0.10μmの電荷発生
層を形成した。なお、X線回折によって、分散後のヒロ
ドキシガリウムフタロシアニン結晶の結晶型は、分散前
の結晶型から変化していないことを確認した。また、塗
布液中のヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶の平均
粒径をレーザー散乱光型分布計(LA700、堀場製作
所製)で測定したところ、0.25μmであった。次
に、下記構造式(1)で示される化合物8部と、下記構
造式(2)で示される化合物2部と、下記式(3)で示
される構造単位から構成されるポリ(4,4′−シクロ
ヘキシリデンジフェニレンカーボネート)10部とを、
モノクロロベンゼン80部に溶解し、得られた塗布液
を、電荷発生層の上に浸漬塗布法によって塗布し、12
0℃において1時間加熱乾燥して、膜厚20μmの電荷
輸送層を形成した。
【0021】
【化2】
【0022】このようにして得られた電子写真感光体
を、レーザープリンター改造スキャナ−(XP−11改
造機、富士ゼロックス社製)を用いて、常温常湿(20
℃、40%RH)下で、グリッド印加電圧−700Vの
スコロトロン帯電器で帯電し(A)、780nmの半導
体レーザーを用いて、1秒後に7.0erg/cm2 の
光を照射して放電を行い(B)、さらに3秒後に50e
rg/cm2 の赤色KED光を照射して除電を行う
(C)の3つの工程を含むプロセスによって、各部の電
位[(VH )、(VL )および(VRP)]を測定した。
また、この測定を、低温低湿(10℃、15%RH)お
よび高温高湿(28℃、85%RH)の各環境下でも行
い、3環境間での各電位の変動量を測定して環境安定性
評価を行った。この電子写真感光体をレーザープリンタ
ー(XP−11、富士セロックス社製)に装着し、高温
高湿(28℃、85%RH)下で10000枚の耐久試
験を行い、画質評価を行った。また、上記の電荷発生層
形成用塗布液を、塗布液作製後30日間放置し、同様に
して電子写真感光体を作製し、同様のテストを行った。
これらの結果を表2に示す。
を、レーザープリンター改造スキャナ−(XP−11改
造機、富士ゼロックス社製)を用いて、常温常湿(20
℃、40%RH)下で、グリッド印加電圧−700Vの
スコロトロン帯電器で帯電し(A)、780nmの半導
体レーザーを用いて、1秒後に7.0erg/cm2 の
光を照射して放電を行い(B)、さらに3秒後に50e
rg/cm2 の赤色KED光を照射して除電を行う
(C)の3つの工程を含むプロセスによって、各部の電
位[(VH )、(VL )および(VRP)]を測定した。
また、この測定を、低温低湿(10℃、15%RH)お
よび高温高湿(28℃、85%RH)の各環境下でも行
い、3環境間での各電位の変動量を測定して環境安定性
評価を行った。この電子写真感光体をレーザープリンタ
ー(XP−11、富士セロックス社製)に装着し、高温
高湿(28℃、85%RH)下で10000枚の耐久試
験を行い、画質評価を行った。また、上記の電荷発生層
形成用塗布液を、塗布液作製後30日間放置し、同様に
して電子写真感光体を作製し、同様のテストを行った。
これらの結果を表2に示す。
【0023】実施例2 実施例1と同様にして、アルミニウム基板(1mm×4
0mmφ×310mm)上に下引き層を形成した。次
に、X線回折によってブラック角度(2θ±0.2°)
の少なくとも27.3°に強いピークを有するチタンオ
キサイドフタロシアニンl部を、前記例示樹脂No.8
のビニル共重合体(Mw=45,000、k=0.1、
m=0.8、n=0.1)1部を含む10部の酢酸i−
アミルに溶解した溶液に添加し、低アルカリガラスビー
ズと共にダイノーミルで15時間分散処理した。得られ
た分散液を、遠心分離(15000G×30分間)を行
い、分散中に混入した鉄、クロム、ニッケル、および原
料中に含まれているAl、Ti、Si等の重い成分を除
去した後、浸漬塗布に適する濃度である約5.8%にな
るように、モノクロロベンゼンで希釈し、濾過精度10
μmのメンブランフィルターによって濾過を行った。得
られた塗布液を、上記下引き層の上に浸漬塗布法によっ
て塗布し、180℃において15分間加熱乾燥し、膜厚
0.20μmの電荷発生層を形成した。なお、X線回折
によって、分散後のチタンオキサイドフタロシアニン結
晶の結晶型は、分散前の結晶型から変化していないこと
を確認した。また、塗布液中のチタンオキサイドフタロ
シアニン結晶の平均粒径を実施例1と同様に測定したと
