JPH0320288A - P―置換プロパン―ホスフィン酸化合物 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、P一置換ブロバンーホスフイン酸誘導体に関
する。
する。
本発明は、次式【:
(式中、R.はハロゲンであり、RI′はハロゲンもし
くは水素であり、さらにR,およびR t1は水素であ
るか;又はR+とR1は水素を表わし、R8は脂肪族も
しくは芳香族基であり、さらにR , 1はヒドロキシ
であるかもしくはRtとRt’は共に一緒になってオキ
ソを表わし、さらにRは2個以上の炭素原子を有する脂
肪族、脂環式、脂環式−脂肪族もしくは芳香脂肪族基を
表わすか、又はもしもRlおよびRl’が水素を表わす
場合、R8は芳香族基を表わし、更にR t/はヒドロ
キシであり、Rはメチルである) で表わされる化合物、又はその塩に関する.脂肪族基R
は、例えば、酸素またはイオウから選ばれた1個または
2個離れた原子によって中断されていてもよく及び/ま
たはハロゲン、ヒドロキシ、オキソ及び/または所望に
よりアシル化されたアミノにより置換されることの出来
るアルキル基、例えばアルキル、ハロゲン及び/または
ヒドロキシによりモノー、ジーもしくはポリ置換された
アルキル、オキソにより置換されたアルキル、所望によ
りアシル化されたアミノもしくはヒドロキシ及び所望に
よりアシル化されたアミノにより置換されたアルキル、
酸素及びイオウから選ばれた1個または2個互いに離れ
た原子により中断されたアルキル、または酸素及びイオ
ウから選ばれたl個または2個互いに離れた原子により
更にハロゲン及び/またはヒドロキシにより置換された
アルキルであり、ハロゲン及び/またはヒドロキシによ
りモノー、ジーもしくはポリ置換されうるアルケニル基
、例えば低級アルケニルまたはハロゲン及び/またはヒ
ドロキシにより置換された低級アルケニルであり、また
はアルキニル基、例えば低級アルキニルである。
くは水素であり、さらにR,およびR t1は水素であ
るか;又はR+とR1は水素を表わし、R8は脂肪族も
しくは芳香族基であり、さらにR , 1はヒドロキシ
であるかもしくはRtとRt’は共に一緒になってオキ
ソを表わし、さらにRは2個以上の炭素原子を有する脂
肪族、脂環式、脂環式−脂肪族もしくは芳香脂肪族基を
表わすか、又はもしもRlおよびRl’が水素を表わす
場合、R8は芳香族基を表わし、更にR t/はヒドロ
キシであり、Rはメチルである) で表わされる化合物、又はその塩に関する.脂肪族基R
は、例えば、酸素またはイオウから選ばれた1個または
2個離れた原子によって中断されていてもよく及び/ま
たはハロゲン、ヒドロキシ、オキソ及び/または所望に
よりアシル化されたアミノにより置換されることの出来
るアルキル基、例えばアルキル、ハロゲン及び/または
ヒドロキシによりモノー、ジーもしくはポリ置換された
アルキル、オキソにより置換されたアルキル、所望によ
りアシル化されたアミノもしくはヒドロキシ及び所望に
よりアシル化されたアミノにより置換されたアルキル、
酸素及びイオウから選ばれた1個または2個互いに離れ
た原子により中断されたアルキル、または酸素及びイオ
ウから選ばれたl個または2個互いに離れた原子により
更にハロゲン及び/またはヒドロキシにより置換された
アルキルであり、ハロゲン及び/またはヒドロキシによ
りモノー、ジーもしくはポリ置換されうるアルケニル基
、例えば低級アルケニルまたはハロゲン及び/またはヒ
ドロキシにより置換された低級アルケニルであり、また
はアルキニル基、例えば低級アルキニルである。
脂環式基Rは、例えば酸素及びイオウから選ばれた1個
または2個互いに離れた原子により中断され及び/また
はヒドロキシにより置換されうるシクロアルキル基、例
えばシクロアルキル、酸素及びイオウから選ばれた1個
または2個互いに離れた原子により中断されたシクロア
ルキル、またはヒドロキシにより置換されたシクロアル
キルである. 脂環式一脂肪族基Rは、例えば酸素及びイオウから選ば
れた1個または2個互いに離れた原子により中断され及
び/またはヒドロキシ及び/または低級アルキルチオに
より置換されうるシクロアルキル一低級アルキル基、例
えばシクロアルキル一低級アルキル、酸素及びイオウか
ら選ばれたl個または2個互いに離れた原子により中断
されたシクロアルキル一低級アルキル、またはシクロア
ルキル部分にヒドロキシまたは低級アルキルチオにより
及び/またはアルキレン部分にヒドロキシにより置換さ
れたシクロアルキル一低級アルキルである. 芳香脂肪族基Rは、例えば、アリール環内でハロゲン、
低級アルキル、低級アルコキシ及び/またはトロフルオ
ロメチルにより置換され及び/または低級アルキレン部
分にヒドロキシにより置換されうるフエニルー低級アル
キルもしくはナフチル一低級アルキル基であり、例えば
フェニルー低級アルキル、フェニル−(1−ヒドロキシ
)一低級アルキル、ナフチルー低級アルキルまたは、フ
ェニル部分においてハロゲン、低級アルキル、低級アル
コキシ及び/またはトリフルオロメチルにより置換され
たフェニルー低級アルキルである.芳香族基R!は、炭
環式もしくは複素環式芳香族基、例えばフェニル、ナフ
チル、またはハロゲン、低級アルキル、低級アルコキシ
及び/またはトリフルオロメチルにより直換されたフェ
ニル、またはピリジルである. 式Iの化合物において、基Rは炭素原子を介してP一原
子に結合している. 所望によりアシル化されたアξノは、例えばアξノ、低
級アルカノイルアξノまたはフタルイξドである. アルキル、アルケニル及びアルキニルRは、14個まで
、好ましくは12個までの炭素原子を含有し更に、低級
アルキル、低級アルケニル及び低級アルキニルにより置
換されることが出来る.アルキルRはまた、C.〜C1
4−、例えばC.〜Cl1−アルキルであり、例えばオ
クチル、モニル、デシル、ウンデシルまたはドデシル基
であり、例えばデシルもしくはドデシル基である. ハロゲン及び/またはヒドロキシによりモノ置換、ジー
もしくはボリl換されたアルキルまたはアルケニルは、
モノーもしくはジヒドロキシ一低級アルキル、ヒドロキ
シ一低級アルケニル、モノ、ジーもしくはポリハロゲノ
ー低級アルキル、モノー、ジーもしくはポリハロゲノー
低級アルケニル、モノー、ジーもしくはボリハロゲノー
低級ヒドロキシアルキル及びモノー、ジーもしくはポリ
ハロゲノー低級ヒドロキシアルケニルによって代表され
る. オキソによって置換されたアルキルは、例えばオキソ低
級アルキルである. 所望によりアシル化されたアミノにより置換されたアル
キルは、例えば、アξノ低級アルキル、N一低級アルカ
ノイルアミノー低級アルキルもしくはフタルイミドー低
級アルキルである.所望によりアシル化されたアξノに
より及びヒドロキシにより置換されたアルキルは、例え
ば、ア逅ノー低級ヒドロキシアルキル、N−amアルカ
ノイ゛ルアミノー低級ヒドロキシアルキルもしくはフタ
ルイえド一低級ヒドロキシアルキルである.酸素及びイ
オウから選ばれた1個または2個の原子により中断され
たアルキルは、低級アルコキシ一低級アルキル、低級ア
ルキルチオ一低級アルキル、低級アルカンスルフィニル
一低級アルキル、低級アルカンスルホニル一低級アルキ
ル、低級アルコキシ一低級アルキル、ジー低級アルコキ
シー低級アルキル、ジー低級アルキルチオ一低級アルキ
ル及び低級アルコキシ一低級アルキルチオ一低級アルキ
ルによって代表される. 酸素及びイオウから選ばれる1個または2個の原子によ
り中断されたかつヒドロキシ及び/またはハロゲンによ
り置換されたアルキルは、低級アルコキシー(ヒドロキ
シ)低級アルキル及び低級アルコキシー(ハロゲノ)低
級アルキルによって代表される. シクロアルキルは、C,〜C.シクロアルキルによって
代表される. ヒドロキシにより置換されたシクロアルキルは、1−ヒ
ドロキシ一〇,〜C.シクロアルキルによって代表され
る。
または2個互いに離れた原子により中断され及び/また
はヒドロキシにより置換されうるシクロアルキル基、例
えばシクロアルキル、酸素及びイオウから選ばれた1個
または2個互いに離れた原子により中断されたシクロア
ルキル、またはヒドロキシにより置換されたシクロアル
キルである. 脂環式一脂肪族基Rは、例えば酸素及びイオウから選ば
れた1個または2個互いに離れた原子により中断され及
び/またはヒドロキシ及び/または低級アルキルチオに
より置換されうるシクロアルキル一低級アルキル基、例
えばシクロアルキル一低級アルキル、酸素及びイオウか
ら選ばれたl個または2個互いに離れた原子により中断
されたシクロアルキル一低級アルキル、またはシクロア
ルキル部分にヒドロキシまたは低級アルキルチオにより
及び/またはアルキレン部分にヒドロキシにより置換さ
れたシクロアルキル一低級アルキルである. 芳香脂肪族基Rは、例えば、アリール環内でハロゲン、
低級アルキル、低級アルコキシ及び/またはトロフルオ
ロメチルにより置換され及び/または低級アルキレン部
分にヒドロキシにより置換されうるフエニルー低級アル
キルもしくはナフチル一低級アルキル基であり、例えば
フェニルー低級アルキル、フェニル−(1−ヒドロキシ
)一低級アルキル、ナフチルー低級アルキルまたは、フ
ェニル部分においてハロゲン、低級アルキル、低級アル
コキシ及び/またはトリフルオロメチルにより置換され
たフェニルー低級アルキルである.芳香族基R!は、炭
環式もしくは複素環式芳香族基、例えばフェニル、ナフ
チル、またはハロゲン、低級アルキル、低級アルコキシ
及び/またはトリフルオロメチルにより直換されたフェ
ニル、またはピリジルである. 式Iの化合物において、基Rは炭素原子を介してP一原
子に結合している. 所望によりアシル化されたアξノは、例えばアξノ、低
級アルカノイルアξノまたはフタルイξドである. アルキル、アルケニル及びアルキニルRは、14個まで
、好ましくは12個までの炭素原子を含有し更に、低級
アルキル、低級アルケニル及び低級アルキニルにより置
換されることが出来る.アルキルRはまた、C.〜C1
4−、例えばC.〜Cl1−アルキルであり、例えばオ
クチル、モニル、デシル、ウンデシルまたはドデシル基
であり、例えばデシルもしくはドデシル基である. ハロゲン及び/またはヒドロキシによりモノ置換、ジー
もしくはボリl換されたアルキルまたはアルケニルは、
モノーもしくはジヒドロキシ一低級アルキル、ヒドロキ
シ一低級アルケニル、モノ、ジーもしくはポリハロゲノ
ー低級アルキル、モノー、ジーもしくはポリハロゲノー
低級アルケニル、モノー、ジーもしくはボリハロゲノー
低級ヒドロキシアルキル及びモノー、ジーもしくはポリ
ハロゲノー低級ヒドロキシアルケニルによって代表され
る. オキソによって置換されたアルキルは、例えばオキソ低
級アルキルである. 所望によりアシル化されたアミノにより置換されたアル
キルは、例えば、アξノ低級アルキル、N一低級アルカ
ノイルアミノー低級アルキルもしくはフタルイミドー低
級アルキルである.所望によりアシル化されたアξノに
より及びヒドロキシにより置換されたアルキルは、例え
ば、ア逅ノー低級ヒドロキシアルキル、N−amアルカ
ノイ゛ルアミノー低級ヒドロキシアルキルもしくはフタ
ルイえド一低級ヒドロキシアルキルである.酸素及びイ
オウから選ばれた1個または2個の原子により中断され
たアルキルは、低級アルコキシ一低級アルキル、低級ア
ルキルチオ一低級アルキル、低級アルカンスルフィニル
一低級アルキル、低級アルカンスルホニル一低級アルキ
ル、低級アルコキシ一低級アルキル、ジー低級アルコキ
シー低級アルキル、ジー低級アルキルチオ一低級アルキ
ル及び低級アルコキシ一低級アルキルチオ一低級アルキ
ルによって代表される. 酸素及びイオウから選ばれる1個または2個の原子によ
り中断されたかつヒドロキシ及び/またはハロゲンによ
り置換されたアルキルは、低級アルコキシー(ヒドロキ
シ)低級アルキル及び低級アルコキシー(ハロゲノ)低
級アルキルによって代表される. シクロアルキルは、C,〜C.シクロアルキルによって
代表される. ヒドロキシにより置換されたシクロアルキルは、1−ヒ
ドロキシ一〇,〜C.シクロアルキルによって代表され
る。
シクロアルキル並びにシクロアルキル低級アルキルにお
いていずれの場合においても酸素及びイオウから選ばれ
た1個または2個の原子により中断されているシクロア
ルキルは、オキサーC,〜C●シクロアルキル、チアー
C,〜C.シクロアルキル、ジオキサーC,〜C.シク
ロアルキル、ジチアー03〜C.シクロアルキル及びオ
キソチア一〇3〜C−シクロアルキルによって代表され
る. シクロアルキル部分においてヒドロキシ及び/または低
級アルキルチオ及び/またはアルキレン部分においてヒ
ドロキシにより置換されたシクロアルキル一低級アルキ
ルは、低級アルキルチオシクロアルキルー低級アルキル
、シクロアルキル−(ヒドロキシ)低級アルキル及び低
級アルキルチオシクロアルキルー(ヒドロキシ)低級ア
ルキルによって代表される. 本発明で用いられる一般的定義は、本発明の範囲内にお
いて次の意味を有する. 有機基または化,金物に関連してそれぞれ上記及び以下
に言及する語句「低級』は特に他に明白に定義されてい
ない限り7個まで、好ましくは4個までの炭素原子を含
むものを意味するものとする。
いていずれの場合においても酸素及びイオウから選ばれ
た1個または2個の原子により中断されているシクロア
ルキルは、オキサーC,〜C●シクロアルキル、チアー
C,〜C.シクロアルキル、ジオキサーC,〜C.シク
ロアルキル、ジチアー03〜C.シクロアルキル及びオ
キソチア一〇3〜C−シクロアルキルによって代表され
る. シクロアルキル部分においてヒドロキシ及び/または低
級アルキルチオ及び/またはアルキレン部分においてヒ
ドロキシにより置換されたシクロアルキル一低級アルキ
ルは、低級アルキルチオシクロアルキルー低級アルキル
、シクロアルキル−(ヒドロキシ)低級アルキル及び低
級アルキルチオシクロアルキルー(ヒドロキシ)低級ア
ルキルによって代表される. 本発明で用いられる一般的定義は、本発明の範囲内にお
いて次の意味を有する. 有機基または化,金物に関連してそれぞれ上記及び以下
に言及する語句「低級』は特に他に明白に定義されてい
ない限り7個まで、好ましくは4個までの炭素原子を含
むものを意味するものとする。
低級アルキルRは、02〜C,アルキル、例えばエチル
、プロビル、イソブロビル、ブチル、イソブチル、第二
ブチル、第三プチル、(2−メチル)ブチル、ヘキシル
またはヘプチルによって代表される.R以外の低級アル
キルは、例えばCI〜C4アルキル、例えばメチル、エ
チル、プロビル、イソプロビル、ブチルまたは第三ブチ
ルである. 低級アルケニルは、例えばC8〜C,アルケニル、好ま
しくはα,β一位よりもより高い位置に二重結合を有す
るC,〜C,アルケニルであり、例,t Li 2−プ
ロペニル(アリル)、7’}−3−エンー1−イル、(
2−メチル)ブロプー2−エンー1−イル(イソプテニ
ル)または(5−メチル)ブトー2−エンーlイルであ
るが、あるいは更にα.β位において二重結合を有する
ことも出来更に、例えばビニル、プロブー1−エニルま
たはブトー1−エニルであるか、またはC.−もしくは
C,−アルケニル、例えばヘキセニルまたはへプテニル
基である. 低級アルキニルは、例えばC8〜C,アルキニル、好ま
しくは、α,β一位よりもより高位置で三重結合を有す
るC,〜C,アルキニルを示し、例えば2−プロビニル
(プロパルギル)、プトー3−イン−1−イル、プトー
2−イン−1−イルもしくはベント−3−イン−1−イ
ルである.C,〜C.シクロアルキルは、好ましくは3
〜6個の環状炭素原子を有し、従ってC,〜C6シクロ
アルキルであり、例えばシクロプロピル、シクロブチル
、シクロペンチルまたはシクロヘキシルである. C,〜C.シクロアルキル一低級アルキルは、好ましく
は3〜6個の環を有し更に1〜4個の鎖状炭素原子を有
し更に、例えばC,〜C,シクロアルキルーC,〜C4
アルキル、例えばシクロプロビルメチル、シクロプチ“
ルメチルまたはシクロヘキシルメチルである. 七ノーもしくはジヒドロキシー低級アルキルは、好まし
くはα一位において1個のヒドロキシ基を有し、例えば
α−ヒドロキシーC2〜C,アルキル、例えばα−ヒド
ロキシーC8〜C4アルキル、例えば1−ヒドロキシエ
チル、2−(2−ヒドロキシ)プロビル、l−ヒドロキ
シブチル、2一(2−ヒドロキシ)ブチルまたは1−(
1−ヒドロキシ−2−メチル)プロビル、またはα,β
一ジヒドロキシ一〇,〜C,アルキル、例えば1.2−
ジヒドロキシープロブ−2−イルであるが、或いはまた
α一位よりもより高位に単一のヒドロキシ基を有するこ
とも出来、更に例えばβ−,T一もしくはδ−ヒドロキ
シーC2〜C,アルキル、例えば3−ヒドロキシプロビ
ルまたは2−,3−もしくは4−ヒドロキシブチルを表
わす.ヒドロキシ一低級アルケニルは、好ましくはα一
位にヒドロキシ基を有し更にα.β一位よりもより高位
に二重結合を有し、例えばα−ヒドロキシーCs〜Cs
アルケニル、例えば1−ヒドロキシブト−2−エニルに
対応する。
、プロビル、イソブロビル、ブチル、イソブチル、第二
ブチル、第三プチル、(2−メチル)ブチル、ヘキシル
またはヘプチルによって代表される.R以外の低級アル
キルは、例えばCI〜C4アルキル、例えばメチル、エ
チル、プロビル、イソプロビル、ブチルまたは第三ブチ
ルである. 低級アルケニルは、例えばC8〜C,アルケニル、好ま
しくはα,β一位よりもより高い位置に二重結合を有す
るC,〜C,アルケニルであり、例,t Li 2−プ
ロペニル(アリル)、7’}−3−エンー1−イル、(
2−メチル)ブロプー2−エンー1−イル(イソプテニ
ル)または(5−メチル)ブトー2−エンーlイルであ
るが、あるいは更にα.β位において二重結合を有する
ことも出来更に、例えばビニル、プロブー1−エニルま
たはブトー1−エニルであるか、またはC.−もしくは
C,−アルケニル、例えばヘキセニルまたはへプテニル
基である. 低級アルキニルは、例えばC8〜C,アルキニル、好ま
しくは、α,β一位よりもより高位置で三重結合を有す
るC,〜C,アルキニルを示し、例えば2−プロビニル
(プロパルギル)、プトー3−イン−1−イル、プトー
2−イン−1−イルもしくはベント−3−イン−1−イ
ルである.C,〜C.シクロアルキルは、好ましくは3
〜6個の環状炭素原子を有し、従ってC,〜C6シクロ
アルキルであり、例えばシクロプロピル、シクロブチル
、シクロペンチルまたはシクロヘキシルである. C,〜C.シクロアルキル一低級アルキルは、好ましく
は3〜6個の環を有し更に1〜4個の鎖状炭素原子を有
し更に、例えばC,〜C,シクロアルキルーC,〜C4
アルキル、例えばシクロプロビルメチル、シクロプチ“
ルメチルまたはシクロヘキシルメチルである. 七ノーもしくはジヒドロキシー低級アルキルは、好まし
くはα一位において1個のヒドロキシ基を有し、例えば
α−ヒドロキシーC2〜C,アルキル、例えばα−ヒド
ロキシーC8〜C4アルキル、例えば1−ヒドロキシエ
チル、2−(2−ヒドロキシ)プロビル、l−ヒドロキ
シブチル、2一(2−ヒドロキシ)ブチルまたは1−(
1−ヒドロキシ−2−メチル)プロビル、またはα,β
一ジヒドロキシ一〇,〜C,アルキル、例えば1.2−
ジヒドロキシープロブ−2−イルであるが、或いはまた
α一位よりもより高位に単一のヒドロキシ基を有するこ
とも出来、更に例えばβ−,T一もしくはδ−ヒドロキ
シーC2〜C,アルキル、例えば3−ヒドロキシプロビ
ルまたは2−,3−もしくは4−ヒドロキシブチルを表
わす.ヒドロキシ一低級アルケニルは、好ましくはα一
位にヒドロキシ基を有し更にα.β一位よりもより高位
に二重結合を有し、例えばα−ヒドロキシーCs〜Cs
アルケニル、例えば1−ヒドロキシブト−2−エニルに
対応する。
モノー、ジーもしくはポリハロゲノー低級アルキルは、
例えば七ノー、ジーもしくはトリフルオロー02〜C,
アルキル、例えば3,3.3−トリフルオロプロビル、
4,4.4−}リフルオロブチル、1−もしくは2−フ
ルオロブチルまたは1.1−ジフルオロブチルである. モノー、ジーもしくはボリハロゲノー低級アルケニルは
、例えばモノー、ジーもしくはトリフルオローC3〜C
sアルケニル、例えば2−フルオロブト−2−エニルで
ある. モノー、ジーもしくはボリハロゲノー低級ヒドロキシア
ルキル及びモノー、ジーもしくはボリハロゲノー低級ヒ
ドロキシアルケニルは、好ましくはα一位においてヒド
ロキシ基を有し更にβ一位よりもより高位にハロゲン原
子を有しており、例えば七ノー、ジー、もしくはトリフ
ルオローα一ヒドロキシ一〇,〜C,アルキル、または
モノージーもしくはトリフルオローC,〜C?アルケニ
ル、例えば2−フルオロー1−ヒドロキシブチル、2−
フルオロー1−ヒドロキシーブト−2−エンー1−イル
もしくは4,4.4−}リフルオロ−1−ヒドロキシブ
チルに対応する. 低級アルコキシ一低級アルキルは、好ましくは10個ま
での炭素原子を有し、例えばC,〜C4アルコキシーC
i ” C aアルキル、例えば01〜C,アルコキ
シーc,−C.アルキル、例えばメトキシメチル、エト
キシメチル、2−メトキシエチル、2−エトキシエチル
、3−メトキシプロピノレもしくは1−もしくは2−メ
トキシブチルである。
例えば七ノー、ジーもしくはトリフルオロー02〜C,
アルキル、例えば3,3.3−トリフルオロプロビル、
4,4.4−}リフルオロブチル、1−もしくは2−フ
ルオロブチルまたは1.1−ジフルオロブチルである. モノー、ジーもしくはボリハロゲノー低級アルケニルは
、例えばモノー、ジーもしくはトリフルオローC3〜C
sアルケニル、例えば2−フルオロブト−2−エニルで
ある. モノー、ジーもしくはボリハロゲノー低級ヒドロキシア
ルキル及びモノー、ジーもしくはボリハロゲノー低級ヒ
ドロキシアルケニルは、好ましくはα一位においてヒド
ロキシ基を有し更にβ一位よりもより高位にハロゲン原
子を有しており、例えば七ノー、ジー、もしくはトリフ
ルオローα一ヒドロキシ一〇,〜C,アルキル、または
モノージーもしくはトリフルオローC,〜C?アルケニ
ル、例えば2−フルオロー1−ヒドロキシブチル、2−
フルオロー1−ヒドロキシーブト−2−エンー1−イル
もしくは4,4.4−}リフルオロ−1−ヒドロキシブ
チルに対応する. 低級アルコキシ一低級アルキルは、好ましくは10個ま
での炭素原子を有し、例えばC,〜C4アルコキシーC
i ” C aアルキル、例えば01〜C,アルコキ
シーc,−C.アルキル、例えばメトキシメチル、エト
キシメチル、2−メトキシエチル、2−エトキシエチル
、3−メトキシプロピノレもしくは1−もしくは2−メ
トキシブチルである。
低級アルコキシは、例えばC,〜C4アノレコキシ、例
えばメトキシ、エトキシ、イソブロピルオキシ、プロピ
ルオキシ、プチルオキシ、第二ブチルオキシもしくは第
三ブチルオキシである.低級アルコキシ一低級アルコキ
シ一低級アノレキルは、例えばC. NC4アルコキシ
ーC!〜C4アルコキシーc,−Caアルキル、例えば
2−メトキシエトキシメチルである. 低級アルキルチオ一低級アルキルは、好ましくは10個
までの炭素原子を有し、例えばCI〜C4アルキルチオ
ーc,−C.アルキル、例えば01〜C3アルキルチオ
ーc, NC.アルキル、例えばメチルチオメチル、エ
チルチオメチル、2−メチルチオエチル、2−エチルチ
オエチルまたは3ーメチルチオブロビルである. 低級アルカンスルフィニルー及び低級アルカンスルホニ
ルー低級アルキルは、好ましくは10個までの炭素原子
を有し、例えばC.−C.アルカンスルフィニルーもし
くはC.〜C4アルカンスルホニルーC,−C.アルキ
ル、例えばエタンスルフィニルメチルまたはエタンスル
ホニルメチルである. ジー低級アルコキシ一低級アルキルは好ましくは合計で
15個までの炭素原子を有し、例えばジーC,〜C4ア
ルコキシーC,〜C,アルキル、例えばジーC,〜C,
アルコキシ−C I− C zアルキル、例えばジメト
キシメチル、ジエトキシメチル、ジプロピルオキシメチ
ル、l,1−もしくは2.2−ジエトキシエチル、ジイ
ソプロビルオキシメチル、ジーn−プチルオキシメチル
または3.3−ジメトキシプロビルである. ジー低級アルキルチオ一低級アルキルは好ましくは15
個までの炭素原子を合計で有し、例えばジC l”’
C aアルキルチオ−C I”’ C 4アルキル、例
えばジーC,〜C,アルキルチオ−CI〜C3アルキル
、例えばジメチルチオメチル、ジエチルチオメチルまた
は1,1−もしくは2.2−ジメチルチオエチルである
. 低級アルコキシ−(ヒドロキシ)低級アルキルは、例え
ばCI−Cmアルコキシ=C I− C ?(ヒドロキ
シ)アルキル、例えば2−(2−ヒドロキシ−3−メト
キシ)プロビルである.低級アルコキシー(ハロゲノ)
低級アルキルは、例えばc,−C.アルコキシーc.m
Cv − (ノ1ロゲノ)″?ルキル、例えば1−(2
−フルオロー1−メトキシ)プチルである. オキソー低級アルキルは、好ましくはα一位よりもより
高位にオキソ基を有し、例えばオキソーC2〜C7アル
キル、特にオキソーC,〜Chアルキル、例えば2−オ
キソプロビル、2−もしくは3−オキソプチルまたは3
−オキソペンチルである. アミノー低級アルキルは、例えばアミノー02〜C,ア
ルキル、特にアξノーC,〜Chアルキル、例えば3−
アξノブロピルまたは3−もしくは4−アミノブチルで
ある.同様にN一低級アルカノイルアξノ一低級アルキ
ル及びフタルイξドー低級アルキルは、例えばN C
t〜C−1アルカノイルアξノーもしくはフタルイミド
ーC!〜C,アルキル、特に一〇,〜C,アルキル、例
えば3−アセタξドブロピル.3−もしくは4−アセタ
ξドブチル、3−フタルイごドブ口ピルもしくは3−も
しくは4−フタルイ逅ドブチルである。
えばメトキシ、エトキシ、イソブロピルオキシ、プロピ
ルオキシ、プチルオキシ、第二ブチルオキシもしくは第
三ブチルオキシである.低級アルコキシ一低級アルコキ
シ一低級アノレキルは、例えばC. NC4アルコキシ
ーC!〜C4アルコキシーc,−Caアルキル、例えば
2−メトキシエトキシメチルである. 低級アルキルチオ一低級アルキルは、好ましくは10個
までの炭素原子を有し、例えばCI〜C4アルキルチオ
ーc,−C.アルキル、例えば01〜C3アルキルチオ
ーc, NC.アルキル、例えばメチルチオメチル、エ
チルチオメチル、2−メチルチオエチル、2−エチルチ
オエチルまたは3ーメチルチオブロビルである. 低級アルカンスルフィニルー及び低級アルカンスルホニ
ルー低級アルキルは、好ましくは10個までの炭素原子
を有し、例えばC.−C.アルカンスルフィニルーもし
くはC.〜C4アルカンスルホニルーC,−C.アルキ
ル、例えばエタンスルフィニルメチルまたはエタンスル
ホニルメチルである. ジー低級アルコキシ一低級アルキルは好ましくは合計で
15個までの炭素原子を有し、例えばジーC,〜C4ア
ルコキシーC,〜C,アルキル、例えばジーC,〜C,
アルコキシ−C I− C zアルキル、例えばジメト
キシメチル、ジエトキシメチル、ジプロピルオキシメチ
ル、l,1−もしくは2.2−ジエトキシエチル、ジイ
ソプロビルオキシメチル、ジーn−プチルオキシメチル
または3.3−ジメトキシプロビルである. ジー低級アルキルチオ一低級アルキルは好ましくは15
個までの炭素原子を合計で有し、例えばジC l”’
C aアルキルチオ−C I”’ C 4アルキル、例
えばジーC,〜C,アルキルチオ−CI〜C3アルキル
、例えばジメチルチオメチル、ジエチルチオメチルまた
は1,1−もしくは2.2−ジメチルチオエチルである
. 低級アルコキシ−(ヒドロキシ)低級アルキルは、例え
ばCI−Cmアルコキシ=C I− C ?(ヒドロキ
シ)アルキル、例えば2−(2−ヒドロキシ−3−メト
キシ)プロビルである.低級アルコキシー(ハロゲノ)
低級アルキルは、例えばc,−C.アルコキシーc.m
Cv − (ノ1ロゲノ)″?ルキル、例えば1−(2
−フルオロー1−メトキシ)プチルである. オキソー低級アルキルは、好ましくはα一位よりもより
高位にオキソ基を有し、例えばオキソーC2〜C7アル
キル、特にオキソーC,〜Chアルキル、例えば2−オ
キソプロビル、2−もしくは3−オキソプチルまたは3
−オキソペンチルである. アミノー低級アルキルは、例えばアミノー02〜C,ア
ルキル、特にアξノーC,〜Chアルキル、例えば3−
アξノブロピルまたは3−もしくは4−アミノブチルで
ある.同様にN一低級アルカノイルアξノ一低級アルキ
ル及びフタルイξドー低級アルキルは、例えばN C
t〜C−1アルカノイルアξノーもしくはフタルイミド
ーC!〜C,アルキル、特に一〇,〜C,アルキル、例
えば3−アセタξドブロピル.3−もしくは4−アセタ
ξドブチル、3−フタルイごドブ口ピルもしくは3−も
しくは4−フタルイ逅ドブチルである。
アミノー低級ヒドロキシアルキルは、例えばアξノ一〇
,〜C?(ヒドロキシ)アルキル、例えば3−アξノー
2−ヒドロキシープロビルまたは4一アξノ−2−ヒド
ロキシプチルである.同様に、N一低級アルカノイルア
ξノ一低級ヒドロキシアルキル及びフタルイξド一低級
ヒドロキシアルキルは、例えばN−C.〜C7アルカノ
イルアξノーもしくはフタルイξドーC2〜C,アルキ
ル、特に一C,〜C,アルキル、例えば3−アセタミド
ーもしくは3−フタルイ逅ドー2−ヒドロキシープロビ
ルもしくは4−フタルイξドー2−ヒドロキシブチルで
ある. ヒドロキシ一〇,〜Cllシクロアルキルは、例えば1
−ヒドロキシ一〇,〜C,シクロアルキル、例えば1−
ヒドロキシシクロブチルである。
,〜C?(ヒドロキシ)アルキル、例えば3−アξノー
2−ヒドロキシープロビルまたは4一アξノ−2−ヒド
ロキシプチルである.同様に、N一低級アルカノイルア
ξノ一低級ヒドロキシアルキル及びフタルイξド一低級
ヒドロキシアルキルは、例えばN−C.〜C7アルカノ
イルアξノーもしくはフタルイξドーC2〜C,アルキ
ル、特に一C,〜C,アルキル、例えば3−アセタミド
ーもしくは3−フタルイ逅ドー2−ヒドロキシープロビ
ルもしくは4−フタルイξドー2−ヒドロキシブチルで
ある. ヒドロキシ一〇,〜Cllシクロアルキルは、例えば1
−ヒドロキシ一〇,〜C,シクロアルキル、例えば1−
ヒドロキシシクロブチルである。
オキサーもしくはチアーC,〜C,シクロアルキルは、
好ましくは2〜6個の環状炭素原子を有し、例えば2−
オキサシク口プロビル(オキシラニル)、2−もしくは
3−オキサシクロブチル(オキセタニル)、2−もしく
は3−チアシクロプチル(チェタニル)、2−もしくは
3−オキサシクロベンチル(テトラヒドロフラニル)、
2−もしくは3−チアシクロペンチル(チオラニル)も
しくは2−オキサシクロヘキシル(テトラヒドロピラニ
ル)である. ジオキサ−03〜C.シクロアルキルは、好ましくは3
〜5個の環状炭素原子を有し、1.3一位において互い
に対し2個の炭素原子を有し、更に、例えば1.3−ジ
チオランー2−イルもしくは1.3−ジチオキサン−2
−イルを表わす.ジチアーC,〜C.シクロアルキルは
、好ましくは3〜5個の環状炭素原子を有し、更に1.
