JPH03200030A - 圧力センサー - Google Patents
圧力センサーInfo
- Publication number
- JPH03200030A JPH03200030A JP34183589A JP34183589A JPH03200030A JP H03200030 A JPH03200030 A JP H03200030A JP 34183589 A JP34183589 A JP 34183589A JP 34183589 A JP34183589 A JP 34183589A JP H03200030 A JPH03200030 A JP H03200030A
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- Japan
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- ripples
- diaphragm
- pressure
- pressure sensor
- spiral
- Prior art date
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- Measuring Fluid Pressure (AREA)
- Diaphragms And Bellows (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、圧力センサーに関し、特に、昇圧−降圧時の
ヒステリシスの小さい圧力センサーに関する。
ヒステリシスの小さい圧力センサーに関する。
ダイヤフラム型圧力センサーは、第１図を参照して説明
すると、ケーシング１内をダイヤフラムＤにより受圧室
２とバンクアップ室３とに区画し、前記受圧室２に被圧
力検出流体ａの導入管４を接続し、前記バックアンプ室
３には、前記ダイヤフラムＤの中心に当接するラム５を
その軸方向に移動自在に設けるとともに、そのラムをダ
イヤフラムＤ側に付勢するスプリング６を設けた構成で
あり、流体ａの導入圧によるダイヤフラムＤの撓みをラ
ム５の移動に変換し、その移動量を差動トランス、光セ
ンサ−、レーザーセンサー等で検出する。
すると、ケーシング１内をダイヤフラムＤにより受圧室
２とバンクアップ室３とに区画し、前記受圧室２に被圧
力検出流体ａの導入管４を接続し、前記バックアンプ室
３には、前記ダイヤフラムＤの中心に当接するラム５を
その軸方向に移動自在に設けるとともに、そのラムをダ
イヤフラムＤ側に付勢するスプリング６を設けた構成で
あり、流体ａの導入圧によるダイヤフラムＤの撓みをラ
ム５の移動に変換し、その移動量を差動トランス、光セ
ンサ−、レーザーセンサー等で検出する。
この圧力センサーの前記ダイヤフラムＤとして、本願発
明者等は、特願昭６３−９９１４３号等において、第２
図、第３回に示すように、素材板中心円形１０の周りに
、その周り任意の点から、渦巻き波紋Ｐを呈する波形断
面とし、その渦巻き波紋Ｐは前記中心円形に向って傾斜
して成るものを提案した。なお、図中の波紋Ｐは谷部の
軌跡を示す（以下、同様）。
明者等は、特願昭６３−９９１４３号等において、第２
図、第３回に示すように、素材板中心円形１０の周りに
、その周り任意の点から、渦巻き波紋Ｐを呈する波形断
面とし、その渦巻き波紋Ｐは前記中心円形に向って傾斜
して成るものを提案した。なお、図中の波紋Ｐは谷部の
軌跡を示す（以下、同様）。
このダイヤフラムＤを、第１図実線のごとく、凸状外面
を受圧室２側としてセットし、圧力−変位曲線を得たと
ころ、昇圧と降圧におけるヒステリシス、とくに、昇圧
開始と降圧終了におけるヒステリシスが満足いけるもの
でなかった（第４図従来例、破線参照）。
を受圧室２側としてセットし、圧力−変位曲線を得たと
ころ、昇圧と降圧におけるヒステリシス、とくに、昇圧
開始と降圧終了におけるヒステリシスが満足いけるもの
でなかった（第４図従来例、破線参照）。
本発明は、上記ヒステリシスを小さくすることを課題と
する。
する。
上記課題を解決するため、本発明にあっては、前記のダ
イヤフラム型圧力センサーにおいて、前記渦巻き波紋の
ダイヤフラムを、凸面側をバックアンプ室に向けて両室
に介設し、前記ラムを移動させて皿ばねを反転させその
凸面を受圧室側として成る構成としたのである。
イヤフラム型圧力センサーにおいて、前記渦巻き波紋の
ダイヤフラムを、凸面側をバックアンプ室に向けて両室
に介設し、前記ラムを移動させて皿ばねを反転させその
凸面を受圧室側として成る構成としたのである。
上記渦巻き波紋の傾斜度、すなわち、第３図にする。１
７５以上となると、プレス成形の際、現在の技術では、
その成形圧が、外向きの斜面と内向きの斜面とで大きく
異なって製造が不可能となるからである。
