JPH0319993Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は超音波洗浄装置に関し、特に磁気ヘツ
ドあるいは焼成部材、磁性部材その他各種の電子
部品をチツピングなどを起さずに超音波洗浄する
ことのできる超音波洗浄装置に関する。

磁気ヘツドはその製造工程中に油とか粉などの
汚物が付着するので、超音波洗浄によつてこの汚
れを取り除く必要がある。超音波による洗浄原理
は、空胴現象（キヤビテーシヨン）による液中で
の気泡の発生と破壊の繰り返しにより、被洗浄部
材に付着した汚物に衝撃を与えて取り除くものと
考えられる。しかし磁気ヘツドのようなものを洗
浄する場合、磁気ヘツドの前面はフエライトコア
がケースから露出しかつこの面は研磨されている
ので、無制限に超音波洗浄を行うと、ヘツド前面
の面あらさ精度を阻害し、場合によつては毀損し
ていまう。特に磁気ヘツド前面を下向きにしたま
ま超音波洗浄すると、コアのフエライト結晶粒が
その表面から剥離、脱落し、微視的にみると表面
がこまかくかけるという、いわゆるチツピングを
起こし、不良品となつていまう。このチツピング
現象は、前述のキヤビテーシヨンによる表面の浸
蝕作用によりコアの結晶粒が剥れて自重で脱落す
るためと考えられる。

このような結晶粒の脱落を防止するために上下
に離隔して超音波発振部を配置し、この間に被洗
浄面を上向きにして被洗浄部材を保持し超音波洗
浄を行うようにした装置（実開昭57−55580号）
が提案されている。この構成によれば被洗浄部材
の加工面の面あらさ精度を害することなく洗浄で
きるので、特に表面を研磨した結晶粒組成の各種
素材、磁気ヘツド等の洗浄に有用なものである
が、この装置では上側超音波発振部の高さ位置の
調整機構は有するものの、洗浄動作中は上下の超
音波発振部と被洗浄部材の取付部は固定されてお
り、洗浄作業中に生じた液中の浮遊物等のため
に、表面全体にわたつて均一にかつ充分に洗浄す
るには末だ難点があつた。

本考案は、被洗浄部品の微細加工面を上向きに
して配置し、しかも洗浄動作中に超音波発振部を
前記被洗浄部品に対して移動させ得るように構成
することにより、多面かつ微細加工面をチツピン
グや面あらさ精度の低下を起すことなく各面効果
的に洗浄することのできる超音波洗浄装置を提供
することを目的とするものである。

この目的のために本考案に係る超音波洗浄装置
は、洗浄槽内に、各々出力調整可能な下側超音波
発振部と上側超音波発振部とを設け、被洗浄部品
の加工面を上向きにして前記両発振部の間に保持
するための被洗浄部品取付部を設け、さらに前記
上側および下側の超音波発振部の両方またはいず
れか一方を前記被洗浄部品取付部に対して水平面
内で往復移動または回転し得るように槽内に保持
するとともにその駆動機構を設けたものである。

以下、本考案を、図面を参照しながら実施例に
ついて説明する。

第１図は本考案の１実施例に係る超音波洗浄装
置を、その動作中の状態で示した側面断面図であ
る。洗浄槽１の底部に下側超音波発振部３が配置
され、また前記底部に支柱２を介して被洗浄部品
である磁気ヘツド４を保持するための取付治具５
が設けられている。この治具５は複数個の上下に
貫通した段付孔部５ａを有し、該孔部５ａの各段
差部にそれぞれ前記磁気ヘツド４が保持される。
この場合、磁気ヘツド４はその研磨した前面（磁
気媒体走行面）４ａが上向きになるように孔部５
ａに保持され、これによつて磁気ヘツド研磨面４
ａおよびヘツド底面４ｂが前記孔部を通して上下
に露出し、またヘツド側部の一部も治具５から露
出している。前記被洗浄部品の精度仕上加工面
は、磁気ヘツドにおいてはその前面つまり磁気ギ
ヤツプのある磁気媒体走行面となる。

取付治具５に取り付けた磁気ヘツド４の上方で
かつ洗浄槽内に上側超音波発振部６が適当な支持
フレーム７に固着され、さらに該支持フレーム７
がガイド板１６上を左右に摺動し得るように保持
されている。上下の超音波発振部６，３はそれぞ
れ互いに向き合う方向に超音波を発振するように
配置され、またそれぞれ別々に出力調整装置１
０，１１を介して超音波発振器１２に接続され、
これによつて前記上側および下側の超音波発振部
６，３の出力を個別に可変できるようになつてい
る。洗浄槽１内には、例えば水、アルコール、ア
セトンあるいはトリクロルエチレンなどの洗浄液
１４で満され、上述の上側、下側の各超音波発振
部６，３および治具５、磁気ヘツド４などがこの
洗浄液１４に浸漬される。