3一位において互いに対し2個のイオウ原子を有し、例
えば1.3−ジチオラン−2−イルまたは1,3−ジチ
オキサン−2−イルを表わす。オキサチオーC,〜C.
シクロアルキルは、例えば1.3−オキサチオラン−2
−イルまたは1.3−オキサチオキサン−2−イルであ
る. C,〜C.シクロアルキル−(ヒドロキシ)低級アルキ
ルは、好ましくは3〜6個の環並びに1〜4個の鎖状炭
素原子を有し、例えばシクローC,〜ChアルキルーC
1〜C4アルキル、例えば1−シクロプロビル−1−ヒ
ドロキシメチルまたは1−ヒドロキシ−1−シクロブチ
ルメチルである.低級アルキルチオシクロアルキルー(
ヒドロキシ)一低級アルキルは、例えば1−ヒドロキシ
−1=(2−メチルチオシクロブロビル)である.ハロ
ゲン、RIIRI’及び/または芳香族基R!の置換基
としてのハロゲンは、好ましくはフッ素であるが、塩素
、臭素またはヨウ素であってもよい. フエニルもしくはナフチル基は先に定義したごとく1個
またはそれ以上、好ましくは1個または2個の同一もし
くは異なった置換基である.フエニルーもしくはナフチ
ルー低級アルキルは、例えばベンジル、ナフサ−2−イ
ルメチル、1−もしくは2−フエニルエチルまたは2−
もしくは3−フェニルブロピルであり、これらの各々は
所望により先に定義したごとく置換されている.式■の
化合物の塩は、特にそれらの医薬として許容されうる塩
であり、例えば酸との対応する負荷塩並びに塩基との塩
である.酸付加塩形戒用の適当な酸は、例えば鉱酸、例
えば塩酸、臭化水素酸、硫酸もしくはリン酸であり或い
はまた有機酸、例えば有機スルホン酸、例えばベンゼン
スルホン酸、4−トルエンスルホン酸またはメタンスル
ホン酸であり更に有機カルボン酸、例えば酢酸、乳酸、
バルξチン酸、ステアリン酸、リンゴ酸、マレイン酸、
フマル酸、酒石酸、アスコルビン酸、またはクエン酸で
ある。塩基との塩は、例えばアルカリ金属もしくはアル
カリ土類金属塩、例えばナトリウム、カリウム、カルシ
ウムもしくはマグネシウム塩またはアンモニウム塩、例
えばアンモニアとの塩、または適当な有機アミン、例え
ばジエチルアξン、ジー(2−ヒドロキシエチル)ーア
ミンもしくはトリ−(2−ヒドロキシエチル)一アξン
である。式■の化合物はまた内部塩を形成することも出
来る.不整炭素原子の存在に応じて、本発明の化合物は
異性体、特にラセミ体の混合物の形態で、または純粋な
異性体、特に光学対掌体の形で存在しうる. 以下の内容が見い出された。すなわち前記式■の化合物
及びその医薬として許容されうる塩は、価値ある薬理活
性を示す.該化合物は、GABAaーレセプターにおけ
る有効な結合を示し更に該レセプターに対してアンタゴ
ニストとして作用することが見い出されている。機構的
には、GABAm レセプターにおける拮抗は、興奮性
アξノ酸伝達物質、すなわちグルタメート及びアスパル
テートの速やかな放出を増加し従って脳における情報処
理を促進する。これによって以下の事実が見い出されて
いる。すなわちGABAI機構に寄与する、海馬内の後
の抑制シプナス後部の電位は、拮抗により下げられ従っ
て神経衝動転移のより速やかな続発をもたらす. 一方では、抗うつ薬及び反復的電気ショックによる慢性
治療は、ラットの大脳皮質内におけるGABAm レセ
プターの数を増加することが見い出された.レセプタ一
理論に従ってGABAm拮抗体による慢性治療は、同様
の効果をもたらす、これら及び他の理由の為、GABA
m拮抗体はそれゆえ抗うつ薬として作用しうる。
好ましくは2〜6個の環状炭素原子を有し、例えば2−
オキサシク口プロビル(オキシラニル)、2−もしくは
3−オキサシクロブチル(オキセタニル)、2−もしく
は3−チアシクロプチル(チェタニル)、2−もしくは
3−オキサシクロベンチル(テトラヒドロフラニル)、
2−もしくは3−チアシクロペンチル(チオラニル)も
しくは2−オキサシクロヘキシル(テトラヒドロピラニ
ル)である. ジオキサ−03〜C.シクロアルキルは、好ましくは3
〜5個の環状炭素原子を有し、1.3一位において互い
に対し2個の炭素原子を有し、更に、例えば1.3−ジ
チオランー2−イルもしくは1.3−ジチオキサン−2
−イルを表わす.ジチアーC,〜C.シクロアルキルは
、好ましくは3〜5個の環状炭素原子を有し、更に1.
3一位において互いに対し2個のイオウ原子を有し、例
えば1.3−ジチオラン−2−イルまたは1,3−ジチ
オキサン−2−イルを表わす。オキサチオーC,〜C.
シクロアルキルは、例えば1.3−オキサチオラン−2
−イルまたは1.3−オキサチオキサン−2−イルであ
る. C,〜C.シクロアルキル−(ヒドロキシ)低級アルキ
ルは、好ましくは3〜6個の環並びに1〜4個の鎖状炭
素原子を有し、例えばシクローC,〜ChアルキルーC
1〜C4アルキル、例えば1−シクロプロビル−1−ヒ
ドロキシメチルまたは1−ヒドロキシ−1−シクロブチ
ルメチルである.低級アルキルチオシクロアルキルー(
ヒドロキシ)一低級アルキルは、例えば1−ヒドロキシ
−1=(2−メチルチオシクロブロビル)である.ハロ
ゲン、RIIRI’及び/または芳香族基R!の置換基
としてのハロゲンは、好ましくはフッ素であるが、塩素
、臭素またはヨウ素であってもよい. フエニルもしくはナフチル基は先に定義したごとく1個
またはそれ以上、好ましくは1個または2個の同一もし
くは異なった置換基である.フエニルーもしくはナフチ
ルー低級アルキルは、例えばベンジル、ナフサ−2−イ
ルメチル、1−もしくは2−フエニルエチルまたは2−
もしくは3−フェニルブロピルであり、これらの各々は
所望により先に定義したごとく置換されている.式■の
化合物の塩は、特にそれらの医薬として許容されうる塩
であり、例えば酸との対応する負荷塩並びに塩基との塩
である.酸付加塩形戒用の適当な酸は、例えば鉱酸、例
えば塩酸、臭化水素酸、硫酸もしくはリン酸であり或い
はまた有機酸、例えば有機スルホン酸、例えばベンゼン
スルホン酸、4−トルエンスルホン酸またはメタンスル
ホン酸であり更に有機カルボン酸、例えば酢酸、乳酸、
バルξチン酸、ステアリン酸、リンゴ酸、マレイン酸、
フマル酸、酒石酸、アスコルビン酸、またはクエン酸で
ある。塩基との塩は、例えばアルカリ金属もしくはアル
カリ土類金属塩、例えばナトリウム、カリウム、カルシ
ウムもしくはマグネシウム塩またはアンモニウム塩、例
えばアンモニアとの塩、または適当な有機アミン、例え
ばジエチルアξン、ジー(2−ヒドロキシエチル)ーア
ミンもしくはトリ−(2−ヒドロキシエチル)一アξン
である。式■の化合物はまた内部塩を形成することも出
来る.不整炭素原子の存在に応じて、本発明の化合物は
異性体、特にラセミ体の混合物の形態で、または純粋な
異性体、特に光学対掌体の形で存在しうる. 以下の内容が見い出された。すなわち前記式■の化合物
及びその医薬として許容されうる塩は、価値ある薬理活
性を示す.該化合物は、GABAaーレセプターにおけ
る有効な結合を示し更に該レセプターに対してアンタゴ
ニストとして作用することが見い出されている。機構的
には、GABAm レセプターにおける拮抗は、興奮性
アξノ酸伝達物質、すなわちグルタメート及びアスパル
テートの速やかな放出を増加し従って脳における情報処
理を促進する。これによって以下の事実が見い出されて
いる。すなわちGABAI機構に寄与する、海馬内の後
の抑制シプナス後部の電位は、拮抗により下げられ従っ
て神経衝動転移のより速やかな続発をもたらす. 一方では、抗うつ薬及び反復的電気ショックによる慢性
治療は、ラットの大脳皮質内におけるGABAm レセ
プターの数を増加することが見い出された.レセプタ一
理論に従ってGABAm拮抗体による慢性治療は、同様
の効果をもたらす、これら及び他の理由の為、GABA
m拮抗体はそれゆえ抗うつ薬として作用しうる。
本発明のGABAI拮抗体は、GABAIレセプターに
おいて相互作用しあう、ラットの大脳皮質膜において約
10” ’ M (mol / 12 )から出発した
ICsa値を有する。このモデルにおいてtCS。、す
なわち3−ア逅ノー2− (4−クロロフェニル)−2
−ヒドロキシープロビル(n−ブチル)ホスフィン酸塩
酸塩の、レセプターサイトからバタロフェンの50%を
置き換える濃度は、例えばGABAIアゴニスト、例え
ばバクロフェンに対して7 XIO−”Mであることが
見い出された。それらはノルアドレナリンによりラット
の大脳皮質薄片におけるアデニレートサイクラーゼの刺
激を増強しないが、しかしバタロフェンの作用に拮抗す
る.バタロフェンに対する拮抗はまた、試験管内の電気
生理学的モデル、例えばペニシリンー誘発「転換性」海
馬薄片調製品においても示されており、ここにおいて6
−の濃度のバタロフェンは、錐体細胞の「転換性」一様
放出を抑制する.本発明の化合物は、約10一〜約10
04Hの濃度でバクロフェンの作用に拮抗する。
おいて相互作用しあう、ラットの大脳皮質膜において約
10” ’ M (mol / 12 )から出発した
ICsa値を有する。このモデルにおいてtCS。、す
なわち3−ア逅ノー2− (4−クロロフェニル)−2
−ヒドロキシープロビル(n−ブチル)ホスフィン酸塩
酸塩の、レセプターサイトからバタロフェンの50%を
置き換える濃度は、例えばGABAIアゴニスト、例え
ばバクロフェンに対して7 XIO−”Mであることが
見い出された。それらはノルアドレナリンによりラット
の大脳皮質薄片におけるアデニレートサイクラーゼの刺
激を増強しないが、しかしバタロフェンの作用に拮抗す
る.バタロフェンに対する拮抗はまた、試験管内の電気
生理学的モデル、例えばペニシリンー誘発「転換性」海
馬薄片調製品においても示されており、ここにおいて6
−の濃度のバタロフェンは、錐体細胞の「転換性」一様
放出を抑制する.本発明の化合物は、約10一〜約10
04Hの濃度でバクロフェンの作用に拮抗する。
生体内において、拮抗はラットの大脳皮質に関するバタ
ロフェンのイオン電気導入法並びに10−100■/k
gの用量でアンタゴニストの全身系投与により実証され
た.回転モデルにおいて測定したバタロフェンの筋弛緩
作用は、また約30■/kg i.p.の用量で拮抗さ
れる. アンタゴニストは、バタロフェンに対するアンタゴニス
ト作用を示すばかりでなく、理論的にも期待されたごと
《(上記参照)、内因性GABAのアンタゴニストとし
てそれ自身に関する作用をも示す.従って、アンタゴニ
ストは、抗うつ作用、抗不安作用及び/またはヌートロ
ビック(nootropic)作用を暗示するような、
当業界において確立された挙動モデルにおいて活性であ
る。式■の化合物は、経口投与後、ボルソルト(For
sol t )による水泳試験において、ゲラ−(Ge
ller)テストにおいて、試験前及び試験後の状況に
おける1回の試みによりステップーダウンパシイブ回避
において、2つの区分テスト及び複雑な迷路において有
効であった.加えて、赤毛ザルに関する研究において、
遊びたわむれ、検査、社会的訓練における増加並びに不
安の徴候の減少が観察された.従って、式Iの化合物は
ヌートロピック剤、抗うつ剤及び不安除去剤として使用
出来る.もちろん、該化合物はまたバタロフェンー解毒
薬としても使用出来る。
ロフェンのイオン電気導入法並びに10−100■/k
gの用量でアンタゴニストの全身系投与により実証され
た.回転モデルにおいて測定したバタロフェンの筋弛緩
作用は、また約30■/kg i.p.の用量で拮抗さ
れる. アンタゴニストは、バタロフェンに対するアンタゴニス
ト作用を示すばかりでなく、理論的にも期待されたごと
《(上記参照)、内因性GABAのアンタゴニストとし
てそれ自身に関する作用をも示す.従って、アンタゴニ
ストは、抗うつ作用、抗不安作用及び/またはヌートロ
ビック(nootropic)作用を暗示するような、
当業界において確立された挙動モデルにおいて活性であ
る。式■の化合物は、経口投与後、ボルソルト(For
sol t )による水泳試験において、ゲラ−(Ge
ller)テストにおいて、試験前及び試験後の状況に
おける1回の試みによりステップーダウンパシイブ回避
において、2つの区分テスト及び複雑な迷路において有
効であった.加えて、赤毛ザルに関する研究において、
遊びたわむれ、検査、社会的訓練における増加並びに不
安の徴候の減少が観察された.従って、式Iの化合物は
ヌートロピック剤、抗うつ剤及び不安除去剤として使用
出来る.もちろん、該化合物はまたバタロフェンー解毒
薬としても使用出来る。
本発明は、例えば前記式I (式中R1はハロゲンであ
り、R , tはハロゲンまたは水素であり更にR8及
びRt′は水素であるかまたは、R,及びR1は水素で
あり、R2は芳香族基であり更にR , Iはヒドロキ
シであるか、またはR2及びR2′は共に一緒になって
オキソを表わすかまたはここにおいてRは2個以上の炭
素原子を有する脂肪族、脂環式、脂環式一脂肪族または
芳香脂肪族基である)の化合物及びそれらの塩、前記式
Iの化合物の製造方法、該化合物またはそれらの塩を含
有する医薬組成物更に医薬としてまたはそれらの製造方
法としてのそれらの使用に関する。
り、R , tはハロゲンまたは水素であり更にR8及
びRt′は水素であるかまたは、R,及びR1は水素で
あり、R2は芳香族基であり更にR , Iはヒドロキ
シであるか、またはR2及びR2′は共に一緒になって
オキソを表わすかまたはここにおいてRは2個以上の炭
素原子を有する脂肪族、脂環式、脂環式一脂肪族または
芳香脂肪族基である)の化合物及びそれらの塩、前記式
Iの化合物の製造方法、該化合物またはそれらの塩を含
有する医薬組成物更に医薬としてまたはそれらの製造方
法としてのそれらの使用に関する。
本発明は特に式I(式中R,がハロゲンであり、R1が
ハロゲンまたは水素であり更にR!及びR2′が水素で
あるか、またはR+及びR1が水素であり、Rtは低級
アルキル、フェニル、ハロゲン、低級アルキル、低級ア
ルコキシ及び/またはトリフルオロメチルによりモノー
もしくはジ置換されたフェニル、またはピリジルであり
更にR.はヒドロキシであるかまたはR,及びR ,
Iが共に一緒になってオキソを表わし、さらにここにお
いてRは2個以上の炭素原子を有する低級アルキル、低
級アルケニル、低級アルキニル、3〜6個の環状炭素原
子を有するシクロアルキル、ヒドロキシシクロアルキル
、シクロアルキル一低級アルキル、シクロアルキルー(
ヒドロキシ)低級アルキルもしくは低級アルキルチオシ
クロアルキルー(ヒドロキシ)一低級アルキル基、オキ
ソー低級アルキル、72ノ一低級アルキル、低級アルカ
ノイルア逅ノ一低級アルキル、フタルイaドー低級アル
キル、モノーもしくはジヒドロキシ一低級アルキル、ヒ
ドロキシー低級アルケニル、ア果ノー(ヒドロキシ)低
級アルケニル、低級アルカノイルアミノー(ヒドロキシ
)低級アルキル、フタルイくドー(ヒドロキシ)低級ア
ルキル、モノージーもしくはボリハロゲノー低級アルキ
ル、モノ、ジーもしくはボリハロゲノー低級アルケニル
、モノー、ジーもしくはボリハロゲノー(ヒドロキシ)
低級アルキル、モノー、ジーもしくはポリハロゲノー(
ヒドロキシ)低級アルケニル、ア逅ノ低級アルコキシ一
低級アルキル、低級アルキルチオー低級アルキル、低級
アルカンスルフィニル一低級アルキル、低級アルカンス
ルホニルー低級アルキル、ジー低級アルコキシ一低級ア
ルキル、ジー低級アルキルチオー低級アルキル、低級ア
ルコキシー(ヒドロキシ)低級アルキル、低級アルコキ
シー(ハロゲノ)低級アルキル、フェニル一低級アルキ
ル、フェニル部分においてハロゲン、低級アルキル、低
級アルコキシ及び/またはトリフルオロメチルによりモ
ノーもしくはジ置換されたフェニルー低級アルキル、ナ
フチル一低級アルキル、2〜6個の環状炭素原子を有す
るオキサーもしくはチアシクロアルキル、または3〜5
個の環状炭素原子を有するジオキサー、オキサチアーも
しくはジチアシクロアルキルであるかまたはもしもR,
及びR , /が水素を表わす場合、Rtはフェニル、
ハロゲン、低級アルキル、低級アルコキシ及び/または
トリフルオロメチルによりモノーもしくはジ置換された
フェニル、またはビリジルであり、更にR雪′はヒドロ
キシ、Rはメチルを,表わす)の化合物及びそれらの塩
、特に医薬として許容されうる塩に関する。
ハロゲンまたは水素であり更にR!及びR2′が水素で
あるか、またはR+及びR1が水素であり、Rtは低級
アルキル、フェニル、ハロゲン、低級アルキル、低級ア
ルコキシ及び/またはトリフルオロメチルによりモノー
もしくはジ置換されたフェニル、またはピリジルであり
更にR.はヒドロキシであるかまたはR,及びR ,
Iが共に一緒になってオキソを表わし、さらにここにお
いてRは2個以上の炭素原子を有する低級アルキル、低
級アルケニル、低級アルキニル、3〜6個の環状炭素原
子を有するシクロアルキル、ヒドロキシシクロアルキル
、シクロアルキル一低級アルキル、シクロアルキルー(
ヒドロキシ)低級アルキルもしくは低級アルキルチオシ
クロアルキルー(ヒドロキシ)一低級アルキル基、オキ
ソー低級アルキル、72ノ一低級アルキル、低級アルカ
ノイルア逅ノ一低級アルキル、フタルイaドー低級アル
キル、モノーもしくはジヒドロキシ一低級アルキル、ヒ
ドロキシー低級アルケニル、ア果ノー(ヒドロキシ)低
級アルケニル、低級アルカノイルアミノー(ヒドロキシ
)低級アルキル、フタルイくドー(ヒドロキシ)低級ア
ルキル、モノージーもしくはボリハロゲノー低級アルキ
ル、モノ、ジーもしくはボリハロゲノー低級アルケニル
、モノー、ジーもしくはボリハロゲノー(ヒドロキシ)
低級アルキル、モノー、ジーもしくはポリハロゲノー(
ヒドロキシ)低級アルケニル、ア逅ノ低級アルコキシ一
低級アルキル、低級アルキルチオー低級アルキル、低級
アルカンスルフィニル一低級アルキル、低級アルカンス
ルホニルー低級アルキル、ジー低級アルコキシ一低級ア
ルキル、ジー低級アルキルチオー低級アルキル、低級ア
ルコキシー(ヒドロキシ)低級アルキル、低級アルコキ
シー(ハロゲノ)低級アルキル、フェニル一低級アルキ
ル、フェニル部分においてハロゲン、低級アルキル、低
級アルコキシ及び/またはトリフルオロメチルによりモ
ノーもしくはジ置換されたフェニルー低級アルキル、ナ
フチル一低級アルキル、2〜6個の環状炭素原子を有す
るオキサーもしくはチアシクロアルキル、または3〜5
個の環状炭素原子を有するジオキサー、オキサチアーも
しくはジチアシクロアルキルであるかまたはもしもR,
及びR , /が水素を表わす場合、Rtはフェニル、
ハロゲン、低級アルキル、低級アルコキシ及び/または
トリフルオロメチルによりモノーもしくはジ置換された
フェニル、またはビリジルであり、更にR雪′はヒドロ
キシ、Rはメチルを,表わす)の化合物及びそれらの塩
、特に医薬として許容されうる塩に関する。
本発明は特に式■(式中R,がハロゲンであり、R ,
7がハロゲンまたは水素であり、更にRt及びR ,
rが水素であるか、またはR1及びR1が水素であり
、R冨がフェニルであるか、またはハ?ゲン、低級アル
キル、低級アルコキシ及び/またはトリフルオロメチル
によりモノーもしくはジ置換されたフェニルであり、更
にRg■がヒドロキシであるかまたはR!及びR ,
lは共に一緒になってオキソを表わし、更にここにおい
てRは2個以上の炭素原子を有する低級アルキル、低級
アルケニル、低級アルキニル、3〜6個の環状炭素原子
を有するシクロアルキル、ヒドロキシシクロアルキル、
シクロアルキル一低級アルキル、シクロアルキル−(ヒ
ドロキシ)一低級アルキルもしくは低級アルキルシク口
アルキルー(ヒドロキシ)一低級アルキル基、オキソー
低級アルキル、アξノ一低級アルキル、低級アルカノイ
ルアミノー低級アルキル、フタルイミド一低級アルキル
、モノーもしくはジヒドロキシ一低級アルキル、ヒドロ
キシ一低級アルケニル、ア箋ノー(ヒドロキシ)低級ア
ルキル、低級アルカノイルアξノー(ヒドロキシ)低級
アルキル、フタルイ〔ドー〈ヒドロキシ)低級アルキル
、モノー、ジーもしくはポリハロゲノー低級アルキル、
七ノー、ジーもしくはボリハロゲノー低級アルケニル、
モノー、ジーもしくはポリハロゲノー(ヒドロキシ)低
級アルキル、モノー、ジーもしくはボリハロゲノー(ヒ
ドロキシ)低級アルキル、アミノ低級アルコキシ一低級
アルキル、低級アルキルチオ一低級アルキル、低級アル
サンスルフィニル一低級アルキル、低級アルカンスルホ
ニルー低級アルキル、ジー低級アルコキシ一低級アルキ
ル、ジー低級アルキルチオ一低級アルキル、低級アルコ
キシ−(ヒドロキシ)低級アルキル、低級アル′コキシ
ー(ハロゲノ)低級アルキル、フェニルー低級アルキル
、フェニル部分において、ハロゲン、低級アルキル、低
級アルコキシ及び/またはトリフルオロメチルにより七
ノーもしくはジ置換されたフェニルー低級アルキル、ナ
フチル一低級アルキル、2〜6個の環状炭素原子を有す
るオキサーもしくはチアシクロアルキル、または3〜5
個の環状炭素原子を有するジオキサー、オキサチアーも
しくはジチアシクロアルキルである)の化合物及びそれ
らの塩、特に医薬として許容されうる塩に関する。
7がハロゲンまたは水素であり、更にRt及びR ,
rが水素であるか、またはR1及びR1が水素であり
、R冨がフェニルであるか、またはハ?ゲン、低級アル
キル、低級アルコキシ及び/またはトリフルオロメチル
によりモノーもしくはジ置換されたフェニルであり、更
にRg■がヒドロキシであるかまたはR!及びR ,
lは共に一緒になってオキソを表わし、更にここにおい
てRは2個以上の炭素原子を有する低級アルキル、低級
アルケニル、低級アルキニル、3〜6個の環状炭素原子
を有するシクロアルキル、ヒドロキシシクロアルキル、
シクロアルキル一低級アルキル、シクロアルキル−(ヒ
ドロキシ)一低級アルキルもしくは低級アルキルシク口
アルキルー(ヒドロキシ)一低級アルキル基、オキソー
低級アルキル、アξノ一低級アルキル、低級アルカノイ
ルアミノー低級アルキル、フタルイミド一低級アルキル
、モノーもしくはジヒドロキシ一低級アルキル、ヒドロ
キシ一低級アルケニル、ア箋ノー(ヒドロキシ)低級ア
ルキル、低級アルカノイルアξノー(ヒドロキシ)低級
アルキル、フタルイ〔ドー〈ヒドロキシ)低級アルキル
、モノー、ジーもしくはポリハロゲノー低級アルキル、
七ノー、ジーもしくはボリハロゲノー低級アルケニル、
モノー、ジーもしくはポリハロゲノー(ヒドロキシ)低
級アルキル、モノー、ジーもしくはボリハロゲノー(ヒ
ドロキシ)低級アルキル、アミノ低級アルコキシ一低級
アルキル、低級アルキルチオ一低級アルキル、低級アル
サンスルフィニル一低級アルキル、低級アルカンスルホ
ニルー低級アルキル、ジー低級アルコキシ一低級アルキ
ル、ジー低級アルキルチオ一低級アルキル、低級アルコ
キシ−(ヒドロキシ)低級アルキル、低級アル′コキシ
ー(ハロゲノ)低級アルキル、フェニルー低級アルキル
、フェニル部分において、ハロゲン、低級アルキル、低
級アルコキシ及び/またはトリフルオロメチルにより七
ノーもしくはジ置換されたフェニルー低級アルキル、ナ
フチル一低級アルキル、2〜6個の環状炭素原子を有す
るオキサーもしくはチアシクロアルキル、または3〜5
個の環状炭素原子を有するジオキサー、オキサチアーも
しくはジチアシクロアルキルである)の化合物及びそれ
らの塩、特に医薬として許容されうる塩に関する。
本発明は、特に式I (式中、RI及びR , lはフ
ッ素であり更にR2及びR2′が水素であるか、または
、RI及びRl’は水素であり、R2はフエニル、ハロ
ゲン例えばフッ素により置換されたフェニル、C l”
” C aアルキル、例えばメチル、C.−C4アルコ
キシ、例えばメトキシ、及び/またはトリフルオロメチ
ルであり更にR 21はヒドロキシであるか、またはR
l及びR , lは水素であり更にR2及びR !Iは
共に一緒になってオキソを表わし、更にここにおいてR
は02〜CI!アルキル、例えばメチル、プチル、イソ
ブチル、ペンチルまたはイソベンチル、C2〜C,アル
ケニル、例えばブトー3−エニル、C雪〜C?アルキニ
ル、例えば、ベント−3−エニル、モ/−モしくはジヒ
ドロキシーC2〜C,アルキル、例えば2−(2−ヒド
ロキシ)プロビル、2− (1 .2−ジーヒドロキシ
)プロビル、2−(2−ヒドロキシ)ブチルまたは1−
ヒドロキシブチル、オキソーC,〜C7アルキル、例え
ば3−オキソブチル、アミノーC,〜C.アルキル、例
えば3−アミノプロビルまたは4−アξノブチル、フタ
ルイ嵩ド一〇,〜C6アルキル、例えば3−フタルイ臭
ドプロピルまたは4−フタルイミドブチル、またはフタ
ルイξドーC,〜C.(ヒドロキシ)アルキル、例えば
3−フタルイ稟ドー2−ヒドロキシプ口ビルまたは4−
フタルイξドー2−ヒドロキシーブチルである)の化合
物及びそれらの塩、特に医薬として許容されうる塩に関
する。
ッ素であり更にR2及びR2′が水素であるか、または
、RI及びRl’は水素であり、R2はフエニル、ハロ
ゲン例えばフッ素により置換されたフェニル、C l”
” C aアルキル、例えばメチル、C.−C4アルコ
キシ、例えばメトキシ、及び/またはトリフルオロメチ
ルであり更にR 21はヒドロキシであるか、またはR
l及びR , lは水素であり更にR2及びR !Iは
共に一緒になってオキソを表わし、更にここにおいてR
は02〜CI!アルキル、例えばメチル、プチル、イソ
ブチル、ペンチルまたはイソベンチル、C2〜C,アル
ケニル、例えばブトー3−エニル、C雪〜C?アルキニ
ル、例えば、ベント−3−エニル、モ/−モしくはジヒ
ドロキシーC2〜C,アルキル、例えば2−(2−ヒド
ロキシ)プロビル、2− (1 .2−ジーヒドロキシ
)プロビル、2−(2−ヒドロキシ)ブチルまたは1−
ヒドロキシブチル、オキソーC,〜C7アルキル、例え
ば3−オキソブチル、アミノーC,〜C.アルキル、例
えば3−アミノプロビルまたは4−アξノブチル、フタ
ルイ嵩ド一〇,〜C6アルキル、例えば3−フタルイ臭
ドプロピルまたは4−フタルイミドブチル、またはフタ
ルイξドーC,〜C.(ヒドロキシ)アルキル、例えば
3−フタルイ稟ドー2−ヒドロキシプ口ビルまたは4−
フタルイξドー2−ヒドロキシーブチルである)の化合
物及びそれらの塩、特に医薬として許容されうる塩に関
する。
特に好ましい化合物は、式I(式中、R+及びRl’は
フッ素であり更にRg及びR2′は水素であるか、また
はR,及びRl’は水素であり更にRt及びR , J
は共に一緒になってオキソを表わし、更にここにおいて
RはC2〜Cqアルキル、例えばメチル、ブチルまたは
イソブチル、α一飽和C,〜C7アルケニル、例えばブ
トー3−エニル、α一飽和C,〜C,アルキニル、例え
ばベント−3−イニル、α−,β一,T一もしくはδ一
ヒドロキシーC,〜C,アルキル、例えば2一(2−ヒ
ドロキシ)プロビルまたはl−ヒドロキシブチル、α.