７５以上となると、プレス成形の際、現在の技術では、
その成形圧が、外向きの斜面と内向きの斜面とで大きく
異なって製造が不可能となるからである。
また、同心円形波紋及び外側円形波紋を設ければ、波紋
のプレス成形時、中心部に生じる盛り上り状の歪は同心
円形波紋に吸収分散され、外周囲に生じる皺状の歪は外
側円形波紋に吸収分散される。この吸収分散は、渦巻き
波紋の始終端を百円形波紋に合流させれば、より効果が
増す。
のプレス成形時、中心部に生じる盛り上り状の歪は同心
円形波紋に吸収分散され、外周囲に生じる皺状の歪は外
側円形波紋に吸収分散される。この吸収分散は、渦巻き
波紋の始終端を百円形波紋に合流させれば、より効果が
増す。
このように構成される圧力センサーは、従来と同様にし
て、受圧室に被圧力検出流体を導入し、その導入圧によ
るダイヤフラムの撓みをラムの移動に変換し、その移動
量を、差動トランス、光センサ−、レーザーセンサー等
で検出する。
て、受圧室に被圧力検出流体を導入し、その導入圧によ
るダイヤフラムの撓みをラムの移動に変換し、その移動
量を、差動トランス、光センサ−、レーザーセンサー等
で検出する。
この作用時、ダイヤフラムが反転され、その反転状態の
撓みによって検出するため、昇圧と降圧におけるヒステ
リシスが小さいものとなる。
撓みによって検出するため、昇圧と降圧におけるヒステ
リシスが小さいものとなる。
〔実施例１〕
まず、ダイヤフラムＤについて説明する。
この実施例のダイヤフラムＤは、厚さ７０．０１５唾の
ステンレス箔のフープ３４ａ＊φを、プレス加工より仕
上がり外径： ２５．４■φとしたものである。
ステンレス箔のフープ３４ａ＊φを、プレス加工より仕
上がり外径： ２５．４■φとしたものである。
その正面図、断面図を第２図、第３図に示し、その図に
おいて、中心円形１０は５■φとし、第２図に示す渦巻
波紋Ｐの谷部曲率「は１．５ｍ、山部曲率ｒ′は１．Ｏ
ｍとして、前記中心円形１０の三笠分位から互いに隣接
させて渦巻き波紋Ｐを形成し、波の高さｔは０．３ｏｎ
、外周と中心との高低差Ｔは１．５ｍｍ、曲率Ｒは１０
０ｍとした。
おいて、中心円形１０は５■φとし、第２図に示す渦巻
波紋Ｐの谷部曲率「は１．５ｍ、山部曲率ｒ′は１．Ｏ
ｍとして、前記中心円形１０の三笠分位から互いに隣接
させて渦巻き波紋Ｐを形成し、波の高さｔは０．３ｏｎ
、外周と中心との高低差Ｔは１．５ｍｍ、曲率Ｒは１０
０ｍとした。
このダイヤフラムＤを２枚製作し、それぞれを、第１図
に示す前述の圧力センサーにセットした。
に示す前述の圧力センサーにセットした。
本発明にあっては、同図鎖線で示すように、まず、凸面
側をバンクアップ室３に向けてダイヤフラムＤを介設し
、調整ねじ７をねじ込んで、ラム５を移動させてダイヤ
フラムＤを反転させ、同図実線のごとくその凸面を受圧
室２側とする。
側をバンクアップ室３に向けてダイヤフラムＤを介設し
、調整ねじ７をねじ込んで、ラム５を移動させてダイヤ
フラムＤを反転させ、同図実線のごとくその凸面を受圧
室２側とする。
一方、従来例としては、ダイヤフラムＤを当初から実線
のごとく（通常状態の凸面側か受圧室）、セントした。
のごとく（通常状態の凸面側か受圧室）、セントした。
この実施例及び従来例の圧力−変位曲線を第４図に示す
。図において、実線が実施例、破線が従来例、Ｏが昇圧
時、・が降圧時である。これから、実施例のものが、従
来例に比べ、昇圧と降圧とくに昇圧開始時と降圧終了時
におけるヒステリシスが小さいことがわかる。
。図において、実線が実施例、破線が従来例、Ｏが昇圧
時、・が降圧時である。これから、実施例のものが、従
来例に比べ、昇圧と降圧とくに昇圧開始時と降圧終了時
におけるヒステリシスが小さいことがわかる。
ダイヤフラムＤの形状としては、第５図に示すなどの種
々のものが考えられる。第５図は、中心円形１０の周り
に隣接して同心円形波紋Ｐ１を形成すると共に、この同
心円形波紋Ｐ、 と同心でかつ所定間隔をあけて外側円
形波紋Ｐ２を形成し、両日形波絞量に、上記渦巻き波紋
Ｐ３を形成したものである。第２図の実施例においても
、外側円形波紋Ｐ２を形成し、その波紋Ｐ２に渦巻き波
紋Ｐを合流した構成とすることもできる。
々のものが考えられる。第５図は、中心円形１０の周り
に隣接して同心円形波紋Ｐ１を形成すると共に、この同
心円形波紋Ｐ、 と同心でかつ所定間隔をあけて外側円
形波紋Ｐ２を形成し、両日形波絞量に、上記渦巻き波紋
Ｐ３を形成したものである。第２図の実施例においても
、外側円形波紋Ｐ２を形成し、その波紋Ｐ２に渦巻き波
紋Ｐを合流した構成とすることもできる。
なお、各實施例において、渦巻き波紋Ｐの傾斜高さｈと
径方向の長さｌと比ｈ７１は１／６以下とした。
径方向の長さｌと比ｈ７１は１／６以下とした。
〔発明の効果］
本発明は、以上のように構成したので、昇圧と降圧とく