ころ、0.20μmであった。次に、実施例1と同様に
して、電荷輸送層を電荷発生層の上に形成し、電子写真
感光体を作製した。この電子写真感光体について、実施
例1と同様に測定して評価を行った。その結果を後記表
2に示す。
0mmφ×310mm)上に下引き層を形成した。次
に、X線回折によってブラック角度(2θ±0.2°)
の少なくとも27.3°に強いピークを有するチタンオ
キサイドフタロシアニンl部を、前記例示樹脂No.8
のビニル共重合体(Mw=45,000、k=0.1、
m=0.8、n=0.1)1部を含む10部の酢酸i−
アミルに溶解した溶液に添加し、低アルカリガラスビー
ズと共にダイノーミルで15時間分散処理した。得られ
た分散液を、遠心分離(15000G×30分間)を行
い、分散中に混入した鉄、クロム、ニッケル、および原
料中に含まれているAl、Ti、Si等の重い成分を除
去した後、浸漬塗布に適する濃度である約5.8%にな
るように、モノクロロベンゼンで希釈し、濾過精度10
μmのメンブランフィルターによって濾過を行った。得
られた塗布液を、上記下引き層の上に浸漬塗布法によっ
て塗布し、180℃において15分間加熱乾燥し、膜厚
0.20μmの電荷発生層を形成した。なお、X線回折
によって、分散後のチタンオキサイドフタロシアニン結
晶の結晶型は、分散前の結晶型から変化していないこと
を確認した。また、塗布液中のチタンオキサイドフタロ
シアニン結晶の平均粒径を実施例1と同様に測定したと
ころ、0.20μmであった。次に、実施例1と同様に
して、電荷輸送層を電荷発生層の上に形成し、電子写真
感光体を作製した。この電子写真感光体について、実施
例1と同様に測定して評価を行った。その結果を後記表
2に示す。
【0024】実施例3 実施例1と同様にして、アルミニウム基板(1mm×4
0mmφ×310mm)上に下引き層を形成した。次
に、X線回折によってブラック角度(2θ±0.2°)
の少なくとも7.4°、16.6°、25.5°、2
8.3°に強いピークを有するクロロガリウムフタロシ
アニン結晶l部を、前記例示樹脂No.1のビニル共重
合体(Mw=10,000、k=0.3、m=0.7、
n=0)1部を含む10部の酢酸ブチルに溶解した溶液
に添加し、低アルカリガラスビーズと共にダイノーミル
で8時間分散処理した。得られた分散液を、遠心分離
(7000G×30分間)を行い、分散中に混入した
鉄、クロム、ニッケル、および原料中に含まれているA
l、Ca、Si等の重い成分を除去した後、浸漬塗布に
適する濃度である約4.8%になるように、キシレンで
希釈し、濾過精度13μmのピュアセルロースフィルタ
ー(ポールセルDC、ポール社製)によって濾過を行っ
た。得られた塗布液を、上記下引き層の上に浸漬塗布法
によって塗布し、100℃において10分間加熱乾燥
し、膜厚0.15μmの電荷発生層を形成した。なお、
X線回折によって、分散後のクロロガリウムフタロシア
ニン結晶の結晶型は、分散前の結晶型から変化していな
いことを確認した。また、塗布液中のクロロガリウムフ
タロシアニン結晶の平均粒径を実施例1と同様に測定し
たところ、0.22μmであった。次に、実施例1と同
様にして、電荷輸送層を電荷発生層の上に形成し、電子
写真感光体を作製した。この電子写真感光体について、
実施例1と同様に測定して評価を行った。その結果を後
記表2に示す。
0mmφ×310mm)上に下引き層を形成した。次
に、X線回折によってブラック角度(2θ±0.2°)
の少なくとも7.4°、16.6°、25.5°、2
8.3°に強いピークを有するクロロガリウムフタロシ
アニン結晶l部を、前記例示樹脂No.1のビニル共重
合体(Mw=10,000、k=0.3、m=0.7、
n=0)1部を含む10部の酢酸ブチルに溶解した溶液
に添加し、低アルカリガラスビーズと共にダイノーミル
で8時間分散処理した。得られた分散液を、遠心分離
(7000G×30分間)を行い、分散中に混入した
鉄、クロム、ニッケル、および原料中に含まれているA
l、Ca、Si等の重い成分を除去した後、浸漬塗布に
適する濃度である約4.8%になるように、キシレンで
希釈し、濾過精度13μmのピュアセルロースフィルタ
ー(ポールセルDC、ポール社製)によって濾過を行っ
た。得られた塗布液を、上記下引き層の上に浸漬塗布法
によって塗布し、100℃において10分間加熱乾燥
し、膜厚0.15μmの電荷発生層を形成した。なお、
X線回折によって、分散後のクロロガリウムフタロシア