α−ジフルオローC,〜C4アルキル、例えば1.1−
ジフルオロメチル、モノージーもしくはトリフルオロー
α−ヒドロキシーC,〜C,アルキル、例えば1−ヒド
ロキシ−4.4.4−トリフルオロブチル、α一飽和モ
ノー、ジーもしくはトリハロゲノーα−ヒドロキシ一〇
,〜C,アルケニル、例えば1−ヒドロキシ−2−フル
オローブト−2−エニル、CINC4アルコキシ一〇,
〜C4アルキル、例えば2−エトキシエチルまたは3−
メトキシブ口ピル、ジーCl〜C4アルコキシ一〇,〜
C4アルキル、c2〜ChシクロアルキルーC.−C.
アルキル、例えばシクロブ口ピルメチル、α−ヒドロキ
シ一〇,〜C,シクロアルキル、例えば1−ヒドロキシ
シクロブチルまたはC,〜C,シクロアルキルーα−ヒ
ドロキシ一01〜C4アルキル、例えば1−シクロプ口
ピル−1−ヒドロキシメチルである)の化合物及びそれ
らの塩、特に医薬として許容されうる塩である. 更にまた好ましい化合物は、式■ (式中Rl及びRl
’が水素であり、R2がフェニル、ハロゲン、例えばフ
ッ素により置換されたフェニル、CI〜C,アルキル、
例えばメチル、CI−Caアルコキシ、例えばメトキシ
、及び/またはトリフルオロメチルであり更にR ,
Jはヒドロキシであり更にここにおいてRはC.−C,
アルキル、例えばメチルまたはn−、第二一もしくはイ
ソーブチルである)の化合物及びそれらの塩、特に医薬
として許容されうる塩である。
フッ素であり更にRg及びR2′は水素であるか、また
はR,及びRl’は水素であり更にRt及びR , J
は共に一緒になってオキソを表わし、更にここにおいて
RはC2〜Cqアルキル、例えばメチル、ブチルまたは
イソブチル、α一飽和C,〜C7アルケニル、例えばブ
トー3−エニル、α一飽和C,〜C,アルキニル、例え
ばベント−3−イニル、α−,β一,T一もしくはδ一
ヒドロキシーC,〜C,アルキル、例えば2一(2−ヒ
ドロキシ)プロビルまたはl−ヒドロキシブチル、α.
α−ジフルオローC,〜C4アルキル、例えば1.1−
ジフルオロメチル、モノージーもしくはトリフルオロー
α−ヒドロキシーC,〜C,アルキル、例えば1−ヒド
ロキシ−4.4.4−トリフルオロブチル、α一飽和モ
ノー、ジーもしくはトリハロゲノーα−ヒドロキシ一〇
,〜C,アルケニル、例えば1−ヒドロキシ−2−フル
オローブト−2−エニル、CINC4アルコキシ一〇,
〜C4アルキル、例えば2−エトキシエチルまたは3−
メトキシブ口ピル、ジーCl〜C4アルコキシ一〇,〜
C4アルキル、c2〜ChシクロアルキルーC.−C.
アルキル、例えばシクロブ口ピルメチル、α−ヒドロキ
シ一〇,〜C,シクロアルキル、例えば1−ヒドロキシ
シクロブチルまたはC,〜C,シクロアルキルーα−ヒ
ドロキシ一01〜C4アルキル、例えば1−シクロプ口
ピル−1−ヒドロキシメチルである)の化合物及びそれ
らの塩、特に医薬として許容されうる塩である. 更にまた好ましい化合物は、式■ (式中Rl及びRl
’が水素であり、R2がフェニル、ハロゲン、例えばフ
ッ素により置換されたフェニル、CI〜C,アルキル、
例えばメチル、CI−Caアルコキシ、例えばメトキシ
、及び/またはトリフルオロメチルであり更にR ,
Jはヒドロキシであり更にここにおいてRはC.−C,
アルキル、例えばメチルまたはn−、第二一もしくはイ
ソーブチルである)の化合物及びそれらの塩、特に医薬
として許容されうる塩である。
先に述べた式Iの化合物の好ましい群において、Rは最
も好ましくはC,〜C4アルキル、例えばプロビル、イ
ソプロビルまたはn−、第二一もしくはイソーブチルで
あるか、またはもしも適用出来るならば水素またはメチ
ルである。
も好ましくはC,〜C4アルキル、例えばプロビル、イ
ソプロビルまたはn−、第二一もしくはイソーブチルで
あるか、またはもしも適用出来るならば水素またはメチ
ルである。
非常に特に好ましい化合物は、式I(式中RがC.−C
−1アルキル、例えばn−、第二一もしくはイソーブチ
ルであり、更にRl及びR , /がフッ素であり更に
Rt及びR , Iが水素であるか、またはR,及びR
l’が水素であり更にRz及びR , Iが共に一緒に
なってオキソを表わす)の化合物、及びそれらの医薬と
して許容されうる塩である。
−1アルキル、例えばn−、第二一もしくはイソーブチ
ルであり、更にRl及びR , /がフッ素であり更に
Rt及びR , Iが水素であるか、またはR,及びR
l’が水素であり更にRz及びR , Iが共に一緒に
なってオキソを表わす)の化合物、及びそれらの医薬と
して許容されうる塩である。
最も好ましい化合物は、式I (式中RがC,〜C,ア
ルキルであり更にここにおいてRI及びRIがフッ素で
あり、R2及びR , lが水素であるか、またはR1
及びRl′が水素であり史にR,及びR , tが共に
一緒になってオキソを表わす)の化合物、及びそれらの
医薬として許容されうる塩である。
ルキルであり更にここにおいてRI及びRIがフッ素で
あり、R2及びR , lが水素であるか、またはR1
及びRl′が水素であり史にR,及びR , tが共に
一緒になってオキソを表わす)の化合物、及びそれらの
医薬として許容されうる塩である。
本発明は特に本発明の実施例において記載される式Iの
化合物、及びそれらの塩、特に医薬として許容されうる
塩に関する。
化合物、及びそれらの塩、特に医薬として許容されうる
塩に関する。
前記式1の化合物の製造方法は、
a)次式■:
(式中、R,R.,R. ,R.およびR2″は式I
で定義した意味と同じであり、Zは保護された、もしく
は潜在的ア主ノ基Z.であり、さらにR4は水素もしく
はヒドロキシ保護基Rsであり、ここにおいてRの戒分
としてのアξノおよび/またはヒドロキシR2′、また
はオキソRz +R,’は一時的に保護された形で存在
することもできる)で表わされる化合物において、基R
s又はR6を水素によって置換しおよび/または基Z0
を一N}f.に変換するか;または b)次式m: (式中、R.とRI′は式■で定義した意味と同じであ
り、さらにXは式−C}IJlh ( I a )の基
に変換されうることのできる基である) で表わされる化合物において、基Xを式Iaの基に変換
し;または C)次式■: (式中、R′は式1 (式中、Rは低級アルキルである
)の化合物を得るため、低級アルケニル、低級アルカジ
ュエルもしくは低級アルキニルから選ばれ、または式■
(式中、Rはシクロヘキシルである)の化合物を得るた
めにフェニルから選ばれる) で表わされる化合物を還元し、さらに所望により、この
プロセスで得られた生威塩を遊離化合物、または他の塩
に変換するか、および/または、所望にまり生威した遊
離化合物を上記定義に合致させるため塩に変換し、およ
び/または、所望により生成した異性体混合物を個々の
異性体に分離することを特徴とする。
で定義した意味と同じであり、Zは保護された、もしく
は潜在的ア主ノ基Z.であり、さらにR4は水素もしく
はヒドロキシ保護基Rsであり、ここにおいてRの戒分
としてのアξノおよび/またはヒドロキシR2′、また
はオキソRz +R,’は一時的に保護された形で存在
することもできる)で表わされる化合物において、基R
s又はR6を水素によって置換しおよび/または基Z0
を一N}f.に変換するか;または b)次式m: (式中、R.とRI′は式■で定義した意味と同じであ
り、さらにXは式−C}IJlh ( I a )の基
に変換されうることのできる基である) で表わされる化合物において、基Xを式Iaの基に変換
し;または C)次式■: (式中、R′は式1 (式中、Rは低級アルキルである
)の化合物を得るため、低級アルケニル、低級アルカジ
ュエルもしくは低級アルキニルから選ばれ、または式■
(式中、Rはシクロヘキシルである)の化合物を得るた
めにフェニルから選ばれる) で表わされる化合物を還元し、さらに所望により、この
プロセスで得られた生威塩を遊離化合物、または他の塩
に変換するか、および/または、所望にまり生威した遊
離化合物を上記定義に合致させるため塩に変換し、およ
び/または、所望により生成した異性体混合物を個々の
異性体に分離することを特徴とする。
式■の出発物質における保護された形で存在する基−O
R.のような保護されたヒドロキシ基は、例えばエーテ
ル化ヒドロキシ基、例えば脂肪族、脂環式もしくは芳香
脂肪族アルコール、例えば低級アルカノール、シクロア
ルヵノールまたはフェニルーもしくはジフェニル低級ア
ルヵノールでエーテル化されたヒドロキシ基、または脂
肪族シラノール、例えばトリ一低級アルキルシラノール
でエーテル化されたヒドロキシ基である。基RSO−と
して、低級アルコキシ、例えばC I”” C aアル
コキシ、モノーもしくはジフェニル低級アルコキシ、例
えば1−フエニルーもしくは1.1−ジフェニル一〇,
−c4アルコキシ、及びトリ一低級アルキルシリルオキ
シ、例えばトリ一01〜c4アルキル、例えばトリメチ
ルシリルオキシが特に好ましい。中間的に保護されたヒ
ドロキシ基R2は、好ましくは特に以下に述べるような
脂肪族シラノールでエーテル化されたヒドロキシ基であ
る。
R.のような保護されたヒドロキシ基は、例えばエーテ
ル化ヒドロキシ基、例えば脂肪族、脂環式もしくは芳香
脂肪族アルコール、例えば低級アルカノール、シクロア
ルヵノールまたはフェニルーもしくはジフェニル低級ア
ルヵノールでエーテル化されたヒドロキシ基、または脂
肪族シラノール、例えばトリ一低級アルキルシラノール
でエーテル化されたヒドロキシ基である。基RSO−と
して、低級アルコキシ、例えばC I”” C aアル
コキシ、モノーもしくはジフェニル低級アルコキシ、例
えば1−フエニルーもしくは1.1−ジフェニル一〇,
−c4アルコキシ、及びトリ一低級アルキルシリルオキ
シ、例えばトリ一01〜c4アルキル、例えばトリメチ
ルシリルオキシが特に好ましい。中間的に保護されたヒ
ドロキシ基R2は、好ましくは特に以下に述べるような
脂肪族シラノールでエーテル化されたヒドロキシ基であ
る。
式■の出発物質中ORの出発成分として保護されたアξ
ノ基Z●並びに中間的に保護されたアミノ基は、例えば
アシルアξノ基例えば低級アルヵノイルアミノ、例えば
アセチルアミノまたはフタルイミド、未置換のまたはフ
ェニルにより置換された低級アルコキシ力ルボニルア5
ノ、例えばペンジルオキシカルボニルアξノまたは第三
プトキシカルボニルア嵩ノ基、またはl−アリールーメ
チルアミノ基、例えばペンジルアミノ、または1一フエ
ニル一低級アルキルアミノ、シリル化アミノ基、例えば
トリ一低級アルキルシリルアミノまたは特にビスー(ト
リ一低級アルキルシリル)ア主ノ、例えばビスートリメ
チルシリルアミノである.潜在的アミノ基Z.は例えば
二トロまたはアジドである. 中間的に保護されたオキシ基R!+Rz’は、好ましく
は例えば以下に述べるようなケタール化もしくはチオゲ
タール化オキソ基である.式■の好ましい化合物は、次
式■a: (式中、R,はヒドロキシ保護基、例えばCl〜C4ア
ルキルまたは低級アルカノイルオキシによりもしくは1
個または2個所望により置換されたフェニル基により置
換されたC I”” C aアルキル、例えば1−02
〜C7アルカノイルオキシ一〇l〜C4アルキル、例え
ばピバノイルオキシメチル、またはl−フェニルーもし
くは1.1−ジフエニルーC,〜C4アルキル、例えば
ベンジルである)で表わされる化合物、または次式■b
:(式中、R,はヒドロキシ保護基、例えばCl〜C4
アルキル、1個または2個所望により置換されたフェニ
ル基により置換されたC1〜C4アルキル、例えばl−
フェニルーもしくは、l.1−ジフェニル−〇l〜C4
アルキル、例えばベンジル、またはシリル基、例えばト
リ一〇1〜C4アルキルシリル、例えばトリメチルシリ
ルを表わし更にz0は先に定義した意味を有し更に例え
ば01〜C,アルカノイルアミノ、例えばアセチルア藁
ド、フタルイミドまたはビスーシリルアミノ、例えばビ
ス(トリーC l”’ C aアルキルシリル)アミノ
、例えばビス(トリメチルシリル)アξノを表わす) で表わされる化合物、または次式■c:(式中、R,は
ヒドロキシ保護基、例えば01〜C4アルキル、1個ま
たは2個所望により置換されたフェニル基により置換さ
れた01〜C4アルキル、例えば1−フェニルーもしく
は1.1−ジフエニルーC,〜C4アルキル、例エハベ
ンジル、またはシリル基、例えばトリ一〇1〜C4アル
キルシリル、例えばトリメチルシリルを表わし更にR2
″はシリル化ヒドロキシ基例えばトリメチルシリルオキ
シであり、更に前記I[a . Ilb及びUc中、R
.R.,R.’ ,R.及びR tIは特に示さない
限り先に定義した意味と同じである)で表わされる化合
物である. 前記弐n . I[a . I[bまたはIlcの化合
物内の保護基Rsの水素による置換は、適当な塩基性も
しくは酸性試剤、例えばアルカリ金属水酸化物、例えば
水酸化ナトリウム、または水酸化リチウム、アルカリ金
属ハロゲン化物特に臭化物もしくはヨウ化物、例えば臭
化リチウムまたはヨウ化ナトリウム、チオヨウ素、アル
カリ金属チオフェノラート、例えばナトリウムチオフェ
ノラート、またはプロトン酸もしくはルイス酸、例えば
絋酸、例えば塩酸またはトリ一低級アルキルハロシラン
、例えばトリメチルクロロシランを用いて処理すること
により行うことが出来る.置換反応は、溶剤の非存在下
または存在下で行うことが出来更に所望により、冷却し
ながらまたは加熱しながら密閉容器中で及び/または不
活性ガス雰囲気中で行うことが出来る. R,が1位において1個または2個のフェニル基により
置換されたC.〜C4アルキルである場合、例えばR,
がベンジルである場合、式■,I1aまたはubの化合
物内のそのような基を水素により置換することは、金属
水素化触媒の存在下で水素化分解することにより、他の
適当な手段を用いて行うことが出来る。
ノ基Z●並びに中間的に保護されたアミノ基は、例えば
アシルアξノ基例えば低級アルヵノイルアミノ、例えば
アセチルアミノまたはフタルイミド、未置換のまたはフ
ェニルにより置換された低級アルコキシ力ルボニルア5
ノ、例えばペンジルオキシカルボニルアξノまたは第三
プトキシカルボニルア嵩ノ基、またはl−アリールーメ
チルアミノ基、例えばペンジルアミノ、または1一フエ
ニル一低級アルキルアミノ、シリル化アミノ基、例えば
トリ一低級アルキルシリルアミノまたは特にビスー(ト
リ一低級アルキルシリル)ア主ノ、例えばビスートリメ
チルシリルアミノである.潜在的アミノ基Z.は例えば
二トロまたはアジドである. 中間的に保護されたオキシ基R!+Rz’は、好ましく
は例えば以下に述べるようなケタール化もしくはチオゲ
タール化オキソ基である.式■の好ましい化合物は、次
式■a: (式中、R,はヒドロキシ保護基、例えばCl〜C4ア
ルキルまたは低級アルカノイルオキシによりもしくは1
個または2個所望により置換されたフェニル基により置
換されたC I”” C aアルキル、例えば1−02
〜C7アルカノイルオキシ一〇l〜C4アルキル、例え
ばピバノイルオキシメチル、またはl−フェニルーもし
くは1.1−ジフエニルーC,〜C4アルキル、例えば
ベンジルである)で表わされる化合物、または次式■b
:(式中、R,はヒドロキシ保護基、例えばCl〜C4
アルキル、1個または2個所望により置換されたフェニ
ル基により置換されたC1〜C4アルキル、例えばl−
フェニルーもしくは、l.1−ジフェニル−〇l〜C4
アルキル、例えばベンジル、またはシリル基、例えばト
リ一〇1〜C4アルキルシリル、例えばトリメチルシリ
ルを表わし更にz0は先に定義した意味を有し更に例え
ば01〜C,アルカノイルアミノ、例えばアセチルア藁
ド、フタルイミドまたはビスーシリルアミノ、例えばビ
ス(トリーC l”’ C aアルキルシリル)アミノ
、例えばビス(トリメチルシリル)アξノを表わす) で表わされる化合物、または次式■c:(式中、R,は
ヒドロキシ保護基、例えば01〜C4アルキル、1個ま
たは2個所望により置換されたフェニル基により置換さ
れた01〜C4アルキル、例えば1−フェニルーもしく
は1.1−ジフエニルーC,〜C4アルキル、例エハベ
ンジル、またはシリル基、例えばトリ一〇1〜C4アル
キルシリル、例えばトリメチルシリルを表わし更にR2
″はシリル化ヒドロキシ基例えばトリメチルシリルオキ
シであり、更に前記I[a . Ilb及びUc中、R
.R.,R.’ ,R.及びR tIは特に示さない
限り先に定義した意味と同じである)で表わされる化合
物である. 前記弐n . I[a . I[bまたはIlcの化合
物内の保護基Rsの水素による置換は、適当な塩基性も
しくは酸性試剤、例えばアルカリ金属水酸化物、例えば
水酸化ナトリウム、または水酸化リチウム、アルカリ金
属ハロゲン化物特に臭化物もしくはヨウ化物、例えば臭
化リチウムまたはヨウ化ナトリウム、チオヨウ素、アル
カリ金属チオフェノラート、例えばナトリウムチオフェ
ノラート、またはプロトン酸もしくはルイス酸、例えば
絋酸、例えば塩酸またはトリ一低級アルキルハロシラン
、例えばトリメチルクロロシランを用いて処理すること
により行うことが出来る.置換反応は、溶剤の非存在下
または存在下で行うことが出来更に所望により、冷却し
ながらまたは加熱しながら密閉容器中で及び/または不
活性ガス雰囲気中で行うことが出来る. R,が1位において1個または2個のフェニル基により
置換されたC.〜C4アルキルである場合、例えばR,
がベンジルである場合、式■,I1aまたはubの化合
物内のそのような基を水素により置換することは、金属
水素化触媒の存在下で水素化分解することにより、他の
適当な手段を用いて行うことが出来る。
或いはまた、式n.na.nbまたはncの化合物にお
ける例えばシリルまたは例えばアルキル基のごとき保護
基R,を水素により置換することは、加水分解条件のも
と酸を用い、特に絋酸例えばハロゲン化水素酸、例えば
希釈もしくは濃厚水性形態で用いられる塩酸を用いて処
理すること峠より、または有機シリルハロゲン化物、例
えばトリメチルシリルヨウ化物もしくは臭化物を用いて
処理することにより、ひきつづき必要により加水分解す
ることによって行われる.反応は好ましくは高温で、例
えば反応混合物を還流しながら更に必要により有機希釈
剤を用い、密閉容器中及び/または不活性ガス雰囲気中
で好ましく行われる.保護基R,の置換の種類は、例え
ば式■の化合物を式Iの化合物に変換する際保持されね
ばならない式Hの化合物内に存在する置換基Rに依存す
る.この置換は、例えば実施例に従って行うことが出来
る. 式n.ubまたはIncの化合物中の保護されたアξノ
基または潜在的アξノ基Z0は、公知の方法に従って遊
離アξノに変換することが出来、この方法は、アくノに
変換されるべき保護されたアξノ基もしくは潜在的アξ
ノ基の特性に応じて選択され例えば加溶媒分解方法また
は水素化分解方法、例えば酸または塩基の存在下におけ
る加水分解、アシドリシス、例えば三フフ化酢酸による
処理、ヒドラジンによる処理、または金属水素化触媒の
存在下における水素化分解、または他の適当な手段であ
る。
ける例えばシリルまたは例えばアルキル基のごとき保護
基R,を水素により置換することは、加水分解条件のも
と酸を用い、特に絋酸例えばハロゲン化水素酸、例えば
希釈もしくは濃厚水性形態で用いられる塩酸を用いて処
理すること峠より、または有機シリルハロゲン化物、例
えばトリメチルシリルヨウ化物もしくは臭化物を用いて
処理することにより、ひきつづき必要により加水分解す
ることによって行われる.反応は好ましくは高温で、例
えば反応混合物を還流しながら更に必要により有機希釈
剤を用い、密閉容器中及び/または不活性ガス雰囲気中
で好ましく行われる.保護基R,の置換の種類は、例え
ば式■の化合物を式Iの化合物に変換する際保持されね
ばならない式Hの化合物内に存在する置換基Rに依存す
る.この置換は、例えば実施例に従って行うことが出来
る. 式n.ubまたはIncの化合物中の保護されたアξノ
基または潜在的アξノ基Z0は、公知の方法に従って遊
離アξノに変換することが出来、この方法は、アくノに
変換されるべき保護されたアξノ基もしくは潜在的アξ
ノ基の特性に応じて選択され例えば加溶媒分解方法また
は水素化分解方法、例えば酸または塩基の存在下におけ
る加水分解、アシドリシス、例えば三フフ化酢酸による
処理、ヒドラジンによる処理、または金属水素化触媒の
存在下における水素化分解、または他の適当な手段であ
る。
含まれる基に応じて、置換及び通常の操作は、それ自体
公知の方法により連続的または同時に行うことが出来る
. 全ての保護基が変換されることが好ましく、一回の工程
において、酸を用い、好ましくはハロゲン化水素酸、特
に塩酸を用い加水分解の条件下で処理することにより、
R,またはR trのヒドロキシ保rI1基を水素に変
換し更にz0をsIgに変換する. 前記式■の化合物は、以下に定義する式V内の基Xの性
質に応じて種々の方法により、例えば触媒の存在下もし
くは遊離基形成試剤の存在下、次式■: ○ ルキル) (ORS) !の式■の化合物)と、次式■
:(式中、R+およびR , tは先に定義した意味で
あり、Xは式−CHzZ (式中、Zは先に定義した意
味である)の基に変換しうる基である)で表わされる化
合物と反応させ、次式■:(式中、RおよびR,は先に
定義した意味と同じである) で表わされ、しかも式R Pllalx(V a ;
Hal −ハロゲン)の化合物をトリ一低級アルキル
アξンの存在下でアルコールR sO I1と反応させ
ることにより、またはより好都合には水性次亜燐酸と弐
〇(C+〜C4アルキル)(oRs)s(V b )の
オルトエステルと反応させることにより得ることのでき
る化合物(後者の場合には、RがC (C,−C.ア(
式中、R.,R, .R,,RおよびXは先に定義し
た意味を有する) で表わされる化合物を得;次いで基Xを式−CIl2Z
の基に変換することにより調製することができる。
公知の方法により連続的または同時に行うことが出来る
. 全ての保護基が変換されることが好ましく、一回の工程
において、酸を用い、好ましくはハロゲン化水素酸、特
に塩酸を用い加水分解の条件下で処理することにより、
R,またはR trのヒドロキシ保rI1基を水素に変
換し更にz0をsIgに変換する. 前記式■の化合物は、以下に定義する式V内の基Xの性
質に応じて種々の方法により、例えば触媒の存在下もし
くは遊離基形成試剤の存在下、次式■: ○ ルキル) (ORS) !の式■の化合物)と、次式■
:(式中、R+およびR , tは先に定義した意味で
あり、Xは式−CHzZ (式中、Zは先に定義した意
味である)の基に変換しうる基である)で表わされる化
合物と反応させ、次式■:(式中、RおよびR,は先に
定義した意味と同じである) で表わされ、しかも式R Pllalx(V a ;
Hal −ハロゲン)の化合物をトリ一低級アルキル
アξンの存在下でアルコールR sO I1と反応させ
ることにより、またはより好都合には水性次亜燐酸と弐
〇(C+〜C4アルキル)(oRs)s(V b )の
オルトエステルと反応させることにより得ることのでき
る化合物(後者の場合には、RがC (C,−C.ア(
式中、R.,R, .R,,RおよびXは先に定義し
た意味を有する) で表わされる化合物を得;次いで基Xを式−CIl2Z
の基に変換することにより調製することができる。
基Xは主にシアノであるが、また力ルバモイルを表わす
ことも出来、更に式−CIIzL(■a)(式中Z.は
先に定義した意味を有する)の基であるか;またはXは
式一CH=Y(式中一〇H=Yは所望により官能的に変
性されたカルボニル基、例えば対応する環状基を含む対
応するケタールもしくはチオケタール基である)の基で
ある。
ことも出来、更に式−CIIzL(■a)(式中Z.は
先に定義した意味を有する)の基であるか;またはXは
式一CH=Y(式中一〇H=Yは所望により官能的に変
性されたカルボニル基、例えば対応する環状基を含む対
応するケタールもしくはチオケタール基である)の基で
ある。
基Xを式−CH!−NH!の基に変換することは、好ま