に昇圧開始時と降圧終了時のヒステリシスが小さくなり
、初期状態又は纒期状態の検出精度が向上する効果があ
る。
に昇圧開始時と降圧終了時のヒステリシスが小さくなり
、初期状態又は纒期状態の検出精度が向上する効果があ
る。
第１図は、この発明に係る圧力センサーの一実施例の断
面図、第２図、第５図はダイヤフラムの各側の概略正面
図、第３図は第２図の例の断面図、第４図は圧力−変位
測定回である。 １・・・・・・ケーシング、 ２・・・・・・受圧室、
３・・・・・・バンクアップ室、 ４・・・・・・導入管、 ５・・・・・・ラム、
６・・・・・・スプリング、 １０・・・・・・中心
円形、Ｐ、Ｐ３・・・・・・渦巻き波紋、 Ｐ、 、Ｐ、・・・・・・円形波紋、 Ｄ・・・・・・ダイヤフラム。
面図、第２図、第５図はダイヤフラムの各側の概略正面
図、第３図は第２図の例の断面図、第４図は圧力−変位
測定回である。 １・・・・・・ケーシング、 ２・・・・・・受圧室、
３・・・・・・バンクアップ室、 ４・・・・・・導入管、 ５・・・・・・ラム、
６・・・・・・スプリング、 １０・・・・・・中心
円形、Ｐ、Ｐ３・・・・・・渦巻き波紋、 Ｐ、 、Ｐ、・・・・・・円形波紋、 Ｄ・・・・・・ダイヤフラム。
Claims (3)
- （１）ケーシング内をダイヤフラムにより受圧室とバッ
クアップ室とに区画し、前記受圧室に被圧力検出流体の
導入管を接続し、前記バックアップ室には、前記ダイヤ
フラムの中心に当接するラムをその軸方向に移動自在に
設けるとともに、そのラムをダイヤフラム側に付勢する
スプリングを設けた圧力センサーにおいて、前記ダイヤ
フラムは、素材板中心円形の周りに、その周り任意の点
から、渦巻き波紋を呈する波形断面であって、その渦巻
き波紋が前記中心円形に向かって傾斜してなる皿ばねに
より構成され、その皿ばねを凸面側をバックアップ室に
向けて両室に介設し、前記ラムを移動させて皿ばねを反
転させその凸面を受圧室側として成るものであることを
特徴とする圧力センサー。 - （２）上記渦巻き波紋の傾斜高さｈと径方向の長さｌの
比ｈ／ｌを１／５以下としたことを特徴とする請求項（
１）記載の圧力センサー。 - （３）上記素材板中心円形の周りに隣接して同心円形波
紋を形成すると共に、この同心円形波紋と同心でかつ所
定間隔をあけて外側円形波紋を形成し、両円形波紋間に
、上記渦巻き波紋を形成したことを特徴とする請求項（
１）又は（２）記載の圧力センサー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1341835A JP2524231B2 (ja) | 1989-12-28 | 1989-12-28 | 圧力センサ― |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1341835A JP2524231B2 (ja) | 1989-12-28 | 1989-12-28 | 圧力センサ― |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03200030A true JPH03200030A (ja) | 1991-09-02 |
| JP2524231B2 JP2524231B2 (ja) | 1996-08-14 |
Family
ID=18349122
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1341835A Expired - Lifetime JP2524231B2 (ja) | 1989-12-28 | 1989-12-28 | 圧力センサ― |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2524231B2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60227141A (ja) * | 1984-01-06 | 1985-11-12 | シュランベルジュ、インダストリーズ、ソシエテ、アノニム | 圧力センサ用波形膜 |
-
1989
- 1989-12-28 JP JP1341835A patent/JP2524231B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60227141A (ja) * | 1984-01-06 | 1985-11-12 | シュランベルジュ、インダストリーズ、ソシエテ、アノニム | 圧力センサ用波形膜 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2524231B2 (ja) | 1996-08-14 |
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