JPH03195731A - 新規なポリアミドイミド - Google Patents

新規なポリアミドイミド

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JPH03195731A
JPH03195731A JP33599889A JP33599889A JPH03195731A JP H03195731 A JPH03195731 A JP H03195731A JP 33599889 A JP33599889 A JP 33599889A JP 33599889 A JP33599889 A JP 33599889A JP H03195731 A JPH03195731 A JP H03195731A
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JP
Japan
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general formula
polyamideimide
amino
group
formula
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Application number
JP33599889A
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English (en)
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Shuichi Matsuura
秀一 松浦
Hiroyuki Suzuki
博之 鈴木
Yasuo Miyadera
康夫 宮寺
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Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Publication date
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  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は溶解性、成形性に優れた新規なポリアミドイミ
ドに関する。
〔従来の技術〕
ポリイミド樹脂の耐熱性が優れているが、多くのものは
不溶、不融であるため成形性が劣っている。そのため、
フィルムなどに成形するには前駆体であるポリアミド酸
の状態で有機溶媒に溶解したワニスを用いていた。しか
し、ポリアミド酸ワニスは加水分解によって分子量が低
下しやすいため、低温で保存しなければならなかった。
また溶媒として吸湿しやすいものを使用せざるを得す、
このため、吸湿によりワニスから樹脂が析出する等の問
題があった。さらにフィルム等に成形した後、イミド化
する際に縮合水が発生するため成形物中にボイドが残る
という問題があった。
また、イミド化する際に300℃以上の高温にする必要
があるため、熱に弱い基材に対しては用いられないとい
う問題があった。
この問題を解決するために、軟化点を有し、成形加工が
可能なポリイミドが開発されている。
例えば、特開昭62−10051号公報には、一般式(
) で表わされるジアミンとピロメリット酸からなるポリイ
ミドが開示されるが、このポリイミドは軟化点を有し、
成形加工が可能である。
また、上記の問題点を解決するために、有機溶媒に可溶
なポリアミドイミドが開発されている。
例えば特公昭44−19274号公報には三塩基酸無水
物とジイソシアネートから得られるポリアミドイミドで
ジメチルアセトアミド(D M A c )やジメチル
ホルムアミド(DMF)などの非プロトン性極性溶媒に
可溶のものが開示されている。
〔発明が解決しようとする課題〕
特開昭62−10051号公報に示されているポリイミ
ドは軟化点を有し、成形加工が可能であるが、軟化点が
高すぎ、300℃を越える温度で成形しなければならな
い。また、該ポリイミドは有機溶媒に難溶性であるため
、フィルムに成形するためにその前駆体であるポリアミ
ド酸を有機溶媒に溶解したワニスを用いてフィルム化し
、これを高温に加熱してイミド化しなければならず、前
記したような問題点がある。
特公昭44−19274号公報に示されるポリアミドイ
ミドは軟化点が高すぎるため300℃を越える温度で成
形する必要がある。また、D M A cやDMFなど