しくは変法b)に対し以下に述べると同様の方法で好ま
しく行われる。所望により、該基は、ひきつづき自体公
知の方法により−co,−Zo(式中20は先に定義し
た意味である)の基に再保護されうる。
しくは変法b)に対し以下に述べると同様の方法で好ま
しく行われる。所望により、該基は、ひきつづき自体公
知の方法により−co,−Zo(式中20は先に定義し
た意味である)の基に再保護されうる。
式Vの化合物は、公知であるか或いはまた以下に述べる
ような方法により調製することが出来る.式■の化合物
の特定の例には、以下の化合物が含まれる:イソブロビ
ル(エチル)ホスホニイット、イソブロビル(n−プロ
ビル)一ホスホニイット、イソブチル(n−ブチル)ホ
スホニイット、イソプチル(イソブロビル)一ホスホニ
イット、イソブチル(イソブチル)ホスホニイット及び
イソブチル(第二ブチル)一ホスホニイット.同様に、
式■の化合物は、公知であるかまたは周知の方法を用い
て得ることが出来る。
ような方法により調製することが出来る.式■の化合物
の特定の例には、以下の化合物が含まれる:イソブロビ
ル(エチル)ホスホニイット、イソブロビル(n−プロ
ビル)一ホスホニイット、イソブチル(n−ブチル)ホ
スホニイット、イソプチル(イソブロビル)一ホスホニ
イット、イソブチル(イソブチル)ホスホニイット及び
イソブチル(第二ブチル)一ホスホニイット.同様に、
式■の化合物は、公知であるかまたは周知の方法を用い
て得ることが出来る。
或いはまた、次式■:
(式中、R,はC1〜C4アルキル、または1個または
2個のフェニル基により置換されたCl〜C4アルキル
、または更に基−Si(Rt)i(各々のR7は独立し
てC,〜C4アルキルである)であり、好ましくはC
I”” C tアルキル、特にメチルであり、基R,及
びR,は同一でも異なっていてもよい) で表わされる化合物を、次式IXa,IXbまたは■: (前記式中、R.R1’ ,Rz.Rz .Zo及
びXは先に定義した意味を有し、Xは主にシアノである
かまたは式−CIl=Yの基であり更に[ialはハロ
ゲン、例えばヨウ素、臭素または塩素を表わす)で表わ
される化合物と反応させることが出来る.式IXbのエ
ポキシドとの反応は、好都合には温和なルイス酸、例え
ば無水塩化亜鉛の存在下で行われ、この間式IXaまた
は■のハリドとの反応は、好ましくは アルブソブ(A
rbusov )法の条件の下、例えば室温〜高温、例
えば160″Cの反応温度で、反応中に生じたハロゲン
化トリアルキルシリルを除去しながら行われる。
2個のフェニル基により置換されたCl〜C4アルキル
、または更に基−Si(Rt)i(各々のR7は独立し
てC,〜C4アルキルである)であり、好ましくはC
I”” C tアルキル、特にメチルであり、基R,及
びR,は同一でも異なっていてもよい) で表わされる化合物を、次式IXa,IXbまたは■: (前記式中、R.R1’ ,Rz.Rz .Zo及
びXは先に定義した意味を有し、Xは主にシアノである
かまたは式−CIl=Yの基であり更に[ialはハロ
ゲン、例えばヨウ素、臭素または塩素を表わす)で表わ
される化合物と反応させることが出来る.式IXbのエ
ポキシドとの反応は、好都合には温和なルイス酸、例え
ば無水塩化亜鉛の存在下で行われ、この間式IXaまた
は■のハリドとの反応は、好ましくは アルブソブ(A
rbusov )法の条件の下、例えば室温〜高温、例
えば160″Cの反応温度で、反応中に生じたハロゲン
化トリアルキルシリルを除去しながら行われる。
式I1bの化合物はまた、トリエチルアミンの存在下次
式X: (式中、RIIRI IR!IR!’及びZoは先に
定義した意味を有し更にR,0は、保護された、例えば
エステル化されたヒドロキシを表わす)で表わされる化
合物を、シリル化剤、例えばオキサー低級アルキルシラ
ザンもしくはトリ一低級アルキルハロシラン、例えばヘ
キサメチルジシラザンと、またはトリメチルクロロシラ
ンと反応させ次式XI: (式中、R , l は基R,であり、これはトリ一低
級アルキルシリル、例えばトリメチルシリルであり更に
Z.はビス(トリ一低級アルキルシリル)アミノ、例え
ばビス(トリメチルシリルアξノ)である) の化合物を得ることにより調製することも出来る。
式X: (式中、RIIRI IR!IR!’及びZoは先に
定義した意味を有し更にR,0は、保護された、例えば
エステル化されたヒドロキシを表わす)で表わされる化
合物を、シリル化剤、例えばオキサー低級アルキルシラ
ザンもしくはトリ一低級アルキルハロシラン、例えばヘ
キサメチルジシラザンと、またはトリメチルクロロシラ
ンと反応させ次式XI: (式中、R , l は基R,であり、これはトリ一低
級アルキルシリル、例えばトリメチルシリルであり更に
Z.はビス(トリ一低級アルキルシリル)アミノ、例え
ばビス(トリメチルシリルアξノ)である) の化合物を得ることにより調製することも出来る。
式XまたはXIの中間体をついで、次の基0
変換することの出来る化合物と反応させる二上記式中R
は式I1b(式中Rsは先に定義した意味である)の化
合物をうるためその先に定義した意味を有する。かくし
て式Xの中間体は、塩基性縮合剤、例えばトリ一低級ア
ルキルアミンの存在下、例えばN一エチルーN,N−ジ
イソプロピルーアξンの存在下、対応するハロゲン化物
、例えば式R −1lal(X II ; flal=
ハロゲン)の低級アルキルハロゲン化物と、好ましくは
塩基性条件下で反応させることが出来、或いはまた化合
物nb(この化合物nb中、Rは脂肪族部分の各々に少
なくとも2個の炭素原子を有する脂肪族、脂環式一脂肪
族もしくは芳香脂肪族炭化水素基である)を得る.ため
、P一原子に結合されるべきRを介して炭素原子と隣接
炭素原子との間の末端二重結合を有する末端不飽和脂肪
族、脂環式一脂肪族もしくは芳香脂肪族炭化水素と反応
させることが出来、或いはまた化合物nb(この化合物
ub中、P一原子に結合されるべきRを介して炭素原子
が1個のヒドロキシ基によりα一置換されている)を得
るため、対応する脂肪族、脂環式、脂環式一脂肪族また
は芳香脂肪族アルデヒドまたはケトンと反応させること
が出来これらはもしもアルデヒドもしくはケトン官能性
基を1個の遊離原子化及び1個のヒドロキシ基により置
換されている場合、所望の中間体nb内の基R,に対応
する. 式Xの出発物質は、式x■または式X■:(前記式中、
Qはα,α−ジー低級アルコキシ一低級アルキル基であ
り更にR+,RI’ .R!.RtX及びZ0は先に
定義した意味を有し、式X■または式XIVの化合物が
プロトン性非水媒質で処理される場合それぞれの保WL
基R,及びZ.またはR,及びXは各々保持されている
) で表わされる化合物から出発して得ることが出来る。
は式I1b(式中Rsは先に定義した意味である)の化
合物をうるためその先に定義した意味を有する。かくし
て式Xの中間体は、塩基性縮合剤、例えばトリ一低級ア
ルキルアミンの存在下、例えばN一エチルーN,N−ジ
イソプロピルーアξンの存在下、対応するハロゲン化物
、例えば式R −1lal(X II ; flal=
ハロゲン)の低級アルキルハロゲン化物と、好ましくは
塩基性条件下で反応させることが出来、或いはまた化合
物nb(この化合物nb中、Rは脂肪族部分の各々に少
なくとも2個の炭素原子を有する脂肪族、脂環式一脂肪
族もしくは芳香脂肪族炭化水素基である)を得る.ため
、P一原子に結合されるべきRを介して炭素原子と隣接
炭素原子との間の末端二重結合を有する末端不飽和脂肪
族、脂環式一脂肪族もしくは芳香脂肪族炭化水素と反応
させることが出来、或いはまた化合物nb(この化合物
ub中、P一原子に結合されるべきRを介して炭素原子
が1個のヒドロキシ基によりα一置換されている)を得
るため、対応する脂肪族、脂環式、脂環式一脂肪族また
は芳香脂肪族アルデヒドまたはケトンと反応させること
が出来これらはもしもアルデヒドもしくはケトン官能性
基を1個の遊離原子化及び1個のヒドロキシ基により置
換されている場合、所望の中間体nb内の基R,に対応
する. 式Xの出発物質は、式x■または式X■:(前記式中、
Qはα,α−ジー低級アルコキシ一低級アルキル基であ
り更にR+,RI’ .R!.RtX及びZ0は先に
定義した意味を有し、式X■または式XIVの化合物が
プロトン性非水媒質で処理される場合それぞれの保WL
基R,及びZ.またはR,及びXは各々保持されている
) で表わされる化合物から出発して得ることが出来る。
このようなプロトン性非水媒質の例は次のものが含まれ
る:無水塩化水素ガスまたは無水媒質は、同一反応系内
で無水プロトン性媒質を得るため、例えばSi−CI結
合を分解しうるアルカノールのような試剤とともに1個
以上のSi−CI結合を有する有機化合物から発生せし
めることが出来る。
る:無水塩化水素ガスまたは無水媒質は、同一反応系内
で無水プロトン性媒質を得るため、例えばSi−CI結
合を分解しうるアルカノールのような試剤とともに1個
以上のSi−CI結合を有する有機化合物から発生せし
めることが出来る。
好ましい無水プロトン性媒質には、従ってジクロロメタ
ンーエタノールまたはエタノールを含有する工業的クロ
ロホルムに溶解したトリメチルシjJル塩化物が含まれ
る。
ンーエタノールまたはエタノールを含有する工業的クロ
ロホルムに溶解したトリメチルシjJル塩化物が含まれ
る。
基Qは好ましくは式−C(R@) C(ORq)(O
R+o)(XV)(式中、R0は低級アルキルを示し更
にR,及びR,。は互いに独立に低級アルキルまたは共
に一緒になって低級アルキレンを表わす)を有する。
R+o)(XV)(式中、R0は低級アルキルを示し更
にR,及びR,。は互いに独立に低級アルキルまたは共
に一緒になって低級アルキレンを表わす)を有する。
式Xの化合物を製造するためのこのプロセスは、好まし
くは−80℃〜100℃、好ましくはo ’c〜50℃
の温度で行われる. 使用される有機シリル塩化物に対する反応物すなわち反
応物X■またはXIVの相対的モル比は、種々の範囲内
で変化しうるけれども、式X■または弐XIVの1請o
1 当量当たり、後者のl〜2mol当量の範囲のモル
比を使用することが好ましい。
くは−80℃〜100℃、好ましくはo ’c〜50℃
の温度で行われる. 使用される有機シリル塩化物に対する反応物すなわち反
応物X■またはXIVの相対的モル比は、種々の範囲内
で変化しうるけれども、式X■または弐XIVの1請o
1 当量当たり、後者のl〜2mol当量の範囲のモル
比を使用することが好ましい。
式I1b(式中、RI及びR , lは水素を表わし、
Rtはヒドロキシを表わし更にR , lは水素を表わ
すかまたはR2及びR , rは共に一緒になってオキ
ソを表わす)の化合物は、弐mb(式中R,はRSdで
あり、RはR′であり、R1及びR.は水素を表わし、
R!はヒドロキシであり更にR.は水素を表わすかまた
はR,及びR,Iは共に一緒になってオキソを表わす)
の化合物を得るため、式xv’ : H゜ の塩の形態にある次式X■: B“ (両式中、R%は先に定義した意味を有し更にR′は脂
肪族、脂環式または脂環式一脂肪族炭化水素基であり、
更にMはアルカリ金属、アルカリ土類金属または遷移金
属、好ましくはリチウム、ナトリウムもしくはカリウム
、カルシウム、亜鉛または錫である) を有する化合物を次式X■: 11 R5d C CH22O (xvo
.(式中、Rsdは、R,に対して式nb中で特定され
たようなヒドロキシ保護基、ハロゲノ、例えばクロロま
たはブロモ、または水素を表わし更にZoは先に定義し
た意味である) で表わされる化合物と反応させることによって得ること
も出来る. 式nc(式中R1及びRI′は水素を表わし、R,は芳
香族基を表わし更にR !Jはシリル化とヒドロキシル
基である)の中間体は、好ましくは次式X■: の次亜リン酸を、式X■: HO−CH2CミCH (XVIII)のブロパルギル
アルコールと芳香脂肪族炭化水素溶媒、例えばトルエン
中で反応させ式x■:O 0H で表わされる化合物をうる新規プロセスにより調製され
る.この式XIKの化合物をまず最初に式Hat C
OORs ( X X ) (式中Halはハロゲンを
意味し更にRは低級アルキルを表わす)の八ロギ酸低級
アルキルエステル、例えばエチルクロロホルメートと、
トリ一低級アルキルアξン、例えばトリエチルアごンの
存在中で反応させ、ひきつづきルイス酸、例えば酸フフ
化ホウ素の存在中、0℃〜30℃でオルト酢酸トリ低級
アルキルエステルと反応させ式XXI: で表わされる化合物を与える. 式XX I (7)化合物を、ツイテ弐Rz −M (
XXI[ )c式中Mは金属性基、例えばハロマグネシ
ウム基、例えばイオドマグネシウム基及び銅一I−プロ
ξド/ジメチルスルフィド錯体を表わす)の化合物と、
好ましくはジメチルスルフィド/ジエチルエーテル中−
10℃〜−30゜Cで反応させ、次式XXm:で表わさ
れる化合物を与える. P一保護基を、先に記載したごとく、好ましくは、ジク
ロロメタン及びエタノールのほぼ9:1混合物中トリメ
チルシリルクロリドの作用により除去しついで単離する
ことなくひきつづき−60℃〜−80℃でテトラヒドロ
フランに溶解したブチルリチウムと反応させ更に式R
−1lal(XXIV) (式中Rは先に定義した意味
であり更にHalはハロゲン原子を表わす)の化合物と
反応させ次式XXV :で表わされる化合物をうる. 低級アルカノールに溶解した水酸化ナトリウムの存在下
第三プチルウレタン及び第三ブチルオキシクロリドの反
応から得られた生戒物を、ついで式XXVの中間体と、
アセト二トリル、水及び第三プタノールの混合物中に溶
解した四酸化オスニウム及び硝酸銀の存在下で反応させ
る.この中間体は、例えばトリメチルシリルハロゲン化
物、例えハ臭化トリメチルシリルとジクロロメタン中で
反応させついで水性メタノールで処理し更にひきつづき
エタノールに溶解した酸化プロピレンで処理することに
より式Iの対応する化合物に変換することが出来る. 式Iの化合物を製造するため変法a)の好ましい態様に
おいて、次式■a: ?式中R,は、低級アルキルを表わし更にR.R..R
l’ + Rt及びR , /は先に定義した意味を
有する) で表わされる化合物を、塩基性もしくは酸性加水分解に
ゆだねるか、またはトリ一低級アルキルハロシランで処
理する. 変法b)に対する前記式■の出発物質において、Xは主
にシアノであるがカルバモイル、式一CH■Z.(■a
)(式中Z.は先に定義した意味である)の基をも表わ
すことが出来;或いはまたXは式−CH−Y(式中一C
=Yは所望により官能的に変性されたカルボニル基、例
えば対応ずる環状基を含む対応するケタールもしくはチ
オケタール基である)の基である. 弐■の化合物において、Xが活性基x.、例えばシアノ
または−CIl=Oである場合、塩基性触媒または遊離
ラジカル触媒のいずれかが用いられる.しかしXが例え
ば−CHgZeの基である場合、遊離ラジカル触媒が必
要である. 第一の工程で用いられる塩基性触媒は、例えばアルカリ
金属c,−C.アルコキシド、例えばナトリウムもしく
はカリウム01〜C4アルコキシド、特にナトリウムメ
トキシド、ナトリウムエトキシドまたはカリウム第三ブ
トキシド、アルカリもしくはアルカリ土頻金属フフ化物
、例えばフシ化カリウムまたはフッ化セシウム、または
アルカリ金属水素化物、例えばナトリウム水素化物であ
る.反応は添加した溶剤の使用とともに或いは該溶剤を
用いることなく行うこと力咄来る.もしも溶剤を添加す
る場合、これは好ましくはアルコール、特に塩基性触媒
として使用されるアルコキシドに対応したCI〜C4ア
ルカノールである.反応温度は0℃〜添加する溶剤の沸
点温度の範囲で変わりうる. 遊離基形威試剤は、例えばイオン化照射または紫外線照
射により遊離基に変換しうる化合物であり、例えば過酸
化物化合物、例えば無機過酸化化合物、例えば過酸化物
水素または過硫酸アンモニウム、または有機過酸化物、
例えば過酸化ベンゾイルまたは第三プチル遇酸化物、ま
たは有機アゾ化合物、例えばアゾビスイソプチルニトリ
ルである.遊離基形戒試剤を含む反応は、所望により溶
剤の存在下で更に必要により、冷却もしくは加熱しなが
ら、密閉容器中及び/または不活性ガス雰囲気中で行う
ことが出来る. 基Xを基−cttx−oオに変換することは、公知の方
法に従って行われる.シアノ及びカルバモイルは、還元
によりアミノメチルに変換され、例えばシアノは、適当
な触媒、例えばラネイニッケル及び溶剤例えばエタノー
ル(これは好ましくはアンモニアを含有しうる)の存在
下で水素添加によりアミノメチルに変換され、更に例え
ばカルバモイルは適当な水素化物還元試剤、例えばテト
ラヒドロフランに溶解したボランを用いて処理すること
によりア竃ノメチルに変換されうる. 基−CH=Y(基中Yは酸素である)の式一〇〇JHI
の基への変換は、公知の還元的アミノ化手段、例えば適
当な溶剤、例えばジオキサン中酢酸アンモニアの存在下
ナトリウムシアノボロ水素化物を用い更に約0゜Cで冷
却しながら処理することによって行なわれる。
Rtはヒドロキシを表わし更にR , lは水素を表わ
すかまたはR2及びR , rは共に一緒になってオキ
ソを表わす)の化合物は、弐mb(式中R,はRSdで
あり、RはR′であり、R1及びR.は水素を表わし、
R!はヒドロキシであり更にR.は水素を表わすかまた
はR,及びR,Iは共に一緒になってオキソを表わす)
の化合物を得るため、式xv’ : H゜ の塩の形態にある次式X■: B“ (両式中、R%は先に定義した意味を有し更にR′は脂
肪族、脂環式または脂環式一脂肪族炭化水素基であり、
更にMはアルカリ金属、アルカリ土類金属または遷移金
属、好ましくはリチウム、ナトリウムもしくはカリウム
、カルシウム、亜鉛または錫である) を有する化合物を次式X■: 11 R5d C CH22O (xvo
.(式中、Rsdは、R,に対して式nb中で特定され
たようなヒドロキシ保護基、ハロゲノ、例えばクロロま
たはブロモ、または水素を表わし更にZoは先に定義し
た意味である) で表わされる化合物と反応させることによって得ること
も出来る. 式nc(式中R1及びRI′は水素を表わし、R,は芳
香族基を表わし更にR !Jはシリル化とヒドロキシル
基である)の中間体は、好ましくは次式X■: の次亜リン酸を、式X■: HO−CH2CミCH (XVIII)のブロパルギル
アルコールと芳香脂肪族炭化水素溶媒、例えばトルエン
中で反応させ式x■:O 0H で表わされる化合物をうる新規プロセスにより調製され
る.この式XIKの化合物をまず最初に式Hat C
OORs ( X X ) (式中Halはハロゲンを
意味し更にRは低級アルキルを表わす)の八ロギ酸低級
アルキルエステル、例えばエチルクロロホルメートと、
トリ一低級アルキルアξン、例えばトリエチルアごンの
存在中で反応させ、ひきつづきルイス酸、例えば酸フフ
化ホウ素の存在中、0℃〜30℃でオルト酢酸トリ低級
アルキルエステルと反応させ式XXI: で表わされる化合物を与える. 式XX I (7)化合物を、ツイテ弐Rz −M (
XXI[ )c式中Mは金属性基、例えばハロマグネシ
ウム基、例えばイオドマグネシウム基及び銅一I−プロ
ξド/ジメチルスルフィド錯体を表わす)の化合物と、
好ましくはジメチルスルフィド/ジエチルエーテル中−
10℃〜−30゜Cで反応させ、次式XXm:で表わさ
れる化合物を与える. P一保護基を、先に記載したごとく、好ましくは、ジク
ロロメタン及びエタノールのほぼ9:1混合物中トリメ
チルシリルクロリドの作用により除去しついで単離する
ことなくひきつづき−60℃〜−80℃でテトラヒドロ
フランに溶解したブチルリチウムと反応させ更に式R
−1lal(XXIV) (式中Rは先に定義した意味
であり更にHalはハロゲン原子を表わす)の化合物と
反応させ次式XXV :で表わされる化合物をうる. 低級アルカノールに溶解した水酸化ナトリウムの存在下
第三プチルウレタン及び第三ブチルオキシクロリドの反
応から得られた生戒物を、ついで式XXVの中間体と、
アセト二トリル、水及び第三プタノールの混合物中に溶
解した四酸化オスニウム及び硝酸銀の存在下で反応させ
る.この中間体は、例えばトリメチルシリルハロゲン化
物、例えハ臭化トリメチルシリルとジクロロメタン中で
反応させついで水性メタノールで処理し更にひきつづき
エタノールに溶解した酸化プロピレンで処理することに
より式Iの対応する化合物に変換することが出来る. 式Iの化合物を製造するため変法a)の好ましい態様に
おいて、次式■a: ?式中R,は、低級アルキルを表わし更にR.R..R
l’ + Rt及びR , /は先に定義した意味を
有する) で表わされる化合物を、塩基性もしくは酸性加水分解に
ゆだねるか、またはトリ一低級アルキルハロシランで処
理する. 変法b)に対する前記式■の出発物質において、Xは主
にシアノであるがカルバモイル、式一CH■Z.(■a
)(式中Z.は先に定義した意味である)の基をも表わ
すことが出来;或いはまたXは式−CH−Y(式中一C
=Yは所望により官能的に変性されたカルボニル基、例
えば対応ずる環状基を含む対応するケタールもしくはチ
オケタール基である)の基である. 弐■の化合物において、Xが活性基x.、例えばシアノ
または−CIl=Oである場合、塩基性触媒または遊離
ラジカル触媒のいずれかが用いられる.しかしXが例え
ば−CHgZeの基である場合、遊離ラジカル触媒が必
要である. 第一の工程で用いられる塩基性触媒は、例えばアルカリ
金属c,−C.アルコキシド、例えばナトリウムもしく
はカリウム01〜C4アルコキシド、特にナトリウムメ
トキシド、ナトリウムエトキシドまたはカリウム第三ブ
トキシド、アルカリもしくはアルカリ土頻金属フフ化物
、例えばフシ化カリウムまたはフッ化セシウム、または
アルカリ金属水素化物、例えばナトリウム水素化物であ
る.反応は添加した溶剤の使用とともに或いは該溶剤を
用いることなく行うこと力咄来る.もしも溶剤を添加す
る場合、これは好ましくはアルコール、特に塩基性触媒
として使用されるアルコキシドに対応したCI〜C4ア
ルカノールである.反応温度は0℃〜添加する溶剤の沸
点温度の範囲で変わりうる. 遊離基形威試剤は、例えばイオン化照射または紫外線照
射により遊離基に変換しうる化合物であり、例えば過酸
化物化合物、例えば無機過酸化化合物、例えば過酸化物
水素または過硫酸アンモニウム、または有機過酸化物、
例えば過酸化ベンゾイルまたは第三プチル遇酸化物、ま
たは有機アゾ化合物、例えばアゾビスイソプチルニトリ
ルである.遊離基形戒試剤を含む反応は、所望により溶
剤の存在下で更に必要により、冷却もしくは加熱しなが
ら、密閉容器中及び/または不活性ガス雰囲気中で行う
ことが出来る. 基Xを基−cttx−oオに変換することは、公知の方
法に従って行われる.シアノ及びカルバモイルは、還元
によりアミノメチルに変換され、例えばシアノは、適当
な触媒、例えばラネイニッケル及び溶剤例えばエタノー
ル(これは好ましくはアンモニアを含有しうる)の存在
下で水素添加によりアミノメチルに変換され、更に例え
ばカルバモイルは適当な水素化物還元試剤、例えばテト
ラヒドロフランに溶解したボランを用いて処理すること
によりア竃ノメチルに変換されうる. 基−CH=Y(基中Yは酸素である)の式一〇〇JHI
の基への変換は、公知の還元的アミノ化手段、例えば適
当な溶剤、例えばジオキサン中酢酸アンモニアの存在下
ナトリウムシアノボロ水素化物を用い更に約0゜Cで冷
却しながら処理することによって行なわれる。
これらの反応は試剤としても作用しうる熔剤の非存在下
または存在下で所望により、冷却もしくは加熱しながら
密閉容器中及び/または不活性ガス雰囲気中で公知の方
法に従って行われる.式■の化合物は、式■の中間体の
製造に対して前述したと同様の方法で調製出来る。例え
ば、弐■(式中R2及びR,/は水素であり更にR.R
.,R , r及びXは先に示した意味である)の化合
物は、例えば塩基性触媒または遊離基形成試剤の存在下
、式■: 0 (式中、R及びR,は先に定義した意味である)で表わ
される化合物を、次式■: ?式中、R,,R,’及びXは先に定義した意味である
