JPS62792Y2 - - Google Patents

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JPS62792Y2
JPS62792Y2 JP13040480U JP13040480U JPS62792Y2 JP S62792 Y2 JPS62792 Y2 JP S62792Y2 JP 13040480 U JP13040480 U JP 13040480U JP 13040480 U JP13040480 U JP 13040480U JP S62792 Y2 JPS62792 Y2 JP S62792Y2
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JP
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ultrasonic
cleaned
cleaning
magnetic head
polished
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JP13040480U
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Description

【考案の詳細な説明】 本考案は超音波洗浄装置に関し、特に磁気ヘツ
ドあるいは焼成部材、磁性部材その他各種の電子
部品をチツピングなどを起さずに超音波洗浄する
ことのできる超音波洗浄装置に関する。
磁気ヘツドはその製造工程中に油とか粉などの
汚物が付着するので、超音波洗浄によつてこの汚
れを取り除く必要がある。超音波による洗浄原理
は、空胴現象(キヤビテーシヨン)による液中で
の気ほうの発生と破壊の繰返しにより、被洗浄部
材に付着した汚物に衝撃を与えて取り除くものと
考えられる。磁気ヘツドを洗浄する場合に、磁気
ヘツドの前面はフエライトコアがケースから露出
しかつこの面は研磨されているので、無制限に超
音波洗浄を行なうと、ヘツド前面の面あらさ精度
を阻害し、場合によつては〓損してしまう。特に
磁気ヘツド前面を下向きにしたまま超音波洗浄す
ると、コアのフエライト結晶粒がその表面から剥
離、脱落し、微視的にみると表面がこまかくかけ
るという、いわゆるチツピングを起こし、不良品
となつてしまう。このチツピング現象は、前述の
キヤビテーシヨンによる表面の侵蝕作用によりコ
アの結晶粒が剥れて自重で脱落するためと考えら
れ、この面を上向きにして超音波洗浄を行なえ
ば、面あらさは害されずチツピング現象は生じな
い。
本考案は、この事実に鑑みてなされたものであ
つて、表面を研磨した結晶粒組成の各種の素材あ
るいは部品を、性能劣化あるいは〓損されずに洗
浄することのできる超音波洗浄装置を提供するこ
とを目的とする。
この目的のために、本考案は、洗浄槽内に、
各々出力調整可能な下側超音波発振部と上側超音
波発振部とを設け、被洗浄部材の研磨面を上向き
にして前記下側および上側超音波発振部の間に該
被洗浄部材を配置するための取付部を設置し、前
記上側超音波発振部を前記下側超音波発振部に対
して高さ調整可能に保持し、さらに前記取付部に
は上下に貫通した開口部を形成し、該開口部の内
周縁ないし内側縁で前記被洗浄部材の側部を保持
するように構成し、これによつて前記被洗浄部材
の少くとも上側研磨面および下面がそれぞれ前記
上側および下側超音波発振部に向いて露出するよ
うにしたことを特徴とするものである。
以下、本考案を、図面を参照しながら、実施例
について説明する。
第1図は本考案の実施例に係る超音波洗浄装置
を、その動作中の状態で示した縦断面図である。
洗浄槽1の底部に例えば環状のスペーサ2が設置
され、このスペーサ内に下側超音波発振部3が配
置されている。スペーサ2の上面には被洗浄部材
である磁気ヘツド4を固定するための治具5が取
付けられている。この実施例ではスペーサ2およ
び治具5によつて本考案の取付部を構成する。治
具5はその上面および下面が大きく開口し、磁気
ヘツド4の側部付近を支持するように構成されて
いる。磁気ヘツド4は、この治具にその磁気ギヤ
ツプ面即ちヘツド前面(研磨面)4aが上向きに
露出するように取付けられる。治具5に取付けた
磁気ヘツド4の上方でかつ洗浄槽内に上側超音波
発振部6が適当な支持フレーム7によつて保持さ
れている。この支持フレーム7は、洗浄槽1に取
付けた送りねじ8と係合し、ハンドル13による
該送りねじ8の回転操作により、洗浄槽1に設け
たガイド棒9に沿つて上下方向に移動し、これに
よつて上側超音波発振部6の高さが調整し得るよ
うになつている。上側超音波発振部6の移動量を
定めるために適当な目盛が適当な部分に、例えば
槽内壁あるいはハンドル付近につけられる。
上側および下側の超音波発振部6,3は、それ
ぞれ別々に出力調整装置10,11を介して超音
波発振器12に接続され、これによつて前記上側