ニン結晶の結晶型は、分散前の結晶型から変化していな
いことを確認した。また、塗布液中のクロロガリウムフ
タロシアニン結晶の平均粒径を実施例1と同様に測定し
たところ、0.22μmであった。次に、実施例1と同
様にして、電荷輸送層を電荷発生層の上に形成し、電子
写真感光体を作製した。この電子写真感光体について、
実施例1と同様に測定して評価を行った。その結果を後
記表2に示す。
【0025】比較例1 実施例1における例示樹脂No.4のビニル樹脂の代わ
りに塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体(商品名:VMC
H、ユニオンカーバイド社製、Mw=38,000、共
重合比:86wt%、13wt%、1wt%)を用いた
以外は、実施例1と同様にして電子写真感光体を作製
し、同様に測定して評価を行った。その結果を後記表2
に示す。なお、電荷発生層形成用塗布液中のヒドロキシ
ガリウムフタロシアニン結晶の平均粒径は、0.66μ
mであった。
りに塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体(商品名:VMC
H、ユニオンカーバイド社製、Mw=38,000、共
重合比:86wt%、13wt%、1wt%)を用いた
以外は、実施例1と同様にして電子写真感光体を作製
し、同様に測定して評価を行った。その結果を後記表2
に示す。なお、電荷発生層形成用塗布液中のヒドロキシ
ガリウムフタロシアニン結晶の平均粒径は、0.66μ
mであった。
【0026】比較例2 実施例2における例示樹脂No.8のビニル樹脂の代わ
りに塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体(商品名:VMC
H、ユニオンカーバイド社製、Mw=38,000、共
重合比:86wt%、13wt%、1wt%)を用いた
以外は、実施例2と同様にして電子写真感光体を作製
し、同様に測定して評価を行った。その結果を後記表2
に示す。なお、電荷発生層形成用塗布液中のチタンオキ
サイドフタロシアニン結晶の平均粒径は、0.49μm
であった。
りに塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体(商品名:VMC
H、ユニオンカーバイド社製、Mw=38,000、共
重合比:86wt%、13wt%、1wt%)を用いた
以外は、実施例2と同様にして電子写真感光体を作製
し、同様に測定して評価を行った。その結果を後記表2
に示す。なお、電荷発生層形成用塗布液中のチタンオキ
サイドフタロシアニン結晶の平均粒径は、0.49μm
であった。
【0027】比較例3 実施例3における例示樹脂No.1のビニル樹脂の代わ
りに塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体(商品名:VMC
H、ユニオンカーバイド社製、Mw=38,000、共
重合比:86wt%、13wt%、1wt%)を用いた
以外は、実施例3と同様にして電子写真感光体を作製
し、同様に測定して評価を行った。その結果を後記表2
に示す。なお、電荷発生層形成用塗布液中のクロロガリ
ウムフタロシアニン結晶の平均粒径は、0.81μmで
あった。
りに塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体(商品名:VMC
H、ユニオンカーバイド社製、Mw=38,000、共
重合比:86wt%、13wt%、1wt%)を用いた
以外は、実施例3と同様にして電子写真感光体を作製
し、同様に測定して評価を行った。その結果を後記表2
に示す。なお、電荷発生層形成用塗布液中のクロロガリ
ウムフタロシアニン結晶の平均粒径は、0.81μmで
あった。
【0028】
【表2】
【0029】
【発明の効果】本発明は、上記実施例および比較例の比
較からも明らかなように、電荷発生層形成用塗布液中の
フタロシアニン顔料の分散安定性が優れており、作製さ
れた電子写真感光体は、感度が高く、残留電位が低く、
環境安定性および繰り返し安定性が優れている。したが
って、繰り返し使用に際して、黒点、カブリ等の画質欠
陥を生じることがなく、優れた画質のコピー画像を長期
間にわたって得ることができる。
較からも明らかなように、電荷発生層形成用塗布液中の
フタロシアニン顔料の分散安定性が優れており、作製さ
れた電子写真感光体は、感度が高く、残留電位が低く、
環境安定性および繰り返し安定性が優れている。したが