) で表わされる化合物と反応させ更にひきつづき例えば前
記弐■の化合物を得るために変法a)のもとで前述した
ごとく、〇一保護基R,を除去することによって得るこ
とが出来る。
または存在下で所望により、冷却もしくは加熱しながら
密閉容器中及び/または不活性ガス雰囲気中で公知の方
法に従って行われる.式■の化合物は、式■の中間体の
製造に対して前述したと同様の方法で調製出来る。例え
ば、弐■(式中R2及びR,/は水素であり更にR.R
.,R , r及びXは先に示した意味である)の化合
物は、例えば塩基性触媒または遊離基形成試剤の存在下
、式■: 0 (式中、R及びR,は先に定義した意味である)で表わ
される化合物を、次式■: ?式中、R,,R,’及びXは先に定義した意味である
) で表わされる化合物と反応させ更にひきつづき例えば前
記弐■の化合物を得るために変法a)のもとで前述した
ごとく、〇一保護基R,を除去することによって得るこ
とが出来る。
前記弐■(式中Rは先に示した意味であり、R1及びR
, lは水素であり、R■は脂肪族、脂環式、脂環式
一脂肪族もしくは芳香族炭化水素基であり更にXはカル
バモイルである)の化合物の58に対する適当なこのプ
ロセスの変法において、式■の化合物は、例えば塩化ト
リメチルシリルを用いて〇一保護され、ついで次式XX
VI :(式中、RScは低級アルキルを表わす)の対
応するエポキシドと反応させ、次式XX■:で表わされ
る化合物を形威する。ついでこれをアルカリ金属シアニ
ド、例えばナトリウムシアニドの存在下、低級アルカノ
ール、例えばエタノール中アンモニアと反応させる。ひ
きつづき、基Rsが脱離し、弐■(式中R,及びR1′
は水素であり、R2は基R2mであり、R 21 はヒ
ドロキシであり更にXはカルボモイルである)の対応す
る化合物を与える。
, lは水素であり、R■は脂肪族、脂環式、脂環式
一脂肪族もしくは芳香族炭化水素基であり更にXはカル
バモイルである)の化合物の58に対する適当なこのプ
ロセスの変法において、式■の化合物は、例えば塩化ト
リメチルシリルを用いて〇一保護され、ついで次式XX
VI :(式中、RScは低級アルキルを表わす)の対
応するエポキシドと反応させ、次式XX■:で表わされ
る化合物を形威する。ついでこれをアルカリ金属シアニ
ド、例えばナトリウムシアニドの存在下、低級アルカノ
ール、例えばエタノール中アンモニアと反応させる。ひ
きつづき、基Rsが脱離し、弐■(式中R,及びR1′
は水素であり、R2は基R2mであり、R 21 はヒ
ドロキシであり更にXはカルボモイルである)の対応す
る化合物を与える。
別に、式■:
(式中、R,はC1〜C4アルキルまたは、1個または
2個のフエニル残基により置換されたCl〜C4アルキ
ル、または更に基−Si (Rv) x (各々のR,
は独立にC,〜Cbアルキル、好ましくはC1〜C2ア
ルキル、特にメチルである)である、基R,及びR7は
同一でも異なっていてもよい)で表わされる化合物を、
以下の式XXVIII a . XXVIII bまた
は■の化合物と反応させることが出来る:前記三式中、
R+,R+′ * Rgt Rt’及びXは先に定義し
た意味であり、Xは主にシアノまたは基−CH=Yの基
であり更にHalはハロゲン、例えばヨウ素、臭素′ま
たは塩素を意味する.式XXI[Ibのエポキシドとの
反応は、好都合には温和なルイス酸、例えば無水塩化亜
鉛の存在下で行われ、一方式XXVIIlaのハロゲン
化物との反応は、好ましくはアルブソブ(^rbuso
v)法の条件のもと、例えば室温〜高温、例えば160
℃の温度で、反応中に生じたハロゲン化トリアルキルシ
リルを除去しながら行うことが出来る。
2個のフエニル残基により置換されたCl〜C4アルキ
ル、または更に基−Si (Rv) x (各々のR,
は独立にC,〜Cbアルキル、好ましくはC1〜C2ア
ルキル、特にメチルである)である、基R,及びR7は
同一でも異なっていてもよい)で表わされる化合物を、
以下の式XXVIII a . XXVIII bまた
は■の化合物と反応させることが出来る:前記三式中、
R+,R+′ * Rgt Rt’及びXは先に定義し
た意味であり、Xは主にシアノまたは基−CH=Yの基
であり更にHalはハロゲン、例えばヨウ素、臭素′ま
たは塩素を意味する.式XXI[Ibのエポキシドとの
反応は、好都合には温和なルイス酸、例えば無水塩化亜
鉛の存在下で行われ、一方式XXVIIlaのハロゲン
化物との反応は、好ましくはアルブソブ(^rbuso
v)法の条件のもと、例えば室温〜高温、例えば160
℃の温度で、反応中に生じたハロゲン化トリアルキルシ
リルを除去しながら行うことが出来る。
変法C)による弐■の化合物の還元は、適当な還元試剤
、例えば触媒の存在下水素を用いることによって行われ
、アリールの還元に対しては、例えばラネイニッケルま
たは西村触媒を用い更に脂肪族多重結合の還元に対して
は、例えば木炭担持を用い、溶剤の非存在または存在下
更に室温〜高温で行うことが出来る. 弐■の化合物は、Rの代わりにそれぞれ不飽和置換基R
′を有する出発物質から出発し、式Iの化合物を製造す
るために記載したいずれかの方法に従って調製すること
が出来る。更に、弐Nの化合物はまた、対応するR′−
ジクロロホスフィンから出発し、低級アルカノール、例
えばエタノールとトリ一低級アルキルアξン、例えばト
リエチルアミンと反応させ、得られたR′一亜リン酸エ
ステルと次式■: ?表わされる化合物と反応させ、ついで基Xを対応する
基−CI.−Nl1■に変換することによって得ること
も出来る. 或いはまた別に、次式XXIX: (式中、R,はC1〜C4アルキル、または1個または
2個のフェニル残基により置換されたcI〜C4アルキ
ル、または更に基−Si (R?) s (各々のR7
は独立に、C,〜Chアルキル、好ましくはC1〜C2
アルキル、特にメチルである)、基R,及びR,は同一
でも異なっていてもよい)で表わされる化合物を、次式
IXa,]Xbまたは■: (前記三式中、Rt,R+ ,Rz,Rz ,Zo
及びXは先に定義した意味であり、Xは主にシアノまた
は基−CII=Yの基であり更にHalはハロゲン、例
えばヨウ素、臭素または塩素を表わす)で表わされる化
合物と反応させること力咄来る。
、例えば触媒の存在下水素を用いることによって行われ
、アリールの還元に対しては、例えばラネイニッケルま
たは西村触媒を用い更に脂肪族多重結合の還元に対して
は、例えば木炭担持を用い、溶剤の非存在または存在下
更に室温〜高温で行うことが出来る. 弐■の化合物は、Rの代わりにそれぞれ不飽和置換基R
′を有する出発物質から出発し、式Iの化合物を製造す
るために記載したいずれかの方法に従って調製すること
が出来る。更に、弐Nの化合物はまた、対応するR′−
ジクロロホスフィンから出発し、低級アルカノール、例
えばエタノールとトリ一低級アルキルアξン、例えばト
リエチルアミンと反応させ、得られたR′一亜リン酸エ
ステルと次式■: ?表わされる化合物と反応させ、ついで基Xを対応する
基−CI.−Nl1■に変換することによって得ること
も出来る. 或いはまた別に、次式XXIX: (式中、R,はC1〜C4アルキル、または1個または
2個のフェニル残基により置換されたcI〜C4アルキ
ル、または更に基−Si (R?) s (各々のR7
は独立に、C,〜Chアルキル、好ましくはC1〜C2
アルキル、特にメチルである)、基R,及びR,は同一
でも異なっていてもよい)で表わされる化合物を、次式
IXa,]Xbまたは■: (前記三式中、Rt,R+ ,Rz,Rz ,Zo
及びXは先に定義した意味であり、Xは主にシアノまた
は基−CII=Yの基であり更にHalはハロゲン、例
えばヨウ素、臭素または塩素を表わす)で表わされる化
合物と反応させること力咄来る。
式IXbのエボキシドとの反応は、好都合には温和なル
イス酸、例えば無水塩化亜鉛の存在下で行われ、一方式
IXaまたは式■のハロゲン化物との反応は、好都合に
はアルブソブ(Arbusov )法の条件のもと、例
えば室温〜高温、例えば160″Cの温度で、反応中に
生じたハロゲン化トリアルキルシリルを除去しながら行
われる。
イス酸、例えば無水塩化亜鉛の存在下で行われ、一方式
IXaまたは式■のハロゲン化物との反応は、好都合に
はアルブソブ(Arbusov )法の条件のもと、例
えば室温〜高温、例えば160″Cの温度で、反応中に
生じたハロゲン化トリアルキルシリルを除去しながら行
われる。
いずれのプロセスにおいて、保護されたアミノ基Z0か
ら遊離にされ、更にもし存在する場合ヒドロキシ基は保
護されたヒドロキシ基から遊離にされ対応する弐■の化
合物を与える. 全ての上記の反応は、標準の方法に従い、希釈剤(好ま
しくは試剤及びその溶剤に対して不活性なものである)
、触媒、結合剤または他の試剤の各々の存在または非存
在下及び/または不活性ガス雰囲気中、低温、室温また
は高温好ましくは溶剤の沸点温度で、大気圧または加圧
下で行われる.本発明のプロセスに従って得ることの出
来る式Iの化合物は、互いに相互変換出来る.かくして
式I(式中Rはヒドロキシにより置換され、及び/また
はR8′はヒドロキシを表わす)の化合物は、例えばチ
オカルボニルジイξダゾールと反応させついでラジカル
開始剤、例えばアゾイソプチロニトリルの存在下得られ
たイξダゾリルチオウレタンとトリ一低級アルキルシラ
ン、例えば(CJJsSnHと例えばベンゼン中60〜
80℃で処理することによって対応するヒドロキシ遊離
化合物に変換される. 基R内に存在する二重及び/または三重結合は、単結合
に還元され、三重結合はまた二重結合に還元され式■の
対応する不飽和での小さい化合物を与える. 本発明は更に本発明のいかなる変法をも含むものであり
、ここにおいてその任意の工程で得られる中間生戚物は
、出発物質として用いられ更に残りの工程が行われ、或
いはまたここにおいて出発物質が反応条件下で形威され
、或いはまたここにおいて反応威分がそれらの塩または
光学的に純粋な対掌体の形で用いられる.必要な場合い
つでも、上記プロセスは、まず最初に強力な反応妨害性
官能基を例えば本発明で例示するごとく適当に保護した
後に行われる. 好都合にはこれらの出発物質は、好ましいものとして上
述したこれらの化合物の形戒に至るそれらの反応におい
て用いられるべきである.本発明はまた新規な出発物質
、特に式!の好ましい化合物に至る出発物質及びそれら
の製造方法にも関する. 出発物質及び方法の選択に応じて、新規化合物は、可能
な異性体、例えばジアステレオマーとして、光学異性体
(対軍体)として、ラセ逅体としてまたはそれらの混合
物としての一種の形態で存在しうる. 上記化合物または中間体のジアステレオマー混合物が得
られる場合、それらは自体公知の方法により、例えば分
別蒸留、結晶化またはクロマトグラフィー法により単一
のラセa体または光学活性異性体に分離することが出来
る. 式1のラセミ体生底物または塩基性中間体は、例えばそ
のジアステレオマー塩の分離により、例えばd一もしく
は1−(タートレート、ジベンゾイルタートレート、マ
ンデレートまたはカンファサルフェート)塩の分別結晶
により光学対掌体に分割することが出来る. 好都合には、本発明の化合物のより活性な対掌体を分離
する. 従って、本発明の化合物は遊fill(双性イオン)形
で、またはその塩としてのいずれかで得られる.例えば
、得られた遊離化合物は、好ましくは医薬として許容さ
れうる酸またはアニオン交換試剤を用いて対応する酸付
加塩に変換出来、塩基または適当なカチオン交換技術を
用いて遊離化合物を処理することにより塩基との塩に変
換出来、或いはまた得られた塩は対応する遊離化合物に
変換出来、例えば酸付加塩は、強塩基、例えば金属もし
くはアンモニウム水酸化物、または塩基性塩、例えばア
ルカリ金属水酸化物もしくは炭酸塩、またはカチオン交
換試剤を用いて遊離化合物に変換出来更に塩基との塩は
、適当な酸性試剤により処理される.これらのまたは他
の塩、例えばピクラートはまた、得られた化合物の精製
のために用いることも出来;化合物はまず塩に変換され
る.遊離化合物とそれらの塩の形態にある化合物とは密
接な関係にあるので、本発明中化合物と言及する場合に
は、対応する塩をも意図するものとし、ただしそのよう
なことが可能であるか或いは一定条件下で適当な場合で
ある.更に語句「塩」は、所望ならばその意味及び目的
に従って適当な場合には遊離化合物をも含むものである
. 化合物の塩をも含む、化合物はまたそれらの水和物の形
で得ることも出来或いはまた結晶化のために用いられる
他の溶剤を含有することも出来る.本発明はまた、医薬
組成物、例えば認識及び記憶の疾患、精神及び不安のう
つ状態の治療に対して用いることの出来る、選択的GA
BAI−アンタゴニスト活性を有する特に医薬組威物の
調製に対して本発明の化合物を用いることにも関する。
ら遊離にされ、更にもし存在する場合ヒドロキシ基は保
護されたヒドロキシ基から遊離にされ対応する弐■の化
合物を与える. 全ての上記の反応は、標準の方法に従い、希釈剤(好ま
しくは試剤及びその溶剤に対して不活性なものである)
、触媒、結合剤または他の試剤の各々の存在または非存
在下及び/または不活性ガス雰囲気中、低温、室温また
は高温好ましくは溶剤の沸点温度で、大気圧または加圧
下で行われる.本発明のプロセスに従って得ることの出
来る式Iの化合物は、互いに相互変換出来る.かくして
式I(式中Rはヒドロキシにより置換され、及び/また
はR8′はヒドロキシを表わす)の化合物は、例えばチ
オカルボニルジイξダゾールと反応させついでラジカル
開始剤、例えばアゾイソプチロニトリルの存在下得られ
たイξダゾリルチオウレタンとトリ一低級アルキルシラ
ン、例えば(CJJsSnHと例えばベンゼン中60〜
80℃で処理することによって対応するヒドロキシ遊離
化合物に変換される. 基R内に存在する二重及び/または三重結合は、単結合
に還元され、三重結合はまた二重結合に還元され式■の
対応する不飽和での小さい化合物を与える. 本発明は更に本発明のいかなる変法をも含むものであり
、ここにおいてその任意の工程で得られる中間生戚物は
、出発物質として用いられ更に残りの工程が行われ、或
いはまたここにおいて出発物質が反応条件下で形威され
、或いはまたここにおいて反応威分がそれらの塩または
光学的に純粋な対掌体の形で用いられる.必要な場合い
つでも、上記プロセスは、まず最初に強力な反応妨害性
官能基を例えば本発明で例示するごとく適当に保護した
後に行われる. 好都合にはこれらの出発物質は、好ましいものとして上
述したこれらの化合物の形戒に至るそれらの反応におい
て用いられるべきである.本発明はまた新規な出発物質
、特に式!の好ましい化合物に至る出発物質及びそれら
の製造方法にも関する. 出発物質及び方法の選択に応じて、新規化合物は、可能
な異性体、例えばジアステレオマーとして、光学異性体
(対軍体)として、ラセ逅体としてまたはそれらの混合
物としての一種の形態で存在しうる. 上記化合物または中間体のジアステレオマー混合物が得
られる場合、それらは自体公知の方法により、例えば分
別蒸留、結晶化またはクロマトグラフィー法により単一
のラセa体または光学活性異性体に分離することが出来
る. 式1のラセミ体生底物または塩基性中間体は、例えばそ
のジアステレオマー塩の分離により、例えばd一もしく
は1−(タートレート、ジベンゾイルタートレート、マ
ンデレートまたはカンファサルフェート)塩の分別結晶
により光学対掌体に分割することが出来る. 好都合には、本発明の化合物のより活性な対掌体を分離
する. 従って、本発明の化合物は遊fill(双性イオン)形
で、またはその塩としてのいずれかで得られる.例えば
、得られた遊離化合物は、好ましくは医薬として許容さ
れうる酸またはアニオン交換試剤を用いて対応する酸付
加塩に変換出来、塩基または適当なカチオン交換技術を
用いて遊離化合物を処理することにより塩基との塩に変
換出来、或いはまた得られた塩は対応する遊離化合物に
変換出来、例えば酸付加塩は、強塩基、例えば金属もし
くはアンモニウム水酸化物、または塩基性塩、例えばア
ルカリ金属水酸化物もしくは炭酸塩、またはカチオン交
換試剤を用いて遊離化合物に変換出来更に塩基との塩は
、適当な酸性試剤により処理される.これらのまたは他
の塩、例えばピクラートはまた、得られた化合物の精製
のために用いることも出来;化合物はまず塩に変換され
る.遊離化合物とそれらの塩の形態にある化合物とは密
接な関係にあるので、本発明中化合物と言及する場合に
は、対応する塩をも意図するものとし、ただしそのよう
なことが可能であるか或いは一定条件下で適当な場合で
ある.更に語句「塩」は、所望ならばその意味及び目的
に従って適当な場合には遊離化合物をも含むものである
. 化合物の塩をも含む、化合物はまたそれらの水和物の形
で得ることも出来或いはまた結晶化のために用いられる
他の溶剤を含有することも出来る.本発明はまた、医薬
組成物、例えば認識及び記憶の疾患、精神及び不安のう
つ状態の治療に対して用いることの出来る、選択的GA
BAI−アンタゴニスト活性を有する特に医薬組威物の
調製に対して本発明の化合物を用いることにも関する。
本発明による医薬組或物は、上述のごときGABAm一
レセプター遮断に応答する疾患の治療に対し、人を含ん
だ補乳動物に、経腸、例えば経口もしくは直腸投与、及
び非経口投与に適した組或物である、この組戒物は本発
明の化合物の有効なGABAm一レセブター遮断量を単
独であるいはまた一種またはそれ以上の医薬として許容
されうる担体と組み合わせて含んでなる. 本発明の薬理学的に活性な化合物は、経腸もしくは非経
口投与のいずれかに対して適当な賦形剤または担体とと
もに或いは混合して該化合物の有効量を含んでなる医薬
組或物に配合される.エーテル(希釈剤、例えばラクト
ース、デキシトロース、スクロース、マニトール、ソル
ビトール、セルロース及び/またはグリチン;b)潤滑
剤、例えばシリカ、タルク、ステアリン酸、そのマグム
シウムもしくはカルシウム塩及び/またはトリエチレン
グリコール;錠剤に対しては更にC)結合剤、例えばケ
イ酸マグネシウムアルミニウム、でん粉ペースト、ゼラ
チン、トラガカント、メチルセルロース、ナトリウムカ
ルボキシメチルセルロース及び/またはポリビニルピロ
リドン;所望により、d)崩壊剤、例えばスターチ、寒
天、アルギン酸またはそのナトリウム塩、または起泡混
合物;及び/またはe)吸収剤、着色剤、矯味剤及び甘
味剤とともに有効威分を含んでなる錠剤及びゼラチンカ
プセル剤が好ましい.注入可能な組戒物は、好まし《は
水性等張溶液または懸濁液であり、更に坐剤は好都合に
は脂肪エマルシッンまたは懸濁液から調製される.その
ような組威物は、滅菌され及び/または補助剤、例えば
保存剤、安定化剤、湿潤もしくは乳化剤、溶解促進剤、
浸透圧調整用の塩及び/または緩衝剤を含有する.加え
て、該組威物はまた他の医薬として価値ある物質を含有
することも出来る.そのような組戒物は、通常の混合、
造粒またはコーチング方法の各々により調製され更に約
0. 1〜75%、好ましくは1〜50%の有効戒分を
含有する. 本発明はまたGABAm−アンタゴニスト特性を有する
本発明の化合物の使用にも関し更にまた選択的GABA
I−レセプター遮断に応答する疾患、特に認識及び記憶
の疾患更にまたうつ状態及び不安の疾患を有する噛乳動
物の治療のために該組戒物を含有する医薬,Illtc
物に関する.一つの面は好都合には、特に上記医薬組威
物の形態において、本発明の化合物の有効量を用い、噛
乳動物におけるヌートロビック疾患の治療方法にも関す
る. 投与される有効威分の用量は、温血動物(啼乳動物)の
種、体重、年令及び個体の状態並びに投与形態に依存す
る. 約50〜70kgの噛乳動物に対する1回の用量は、有
効威分約10〜500■である. 以下の実施例は本発明を意図するものであり、本発明を
制限するために用いられるべきではない.温度は摂氏で
表わされる.もしも特に言及しない場合、全ての蒸発は
減圧下、好ましくは約2〜13kPaの範囲で行われる
.最終生威物、中間体及び出発物質の構造は、分析方法
、例えばミクロ分析及び分光学的特性(例えばMS.
IR. NMR)により確認される.式■の化合物は、
以下において3−アξノーI Rs I Rt
’ 2 Rt 2 Rz一プロビル(R)一ホ
スフィン酸として言及される. 〔実施例〕 班1= 10mの無水ジクロロメタンに溶解した0.642 g
のエチル3−(N一第三プトキシヵルボニルアξノ)−
2−オキソープロビル(n−ブチル)ホスフィネートの
溶液を不活性雰囲気中t.sa gのトリメチルブロモ
シランで処理する.室温で7時間撹拌後、揮発性物質を
真空下で除去し、淡黄色オイルを得る.このオイルを、
水1%を含有するメタノールに溶解しついで澄明な淡黄
色溶液を室温で一夜撹拌する。溶剤を真空下で除去し、
融点135〜138℃を有する3−アミノー2−オキソ
ープロピル(n−プチル)ホスフイン酸臭化水素塩を得
る.エタノールに懸濁させついで酸化プロピレンで処理
することにより融点128〜130゜Cを有する3−ア
ごノー2−オキソープロビル(n−プチル)ホスフィン
酸を得る。
レセプター遮断に応答する疾患の治療に対し、人を含ん
だ補乳動物に、経腸、例えば経口もしくは直腸投与、及
び非経口投与に適した組或物である、この組戒物は本発
明の化合物の有効なGABAm一レセブター遮断量を単
独であるいはまた一種またはそれ以上の医薬として許容
されうる担体と組み合わせて含んでなる. 本発明の薬理学的に活性な化合物は、経腸もしくは非経
口投与のいずれかに対して適当な賦形剤または担体とと
もに或いは混合して該化合物の有効量を含んでなる医薬
組或物に配合される.エーテル(希釈剤、例えばラクト
ース、デキシトロース、スクロース、マニトール、ソル
ビトール、セルロース及び/またはグリチン;b)潤滑
剤、例えばシリカ、タルク、ステアリン酸、そのマグム
シウムもしくはカルシウム塩及び/またはトリエチレン
グリコール;錠剤に対しては更にC)結合剤、例えばケ
イ酸マグネシウムアルミニウム、でん粉ペースト、ゼラ
チン、トラガカント、メチルセルロース、ナトリウムカ
ルボキシメチルセルロース及び/またはポリビニルピロ
リドン;所望により、d)崩壊剤、例えばスターチ、寒
天、アルギン酸またはそのナトリウム塩、または起泡混
合物;及び/またはe)吸収剤、着色剤、矯味剤及び甘
味剤とともに有効威分を含んでなる錠剤及びゼラチンカ
プセル剤が好ましい.注入可能な組戒物は、好まし《は
水性等張溶液または懸濁液であり、更に坐剤は好都合に
は脂肪エマルシッンまたは懸濁液から調製される.その
ような組威物は、滅菌され及び/または補助剤、例えば
保存剤、安定化剤、湿潤もしくは乳化剤、溶解促進剤、
浸透圧調整用の塩及び/または緩衝剤を含有する.加え
て、該組威物はまた他の医薬として価値ある物質を含有
することも出来る.そのような組戒物は、通常の混合、
造粒またはコーチング方法の各々により調製され更に約
0. 1〜75%、好ましくは1〜50%の有効戒分を
含有する. 本発明はまたGABAm−アンタゴニスト特性を有する
本発明の化合物の使用にも関し更にまた選択的GABA
I−レセプター遮断に応答する疾患、特に認識及び記憶
の疾患更にまたうつ状態及び不安の疾患を有する噛乳動
物の治療のために該組戒物を含有する医薬,Illtc
物に関する.一つの面は好都合には、特に上記医薬組威
物の形態において、本発明の化合物の有効量を用い、噛
乳動物におけるヌートロビック疾患の治療方法にも関す
る. 投与される有効威分の用量は、温血動物(啼乳動物)の
種、体重、年令及び個体の状態並びに投与形態に依存す
る. 約50〜70kgの噛乳動物に対する1回の用量は、有
効威分約10〜500■である. 以下の実施例は本発明を意図するものであり、本発明を
制限するために用いられるべきではない.温度は摂氏で
表わされる.もしも特に言及しない場合、全ての蒸発は
減圧下、好ましくは約2〜13kPaの範囲で行われる
.最終生威物、中間体及び出発物質の構造は、分析方法
、例えばミクロ分析及び分光学的特性(例えばMS.