に可溶であるが、これらの溶媒は沸点が高く、溶媒の除
去が困難であるため、さらに低沸点の溶媒に可溶なポリ
アミドイミドの開発が望まれている。
〔課題を解決するための手段) 本発明のポリアミドイミドは、一般式(1)〔ただし1
式中、Zは一般式(2) ・・・ (2) を示す)で表わされる二価の基を示す)〕で表される構
成単位を含んでなるものである。
上記ポリアミドイミドは、トリメリット酸又はその誘導
体及び一般式(1) し、Yは−NH,又は−NGOを示す)で表わされるジ
アミンを反応させて得ることができる。
上記トリメリット酸誘導体としては、無水トリメリット
酸、無水トリメリット酸モノクロライド。
無水トリメリット酸フルオライド等の無水トリメリット
酸モノハライド、4−メトキシカルボニルフタル酸無水
物、4−エトキシカルボニルフタル酸無水物等の無水ト
リメリット酸モノエステル、4−メトキシカルボニルフ
タル酸、4−エトキシカルボニルフタル酸、2,5−ジ
カルボキシ安息香酸メチル、2,5−ジカルボキシ安息
香酸エチル、2,4−ジカルボキシ安息香酸メチル、2
゜4−ジカルボキシ安息香酸エチル等のトリメリット酸
モノエステル、4−カルボキシフタル酸ジメチル、4−
カルボキシフタル酸ジエチル等のトリメリット酸ジエス
テル等がある。
本発明において、トリメリット酸又はその誘導体の反応
の相手は一般式(1)で表わされる化合物を必須成分と
する。
一般式(I)で表わされる化合物としては、成人(1)
中、イソプロピリデン基に対してアミノ基及び酸素がパ
ラ位又はメタ位に結合しているものが好ましく、さらに
、2個のアミノ基及び2個の酸素のうち少なくとも1個
がソイプロピリデン基に対してメタ位であるのが望まし
い。
−成人(1)において、イソプロピリデン基に対するア
ミノ基及び酸素の結合位置のうち、メタ位の割合が増え
る程、得られるポリイミドの軟化点は低く、有機溶剤に
対する溶解性が良好になるが、軟化点があまり低くなり
すぎるとポリイミド成形物の高温時における強度が低下
しやすくなるので、目的に応じ、上記メタ位の割合を決
定するのが好ましい。このような観点から、−成人(I
)で表わされる化合物は、−成人(I)中、インプロピ
リデン基に対して、基Yがパラ位に及び酸素がメタ位に
結合しているもの、すなわち、−成人() (ただし1式中X及びYは一般式(I)に同じ)で表わ
される化合物が特に好ましい。
−成人(I)で表わされる化合物は、トリメリット酸又
はその誘導体の反応の相手として、好ましくは50モル
%以上、特に好ましくは75モル%以上使用される。−
成人(I)で表わされる化金物が少なすぎると得られる
ポリアミドイミドの軟化点が高くなりやすく、また、有
機溶剤に難溶性になりやすい。
一般式(I)で表わされる化合物のうち、基Yがアミノ
基であるジアミンとしては4,4′−ビス(3−(4−
アミノ−α、α′−ジメチルベンジル)フェノキシフジ
フェニルスルホン、4,4′−ビス[3−(4−アミノ
−α、α′−ジメチルベンジル)フェノキシフベンゾフ
ェノン、4.4’−ビス(4−(4−アミノ−α、α′
−ジメチルベンジル)フェノキシフジフェニルスルホン
、4゜4′−ビス(4−(4−アミノ)−α、α′−ジ
メチルベンジル)フェノキシフベンゾフェノン、4− 
[3−(4−アミノ−α、α′−ジメチルベンジル)フ
ェノキシ)−4’−(4−(4−アミノ−α、α′−ジ
ルチルベンジル)フェノキシフジフェニルスルホン、4
− (3−(4−アミノ−α、α′−ジメチルベンジル
)フェノキシ〕−4’ −(4−アミノ−α、α′−ジ
メチルベンジル)フェノキシフベンゾフェノン、4.4
’ −ビス(3−(3−アミノ−α、α′−ジメチルベ
ンジル)フェノキシフジフェニルスルホン、4,4−ビ
ス(3−(3−アミノ−α、α′−ジメチルベンジル)
フェノキシフベンゾフェノン、4゜4′−ビス(2−(
4−アミノ−α、α′−ジメチルベンジル)フェノキシ
フジフェニルスルホン、4.4′−ビス(2−(4−ア
ミノ−α、α′ジメチルベンジル)フェノキシフベンゾ
フェノン、3.3′−ビス(3−(4−アミノ−α、α
′ジメチルベンジル)フェノキシフジフェニルスルホン
、3,3′−ビス(3−(4−アミノ−α。
α′−ジメチルベンジル)フェノキシフベンゾフェノン
等が挙げられ、これらを混合して用いても良い。
一般式(r)で表わされる化合物がジアミンである場合
、トリメリット酸又はその誘導体の反応の相手として併
用してもよい他のジアミンとしては、ジアミノジフェニ
ルメタン、ジアミノジフェニルエーテル、ジアミノジフ