って、繰り返し使用に際して、黒点、カブリ等の画質欠
陥を生じることがなく、優れた画質のコピー画像を長期
間にわたって得ることができる。
【図1】 本発明の電子写真感光体の一例の模式的断面
図である。
図である。
【図2】 本発明の電子写真感光体の一例の模式的断面
図である。
図である。
【図3】 本発明の電子写真感光体の一例の模式的断面
図である。
図である。
【図4】 本発明の電子写真感光体の一例の模式的断面
図である。
図である。
1…電荷発生層、2…電荷輸送層、3…導電性支持体、
4…下引き層、5…保護層。
4…下引き層、5…保護層。
フロントページの続き (72)発明者 鷲野 滋基 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ックス株式会社竹松事業所内 (72)発明者 竹本 誠 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ックス株式会社竹松事業所内 (72)発明者 村瀬 正典 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ックス株式会社竹松事業所内 (72)発明者 白井 正治 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ックス株式会社竹松事業所内
Claims (4)
- 【請求項1】 導電性支持体上に積層型の感光層を有す
る電子写真感光体において、該感光層が、電荷発生材料
としてフタロシアニン顔料を含有し、結着樹脂として、
無水マレイン酸をモノマー成分とするビニル共重合体を
含有することを特徴とする電子写真感光体。 - 【請求項2】 フタロシアニン顔料が、クロロガリウム
フタロシアニンである請求項1記載の電子写真感光体。 - 【請求項3】 フタロシアニン顔料が、ヒドロキシガリ
ウムフタロシアニンである請求項1記載の電子写真感光
体。 - 【請求項4】 フタロシアニン顔料が、チタンオキサイ
ドフタロシアニンである請求項1記載の電子写真感光
体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4217526A JP2797852B2 (ja) | 1992-07-24 | 1992-07-24 | 電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4217526A JP2797852B2 (ja) | 1992-07-24 | 1992-07-24 | 電子写真感光体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0643671A true JPH0643671A (ja) | 1994-02-18 |
| JP2797852B2 JP2797852B2 (ja) | 1998-09-17 |
Family
ID=16705630
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4217526A Expired - Fee Related JP2797852B2 (ja) | 1992-07-24 | 1992-07-24 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2797852B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003107760A (ja) * | 2001-09-28 | 2003-04-09 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | 電子写真感光体の製造方法及び電子写真感光体 |
| KR100497352B1 (ko) * | 2002-03-07 | 2005-06-23 | 삼성전자주식회사 | 전자사진 정대전형 유기 감광체의 전하 발생층 형성용조성물 및 이로부터 형성된 전하 발생층을 채용한전자사진 정대전형 유기 감광체 |
Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5944053A (ja) * | 1982-09-06 | 1984-03-12 | Oki Electric Ind Co Ltd | 電子写真用感光体 |
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