第１図の実施例では前述の如く上側超音波発振
部６が支持フレーム７とともに横方向に所定のス
トロークで往復摺動し得るように構成されてい
る。この場合の往復移動周期は、１例として、１
サイクル／秒以下であり、この往復動作の手段と
して支持フレーム７に取り付けられたピニオン軸
１３およびピニオン８と、前記ガイド板１６に形
成されかつ前記ピニオン８とかみ合うラツク９
と、槽壁を貫通してのびるピニオン軸の軸端に連
結された可逆モータ（図示省略）とから成る駆動
機構が設けられている。しかしながら本考案によ
る駆動機構は上記構造のものに限定されるもので
なく、例えばピストン−シリンダ装置あるいは槽
外のモータにより駆動される送りねじおよびこれ
に螺合する被洗浄部品側に固着されたナツトから
成るねじ機構なども有効に採用され得る。ピスト
ン−シリンダ装置の場合はシリンダが槽外に設置
され、被洗浄部品を移動方向と平行にピストンロ
ツドが洗浄槽１を貫通して被洗浄部品支持フレー
ム７の端部に連結される。槽壁を貫通する部分に
は液もれ防止用の適当な密封装置が設けられるこ
とは勿論である。

このような構成で、例えば前記可逆モータを作
動させて上側超音波発振部６を往復移動させなが
ら、上側および下側の超音波発振部６，３を発振
させて液中に超音波を発生させる。磁気ヘツド４
の研磨面４ａは上方を向いているので、超音波に
よる洗浄作用を受けても、表面のフエライト結晶
粒が自重で剥れ落ちることがなく、チツピングな
どを起さずに磁気ヘツド４に付着した油、塵介な
どの汚れが除去される。被洗浄部品に対面した上
側の超音波発振部６は左右に移動するので、浮遊
物の影響を受けず、多面体あるいは複雑な形状の
ものでも各面むらなく洗浄され、微細な加工面も
有効に洗浄される。汚れの程度により、あるいは
被洗浄部品の形状、種類などによつて超音波発振
器１２の出力を調整し、あるいは超音波発振部の
移動速度を変える。

第２図は本考案の他の実施例の側面断面図であ
る。この実施例では下側超音波発振部３は槽底部
を貫通した回転軸１５に軸支されて該軸のまわり
に回転し得るようになつている。回転軸１５は槽
外でモータ１７に連結され、このモータの付勢に
より下側超音波発振部３が回転駆動される。この
実施例でも被洗浄部品の加工面は上向きに取り付
けられているので、第１図の実施例と同様に加工
面を毀損することなく、また浮遊物をさけつつ微
細加工面や多面の洗浄が効果的に行われる。

上述の実施例はいずれも上下の超音波発振部
６，３のいずれか一方のみを移動させるように構
成したが、本考案は必ずしもこのような態様に限
定されるものではなく、上側および下側の超音波
発振部の両方を可動させるようにしてもよい。そ
の駆動機構についても種々の手段が採用される。
また第２図の実施例で治具５を全体として円形状
に形成し、この円形板に被洗浄物を担持するため
の複数個の貫通孔を形成し、これによつてより多
くの被洗浄物を一度に洗浄するようにすることも
できる。さらに上側の超音波発振部６の高さ位置
を調整するように構成してもよい。

上述の如く本考案によれば、被洗浄部品の面あ
らさ精度を必要とする面を上向きにして上下の超
音波発振部の間に設置し、しかもこれらの超音波
発振部を移動するように構成したので、微細な加
工面であつても面精度を維持しながら一層洗浄効
果を高めることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の１実施例に係る超音波洗浄装
置の概略的な側面断面図、第２図は本考案の他の
実施例の部分的な側面断面図である。 １……洗浄槽、２……支柱、３……下側超音波
発振部、４……被洗浄部品（磁気ヘツド）、５…
…治具、６……上側超音波発振部、８……ラツ
ク、９……ピニオン、１０，１１……出力調整装
置、１２……超音波発振器、１４……洗浄液、１
５……回転軸、１６……ガイド板、１７……モー
タ。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 洗浄槽内に、各々出力調整可能な下側超音波発
   振部と上側超音波発振部とを、共に槽内の洗浄液
   に浸るように上下に水平に設け、被洗浄部品の精
   密仕上加工面を上向きにして前記下側および上側
   超音波発振部の間に該被洗浄部品を配置するため
   の取付部を水平に設け、さらに前記上側および
   （または）下側超音波発振部を前記取付部に対し
   て往復水平移動または回転可能に保持するととも
   にその移動または回転駆動機構を設け、前記取付
   部は、複数個の上下に貫通した段付孔部を有し、
   該段付孔部の各段部に被洗浄部品が、少なくとも
   その上部が露出するように載置され、かつ複数個
   の被洗浄部品が同時に前記上側超音波発振部に対
   面するように構成されることを特徴とする超音波
   洗浄装置。