ェニルスルホン、ジアミノジフェニルケトン、ジアミノ
ジフェニルプロバン、フェニレンジアミン、トルエンジ
アミン。
ビス(アニリノイソプロピリデン)ベンゼン、ビス(ア
ミノフェノキシ)ベンゼン、ジアミノジフェニルスルフ
ィド、ビス(アミノフェノキシフェニル)プロパン、ビ
ス(アミノフェノキシフェニル)スルホン、ビス(アミ
ノフェノキシフェニル)ケトン、ビス(アミノフェノキ
シフェニル)へキサフルオロプロパン、ジアミノジフェ
ニルへキサフルオロプロパン、ジアミノジアルキルジフ
ェニルメタン等があり、これらは二種以上併用してもよ
い。
一般式(りで表わされる化合物のうち、基Yがイソシア
ナート基であるジイソシアナートとしては、4.4′−
ビス(3−(4−イソシアナート−α、α′−ジメチル
ベンジル)フェノキシ〕ジフェニルケトン、4,4′−
ビス(3−(4−イソシアナート−α、α′−ジメチル
ベンジル)フェノキシ〕ジフェニルスルホン等があり、
その他、−成人(1)で表わされる化合物のうち、基Y
がアミノ基であるジアミンにおいて、アミノ基をイソシ
アナート基に代えたものがある。このようなジイソシア
ナートと併用してもよいジイソシアナートとしては、ジ
フェニルメタンジイソシアナート、トルイレンジイソシ
アナート等の前記した他のジアミンのアミノ基をイソシ
アナートにかえたものがある。
本発明において、ポリアミドイミドは、次のようにして
製造することができる。
トリメリット酸又はその誘導体(特に、無水トリメリッ
ト酸モノハライド以外のもの)の反応の相手としてジア
ミンを使用する場合、これらを有機溶媒中、必要に応じ
てトリブチルアミン、トリエチルアミン、亜リン酸トリ
フェニル等の触媒の存在下、100℃以上、好ましくは
180℃以上に加熱して、イミド化までを行なおせて、
直接ポリアミドイミドを得る方法(触媒は1反応酸分の
総量に対して0〜15重量%使用するのが好ましく、特
に0.01〜15重量%使用するのが好ましい)があり
、トリメリット酸誘導体として特に無水トリメリット酸
モノハライドの反応の相手としてジアミンを使用する場
合、これらを有機溶媒中100℃未満で反応させてポリ
アミドイミドの前駆体であるポリアミド酸のワニスをい
ったん製造し、この後、このワニスを加熱してイミド化
するか、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水安息香酸等
の酸無水物、ジシクロへキシルカルボジイミド等のカル
ボジイミド等の閉環剤、必要に応じてピリジン、イソキ
ノリン、トリメチルアミン、アミノピリジン、イミダゾ
ール等の閉環触媒を添加して化学閉環(イミド化)させ
る方法(閉環剤及び閉環触媒は、それぞれ、トリメリッ
ト酸のハライド化合物1モルに対して1〜8モルの範囲
で使用するのが好ましい)等がある。
本発明において用いることのできる有機溶媒としてはN
−メチル−ピロリドン、N、N−ジメチルアセトアミド
、N、N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、スルホラン、ヘキサメチルリン酸トリアミド、1,
3−ジメチル−2−イミダゾリトン等の非プロトン性極
性溶媒、フェノ、クレゾール、キシレノール、p−クロ
ルフェノール等のフェノール系溶媒等が挙げられる。
これらの溶媒にベンゼン、トルエン、キシレン。
メチルエチルケトン、アセトン、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、モノグライム、ジグライム、メチルセロソ
ルブ、セロソルブアセテート、メタノール、エタノール
、イソプロパツール、塩化メチレン、クロロホルム、ト
リクレン、テトラクロロエタン等の溶媒をポリイミド又
はポリアミド酸の溶解性をそこなわない範囲で混合して
用いることができる。
また、トリメリット酸又はその誘導体の反応の相手とし
てジイソシアネートを使用する場合は、前記した直接ポ
リアミドイミドを得る方法に準じて行なうことができる
。ただし、反応温度は室温以上、特に60℃以上であれ
ば充分である。
本発明において、トリメリット酸又はその誘導体とその
反応の相手は、はぼ等モルで用いられるのが好ましいが
、いずれか一方の過剰量が10モル%、特に好ましくは
5モル%までは許容される。
本発明におけるポリアミドイミドはDMF等の非プロト
ン性極性溶媒、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエ
ーテル系溶媒、塩化メチレン等のハロゲン化炭化水素に
可溶であり、これらの溶液からフィルム等に成形するこ
とができる。また軟化点は100〜250℃に容易に調
整することができる。
本発明で得られるポリアミドイミドは、成形品。
接着剤、構造材料等として用いることができる。
また、本発明で得られるポリアミドイミドは、その前駆
体から適宜製造し、使用に供することができる。
なお、一般式(1)で表わされる化合物の基Yがアミノ
基であるジアミンは、対応するヒドロキシフェニルアミ
ノフェニルプロパン2モルに対し、4.4′−ジフルオ
ロベンゾフェノン又は4゜4′−ジクロロジフェニルス
ルホン1モルを水酸化カリウム、無水炭酸カリウム等の
塩基の存在下、極性有機溶剤中で、100℃以上に加熱
することによって製造することができる。
また、一般式(I)で表わされる化合物の基Yがイソシ
アナート基であるジイソシアナートは、上記のようにし
て得られたジアミンを常法に従いホスゲンと反応させる
ことによって製造することができる。
前記したポリアミドイミドの前駆体であるポリアミド酸
は、一般式(4) 〔ただし、式中、2は一般式(1)に同じであり、結合
位置不定のアミド基とカルボキシル基は、結合位置確定
のアミド基に対してメタ位又はバラ位に結合している〕
で表される構成単位を有する。
〔実施例〕
以下、実施例により本発明の詳細な説明するが、本発明
はこれらの範囲に限定されるものではない。
製造例1 冷却管温度計、撹拌機窒素ガス導入管を備えた4つロフ
ラスコに、2− (3−ヒドロキシフェニル)−2−(
4’−アミノフェニル)プロパン45.4g 、ジメチ
ルスルホキシド100mQ、クロルベンゼン120mQ
を加え室温で溶解した後水酸化カリウム13gを同量の
水に溶解した水溶液を加えた。窒素ガスを流しながら加
熱攪拌し、水を溜出させた。水の溜出がとまった後、温
度を100℃に下げ、4,4′−ジフルオロベンゾフェ
ノン21.8 g  を加え、165℃で4時間反応さ
せた。室温まで冷却し、沈殿をろ過して除いた後、水中
に注ぎ粗生成物を得た。粗生成物をトルエン−ヘキサン
混合溶媒より再結晶し、目的の化合物4.4′−ビス[
3−(4−アミノ−α、α−ジメチルベンジル)フェノ
キシフジフェニルケトンを得た。収量45.5g、融点
107〜110℃液体クロマトグラフィー(カラム:東
ソー(株)T S K Gel G2000t(及びG
3000Hを連結、溶離液テトラヒドロフラン)による
純度99.0%(面積比)であった。
このジアミンの分析結果は次のとおりである。
(1)元素分析値(%)  C43H4゜N、 O3C
HN 計算値 81.65 6,33 4.43実測値 81
,57 6,41 4.32(2)赤外線吸収スペクト
ル(IR)の吸収位置(KBr錠剤法、cm−1) 3460.3390 (7ミ/基) 2970.2870 (メチル基) 1600      (カルボニル基)1250   
   (エーテル基) (3)核磁気共鳴スペクトル(NMR)のスペクトル位
置(DMSO−d&j PPM) 1.57    (12H−重線) 4.86    (4H−重線) 6.4〜7.8 (24H多重線) 注)DMSOはジメチルスルホキシドの意味である。
製造例2 冷却管温度計、攪拌機、窒素ガス導入管を備えた4つロ
フラスコに、2− (3−ヒドロキシフェニル)−2−
(4’−アミノフェニル)プロパン68.1g、ジメチ
ルスルホキシド150mQ、クロルベンゼン180mQ
、4,4′−ジクロルジフェニルスルホン40.75g
 、無水炭酸カリウム20.5g  を仕込み窒素ガス
通気下に加熱攪拌し、水を溜出させた。165℃で4時
間反応させた後、室温まで冷却した。反応液を水中に注
いで粗生成物を得た。ベンゼン−ヘキサン混合溶媒で再
結晶して目的の化合物4,4′−ビス〔3−(4−アミ
ノ−α、α −ジメチルベンジル)フェノキシュジフェ
ニルスルホン71.1 g  を得た。
融点67〜70℃、液体クロマトグラフィーによる純度
は99.4%であった。
このジアミンの分析結果は次のとおりである。
(1)元素分析値(%) C42H4゜N、04SCH
N    S 計算値 75.45 5.99 4.19 4.79実
測値 75,18 6.03 4.02 4.66(2
)(IR)の吸収位置(KBr錠剤法、cwt”−” 
)3450.3390 (アミノ基) 2970.2870 (メチル基) 1290.1110 (スルホニル基)1250   
