JPH03196845A - 触媒担体の製造方法 - Google Patents

触媒担体の製造方法

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Publication number
JPH03196845A
JPH03196845A JP1336422A JP33642289A JPH03196845A JP H03196845 A JPH03196845 A JP H03196845A JP 1336422 A JP1336422 A JP 1336422A JP 33642289 A JP33642289 A JP 33642289A JP H03196845 A JPH03196845 A JP H03196845A
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JP
Japan
Prior art keywords
stainless steel
whiskers
coating film
film
ferritic stainless
Prior art date
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Pending
Application number
JP1336422A
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English (en)
Inventor
Yasuyuki Yoshida
康之 吉田
Toshiro Kobayashi
敏郎 小林
Nobumi Hiromoto
悦己 広本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は触媒担体の製造方法に関し、更に詳しくは自動
車、排ガス処理触媒用のメタルハニカム状の触媒担持用
担体、特に金属板製の担体製造法に関する。
〔従来の技術〕
自動車排ガスの浄化処理用として使用される金属製の触
媒コンバーターハニカムは、約800℃の高温にさらさ
れるために、耐高温酸化性が要求されることから金属母
材としてCr 15〜20%含むフェライト系ステンレ
ス鋼にA1を5%添加したステンレス鋼が使われている
第1図によって、このCrおよびAl金含有フェライト
系ステンレス鋼から触媒担体ハニカムを製造する方法を
説明する。先ず、このCr及び^1含有のフェライト系
ステンレス鋼を熱間圧延及び冷間圧延により50μmの
厚さのMlに加工する。その後、単位面積当りの触媒の
担持率を高めるために、先ず基材筒1を低酸素雰囲気下
で短時間予備酸化してAl2O.の結晶核2を形成した
後、大気中で約900℃で約8時間をかけて本格的酸化
処理(2次酸化)を施こして、2〜3μm長のα−Al
203のウィスカ3を生成させる。図示していないがこ
の後に、ウォッシュコートと称する7−Al2O3の超
微細粒子を懸濁させたアルミナゾルを塗布、乾燥し、触
媒担持用の比表面積の大なるコート層を形成している。
このように、2次酸化により、α−Al2O3のウィス
カ3を生成させるのは後工程のr −Al1[13コー
ト層のためのアンカー効果を発揮させるためのものであ
る。
〔発明が解決しようとする課題〕
担体用の基材となるA1含有のフェライト系ステンレス
鋼は耐高温酸化性の点から5%もA1を含有させている
ために非常に脆く、50μmの箔を得るのが非常に難し
く、歩留りが低いために、基材箔製造前が高くついてい
る。また、加工率の大きい加工は割れが生じ不可能であ
る。
したがって、これらの問題点を解決するために、YやL
aなどの希土類金属を素材中に含有させており、より基
材箔製造前のコスト高を招いている。
本発明は上記技術水準に鑑み、加工性が良好で安価に触
媒担持用金属製担体を製造することができる方法を提供
しようとするものである。
〔課題を解決するだめの手段〕 本発明はフェライト系ステンレス鋼箔表面にA1皮膜を
0.5〜2μmの厚さに形成した後、皮膜表面のAlf
i度が3〜6%となるよう真空雰囲気での拡散処理及び
大気中での酸化処理を行ない、皮膜表面にα−A1.O
,ウィスカを生成させることを特徴とする触媒担体の製
造方法である。
本発明を更に具体的に述べると、本発明はフェライト系
ステンレス鋼箔等の両面に、メツキ、真空蒸着、スパッ
タリング等により0.5〜2μm厚となるようにA1皮
膜を形成後、加工、組立を行ない、10−’Torr以
下で800〜1100℃の高温真空雰囲気で拡散処理(
合金化処理)を行ない、しかる後大気中で900〜10
00℃の温度で酸化処理により、表面のAl濃度を3〜
6%とすることによってA1皮膜表面にα−Al203
ウィスカを形成する触媒担体の製造方法である。
〔作用〕
フェライト系ステンレス鋼箔にA1皮膜を形成したもの
は、安価であり、かつ延性に富み、複雑なコルゲート加
工が可能であり、表面A141度が合金化処理、酸化処
理条件により自由に変化することができるため、任意の
処理条件が選択できる。
表面に生成するα−Al203ウィスカは後工程のT−
^1,0.コート層のアンカー効果を発揮させるが、A
l皮膜厚さ015μm以下では合金化処理、酸化処理を
種々変化してもα−A]203ウィスカは生成せず、ま
た、^1皮膜厚さ2μm以上では長時間の合金化処理、
酸化処理してもA1がリッチとなるためα−ウィスカは
生成しない。
さらに、酸化処理後のA1表面濃度が3%以下ではα−
Al203ウィスカが生成せず、高温時(800℃)で
の耐酸化性が劣化し、酸化処理後のA1表面濃度が6%
以上ではAl量が多くなりα−A1203ウイスカが生
成しない条件範囲となる。
〔実施例〕
50μm厚のフェライト系ステンレス鋼箔に電子ビーム
蒸着にて0.5〜2μm厚に純Al (純度99,7%
以上)を蒸着した後、10−’Torr以下の真空雰囲
気の下、950℃で種々の時間合金化処理を行い、しか
る後930℃×8時間の酸化処理によりA1表面濃度を
変化させて皮膜表面のα−A+2[13生成状況を観察
した。
第1表に試験結果を示す。これにより、本発明方法によ
れば合金化処理、酸化処理後のA1表面濃度を3〜6%
の範囲内とすることにより皮膜表面にはα−A1203
ウイスカが生成することがわかる。
〔発明の効果〕
本発明方法によれば、^l膜厚を0.5〜2μmとし、
合金化処理条件、酸化処理条件によってA1表面濃度を
3〜6%の範囲内とすることにより膜表面にα−Al2
O3ウィスカが生成する。したがって、Alを多量に含
有し、圧延が難しいためコスト高な素材を用いた従来法
に比べ、加工性も良好な触媒担体を製作することができ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の触媒担体製造法の一態様の説明図である

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. フェライト系ステンレス鋼箔表面にAl皮膜を0.5〜
    2μmの厚さに形成した後、皮膜表面のAl濃度が3〜
    6%となるよう真空雰囲気での拡散処理及び大気中での
    酸化処理を行ない、皮膜表面にα−Al_2O_3ウィ
    スカを生成させることを特徴とする触媒担体の製造方法
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