および下側の超音波発振部6,3の出力を可変で
きるようになつている。洗浄槽1内は、例えばア
ルコール、アセトンあるいはトリクロルエチレン
などの洗浄液14で満され、上述の上側、下側の
各超音波発振部6,3および磁気ヘツド4、治具
5などがこの洗浄液に浸漬される。この状態で上
側および下側の超音波発振部6,3を発振させて
液中に超音波を発生させる。磁気ヘツド4の研磨
面4aは上方を向いているので、超音波による洗
浄作用を受けても、表面のフエライト結晶粒が自
重で剥れ落ちることがなく、チツピングなどを起
さずに、磁気ヘツドに付着した油、塵介などの汚
れが除去される。汚れの程度により、あるいは被
洗浄部材の形状、種類などによつて、超音波発振
器12の出力を調整し、あるいは上側超音波発振
部6の高さを調整しておく。
上述の例は1つの実施例であり、第2図の実施
例のように、複数個の磁気ヘツド4を治具5上に
並べて配置し、複数個同時に超音波洗浄するよう
に構成することもできる。この場合も並べた磁気
ヘツドの個数により発振器出力あるいは上側超音
波発振部6の高さを予め加減しておく。また磁気
ヘツド4と下側の超音波発振部3との間隔も、ス
ペーサ2などを交換することにより、変えること
ができる。
なお、被洗浄部材の取付部および上側超音波発
振部の支持機構、その上下動機構などは図示実施
例に限るものではなく、例えば上側発振部を槽外
から吊下げ、その高さを調整可能にすることがで
きる。
本考案によれば、被洗浄部材の面あらさ精度を
必要とする面を上向きにして上下の超音波発振部
の間に設置することにより、この面あらさ精度を
維持しながら洗浄することができ、また発振部の
出力およびその高さ位置を調整可能としたので各
種の被洗浄部材に対しても常に適切な条件で超音
波洗浄を行なうことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の1実施例に係る超音波洗浄装
置の概略的な縦断面図、第2図は複数個の被洗浄
部材を洗浄槽内に設置して同時に洗浄する場合の
実施例を示した部分的な縦断面図である。 1……洗浄槽、3……下側超音波発振部、4…
…磁気ヘツド(被洗浄部材)、4a……研磨面
(ヘツド前面)、5……治具、6……上側超音波発
振部、7……支持フレーム、8……送りねじ、1
0,11……出力調整装置、12……超音波発振
器、14……洗浄液。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 洗浄槽内に、各々出力調整可能な下側超音波発
    振部と上側超音波発振部とを設け、被洗浄部材の
    研磨面を上向きにして前記下側および上側超音波
    発振部の間に該被洗浄部材を配置するための取付
    部を設置し、前記上側超音波発振部を前記下側超
    音波発振部に対して高さ調整可能に保持し、さら
    に前記取付部には上下に貫通した開口部を形成
    し、該開口部の内周縁ないし内側縁で前記被洗浄
    部材の側部を保持するように構成し、これによつ
    て前記被洗浄部材の少くとも上側研磨面および下
    面がそれぞれ前記上側および下側超音波発振部に
    向いて露出するようにしたことを特徴とする超音
    波洗浄装置。
JP13040480U 1980-09-13 1980-09-13 Expired JPS62792Y2 (ja)

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JP13040480U JPS62792Y2 (ja) 1980-09-13 1980-09-13

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JP13040480U JPS62792Y2 (ja) 1980-09-13 1980-09-13

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JPS5755580U JPS5755580U (ja) 1982-04-01
JPS62792Y2 true JPS62792Y2 (ja) 1987-01-09

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ID=29490721

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0535246Y2 (ja) * 1987-06-08 1993-09-07
JPH0614136Y2 (ja) * 1988-05-30 1994-04-13 エヌオーケー株式会社 密封装置

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JPS5755580U (ja) 1982-04-01

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