   (エーテル基) (3)NMRのスペクトル位置(DMSO−d、。
ppa+ ) 1.55    (12H−重線) 4.87    (4H−重線) 6.4〜8.0 (24H多重線) 実施例1 攪拌機、温度計、窒素ガス導入管、下向き冷却管を備え
た4つロフラスコに製造例1で得られた4、4′−ビス
(3−(4−アミノ−α、α′ジメチルベンジル)フェ
ノキシフベンゾフェノン3.16 g  と無水トリメ
リット酸0.96g  、N−メチルピロリドン15m
Q、亜リン酸トリフェニル0.2g  を入れ、窒素ガ
スを流しながら200℃で5時間反応させてポリアミド
イミドワニスを得た。このワニスを水で注いで再沈し、
粉砕、乾燥してポリアミドイミド粉末を得た。DMF中
、濃度0.1g/dQ、温度30℃で測定した還元粘度
は0.31dQ/g 並びに荷重10Kg/a#で高化
式フローテスタで測定した軟化点及び5%重重量減湿温
はそれぞれ158℃及び480℃であり、DMF、NM
P、ジオキサン、テトラヒドロフラン、モノグライムに
可溶であった。上記ポリアミドイミドの赤外線吸収スペ
クトルを第1図に示す。
実施例2 攪拌機、温度計、塩化カルシウム管、窒素ガス導入管の
ついた4つロフラスコに製造例2で得られた4、4′−
ビス(3−(4−アミノ−α、α′ジメチルベンジル)
フェノキシュジフェニルスルホン3.34g  、  
トリエチルアミン0.51gとN、N’ −ジメチルア
セトアミドDMAc20mQを入れ溶解する。0℃以下
に冷却しながら無水トリメリット酸モノクロライド1.
1g を少しずつ加えた後、5℃以下で3時間、室温で
1時間反応させてポリアミドイミドの前駆体であるポリ
アミド酸のワニスを得た。このワニスに無水酢酸1.3
g、ピリジン1.0gを加え室温で3時間反応させてポ
リアミドイミドワニスを得た。このワニスを水に注いで
再沈し、粉砕、乾燥してポリアミドイミド粉末を得た。
実施例1と同様にして測定した還元粘度は0.35d 
Q / g及び軟化点は172℃であった。上記ポリア
ミドイミドの赤外線吸収スペクトルを第2図に示す。
〔発明の効果〕
本発明により実施例で明らかなように低軟化点であり、
溶解性が優れているポリアミドイミドを製造することが
できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は実施例1で得られたポリアミドイミドの赤外線
吸収スペクトル及び第2図は実施例2で得られたポリア
ミドイミドの赤外線吸収スペクトルを示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、一般式(1) ▲数式、化学式、表等があります▼…(1) 〔ただし、式中、Zは一般式(2) ▲数式、化学式、表等があります▼…(2) (ただし、式中、Xは■C=Oまたは■SO_2を示す
    )で表わされる二価の基を示す)〕で表される構成単位
    を含んでなるポリアミドイミド。 2、一般式(2)で表わされる二価の基が、一般式(2
    )中、イソプロピリデン基に対して、結合及び酸素がそ
    れぞれパラ位又はメタ位に結合しているものである請求
    項1記載のポリアミドイミド。 3、一般式(2)で表わされる二価の基が、請求項2に
    記載のものであつて、かつ、一般式(2)中、2個の結
    合及び2個の酸素のうち、少なくとも1個がイソプロピ
    リデン基に対してメタ位に結合しているものである請求
    項2記載のポリアミドイミド。 4、一般式(2)で表わされる二価の基が、請求項3に
    記載のものであつて、かつ、一般式(2)中、イソプロ
    ピリデン基に対して、結合がパラ位に及び酸素がメタ位
    に結合しているものである請求項3記載のポリアミドイ
    ミド。
JP33599889A 1989-12-25 1989-12-25 新規なポリアミドイミド Pending JPH03195731A (ja)

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58177945A (ja) * 1982-04-12 1983-10-18 Mitsui Toatsu Chem Inc 新規な芳香族ジアミンおよびその製造方法
JPH07119280A (ja) * 1993-10-27 1995-05-09 Ig Tech Res Inc 耐火パネル

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