IR. NMR)により確認される.式■の化合物は、
以下において3−アξノーI Rs I Rt
’ 2 Rt 2 Rz一プロビル(R)一ホ
スフィン酸として言及される. 〔実施例〕 班1= 10mの無水ジクロロメタンに溶解した0.642 g
のエチル3−(N一第三プトキシヵルボニルアξノ)−
2−オキソープロビル(n−ブチル)ホスフィネートの
溶液を不活性雰囲気中t.sa gのトリメチルブロモ
シランで処理する.室温で7時間撹拌後、揮発性物質を
真空下で除去し、淡黄色オイルを得る.このオイルを、
水1%を含有するメタノールに溶解しついで澄明な淡黄
色溶液を室温で一夜撹拌する。溶剤を真空下で除去し、
融点135〜138℃を有する3−アミノー2−オキソ
ープロピル(n−プチル)ホスフイン酸臭化水素塩を得
る.エタノールに懸濁させついで酸化プロピレンで処理
することにより融点128〜130゜Cを有する3−ア
ごノー2−オキソープロビル(n−プチル)ホスフィン
酸を得る。
出発物質を次のように調製する:
35mlの無水テトラヒドロフランに懸濁させた8.0
gの水素化ナトリウム(オイルに懸濁させた55%懸濁
液)を、不活性雰囲気中25gのメチルn一プチルホス
フィネートの無水テトラヒドロフラン溶液35M1で処
理する.生或懸濁液を、32M1のヨウ化メチルを滴下
する前に室温で1時間撹拌する.室温で3時間撹拌後、
10jdの水を注意深く添加し、ひきつづき200−の
ジクロロメタンを添加する.有機相を分離し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥しついで真空下で溶剤を除去しオイ
ルを得る.90℃でかつ10−’mbarのバルブ管蒸
留により、エチルn一プチルー(メチル)ホスフィネー
トを得る.30一の無水テトラヒドロフランに溶解した
5.82gのリチウムジイソブロピルアaドの溶液を不
活性雰囲気中−78℃に冷却する。−78℃で定速撹拌
しながら、20mの無水テトラヒドロフランに溶解した
9.84gのエチルn−ブチル(メチル)ホスフィネー
トの溶液を、カニューレを介して不活性雰囲気の正圧条
件下で15分にわたって添加する。得られた淡黄色溶液
を、−78℃で撹拌しついで10mの無水テトラヒドロ
フランに溶解した1.89gのN一第三ブトキシカルボ
ニルグリシンメチルエステルの予備冷却(−78゜C)
溶液をカニューレを介して5分にわたって添加する。約
10分後、薄層クロマトグラフィーにより反応の終結を
認める.−78゜Cで、4.0gの氷酢酸を添加しつい
で混合物を室温に加温する。反応混合物をジクロロメタ
ンで希釈しついで水で洗浄する.硫酸マグネシウムで乾
燥しついで溶剤を真空下で除去し、淡黄色オイルを得る
.過剰の出発物質を蒸留により除去しついで、得られた
黄色オイルをシリカゲルによるクロマトグラフィー処理
にゆだね、無色の粘性オイルとしてエチル3−(N一第
三ブトキシカルボニルアミノ)−2−オキソープ口ビル
(n−ブチル)ホスフィネートを得る. 班童: 5dのエタノールに溶解した1.2gのエチル3−アミ
ノー2−(4−クロロフエニル)−2−ヒドロキシープ
ロビル(n−ブチル)ホスフイネート塩酸塩を、31I
Ilの水に溶解した0.24 gの水酸化ナトリウムで
処理する。溶液を20時間60″Cに加熱する。この時
間経過後、溶液を室温に冷却しついで各々ジクロロメタ
ン50Idで2回洗浄し更に501dのジエチルエーテ
ルで1回洗浄する。水性相を蒸発乾固する。残留物をn
−プロパノールに懸濁させ、80℃に10分間加熱しつ
いで濾過する.n−プロパノールを真空下で除去し、白
色固体を得る。
gの水素化ナトリウム(オイルに懸濁させた55%懸濁
液)を、不活性雰囲気中25gのメチルn一プチルホス
フィネートの無水テトラヒドロフラン溶液35M1で処
理する.生或懸濁液を、32M1のヨウ化メチルを滴下
する前に室温で1時間撹拌する.室温で3時間撹拌後、
10jdの水を注意深く添加し、ひきつづき200−の
ジクロロメタンを添加する.有機相を分離し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥しついで真空下で溶剤を除去しオイ
ルを得る.90℃でかつ10−’mbarのバルブ管蒸
留により、エチルn一プチルー(メチル)ホスフィネー
トを得る.30一の無水テトラヒドロフランに溶解した
5.82gのリチウムジイソブロピルアaドの溶液を不
活性雰囲気中−78℃に冷却する。−78℃で定速撹拌
しながら、20mの無水テトラヒドロフランに溶解した
9.84gのエチルn−ブチル(メチル)ホスフィネー
トの溶液を、カニューレを介して不活性雰囲気の正圧条
件下で15分にわたって添加する。得られた淡黄色溶液
を、−78℃で撹拌しついで10mの無水テトラヒドロ
フランに溶解した1.89gのN一第三ブトキシカルボ
ニルグリシンメチルエステルの予備冷却(−78゜C)
溶液をカニューレを介して5分にわたって添加する。約
10分後、薄層クロマトグラフィーにより反応の終結を
認める.−78゜Cで、4.0gの氷酢酸を添加しつい
で混合物を室温に加温する。反応混合物をジクロロメタ
ンで希釈しついで水で洗浄する.硫酸マグネシウムで乾
燥しついで溶剤を真空下で除去し、淡黄色オイルを得る
.過剰の出発物質を蒸留により除去しついで、得られた
黄色オイルをシリカゲルによるクロマトグラフィー処理
にゆだね、無色の粘性オイルとしてエチル3−(N一第
三ブトキシカルボニルアミノ)−2−オキソープ口ビル
(n−ブチル)ホスフィネートを得る. 班童: 5dのエタノールに溶解した1.2gのエチル3−アミ
ノー2−(4−クロロフエニル)−2−ヒドロキシープ
ロビル(n−ブチル)ホスフイネート塩酸塩を、31I
Ilの水に溶解した0.24 gの水酸化ナトリウムで
処理する。溶液を20時間60″Cに加熱する。この時
間経過後、溶液を室温に冷却しついで各々ジクロロメタ
ン50Idで2回洗浄し更に501dのジエチルエーテ
ルで1回洗浄する。水性相を蒸発乾固する。残留物をn
−プロパノールに懸濁させ、80℃に10分間加熱しつ
いで濾過する.n−プロパノールを真空下で除去し、白
色固体を得る。
逆相シリカゲルによるクロマトグラフィー処理しついで
真空下80゜Cで乾燥することにより、ナトリウム3−
アミノー2−(4−クロロフエニル)−2−ヒドロキシ
ープロビル(n−ブチル)ホスフィネートを得る;融点
215〜215.5゜C ; ’H−NMRスペクトル
(DzO) :δ=7.4ppm+(4H,s). 2
.91ppm(2H,ABq). 2.22ppm(2
H.ABq,d), 1.37−1.0ppm(6H.
m),0.75ppm(3H. t)。
真空下80゜Cで乾燥することにより、ナトリウム3−
アミノー2−(4−クロロフエニル)−2−ヒドロキシ
ープロビル(n−ブチル)ホスフィネートを得る;融点
215〜215.5゜C ; ’H−NMRスペクトル
(DzO) :δ=7.4ppm+(4H,s). 2
.91ppm(2H,ABq). 2.22ppm(2
H.ABq,d), 1.37−1.0ppm(6H.
m),0.75ppm(3H. t)。
出発物質を次のようにして得る:
200adの乾燥クロロホルムに溶解した19.6 g
のメチル2− (4−クロロフエニル)アクリレートの
溶液に、不活性雰囲気中47.06 gの55%m−ク
ロロ安息香酸を添加し、ついで得られた溶液を18時間
還流する.ついで混合物を冷却し、固体を濾過して除去
する。真空下で濾液を蒸発させついで残留物をシリカゲ
ルによるクロマトグラフイー処理にゆだね、無色のオイ
ルとしてメチル2−(4ークロロフェニル)−2.3−
エポキシーブロビオネートを得る. 3.79 gのトリエチルアξンを含有する無水テトラ
ヒドロフランに溶解した4.5gのエチルn−プチルホ
スフィネートの溶液を不活性ガス雰囲気中4.07gの
トリメチルクロロシランの無水テトラヒドロフラン溶液
で処理する.白色の沈殿物が直ちに形威しついで得られ
た懸濁液を室温で不活性ガス雰囲気中24時間撹拌する
。ついで反応混合物を不活性ガスのもとで濾過しついで
濾液を真空下で濃縮し曇りを帯びたオイルを得ついでこ
れを2.58gのメチル2−(4−クロロフヱニル)−
2.3一エボキシーブロピオネート及び0. 5 gの
無水塩化亜鉛で処理する.発熱反応が起る.発熱が止ん
だのち、澄明な溶液をゆっくり70℃に加熱しついでこ
の温度で6時間撹拌し更にこの時間経過後クロマトグラ
フィー分析により反応の完結を知る.反応混合物を室温
に冷却し、ジクロロメタンで希釈しついで水で洗浄する
.有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥しついで溶剤を
真空下で除去しオイルを得る.過剰の出発物質を高真空
下でキューゲルロア−(Kugelrohr)一蒸留に
より除去しついで淡黄色残留物をシリカゲルによりクロ
マトグラフィー処理し、粘性の無色オイルとして、メチ
ル2−(4−クロロフェニル)−2−}リメチルシリル
オキシー3−(0−エチルーP−n−プチルーホスフィ
ニル)一プロピオネートを得る.70−の無水エタノー
ルに溶解した9.16gのメチル2− (4−クロロフ
ェニル)−2−}リメチルシリルオキシー3−(0−エ
チルーP−n−プチルーホスフィニル)一プロピオネー
トの溶液に、0. 103 gのシアン化ナトリウムを
添加し、ついで20gの液体アンモニアを添加する。得
られた混合物をオートクレープ中で20時間50℃でか
つ12barで加熱する.アンモニアを水流ポンプの減
圧下で除去しついでエタノールを回転蒸発により除去し
淡褐色オイルを得る.シリカゲルによるクロマトグラフ
ィー処理により、オイル状の固体として2−(4−クロ
ロフェニル)−2−ヒドロキシ−3−(0−エチルーP
−n−プチルーホスフィニル)一ブロビオンアξドを得
、これは約lOO″Cの融点を有する. 10mの無水テトラヒドロフランに溶解した1.04g
の2− (4−クロロフェニル)−2−ヒドロキシ−3
−(〇一エチルーP−n−プチルーホスフィニル)一プ
ロピオンアξドの溶液を加熱還流しついで15分にわた
って0.69 gのボラン/ジメチルスルフィド錯体で
処理し、この間蒸留により放出されたジメチルスルフィ
ドを集める.還流を4時間継続しついで反応混合物を室
温に冷却し更に0.85gの無水メタノールで処理する
.添加終了後、0゜Cに冷却する前に反応物を更に30
分間撹拌し、ついで2.0molの無水エーテル塩化水
素溶液1.19adを添加する。ついで溶剤を除去し吸
湿性のガラス状白色固体として、エチル−3−アξノー
2一(4−クロロフエニル)−2−ヒドロキシープロビ
ル(n−プチル)一ホスフイネート塩酸塩を得る。
のメチル2− (4−クロロフエニル)アクリレートの
溶液に、不活性雰囲気中47.06 gの55%m−ク
ロロ安息香酸を添加し、ついで得られた溶液を18時間
還流する.ついで混合物を冷却し、固体を濾過して除去
する。真空下で濾液を蒸発させついで残留物をシリカゲ
ルによるクロマトグラフイー処理にゆだね、無色のオイ
ルとしてメチル2−(4ークロロフェニル)−2.3−
エポキシーブロビオネートを得る. 3.79 gのトリエチルアξンを含有する無水テトラ
ヒドロフランに溶解した4.5gのエチルn−プチルホ
スフィネートの溶液を不活性ガス雰囲気中4.07gの
トリメチルクロロシランの無水テトラヒドロフラン溶液
で処理する.白色の沈殿物が直ちに形威しついで得られ
た懸濁液を室温で不活性ガス雰囲気中24時間撹拌する
。ついで反応混合物を不活性ガスのもとで濾過しついで
濾液を真空下で濃縮し曇りを帯びたオイルを得ついでこ
れを2.58gのメチル2−(4−クロロフヱニル)−
2.3一エボキシーブロピオネート及び0. 5 gの
無水塩化亜鉛で処理する.発熱反応が起る.発熱が止ん
だのち、澄明な溶液をゆっくり70℃に加熱しついでこ
の温度で6時間撹拌し更にこの時間経過後クロマトグラ
フィー分析により反応の完結を知る.反応混合物を室温
に冷却し、ジクロロメタンで希釈しついで水で洗浄する
.有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥しついで溶剤を
真空下で除去しオイルを得る.過剰の出発物質を高真空
下でキューゲルロア−(Kugelrohr)一蒸留に
より除去しついで淡黄色残留物をシリカゲルによりクロ
マトグラフィー処理し、粘性の無色オイルとして、メチ
ル2−(4−クロロフェニル)−2−}リメチルシリル
オキシー3−(0−エチルーP−n−プチルーホスフィ
ニル)一プロピオネートを得る.70−の無水エタノー
ルに溶解した9.16gのメチル2− (4−クロロフ
ェニル)−2−}リメチルシリルオキシー3−(0−エ
チルーP−n−プチルーホスフィニル)一プロピオネー
トの溶液に、0. 103 gのシアン化ナトリウムを
添加し、ついで20gの液体アンモニアを添加する。得
られた混合物をオートクレープ中で20時間50℃でか
つ12barで加熱する.アンモニアを水流ポンプの減
圧下で除去しついでエタノールを回転蒸発により除去し
淡褐色オイルを得る.シリカゲルによるクロマトグラフ
ィー処理により、オイル状の固体として2−(4−クロ
ロフェニル)−2−ヒドロキシ−3−(0−エチルーP
−n−プチルーホスフィニル)一ブロビオンアξドを得
、これは約lOO″Cの融点を有する. 10mの無水テトラヒドロフランに溶解した1.04g
の2− (4−クロロフェニル)−2−ヒドロキシ−3
−(〇一エチルーP−n−プチルーホスフィニル)一プ
ロピオンアξドの溶液を加熱還流しついで15分にわた
って0.69 gのボラン/ジメチルスルフィド錯体で
処理し、この間蒸留により放出されたジメチルスルフィ
ドを集める.還流を4時間継続しついで反応混合物を室
温に冷却し更に0.85gの無水メタノールで処理する
.添加終了後、0゜Cに冷却する前に反応物を更に30
分間撹拌し、ついで2.0molの無水エーテル塩化水
素溶液1.19adを添加する。ついで溶剤を除去し吸
湿性のガラス状白色固体として、エチル−3−アξノー
2一(4−クロロフエニル)−2−ヒドロキシープロビ
ル(n−プチル)一ホスフイネート塩酸塩を得る。
班主:
150−の無水エタノールに溶解した5.0gの2−シ
アノー1−フロローエテ=ル(n−7’チル)ホスフィ
ン酸及び10M1の液体アンモニアの溶液を、木炭に担
持した5%ロジウム0.75 gで処理する。
アノー1−フロローエテ=ル(n−7’チル)ホスフィ
ン酸及び10M1の液体アンモニアの溶液を、木炭に担
持した5%ロジウム0.75 gで処理する。
懸濁液を、薄層クロマトグラフィーが反応終点を示すま
で、20゜Cで水素(20bar)のもとて振とラする
。触媒を濾過して除去しついで濾液を真空下で蒸発させ
固体をうる.エタノール/アセトンから再結晶し3−ア
ξノーl−フルオロープロビル(n−ブチル)ホスフィ
ン酸を得る. 出発物質を次のようにして得る: 24gの水素化ナトリウム(55%オイル分散液)を、
ヘキサンで洗浄しついで不活性ガス雰囲気中で100j
dの無水テトラヒドロフランに懸濁させる。
で、20゜Cで水素(20bar)のもとて振とラする
。触媒を濾過して除去しついで濾液を真空下で蒸発させ
固体をうる.エタノール/アセトンから再結晶し3−ア
ξノーl−フルオロープロビル(n−ブチル)ホスフィ
ン酸を得る. 出発物質を次のようにして得る: 24gの水素化ナトリウム(55%オイル分散液)を、
ヘキサンで洗浄しついで不活性ガス雰囲気中で100j
dの無水テトラヒドロフランに懸濁させる。
1001dの無水テトラヒドロフランに溶解した104
.4gのエチルジエトキシメチルホスフィネートの溶液
を、20℃の温度で保持しながら滴下する。反応は発熱
反応であり更にガス発生が起こる。添加終了後、20℃
で209.7 gのn−ブチルブロξドを添加する前に
撹拌を1.5時間継続する.最後に、懸濁液を2.5時
間撹拌し、氷/水浴中で冷却しついで水を注意深く添加
する。混合物を真空下で濃縮しついで残留物をジクロロ
メタンと水との間に分ける.有機相を硫酸ナトリウムで
乾燥し、ついで溶剤を除去し無色のオイルを得る。高真
空で蒸留し、沸点71.5〜74’C (10−3mb
ar)を有するエチルジエトキシメチル(n−ブチル)
一ホスフィネートを得る. 109gのエチルジエトキシメチル(n−ブチル)ホス
フィネートを、4.0s+olの塩酸160Jdに溶解
する.澄明な溶液を、24時間加熱還流しついで室温に
冷却し更にジエチルエーテルで洗浄する.水相を蒸発さ
せ、オイルとしてn−プチル亜リン酸を得る.このオイ
ルを高真空下で乾燥する。工一テル抽出物をヘキサンで
洗浄しついで水で洗浄し更に水相を蒸発させることによ
りサンプルを得る。
.4gのエチルジエトキシメチルホスフィネートの溶液
を、20℃の温度で保持しながら滴下する。反応は発熱
反応であり更にガス発生が起こる。添加終了後、20℃
で209.7 gのn−ブチルブロξドを添加する前に
撹拌を1.5時間継続する.最後に、懸濁液を2.5時
間撹拌し、氷/水浴中で冷却しついで水を注意深く添加
する。混合物を真空下で濃縮しついで残留物をジクロロ
メタンと水との間に分ける.有機相を硫酸ナトリウムで
乾燥し、ついで溶剤を除去し無色のオイルを得る。高真
空で蒸留し、沸点71.5〜74’C (10−3mb
ar)を有するエチルジエトキシメチル(n−ブチル)
一ホスフィネートを得る. 109gのエチルジエトキシメチル(n−ブチル)ホス
フィネートを、4.0s+olの塩酸160Jdに溶解
する.澄明な溶液を、24時間加熱還流しついで室温に
冷却し更にジエチルエーテルで洗浄する.水相を蒸発さ
せ、オイルとしてn−プチル亜リン酸を得る.このオイ
ルを高真空下で乾燥する。工一テル抽出物をヘキサンで
洗浄しついで水で洗浄し更に水相を蒸発させることによ
りサンプルを得る。
50dのへキサメチルジシラザンに懸濁させた12.2
gのn−ブチル亜リン酸の懸濁液を、24時間不活性ガ
ス雰囲気中で加熱還流す.る.過剰のへキサメチルジシ
ラザンを大気圧で蒸留により除去する。
gのn−ブチル亜リン酸の懸濁液を、24時間不活性ガ
ス雰囲気中で加熱還流す.る.過剰のへキサメチルジシ
ラザンを大気圧で蒸留により除去する。
残留物に、4.45gの3.3−ジフルオローアクリロ
ニトリルを添加する.反応混合物を室温で20時間撹拌
し、ひきつづき50℃で2時間加熱する。室温に冷却後
、混合物をジクロロメタンで希釈しついで水で洗浄する
.有機相と硫酸ナトリウムで乾燥しついで真空下で蒸発
させオイルとして2−シアノー1−フルオローエチル(
n−ブチル)一ホスフィン酸を得これは更に精製するこ
となく使用することが出来る. 氾: 15−の無水ジクロロメタンに溶解した1.0gのエチ
ル−3−(N一第三ブトキシ力ルポニルアミノ)−2−
オキソープロビル(シクロヘキシルメチル)ホスフィネ
ートの溶液を、室温で不活性雰囲気中2.1gのトリメ
チルブロモシランで処理する.7時間撹拌後、揮発性戒
分を減圧化で除去し淡黄色オイルをうる.このオイルを
1%の水を含有するメタノールに溶解しついで澄明な淡
黄色溶液を室温で一夜撹拌する.溶液を減圧下で除去し
融点180〜182℃を有する3−アミノー2−オキソ
ープロビル(シクロヘキシルメチル)ホスフィン酸臭化
水素酸塩をうる.エタノールに懸濁させついで酸化プロ
ピレンで処理し、3−ア主ノー2一オキソープロビル(
シクロヘキシルメチル)ホスフィン酸を得る: ’H−
NMR(0.0) :δ(ppa+) =4.15(2
H,s,CHJ),3.10(28,d.J=15Hz
,CHt−P)+ 1.80(2H4.P−CHx).
1.73−1.52(5H.s.2XCth+CI
),1.34−0.95(6Ls.3XCHz)−?発
物質を次のように調製する: 100ad!の無水テトラヒドロフランに懸濁させた1
6.5gの水素化ナトリウム(80%オイル懸濁液)を
、不活性雰囲気中20℃で、温度が25℃を超えないよ
うな速度で、104.4 gのエチル(ジェトキシメチ
ル)ホスフィネートの無水テトラヒドロフラン溶液10
0a!で処理する.添加終了後、得られた懸濁液を室温
で1時間撹拌する.この懸濁液を、85.5gのペンジ
ルプロミドで処理しついで反応混合物を室温で1夜撹拌
する.ついで反応混合物を氷/水浴中で冷却し更に20
0mの水を注意深く添加する.澄明な溶液を、ジクロ口
メタン及び水の間に分配する.ジクロロメタン相を分H
し、ついで乾燥し更に溶剤を除去し淡黄色のオイルを得
る.高真空下で蒸留し、沸点105 〜125℃(10
−”mbar)を有するエチルーヱーペンジルーヱージ
ェトキシメチルホスフィネートを得る; ’H−NII
IR(CDC13) :δ (ppm) =7.29
(5H,lI,Ph). 4.58(IH.d,J−
9Hz.CHP).4.08(2H,q.CHtOP)
− 3.83及び3.66(4H.m.2XCHtOC
).3.21(2H,ABq J■15X6.OHz
,CHxPh), 1.23(9H,m.3XCHs)
, 42atの無水エタノールに溶解した4.29gのエチ
ルーヱーベンジルー上−ジェトキシメチルホスフィネー
トの溶液を、10gのラネイニッケルで処理シツイテ懸
濁液ヲloo〜110℃テカッ12obarテ34時間
水素添加する.触媒を濾過して除去しついで残留物を無
水エタノールで洗浄する.一緒にした濾液と洗浄液を真
空下で濃縮しオイルを得る。高真空で蒸留し、沸点10
3 〜105℃(10−”mbar) ヲ有する旦一エ
チルー上−シクロヘキシルメチルーヱージエトキシメチ
ルホスフィネートを得る;’H−NMR(CDCIs)
二 δ (ppm) = 4. 62 (IH,
d, J=9Hz, C 肝),4.17(2H.ta
.CHtOP).3.84及び3.69(4H.m,2
×CHzOC),1.88(3Hls,CHt+CI)
+ 1.68(6H,+w.3XCHz). 1.30
(9Hllll3XCH3), 27mの水に溶解した38.3gのエチルL−シク口ヘ
キシルメチルーヱージェトキシメチルホスフィネートの
溶液を、37%の塩酸27dで処理しついで混合物を5
時間加熱還流する。混合物を室温に冷却しついでエーテ
ル/ヘキサン1:1で洗浄する.三和を得る.下層の二
相を、除去しついで水を減圧下で除去し白色固体として
シクロヘキシノレメチル亜リン酸を得る; ’H−NM
R(CDC13) :δ(pp醜) =7.40(IH
,幅広い一重線、交換体D,O.P−OH). 7.1
2(IH,d,J=526Hz,HJ). 2.10−
1.75(7HJ.3XGHz+CI)l1.48−1
.05(6H,I.3XCH3)−19.3gのシクロ
ヘキシルメチル亜リン酸のテトラヒド口フラン溶液を5
゜Cに冷却し、この温度で懸濁が生じ更に12. 14
gのトリエチルアξンで処理する.発熱が起こりつい
で懸濁液を、5゜Cにあらかじめ冷却しついで20M1
の無水テトラヒドロフランに溶解した13.02 gの
エチルクロロホノレネートをゆっくり添加する。発熱反
応がガス発生とともに生じる.白色沈殿物を室温で一夜
撹拌しつも1でひきつづき濾過する.濾液を減圧下で濃
縮し更に残留物をジクロロメタンと水との間に分ける.
有機相を除去し、乾燥しついで真空下で−a縮し黄色オ
イルを得る.高真空下で蒸留し、沸点120〜130″
C ( 2 XIO−”abar)を有するエチノレ(
シクロヘキシルメチル)ホスフイネートを得る;■−N
MR(CDCI!) : δ (pps) −7.
1T(IH,d,J=527Hz.P−!{}.4.1
3(2H,s,CHgOP), 1.95−1.58(
7H,ll.3XCH!+CI)−1.38−0.75
(911劃.3XCHt +CH3)−lOII1無水
テトラヒドロフランに懸濁させた2.25gの水素化ナ
トリウム(55%オイル分散液)の懸濁液を、不活性雰
囲気中で0℃に冷却する。IOIIiの無水テトラヒド
ロフランに溶解した8.9gのエチル(シクロヘキシル
メチル)ホスフィネートの溶液を、0〜5℃の温度に保
存しながら滴下する。
ニトリルを添加する.反応混合物を室温で20時間撹拌
し、ひきつづき50℃で2時間加熱する。室温に冷却後
、混合物をジクロロメタンで希釈しついで水で洗浄する
.有機相と硫酸ナトリウムで乾燥しついで真空下で蒸発
させオイルとして2−シアノー1−フルオローエチル(
n−ブチル)一ホスフィン酸を得これは更に精製するこ
となく使用することが出来る. 氾: 15−の無水ジクロロメタンに溶解した1.0gのエチ
ル−3−(N一第三ブトキシ力ルポニルアミノ)−2−
オキソープロビル(シクロヘキシルメチル)ホスフィネ
ートの溶液を、室温で不活性雰囲気中2.1gのトリメ
チルブロモシランで処理する.7時間撹拌後、揮発性戒
分を減圧化で除去し淡黄色オイルをうる.このオイルを
1%の水を含有するメタノールに溶解しついで澄明な淡
黄色溶液を室温で一夜撹拌する.溶液を減圧下で除去し
融点180〜182℃を有する3−アミノー2−オキソ
ープロビル(シクロヘキシルメチル)ホスフィン酸臭化
水素酸塩をうる.エタノールに懸濁させついで酸化プロ
ピレンで処理し、3−ア主ノー2一オキソープロビル(
シクロヘキシルメチル)ホスフィン酸を得る: ’H−
NMR(0.0) :δ(ppa+) =4.15(2
H,s,CHJ),3.10(28,d.J=15Hz
,CHt−P)+ 1.80(2H4.P−CHx).
1.73−1.52(5H.s.2XCth+CI
),1.34−0.95(6Ls.3XCHz)−?発
物質を次のように調製する: 100ad!の無水テトラヒドロフランに懸濁させた1
6.5gの水素化ナトリウム(80%オイル懸濁液)を
、不活性雰囲気中20℃で、温度が25℃を超えないよ
うな速度で、104.4 gのエチル(ジェトキシメチ
ル)ホスフィネートの無水テトラヒドロフラン溶液10
0a!で処理する.添加終了後、得られた懸濁液を室温
で1時間撹拌する.この懸濁液を、85.5gのペンジ
ルプロミドで処理しついで反応混合物を室温で1夜撹拌
する.ついで反応混合物を氷/水浴中で冷却し更に20
0mの水を注意深く添加する.澄明な溶液を、ジクロ口
メタン及び水の間に分配する.ジクロロメタン相を分H
し、ついで乾燥し更に溶剤を除去し淡黄色のオイルを得
る.高真空下で蒸留し、沸点105 〜125℃(10
−”mbar)を有するエチルーヱーペンジルーヱージ
ェトキシメチルホスフィネートを得る; ’H−NII
IR(CDC13) :δ (ppm) =7.29
(5H,lI,Ph). 4.58(IH.d,J−
9Hz.CHP).4.08(2H,q.CHtOP)
− 3.83及び3.66(4H.m.2XCHtOC
).3.21(2H,ABq J■15X6.OHz
,CHxPh), 1.23(9H,m.3XCHs)
, 42atの無水エタノールに溶解した4.29gのエチ
ルーヱーベンジルー上−ジェトキシメチルホスフィネー
トの溶液を、10gのラネイニッケルで処理シツイテ懸
濁液ヲloo〜110℃テカッ12obarテ34時間
水素添加する.触媒を濾過して除去しついで残留物を無
水エタノールで洗浄する.一緒にした濾液と洗浄液を真
空下で濃縮しオイルを得る。高真空で蒸留し、沸点10
3 〜105℃(10−”mbar) ヲ有する旦一エ
チルー上−シクロヘキシルメチルーヱージエトキシメチ
ルホスフィネートを得る;’H−NMR(CDCIs)
二 δ (ppm) = 4. 62 (IH,
d, J=9Hz, C 肝),4.17(2H.ta
.CHtOP).3.84及び3.69(4H.m,2
×CHzOC),1.88(3Hls,CHt+CI)
+ 1.68(6H,+w.3XCHz). 1.30
(9Hllll3XCH3), 27mの水に溶解した38.3gのエチルL−シク口ヘ
キシルメチルーヱージェトキシメチルホスフィネートの
溶液を、37%の塩酸27dで処理しついで混合物を5
時間加熱還流する。混合物を室温に冷却しついでエーテ
ル/ヘキサン1:1で洗浄する.三和を得る.下層の二
相を、除去しついで水を減圧下で除去し白色固体として
シクロヘキシノレメチル亜リン酸を得る; ’H−NM
R(CDC13) :δ(pp醜) =7.40(IH
,幅広い一重線、交換体D,O.P−OH). 7.1
2(IH,d,J=526Hz,HJ). 2.10−
1.75(7HJ.3XGHz+CI)l1.48−1
.05(6H,I.3XCH3)−19.3gのシクロ
ヘキシルメチル亜リン酸のテトラヒド口フラン溶液を5
゜Cに冷却し、この温度で懸濁が生じ更に12. 14
gのトリエチルアξンで処理する.発熱が起こりつい
で懸濁液を、5゜Cにあらかじめ冷却しついで20M1
の無水テトラヒドロフランに溶解した13.02 gの
エチルクロロホノレネートをゆっくり添加する。発熱反
応がガス発生とともに生じる.白色沈殿物を室温で一夜
撹拌しつも1でひきつづき濾過する.濾液を減圧下で濃
縮し更に残留物をジクロロメタンと水との間に分ける.
有機相を除去し、乾燥しついで真空下で−a縮し黄色オ
イルを得る.高真空下で蒸留し、沸点120〜130″
C ( 2 XIO−”abar)を有するエチノレ(
シクロヘキシルメチル)ホスフイネートを得る;■−N
MR(CDCI!) : δ (pps) −7.
1T(IH,d,J=527Hz.P−!{}.4.1
3(2H,s,CHgOP), 1.95−1.58(
7H,ll.3XCH!+CI)−1.38−0.75
(911劃.3XCHt +CH3)−lOII1無水
テトラヒドロフランに懸濁させた2.25gの水素化ナ
トリウム(55%オイル分散液)の懸濁液を、不活性雰
囲気中で0℃に冷却する。IOIIiの無水テトラヒド
ロフランに溶解した8.9gのエチル(シクロヘキシル
メチル)ホスフィネートの溶液を、0〜5℃の温度に保
存しながら滴下する。
添加終了後、懸濁液を室温に加温しついでO″Cに再冷
却する前に30分間撹拌する. 10II1の無水テト
ラヒドロフランに溶解した19.87 gのヨウ化メチ
ルの溶液を、ゆっくり(非常に発熱反応である)添加す
る.室温に加温した後、反応混合物を45分で撹拌し、
0℃に再冷却しついで注意深く水で処理する.1有機相
を除去し、乾燥しついで濃縮し黄色オイルを得る.シリ
カゲルでクロマトグラフィー処理し、無色オイルとして
エチルヱーシクロヘキシルメチルーヱーメチルーホスフ
ィネートを得る ; ■−NIIR(CDCIs):
δ(ppm)は4.04(2H,s,CHzOP),
1.94−1.57(7H.ll,3XC11t+CI
). 1.45(3H.d,J−15Hz,P−CH3
) .1.36−0.95(9H.s.3XCH雪+C
lh).60−の無水テトラヒドロフランに溶解した4
.14gのリチウムジイソプロビルアξドの溶液を、不
活性雰囲気中で−73℃に冷却する.一定速度で撹拌し
ながら、20−の無水テトラヒドロフランに溶解した7
.9gのエチルヱーシクロへキシルメチJレ−P−メチ
ルホスフイネートの−78゜C溶液を、不活性の正圧の
雰囲気中カニューレ管を介して15分にわたって滴下す
る.得られた淡黄色溶液を−78℃で1時間撹拌しつい
で30111!の無水テトラヒドロフランに溶解した1
.22gのN一第三ブトキシカノレポニルグリシンメチ
ルエステルの予1冷却(−78℃)溶液を、カニューレ
管を介して5分にわたって添加する。−78℃で15分
間撹拌した後クロマトグラフィーによる分析で、反応が
完結したことがわかる。−78℃で2.21 gの氷酢
酸を添加しつむ1で混合物を室温に加温する.反応物を
ジクロロメタンで希釈しついで水で洗浄する.溶剤を乾
燥しついで減圧下で除去し淡黄色オイノレを得る.蒸留
により出発物質を除去しついで残留物をシリカゲルによ
るクロマトグラフィー処理にゆだね淡黄色オイルとして
エチル3−(N一第三ブトキシカルボニルアξノ)−2
−オキソープロビル(シクロヘキシルメチル)ホスフィ
ネートを得る:’H−NMR(CDC1i) :δ(p
p泪)=5.5(IH,br S,交換体D,O.NH
). 4.10(4H.@,CI!OP+CI1N).
3.10(2H.ABq.d,CtlzC・O).
1.95−1.58(7Hv,3XCllg+CI).
1.44(9H.s. tau).1.38−0.
95(9H,−.3XCTo+CHs)。
却する前に30分間撹拌する. 10II1の無水テト
ラヒドロフランに溶解した19.87 gのヨウ化メチ
ルの溶液を、ゆっくり(非常に発熱反応である)添加す
る.室温に加温した後、反応混合物を45分で撹拌し、
0℃に再冷却しついで注意深く水で処理する.1有機相
を除去し、乾燥しついで濃縮し黄色オイルを得る.シリ
カゲルでクロマトグラフィー処理し、無色オイルとして
エチルヱーシクロヘキシルメチルーヱーメチルーホスフ
ィネートを得る ; ■−NIIR(CDCIs):
δ(ppm)は4.04(2H,s,CHzOP),
1.94−1.57(7H.ll,3XC11t+CI
). 1.45(3H.d,J−15Hz,P−CH3
) .1.36−0.95(9H.s.3XCH雪+C
lh).60−の無水テトラヒドロフランに溶解した4
.14gのリチウムジイソプロビルアξドの溶液を、不
活性雰囲気中で−73℃に冷却する.一定速度で撹拌し
ながら、20−の無水テトラヒドロフランに溶解した7
.9gのエチルヱーシクロへキシルメチJレ−P−メチ
ルホスフイネートの−78゜C溶液を、不活性の正圧の
雰囲気中カニューレ管を介して15分にわたって滴下す
る.得られた淡黄色溶液を−78℃で1時間撹拌しつい
で30111!の無水テトラヒドロフランに溶解した1
.22gのN一第三ブトキシカノレポニルグリシンメチ
ルエステルの予1冷却(−78℃)溶液を、カニューレ
管を介して5分にわたって添加する。−78℃で15分
間撹拌した後クロマトグラフィーによる分析で、反応が
完結したことがわかる。−78℃で2.21 gの氷酢
酸を添加しつむ1で混合物を室温に加温する.反応物を
ジクロロメタンで希釈しついで水で洗浄する.溶剤を乾
燥しついで減圧下で除去し淡黄色オイノレを得る.蒸留
により出発物質を除去しついで残留物をシリカゲルによ
るクロマトグラフィー処理にゆだね淡黄色オイルとして
エチル3−(N一第三ブトキシカルボニルアξノ)−2
−オキソープロビル(シクロヘキシルメチル)ホスフィ
ネートを得る:’H−NMR(CDC1i) :δ(p
p泪)=5.5(IH,br S,交換体D,O.NH
). 4.10(4H.@,CI!OP+CI1N).
3.10(2H.ABq.d,CtlzC・O).
1.95−1.58(7Hv,3XCllg+CI).
1.44(9H.s. tau).1.38−0.
95(9H,−.3XCTo+CHs)。
貫i:
0.73 gのナトリウム3−(N一第三ブトキシカル
ボニルアミノ)−2−ヒドロキシ−2−メチルーブロビ
ル(n−ブチル)ホスフィネートの溶液を、1.0塩酸
101dに溶解しついで溶液を20℃で16〜20時間
撹拌する.この時間経過後、溶液をジクロロメタンで洗
浄しついでエーテルで洗浄しついで水を減圧下40℃で
除去しオイル状の固体を得る。
ボニルアミノ)−2−ヒドロキシ−2−メチルーブロビ
ル(n−ブチル)ホスフィネートの溶液を、1.0塩酸
101dに溶解しついで溶液を20℃で16〜20時間
撹拌する.この時間経過後、溶液をジクロロメタンで洗
浄しついでエーテルで洗浄しついで水を減圧下40℃で
除去しオイル状の固体を得る。
この固体をn−プロバノール及び2.3gの木炭で処理
する.ひきつづき加熱還流しついで濾過し無白の溶液を
得る.真空下で溶剤を除去し更に固体を真空下80゜C
で乾燥させ淡黄色固体を得る.この固体を無水エタノー
ルに溶解し、ひきつづき酸化プロピレンで処理し白色固
体を得る.エタノール/アセトン混合物から再結晶し、
融点187〜189゜Cを有する3−アミノー2−ヒド
ロキシー2−メチルーブロビル(n−ブチル)ホスフイ
ン酸を得る. 出発物質を次のようにして得る: 250dのジクロロメタンに溶解した13.44 gの
メタアリルアミン塩酸塩及び27.3gのジー第三プチ
ルカーボネートの溶液を、25.2 gのトリエチルア
ξンで20℃で処理する.溶液を1時間20℃で撹拌し
、水で洗浄しついで有機相を乾燥し更に溶剤を除去し無
色のオイルを得る.シリカゲルによるフラッシュクロマ
トグラフイー処理により、無色のオイルとして純粋な3
−(N一第三プトキシカルボニルアξノ)−2−メチル
ーブロブー2−エンを得る; ’H−NMR(CDCb
) :δ(pps+)謂4.83(2H,■.2XCH
=C). 4.70−4.60(1B.幅広い3,交換
体DヨO. NH) ,3.67(2H,s,C旧N)
.1。73(3H.s,C旧). 1.45(9H,s
,taU) . クロロホルムに溶解した27.18gのm−クロロ化安
息香酸を、アルゴン雰囲気中約10゜Cに冷却しついで
外部冷却しながら15℃未満の温度に保持しながら1時
間にわたって17.1gの3−(N一第三ブトキシカル
ボニルアくノ)−2−メチループロプー2−エンのクロ
ロホルム溶液を用いて滴下することにより処理する.添
加終了後約30分で白色沈殿物が形或する.反応の終点
はクロマトグラフィー分析により判断する。反応が完結
したら、懸濁液をクロロホルムで希釈しついで亜硫酸ナ
トリウム10%水溶液300jdで3回洗浄し、ひきつ
づき10%の炭酸水素ナトリウム水溶液300mで3回
洗浄する.有機相を乾燥しついで溶剤を真空下で除去し
、無色のオイルとして3−(N一第三ブトキシカルボニ
ルアξノ)−2−メチル−2,3−エトキシプロパンを
得る; ’H−NMR(CDC1z) :δ(ppm)
−3.3(2旧t.CHtN),2.65(2H.AB
q.CHt), 1.43(9H,s.tBu)+ 1
.33(311,3,CI.).11.11gのトリエ
チルアξンを含有する無水テトラヒドロフランに溶解し
た15.0 gのエチルn −プチルホスフィネートの
溶液を、不活性ガス雰囲気中11.95gのトリメチル
クロロシランの無水テトラヒド口フラン溶液を用いて処
理する.白色沈殿物が直ちに形成しついで得られた懸濁
液を室温で不活性ガス雰囲気中24時間撹拌する.反応
混合物を不活性ガス雰囲気中で濾過しついで濾液を真空
下で濃縮し曇り状のオイルとして得、ついでこれを3。
する.ひきつづき加熱還流しついで濾過し無白の溶液を
得る.真空下で溶剤を除去し更に固体を真空下80゜C
で乾燥させ淡黄色固体を得る.この固体を無水エタノー
ルに溶解し、ひきつづき酸化プロピレンで処理し白色固
体を得る.エタノール/アセトン混合物から再結晶し、
融点187〜189゜Cを有する3−アミノー2−ヒド
ロキシー2−メチルーブロビル(n−ブチル)ホスフイ
ン酸を得る. 出発物質を次のようにして得る: 250dのジクロロメタンに溶解した13.44 gの
メタアリルアミン塩酸塩及び27.3gのジー第三プチ
ルカーボネートの溶液を、25.2 gのトリエチルア
ξンで20℃で処理する.溶液を1時間20℃で撹拌し
、水で洗浄しついで有機相を乾燥し更に溶剤を除去し無
色のオイルを得る.シリカゲルによるフラッシュクロマ
トグラフイー処理により、無色のオイルとして純粋な3
−(N一第三プトキシカルボニルアξノ)−2−メチル
ーブロブー2−エンを得る; ’H−NMR(CDCb
) :δ(pps+)謂4.83(2H,■.2XCH
=C). 4.70−4.60(1B.幅広い3,交換
体DヨO. NH) ,3.67(2H,s,C旧N)
.1。73(3H.s,C旧). 1.45(9H,s
,taU) . クロロホルムに溶解した27.18gのm−クロロ化安
息香酸を、アルゴン雰囲気中約10゜Cに冷却しついで
外部冷却しながら15℃未満の温度に保持しながら1時
間にわたって17.1gの3−(N一第三ブトキシカル
ボニルアくノ)−2−メチループロプー2−エンのクロ
ロホルム溶液を用いて滴下することにより処理する.添
加終了後約30分で白色沈殿物が形或する.反応の終点
はクロマトグラフィー分析により判断する。反応が完結
したら、懸濁液をクロロホルムで希釈しついで亜硫酸ナ
トリウム10%水溶液300jdで3回洗浄し、ひきつ
づき10%の炭酸水素ナトリウム水溶液300mで3回
洗浄する.有機相を乾燥しついで溶剤を真空下で除去し
、無色のオイルとして3−(N一第三ブトキシカルボニ
ルアξノ)−2−メチル−2,3−エトキシプロパンを
得る; ’H−NMR(CDC1z) :δ(ppm)
−3.3(2旧t.CHtN),2.65(2H.AB
q.CHt), 1.43(9H,s.tBu)+ 1
.33(311,3,CI.).11.11gのトリエ
チルアξンを含有する無水テトラヒドロフランに溶解し
た15.0 gのエチルn −プチルホスフィネートの
溶液を、不活性ガス雰囲気中11.95gのトリメチル
クロロシランの無水テトラヒド口フラン溶液を用いて処
理する.白色沈殿物が直ちに形成しついで得られた懸濁
液を室温で不活性ガス雰囲気中24時間撹拌する.反応
混合物を不活性ガス雰囲気中で濾過しついで濾液を真空
下で濃縮し曇り状のオイルとして得、ついでこれを3。
76gの3−(N一第三ブトキシカルボニルアミノ)−
2−メチル−2,3−エボキシプロパン及び1gの無水
塩化亜鉛で処理する.発熱反応が生じる。発熱が止んだ
後、澄明な溶液を70℃にゆっくり加熱しついでこの温
度で4時間撹拌し、しかる後クロマトグラフィー分析に
より反応が完結することがわかる.反応混合物を室温に
冷却し、ジクロロメタンで洗浄しついで水で洗浄する。
2−メチル−2,3−エボキシプロパン及び1gの無水
塩化亜鉛で処理する.発熱反応が生じる。発熱が止んだ
後、澄明な溶液を70℃にゆっくり加熱しついでこの温
度で4時間撹拌し、しかる後クロマトグラフィー分析に
より反応が完結することがわかる.反応混合物を室温に
冷却し、ジクロロメタンで洗浄しついで水で洗浄する。
溶剤を乾燥しついで真空下で除去しオイルを得る.過剰
の出発物質を高真空下でキューゲルロー(Kugelr
ohr)一蒸留により除去しついで淡黄色の残留物をシ
リカゲルによるクロマトグラフィー処理にゆだね、無色
のオイルとしてエチル3−(N一第三ブトキシカルボニ
ルアξノ)−2−ヒドロキシ−2−メチループロビル−
(n−ブチル)ホスフィネートを得る; ’H−NMR
(CDCIs) :δ(ppm) =5.17+4.6
8(IH,交換体DtO,NH).4.07(2H.n
+.C}lzOP),3.18(2H,m,CHJ),
1.93−1.22(24H,II,D*O交換により
23Hとなる)t 0.92(3H.t.CI!),
”P−NMR(CDC13) :59.6, 59.3
, 10−のエタノールに溶解した0.86gのエチル3−
(N一第三ブトキシカルボニルアミノ)−2−ヒドロキ
シ−2−メチルーブロビルー(n−ブチル)ホスフィネ
ートの溶液を、3rdの水に溶解した0.4gの水酸化
ナトリウム溶液で処理しついで得られた溶液を24時間
60℃に加熱する。この時間後、反応物を20゜Cに冷
却し、ついで溶剤を除去する.残留物をジクロロメタン
と水との間に分け、ついで水相を除去し更に真空下で濃
縮する。この残留物を熱n−プロパノールに溶解しつい
でセライトで濾過する.n−プロパノールを除去した後
、3−(N一第三ブトキシカルボニルアξノ)一2−ヒ
ドロキシ−2−メチループロピル(n−プチル)ホスフ
ィネートを純粋な黄色の吸湿性固体として得、これは更
に精製することなく使用することが出来る。
の出発物質を高真空下でキューゲルロー(Kugelr
ohr)一蒸留により除去しついで淡黄色の残留物をシ
リカゲルによるクロマトグラフィー処理にゆだね、無色
のオイルとしてエチル3−(N一第三ブトキシカルボニ
ルアξノ)−2−ヒドロキシ−2−メチループロビル−
(n−ブチル)ホスフィネートを得る; ’H−NMR
(CDCIs) :δ(ppm) =5.17+4.6
8(IH,交換体DtO,NH).4.07(2H.n
+.C}lzOP),3.18(2H,m,CHJ),
1.93−1.22(24H,II,D*O交換により
23Hとなる)t 0.92(3H.t.CI!),
”P−NMR(CDC13) :59.6, 59.3
, 10−のエタノールに溶解した0.86gのエチル3−
(N一第三ブトキシカルボニルアミノ)−2−ヒドロキ
シ−2−メチルーブロビルー(n−ブチル)ホスフィネ
ートの溶液を、3rdの水に溶解した0.4gの水酸化
ナトリウム溶液で処理しついで得られた溶液を24時間
60℃に加熱する。この時間後、反応物を20゜Cに冷
却し、ついで溶剤を除去する.残留物をジクロロメタン
と水との間に分け、ついで水相を除去し更に真空下で濃
縮する。この残留物を熱n−プロパノールに溶解しつい
でセライトで濾過する.n−プロパノールを除去した後
、3−(N一第三ブトキシカルボニルアξノ)一2−ヒ
ドロキシ−2−メチループロピル(n−プチル)ホスフ
ィネートを純粋な黄色の吸湿性固体として得、これは更
に精製することなく使用することが出来る。
明1:
101I1の無水ジクロロメタンに溶解した0.64
gのエチル3−(N−第三ブトキシカルボニルア泉ノ)
一2−オキソープロビル(シクロブロビルメチル)ホス
フィネートの溶液を、不活性ガス雰囲気中室温で1.5
3gのトリメチルプロモシランを用いて処理する。淡黄
色溶液を室温で4時間撹拌しついで揮発性物質を減圧下
で除去し、淡黄色オイルを得る。このオイルを1%の水
を含有するメタノールに再溶解し、ついで澄明な淡黄色
溶液を室温で30分間撹拌する.溶剤を除去しついで残
留物を高真空下50’Cで24時間乾燥し黄色ゴムとし
て3−ア暑ノー2−オキソープロビル(シクロプロビル
メチル)ホスフィン酸臭化水素酸塩として得る.このゴ
ムをエタノールに溶解しついで酸化プロピレンで処理し
濾過して乾燥し融点109〜110℃を有する淡黄色固
体として3−アξノー2−オキソープロビル(シクロプ
ロビルメチル)ホスフィン酸を得る; ’H−NMR(
DtO) :δ(ppm) =4.15(2H.s.C
HtN),3.18(2Hld,J−15H2,CTo
P)11.58(2H,d.d.J=15+6HZ,P
CI!),0.83(IH,a.cH). 0.55(
2H.s,CHz), 0.17(2H,s,CHg)
. 出発物質を次のようにして得る: 50dの無水テトラヒドロフランに懸濁させた2.22
gの水素化ナトリウム(80%オイル懸濁液)の懸濁液
を、不活性雰囲気中、温度が25℃を超えないような速
度で7.24gのエチル(メチル)ホスフィネートを5
0Wiの無水テトラヒドロフラン溶液を用いて20℃で
処理する.添加終了後、得られた懸濁液を室温で1時間
撹拌しついで10.0 gのブロモメチルシクロプロパ
ンをゆっくり添加する.反応混合物を更に3時間氷/水
浴中で冷却しながら20゜Cで撹拌しついで100jd
の水を注意深く添加する。
gのエチル3−(N−第三ブトキシカルボニルア泉ノ)
一2−オキソープロビル(シクロブロビルメチル)ホス
フィネートの溶液を、不活性ガス雰囲気中室温で1.5
3gのトリメチルプロモシランを用いて処理する。淡黄
色溶液を室温で4時間撹拌しついで揮発性物質を減圧下
で除去し、淡黄色オイルを得る。このオイルを1%の水
を含有するメタノールに再溶解し、ついで澄明な淡黄色
溶液を室温で30分間撹拌する.溶剤を除去しついで残
留物を高真空下50’Cで24時間乾燥し黄色ゴムとし
て3−ア暑ノー2−オキソープロビル(シクロプロビル
メチル)ホスフィン酸臭化水素酸塩として得る.このゴ
ムをエタノールに溶解しついで酸化プロピレンで処理し
濾過して乾燥し融点109〜110℃を有する淡黄色固
体として3−アξノー2−オキソープロビル(シクロプ
ロビルメチル)ホスフィン酸を得る; ’H−NMR(
DtO) :δ(ppm) =4.15(2H.s.C
HtN),3.18(2Hld,J−15H2,CTo
P)11.58(2H,d.d.J=15+6HZ,P
CI!),0.83(IH,a.cH). 0.55(
2H.s,CHz), 0.17(2H,s,CHg)
. 出発物質を次のようにして得る: 50dの無水テトラヒドロフランに懸濁させた2.22
gの水素化ナトリウム(80%オイル懸濁液)の懸濁液
を、不活性雰囲気中、温度が25℃を超えないような速
度で7.24gのエチル(メチル)ホスフィネートを5
0Wiの無水テトラヒドロフラン溶液を用いて20℃で
処理する.添加終了後、得られた懸濁液を室温で1時間
撹拌しついで10.0 gのブロモメチルシクロプロパ
ンをゆっくり添加する.反応混合物を更に3時間氷/水
浴中で冷却しながら20゜Cで撹拌しついで100jd
の水を注意深く添加する。
澄明な溶液を、ジクロロメタン及び水の間に分配する.
有機相を分離しついで乾燥し、溶剤を除去し淡黄色オイ
ルを得る.高真空下で蒸留し、沸点100℃(10−’
s+bar)のエチルシクロプロビルメチノレ(メチノ
レ)ホスフィネートを得る: ’H−NMR(CDCI
!) :δ(ppm)=4.04(2H,a+,CH*
OP). 1.66(28.d,CHzP),1.47
(3H,d,CHs)+ 1.30(3H, t,CH
s),0.88(IH,m,CI),0.55(2H,
ai.cHt). 0.15(2H,s.cHg) .
100ml!の無水テトラヒド口フランに溶解した6.
97gのリチウムジイソプ口ピルアミドの溶液を、不活
性雰囲気中で−78℃に冷却する.一定速度で撹拌しな
がら、30dの無水テトラヒドロフランに溶解した10
.5 gのエチルシクロプロピルメチル(メチル)ホス
フィネートの−78゜C溶液を、不活性ガスの正圧のも
とカニューレ管を介してl5〜20分にわたって添加す
る.得られた淡黄色溶液を、−78℃で1時間撹拌しつ
いで20−の無水テトラヒド口フランに溶解した2.0
6 gのN一第三ブトキシカルボニルグリシンメチルエ
ステルの予備冷却(一78”C )溶液を、カニューレ
管を介して5〜10分にわたって添加する.−78℃で
撹拌しながら15分後クロマトグラフィー分析は、反応
の終結を示した.−78゜Cで、3.75mの氷酢酸を
添加しついで混合物を室温に加温する.反応混合物を、
ジクロロメタンで希釈しついで水で洗浄する.溶剤を乾
燥しついで減圧下で除去し、淡黄色オイルを得る。蒸留
により過剰の出発物質を除去し、ついで残留物をシリカ
ゲルによるクロマトグラフィー処理にゆだね、淡黄色オ
イルとしてエチル3−(N一第三ブトキシカルボニルア
果ノ)−2−オキソープロビル(シクロブロビルメチル
)一ホスフィネートを得る; ’H−NMR(CDCI
s) :δ(ppm)=5.40(1B,Br t,交
換体D霊OINH),4.14(4H.s.CHzOP
+CHzN), 3.17(2H. d, J冨17
.5HZ,CHgC=0), 1.93−1.68(2
H.m,PCHz)l1.45(9旧a.tBu),1
.35(3H.t,CHs). 0.93(IH,m,
Cll),0.62(2H,s,CHt). 0.2
7(2it.a,cut),明王: 5jieの無水ジクロロメタンに溶解した0.3gのエ
チル3−(N一第三プトキシカルボニルアξノ)−2−
(4−クロロフェニル)−2−ヒFロキシープロビル
(n−ブチル)ホスフィネートの溶液を、0.53gト
リメチルブロモシランで処理しついで得られた無色の溶
液を室温で不活性雰囲気下24時間撹拌する.揮発正物
質を減圧下で除去し、オフホワイトのフォームを得、こ
れを1%の水を含有するメタノール5Idに再溶解しつ
いで溶液を室温で20時間撹拌する.この時間経過後、
溶剤を真空下で蒸発させ、得られた固体を高真空下で乾
燥させ、3−ア旦ノー3−(4−クロロフェニル)一2
−ヒドロキシプロピルーn−プチルホスフィン酸臭化水
素酸塩を得る。この塩をエタノールに再溶解しついで酸
化プロピレンで処理し融点215〜216.5℃を有す
る3−アξノー2−(4−クロロフエニル)−2−ヒド
ロキシープロピルー(n−ブチル)ホスフィン酸を得る
: ’II−NMR(D!O) :δ(ppa+)=7
.32(4H,s+,Ph). 3.26(2H.s,
CHJ). 2.40(2H.lI.CH!P),
1.07(6H,+s.3XCfix). 0.88
(3H.t,CHs).出発物質を次のようにして得る
: 900+dの無水ジクロロメタンに溶解した218gの
プロパー1.2−ジエチルホスフィン酸のiffを、不
活性雰囲気中10゜Cに冷却しついで167.5gのト
リエチルア逅ンで処理する.わずかな発熱が認められ、
ついで混合物をlO℃に再冷却しついで10〜15℃の
温度を保持しながら130分にわたって200afのジ
クロロメタンに溶解した180gのエチルクロロホルネ
ートを滴下する.ガス発生が生じついで白色沈殿物が生
じる。懸濁液を一夜撹拌しついで濾過する.得られた固
体をテトラヒドロフランで洗浄しついで一緒にした洗浄
物と濾液を水で洗浄する.有機相を一緒にし、ついで乾
燥し更に溶剤を減圧下で除去する.高真空下で蒸留し沸
点47〜50℃( 6 XIO”3mbar)のエチル
ブロバー1.2−ジエニルホスフィネートを得る: ’
H−NMR(CDCIs): δ (ppm)=7.
21(IH.d.d.J=576+477P−H),5
.43(LH,t.d.d,CI). 5.10(2H
.d.CHx). 4.14(2H,+w.CHtOP
), 1.36(3ff.t,Cl.lOOII1のト
リエチルオルトアセテートに溶解した41.25gのエ
チルプロパー1,2−ジエニルホスフィネートの溶液を
、1gのブロントリフルオリドジエチルエテラートで処
理する。3時間後室温で溶液をジクロロメタンで希釈し
ついで10%炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄する.有機
相を乾燥しついで揮発性物質を減圧下で除去する。高真
空下で残留物を蒸留し、沸点89〜125℃(10−’
sbar)を有するエチル1.1−ジエトキシエチル−
(プロパー1.2−ジエニル)ホスフィネートを無色オ
イルとして得る: ’l{−NMR(CDCI!) :
δ(ppa+) =5.44(LH.d,d,CH).
5.02(2H.d.d.CHz). 4.22(2
Hll1.C}1tOP),3.65(4H,s+,2
XCHzOC),1.53(3H.d.J=16Hz,
P−C−CHx). 1.33(3}1.t,CHz)
. 1.20(611,t,2XCHs)。
有機相を分離しついで乾燥し、溶剤を除去し淡黄色オイ
ルを得る.高真空下で蒸留し、沸点100℃(10−’
s+bar)のエチルシクロプロビルメチノレ(メチノ
レ)ホスフィネートを得る: ’H−NMR(CDCI
!) :δ(ppm)=4.04(2H,a+,CH*
OP). 1.66(28.d,CHzP),1.47
(3H,d,CHs)+ 1.30(3H, t,CH
s),0.88(IH,m,CI),0.55(2H,
ai.cHt). 0.15(2H,s.cHg) .
100ml!の無水テトラヒド口フランに溶解した6.
97gのリチウムジイソプ口ピルアミドの溶液を、不活
性雰囲気中で−78℃に冷却する.一定速度で撹拌しな
がら、30dの無水テトラヒドロフランに溶解した10
.5 gのエチルシクロプロピルメチル(メチル)ホス
フィネートの−78゜C溶液を、不活性ガスの正圧のも
とカニューレ管を介してl5〜20分にわたって添加す
る.得られた淡黄色溶液を、−78℃で1時間撹拌しつ
いで20−の無水テトラヒド口フランに溶解した2.0
6 gのN一第三ブトキシカルボニルグリシンメチルエ
ステルの予備冷却(一78”C )溶液を、カニューレ
管を介して5〜10分にわたって添加する.−78℃で
撹拌しながら15分後クロマトグラフィー分析は、反応
の終結を示した.−78゜Cで、3.75mの氷酢酸を
添加しついで混合物を室温に加温する.反応混合物を、
ジクロロメタンで希釈しついで水で洗浄する.溶剤を乾
燥しついで減圧下で除去し、淡黄色オイルを得る。蒸留
により過剰の出発物質を除去し、ついで残留物をシリカ
ゲルによるクロマトグラフィー処理にゆだね、淡黄色オ
イルとしてエチル3−(N一第三ブトキシカルボニルア
果ノ)−2−オキソープロビル(シクロブロビルメチル
)一ホスフィネートを得る; ’H−NMR(CDCI
s) :δ(ppm)=5.40(1B,Br t,交
換体D霊OINH),4.14(4H.s.CHzOP
+CHzN), 3.17(2H. d, J冨17
.5HZ,CHgC=0), 1.93−1.68(2
H.m,PCHz)l1.45(9旧a.tBu),1
.35(3H.t,CHs). 0.93(IH,m,
Cll),0.62(2H,s,CHt). 0.2
7(2it.a,cut),明王: 5jieの無水ジクロロメタンに溶解した0.3gのエ
チル3−(N一第三プトキシカルボニルアξノ)−2−
(4−クロロフェニル)−2−ヒFロキシープロビル
(n−ブチル)ホスフィネートの溶液を、0.53gト
リメチルブロモシランで処理しついで得られた無色の溶
液を室温で不活性雰囲気下24時間撹拌する.揮発正物
質を減圧下で除去し、オフホワイトのフォームを得、こ
れを1%の水を含有するメタノール5Idに再溶解しつ
いで溶液を室温で20時間撹拌する.この時間経過後、
溶剤を真空下で蒸発させ、得られた固体を高真空下で乾
燥させ、3−ア旦ノー3−(4−クロロフェニル)一2
−ヒドロキシプロピルーn−プチルホスフィン酸臭化水
素酸塩を得る。この塩をエタノールに再溶解しついで酸
化プロピレンで処理し融点215〜216.5℃を有す
る3−アξノー2−(4−クロロフエニル)−2−ヒド
ロキシープロピルー(n−ブチル)ホスフィン酸を得る
: ’II−NMR(D!O) :δ(ppa+)=7
.32(4H,s+,Ph). 3.26(2H.s,
CHJ). 2.40(2H.lI.CH!P),
1.07(6H,+s.3XCfix). 0.88
(3H.t,CHs).出発物質を次のようにして得る
: 900+dの無水ジクロロメタンに溶解した218gの
プロパー1.2−ジエチルホスフィン酸のiffを、不
活性雰囲気中10゜Cに冷却しついで167.5gのト
リエチルア逅ンで処理する.わずかな発熱が認められ、
ついで混合物をlO℃に再冷却しついで10〜15℃の
温度を保持しながら130分にわたって200afのジ
クロロメタンに溶解した180gのエチルクロロホルネ
ートを滴下する.ガス発生が生じついで白色沈殿物が生
じる。懸濁液を一夜撹拌しついで濾過する.得られた固
体をテトラヒドロフランで洗浄しついで一緒にした洗浄
物と濾液を水で洗浄する.有機相を一緒にし、ついで乾
燥し更に溶剤を減圧下で除去する.高真空下で蒸留し沸
点47〜50℃( 6 XIO”3mbar)のエチル
ブロバー1.2−ジエニルホスフィネートを得る: ’
H−NMR(CDCIs): δ (ppm)=7.
21(IH.d.d.J=576+477P−H),5
.43(LH,t.d.d,CI). 5.10(2H
.d.CHx). 4.14(2H,+w.CHtOP
), 1.36(3ff.t,Cl.lOOII1のト
リエチルオルトアセテートに溶解した41.25gのエ
チルプロパー1,2−ジエニルホスフィネートの溶液を
、1gのブロントリフルオリドジエチルエテラートで処
理する。3時間後室温で溶液をジクロロメタンで希釈し
ついで10%炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄する.有機
相を乾燥しついで揮発性物質を減圧下で除去する。高真
空下で残留物を蒸留し、沸点89〜125℃(10−’
sbar)を有するエチル1.1−ジエトキシエチル−
(プロパー1.2−ジエニル)ホスフィネートを無色オ
イルとして得る: ’l{−NMR(CDCI!) :
δ(ppa+) =5.44(LH.d,d,CH).
5.02(2H.d.d.CHz). 4.22(2
Hll1.C}1tOP),3.65(4H,s+,2
XCHzOC),1.53(3H.d.J=16Hz,
P−C−CHx). 1.33(3}1.t,CHz)
. 1.20(611,t,2XCHs)。
20ad!の乾燥ジエチルエーテルに溶解した4.78
gの4−クロロヨードベンゼンの溶液を、金属がちょう
ど溶剤でカバーされるようにアルゴン雰囲気中で0.4
86 gのマグネシウム粉末に添加する.反応は穏やか
な加温で開始しついで残りのクロロヨードベンゼンエー
テル溶液を穏やかな還流が維持出来る速度で添加する.
添加終了後、混合物を更に1時間還流する。ついで褐色
の曇り状溶液を0゜Cに冷却しついで−45℃に予備冷
却した乾燥エーテルに懸濁させた4.1gの銅(1)ブ
ロミドジメチルスルフィド錯体の懸濁液にゆっくり添加
する。
gの4−クロロヨードベンゼンの溶液を、金属がちょう
ど溶剤でカバーされるようにアルゴン雰囲気中で0.4
86 gのマグネシウム粉末に添加する.反応は穏やか
な加温で開始しついで残りのクロロヨードベンゼンエー
テル溶液を穏やかな還流が維持出来る速度で添加する.
添加終了後、混合物を更に1時間還流する。ついで褐色
の曇り状溶液を0゜Cに冷却しついで−45℃に予備冷
却した乾燥エーテルに懸濁させた4.1gの銅(1)ブ
ロミドジメチルスルフィド錯体の懸濁液にゆっくり添加
する。
得られたオレンジ/黄色懸濁液を1〜1. 5時間−4
5℃で撹拌する。
5℃で撹拌する。
ついで4.979gのエチル1.1−ジエトキシエチル
ー(プロパー1.2−ジエニル)一ホスフィネートの冷
却エーテル溶液を−40℃以下または−40℃に等しい
温度を保持しながら30分にわたって添加する.芥子色
の懸濁液を−40゜Cで2,5時間撹拌しついで−20
゜Cで1.5時間撹拌する。薄い赤色懸濁液に飽和塩化
アンモニウム溶液を添加しついで室温にゆっくり加温す
る.反応混合物をジクロロメタンと水との間に分配する
。有機相を乾燥しついで溶剤を真空下で除去し半固体残
留物を得、これをエーテルに懸濁させついで濾過する。
ー(プロパー1.2−ジエニル)一ホスフィネートの冷
却エーテル溶液を−40℃以下または−40℃に等しい
温度を保持しながら30分にわたって添加する.芥子色
の懸濁液を−40゜Cで2,5時間撹拌しついで−20
゜Cで1.5時間撹拌する。薄い赤色懸濁液に飽和塩化
アンモニウム溶液を添加しついで室温にゆっくり加温す
る.反応混合物をジクロロメタンと水との間に分配する
。有機相を乾燥しついで溶剤を真空下で除去し半固体残
留物を得、これをエーテルに懸濁させついで濾過する。
工一テルを除去しついで残留物をシリカゲルによるクロ
マトグラフィーにより処理し淡黄色オイルとしてエチル
1,1−ジエトキシエチル−2− (4−クロロフェニ
ル)一ブロブー1−エニルホスフィネートを得る; ’
H−NMR(CDCIs) :δ(ptus) =7.
40(4H,a+,Ph). 5.53(11,d,C
I). 5.35(1B,d.CH). 4.06(2
H,q.cHzOP). 3.90−3.60(4H,
a,2xClltQC), 3.06(2H,d,J=
15Hz.P−Cllz). 1.55(3H,d,J
=15Hz,P−CHa), 1.30−1.05 (
9H, t, 3 x CH.).10%無水エタノー
ルを含有する50II1の無水ジクロロメタンに溶解し
た14.42 gのエチル1.1−ジエトキシエチル−
2− (4−クロロフエニル)一プロブー1−エニルホ
スフィネートの溶液を、6.518 gのトリメチルク
ロロシランで処理する。
マトグラフィーにより処理し淡黄色オイルとしてエチル
1,1−ジエトキシエチル−2− (4−クロロフェニ
ル)一ブロブー1−エニルホスフィネートを得る; ’
H−NMR(CDCIs) :δ(ptus) =7.
40(4H,a+,Ph). 5.53(11,d,C
I). 5.35(1B,d.CH). 4.06(2
H,q.cHzOP). 3.90−3.60(4H,
a,2xClltQC), 3.06(2H,d,J=
15Hz.P−Cllz). 1.55(3H,d,J
=15Hz,P−CHa), 1.30−1.05 (
9H, t, 3 x CH.).10%無水エタノー
ルを含有する50II1の無水ジクロロメタンに溶解し
た14.42 gのエチル1.1−ジエトキシエチル−
2− (4−クロロフエニル)一プロブー1−エニルホ
スフィネートの溶液を、6.518 gのトリメチルク
ロロシランで処理する。
室温で24時間撹拌後、揮発性物質を減圧下で除去する
。得られたオイルをシリカゲルによるクロマトグラフィ
ー処理にゆだね、無色のオイルとしてエチル2− (4
−クロロフェニル)一プロプー1−エニノレホスフィネ
ートを得る;重H−NMR(CDCIs) :δ(pp
m) =7.35(4H,n+,Ph). 7.05(
LH,d,t.J=549及び1.5Hz,P−H).
5.56(IH.d,CH), 5.30(ltl,
d,CH).4.20−3.97(2H.q,CFIz
OC). 3.07(2B,d,J=1.5Hz,PC
Ht)+ 1.27(3H.t.CHff)。
。得られたオイルをシリカゲルによるクロマトグラフィ
ー処理にゆだね、無色のオイルとしてエチル2− (4
−クロロフェニル)一プロプー1−エニノレホスフィネ
ートを得る;重H−NMR(CDCIs) :δ(pp
m) =7.35(4H,n+,Ph). 7.05(
LH,d,t.J=549及び1.5Hz,P−H).
5.56(IH.d,CH), 5.30(ltl,
d,CH).4.20−3.97(2H.q,CFIz
OC). 3.07(2B,d,J=1.5Hz,PC
Ht)+ 1.27(3H.t.CHff)。
2.5gのエチル2− (4−クロロフェニル)プロプ
ー1−エニルホスフィネートのテトラヒドロフラン溶液
を、不活性ガス雰囲気中−78℃に冷却しついで1当量
のn−ブチルリチウムヘキサン溶液を、内部温度が−7
0℃以下になるようにしながら15〜20分にわたって
添加する.淡黄色溶液を、一78゜Cで更にl5分間撹
拌し、ついで温度を−78゜Cに保持しながら1.95
gのヨウ化n−ブチルで処理する。更に−78゜Cで1
0分後、反応物を、塩化アンモニウムの飽和水溶液で冷
却しついでO″Cに加温する.ジクロロメタンで希釈し
ついで飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄しついで乾燥し
更に溶剤を除去しオイルを得る.シリカゲルによるクロ
マトグラフィー処理を注意深く行い、無色のオイルとし
てエチル(n−ブチル)2− (4−クロロフェニル)
ブロブー1−エニルホスフィネートを得る;’H−NM
R(CDCIs): δ (ppm)=7.38(4
B,+a,Ph). 5.48(IH,d.CI).
5.32(1B,d.CH), 4.11−3.80
(211,m.CHzOP),3.02(2H.d,J
=16H2,CHzP),1.65(21{.m,PC
Hz). 1.51(2H.閣,CH!). 1.33
(2H.a+.CHz). 1.20(31{,t,C
旧), 0.57(3H.t.CHz).2.34 g
の第三ブチルカルバネートの無水メタノール溶液を、不
活性雰囲気中0℃に冷却しついで2.17gの第三ブチ
ルハイボクロライトで注意深く処理する.得られた淡黄
色溶液を、0゜Cで15分間撹拌しついで10Jdの無
水メタノールに溶解した0.84gの水酸化ナトリウム
溶液を滴下する.冷却浴を取り除きついで溶液を10分
撹拌しその後メタノールを除去する。残留スラリーをエ
ーテルで砕きついで固体を濾過して集め更に高真空下で
乾燥しナトリウムN−クロロー第三ブチルカルバメート
を得る。
ー1−エニルホスフィネートのテトラヒドロフラン溶液
を、不活性ガス雰囲気中−78℃に冷却しついで1当量
のn−ブチルリチウムヘキサン溶液を、内部温度が−7
0℃以下になるようにしながら15〜20分にわたって
添加する.淡黄色溶液を、一78゜Cで更にl5分間撹
拌し、ついで温度を−78゜Cに保持しながら1.95
gのヨウ化n−ブチルで処理する。更に−78゜Cで1
0分後、反応物を、塩化アンモニウムの飽和水溶液で冷
却しついでO″Cに加温する.ジクロロメタンで希釈し
ついで飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄しついで乾燥し
更に溶剤を除去しオイルを得る.シリカゲルによるクロ
マトグラフィー処理を注意深く行い、無色のオイルとし
てエチル(n−ブチル)2− (4−クロロフェニル)
ブロブー1−エニルホスフィネートを得る;’H−NM
R(CDCIs): δ (ppm)=7.38(4
B,+a,Ph). 5.48(IH,d.CI).
5.32(1B,d.CH), 4.11−3.80
(211,m.CHzOP),3.02(2H.d,J
=16H2,CHzP),1.65(21{.m,PC
Hz). 1.51(2H.閣,CH!). 1.33
(2H.a+.CHz). 1.20(31{,t,C
旧), 0.57(3H.t.CHz).2.34 g
の第三ブチルカルバネートの無水メタノール溶液を、不
活性雰囲気中0℃に冷却しついで2.17gの第三ブチ
ルハイボクロライトで注意深く処理する.得られた淡黄
色溶液を、0゜Cで15分間撹拌しついで10Jdの無
水メタノールに溶解した0.84gの水酸化ナトリウム
溶液を滴下する.冷却浴を取り除きついで溶液を10分
撹拌しその後メタノールを除去する。残留スラリーをエ
ーテルで砕きついで固体を濾過して集め更に高真空下で
乾燥しナトリウムN−クロロー第三ブチルカルバメート
を得る。
0.69gのナトリウムN−クロロー第三ブチルカルバ
メートのアセトニトリル懸濁液を、0.67 gの硝酸
銀で処理しついで得られた褐色懸濁液を0. 6gのエ
チル(n−プチル)2− (4−クロロフエニル)フロ
ブー1−エニルホスフイネートで処理し、ひきつづき1
0.18■の四酸化オスニウム及び180 gの水で処
理する。黒色懸濁液を、24時間室温で撹拌しついでセ
ライトで濾過する。濾液を5%亜硫酸ナトリウム20d
で処理しついで二相混合物を2時間加熱還流する。室温
に冷却後アセトニトリルを真空除去しついで水相をクロ
ロホルムで抽出する.有機相を乾燥後ついで溶剤を除去
しオイルを得る。シリカゲルでクロマトグラフイー処理
し、白色ろう状固体として3−N−(第三ブチ?オキシ
カルボニル)アξノー2−(4−クロロフェニル)−2
−ヒドロキシープロビル(n−ブチル)ホスフィネート
を得る.融点85〜90″C;(ジアステレオマー混合
物)。’H−NMR(CDCIs) :δ(ppm)=
7.39(Ph). 6.05−5.90(交換体ロ!
0, OH) ,5.09 (交換体D,O,Nl{)
, 4.17−3.95(CH!OP+CHN).4.
67−4.44(CHOP+CIIN). 4.25−
4.07(CHgN). 2.40−2.12(CH!
P), 1.73−1.0(tBu,3XCHs+CH
z). O.a9(CHs). 0.75(CH3)。
メートのアセトニトリル懸濁液を、0.67 gの硝酸
銀で処理しついで得られた褐色懸濁液を0. 6gのエ
チル(n−プチル)2− (4−クロロフエニル)フロ
ブー1−エニルホスフイネートで処理し、ひきつづき1
0.18■の四酸化オスニウム及び180 gの水で処
理する。黒色懸濁液を、24時間室温で撹拌しついでセ
ライトで濾過する。濾液を5%亜硫酸ナトリウム20d
で処理しついで二相混合物を2時間加熱還流する。室温
に冷却後アセトニトリルを真空除去しついで水相をクロ
ロホルムで抽出する.有機相を乾燥後ついで溶剤を除去
しオイルを得る。シリカゲルでクロマトグラフイー処理
し、白色ろう状固体として3−N−(第三ブチ?オキシ
カルボニル)アξノー2−(4−クロロフェニル)−2
−ヒドロキシープロビル(n−ブチル)ホスフィネート
を得る.融点85〜90″C;(ジアステレオマー混合
物)。’H−NMR(CDCIs) :δ(ppm)=
7.39(Ph). 6.05−5.90(交換体ロ!
0, OH) ,5.09 (交換体D,O,Nl{)
, 4.17−3.95(CH!OP+CHN).4.
67−4.44(CHOP+CIIN). 4.25−
4.07(CHgN). 2.40−2.12(CH!
P), 1.73−1.0(tBu,3XCHs+CH
z). O.a9(CHs). 0.75(CH3)。
拠主:
例7で記載した方法と同様の方法で、融点219.5〜
220℃を有する3−アξノー2−(4−クロロフェニ
ル)2−ヒドロキシープロビル(メチル)ホスフィン酸
を得ることが出来る; ’H−NMR(020) :δ
(ppm.) =7.43(4B,m.Ph), 3.
36(2}1.AB■CH.N) ,2.66−2.3
5(2H,s.lJIzP). 1.09(3H,d.
J=14.54Hz,PMe)。
220℃を有する3−アξノー2−(4−クロロフェニ
ル)2−ヒドロキシープロビル(メチル)ホスフィン酸
を得ることが出来る; ’H−NMR(020) :δ
(ppm.) =7.43(4B,m.Ph), 3.
36(2}1.AB■CH.N) ,2.66−2.3
5(2H,s.lJIzP). 1.09(3H,d.
J=14.54Hz,PMe)。
貫主:
例3で記載したと同様の方法で、エチルプチルホスフィ
ネートから出発し、水素化ナトリウムを用いて脱プロト
ン化しついでO′cでテトラヒドロフランに溶解したプ
ロモジフルオロメタンと反応させひきつづきアルゴン雰
囲気中−70″Cでテトラヒドロフランに溶解したn−
ブチルリチウムと反応させ更にひきつづきN−(p−二
トロベンゾイル)アジリジンで処理し得られたエチル3
−(pーニトロペンゾイルアミノ)−1.1−ジフルオ
ロープロビル(n−プチル)ホスフィネートを沸騰塩酸
で処理することにより、3−アミノーl,1−ジフルオ
ロープロビル(n−ブチル)ホスフィン酸及びその塩酸
塩を得ることが出来る。
ネートから出発し、水素化ナトリウムを用いて脱プロト
ン化しついでO′cでテトラヒドロフランに溶解したプ
ロモジフルオロメタンと反応させひきつづきアルゴン雰
囲気中−70″Cでテトラヒドロフランに溶解したn−
ブチルリチウムと反応させ更にひきつづきN−(p−二
トロベンゾイル)アジリジンで処理し得られたエチル3
−(pーニトロペンゾイルアミノ)−1.1−ジフルオ
ロープロビル(n−プチル)ホスフィネートを沸騰塩酸
で処理することにより、3−アミノーl,1−ジフルオ
ロープロビル(n−ブチル)ホスフィン酸及びその塩酸
塩を得ることが出来る。
lu:
10WIlの無水ジクロロメタンに溶解した0.48
gのエチル3−(N一第三ブトヰシ力ルポニルアミノ)
−2− (4−クロロフェニル)−2−ヒドロキシープ
ロビル(ジエトキシエチル)ホスフィネートの溶液を、
0.76 gのトリメチルブロモシランで処理しついで
得られた無色の溶液を室温で不活性雰囲気中24時間撹
拌する。揮発性物質を減圧下で除去し、フォームを得こ
れを1%の水を含有するメタノール5Irlに再溶解し
ついで溶液を室温で20時間撹拌する.この時間経過後
、溶剤を真空下で蒸発させひきつづき残留物を逆相によ
るクロマトグラフィーにゆだねついでこのようにして得
られたオフホワイトの固体を高真空下で乾燥し3−アも
ノー2−(4−クロロフェニル)−2−ヒドロキシプロ
ビル(ジェトキシメチル)ホスフィン酸臭化水素酸塩を
得る。この塩をメタノールに溶解しついで酸化プロピレ
ンで処理し、3−アξノー2−(4−クロロフエニル)
−2−ヒドロキシープロビル(ジエトキシメチル)ホス
フィン酸を得る;’H−NMR(D!0): δ(p
p+*)=7.39(4H.m.Ph). 4.75
(IN.d.CI−P). 3.67−3.23(6H
.lI,2XCHzCO+CHJ),2.38−1.9
7(2H.ABq.CHgP),1.23−1.04(
6H,t,2XCH*)−出発物質を次のようにして得
る: 900adの無水ジクロロメタンに溶解した218 g
のプロパー1,2−ジェニルホスフィンM溶液を、不活
性雰囲気中10℃に冷却しついで167.5 gのトリ
エチルアξンで処理する.わずかな発熱が認められ更に
混合物をlO℃に再冷却しついで温度を10?15゜C
に保持しながら180 gのエチルクロロホルメートに
溶解した180mのジクロロメタン溶液を130分にわ
たって滴下する。滴下し、ガス発生が生じ更に白色沈殿
物が形或する。懸濁液を一夜撹拌しついで濾過する.固
体をシエン化炭素で洗浄しついで一緒にした洗浄液と濾
液を水で洗浄する。
gのエチル3−(N一第三ブトヰシ力ルポニルアミノ)
−2− (4−クロロフェニル)−2−ヒドロキシープ
ロビル(ジエトキシエチル)ホスフィネートの溶液を、
0.76 gのトリメチルブロモシランで処理しついで
得られた無色の溶液を室温で不活性雰囲気中24時間撹
拌する。揮発性物質を減圧下で除去し、フォームを得こ
れを1%の水を含有するメタノール5Irlに再溶解し
ついで溶液を室温で20時間撹拌する.この時間経過後
、溶剤を真空下で蒸発させひきつづき残留物を逆相によ
るクロマトグラフィーにゆだねついでこのようにして得
られたオフホワイトの固体を高真空下で乾燥し3−アも
ノー2−(4−クロロフェニル)−2−ヒドロキシプロ
ビル(ジェトキシメチル)ホスフィン酸臭化水素酸塩を
得る。この塩をメタノールに溶解しついで酸化プロピレ
ンで処理し、3−アξノー2−(4−クロロフエニル)
−2−ヒドロキシープロビル(ジエトキシメチル)ホス
フィン酸を得る;’H−NMR(D!0): δ(p
p+*)=7.39(4H.m.Ph). 4.75
(IN.d.CI−P). 3.67−3.23(6H
.lI,2XCHzCO+CHJ),2.38−1.9
7(2H.ABq.CHgP),1.23−1.04(
6H,t,2XCH*)−出発物質を次のようにして得
る: 900adの無水ジクロロメタンに溶解した218 g
のプロパー1,2−ジェニルホスフィンM溶液を、不活
性雰囲気中10℃に冷却しついで167.5 gのトリ
エチルアξンで処理する.わずかな発熱が認められ更に
混合物をlO℃に再冷却しついで温度を10?15゜C
に保持しながら180 gのエチルクロロホルメートに
溶解した180mのジクロロメタン溶液を130分にわ
たって滴下する。滴下し、ガス発生が生じ更に白色沈殿
物が形或する。懸濁液を一夜撹拌しついで濾過する.固
体をシエン化炭素で洗浄しついで一緒にした洗浄液と濾
液を水で洗浄する。
有機相を乾燥しついで溶剤を減圧下で除去する.高真空
下で蒸留し沸点47〜50℃( 6 X 10− ”m
bar )を有するエチルブロバー1.2−ジエニルホ
スフィネートを得る; ’H−NMR(CDC13)
:δ(ppm) = 7. 21(IH,d,d,J=
576+4Hz,P−H), 5.43(IH,t,d
,d,CI),5.10(2H,d,C}I■)+ 4
.14(211,m,CHtOC), 1.36(3H
,t.CL)。
下で蒸留し沸点47〜50℃( 6 X 10− ”m
bar )を有するエチルブロバー1.2−ジエニルホ
スフィネートを得る; ’H−NMR(CDC13)
:δ(ppm) = 7. 21(IH,d,d,J=
576+4Hz,P−H), 5.43(IH,t,d
,d,CI),5.10(2H,d,C}I■)+ 4
.14(211,m,CHtOC), 1.36(3H
,t.CL)。
100ml!のトリエチルオルトアセテートに溶解した
41.25gのエチルプロパー1.2−ジエニルホスフ
ィネートの溶液を、Igのブロントリフルオリドジエチ
ルエテラートで処理する。室温で3時間後溶液をジクロ
ロメタンで希釈しついでlO%炭酸水素ナトリウム溶液
で洗浄する.有機相を乾燥しついで揮発性物質を減圧下
で除去する.高真空下で残留物を蒸留し、無色オイルと
して沸点80〜125℃(10−’sbar)のエチル
(1,1−ジェトキシエチル)プロパー1.2−ジェニ
ルホスフィネートを得る: ’H−NMR(CDCIs
) : 6 (ppm) =5.44(IH,d,d,
CI),5.02(2H,d,d.CHx),4.22
(2H,m,CLOP),3.65(4H.w.2XC
HzOC),1.53(3}1,d,J =16Hz,
P−CHz),1.33(3H,t,CIL,), 1
.20(6H.t.2xCIL,). 1.30−1.
05(9H, t,3XCHs)。
41.25gのエチルプロパー1.2−ジエニルホスフ
ィネートの溶液を、Igのブロントリフルオリドジエチ
ルエテラートで処理する。室温で3時間後溶液をジクロ
ロメタンで希釈しついでlO%炭酸水素ナトリウム溶液
で洗浄する.有機相を乾燥しついで揮発性物質を減圧下
で除去する.高真空下で残留物を蒸留し、無色オイルと
して沸点80〜125℃(10−’sbar)のエチル
(1,1−ジェトキシエチル)プロパー1.2−ジェニ
ルホスフィネートを得る: ’H−NMR(CDCIs
) : 6 (ppm) =5.44(IH,d,d,
CI),5.02(2H,d,d.CHx),4.22
(2H,m,CLOP),3.65(4H.w.2XC
HzOC),1.53(3}1,d,J =16Hz,
P−CHz),1.33(3H,t,CIL,), 1
.20(6H.t.2xCIL,). 1.30−1.
05(9H, t,3XCHs)。
20Il1の乾燥ジェチルエーテルに溶解した4.78
g(7)4−クaロヨードベンゼン溶液を、アルゴ7M
囲気中金属が溶剤でちょうどカバーされるように0.4
86 gのマグネシウム粉末に添加する。反応は穏やか
な加温により開始され更に残りのクロロヨードベンゼン
エーテル溶液を、穏やかな還流が保持される速度で添加
する。添加終了後、混合物を更に1時間還流する。褐色
の曇り状溶液を0″Cに冷却しついで−45℃に予備冷
却した乾燥エーテルに懸濁させた4. 1 gの銅(1
)ブロもドジメチルスルフィド錯体の懸濁液にゆっくり
添加する。得られたオレンジ/黄色懸濁液を−45゜C
で1.5時間撹拌しついで温度を−40゜C以下または
それに等しい温度に保持しながら30分にわたって4.
97gのエチル(1,1−ジエトキシエチル)プロパー
1,2−ジエニルホスフィネートの冷却エーテル溶液を
添加する。芥子色の懸濁液を−40’Cで2.5時間撹
拌しついで−20゛Cで1. 5時間撹拌する.薄い赤
色懸濁液に飽和塩化アンモニウム溶液を添加しついで室
温にゆっくり加温する。反応物を、ジクロ口メタン及び
水に分配する。有機相を乾燥しついで溶剤を真空下で除
去し半固体残留物を得、これをエーテルに懸濁させ更に
濾過する。エーテルを除去しついで残留物をシリカゲル
によるクロマトグラフィー処理にゆだね、淡黄色オイル
としてエチル2−(4−クロロフエニル)(1.1−’
)エトキシエチル)プロプー1=エニルホスフィネート
を得るH ’II−NMR(CDCI!) :δ(pp
m) =7.40(4H.a+,PH).5.53(I
H.d.CI) 5.35(Ill,d.CH). 4
.06(2H,q,COtOP).3.90−3.60
(4H,m.2XCHzOC)13.06(2FI,d
.J=15Hz.P−CI!). 1.55(3H.d
,J=15Hz.P−CHs) .10%の無水エタノ
ールを含有する50mの無ジクロロメタンに溶解した1
4.42 gのエチル(1,l一ジエトキシエチル)−
2− (4−クロロフェニル)プロプー1−エニルホス
フィネートの溶液を、6.518 gのトリメチルクロ
ロシランで処理する.室温で24時間撹拌後、揮発性物
質を減圧下で除去する.得られたオイルをシリカゲルに
よるクロマトグラフィー処理にゆだね、無色オイルとし
てエチル2− (4−クロロフエニル)フロブー1−エ
ニルホスフィネートを得るi ’H−NMR(CDCI
コ):δ(ppm) =7.35(4H,s,Ph)
. 7.05(IH.d.t,J=549及び1.5
1{z.P−H). 5.56(IH.d.CI).
5.30(1}1.d,CI),4.20−3.97(
2H.q,CHxOP),3.07(2H,d,t.J
=17+1.5Hz+P−CHz)+ 1.27(3H
. t.cH3)。
g(7)4−クaロヨードベンゼン溶液を、アルゴ7M
囲気中金属が溶剤でちょうどカバーされるように0.4
86 gのマグネシウム粉末に添加する。反応は穏やか
な加温により開始され更に残りのクロロヨードベンゼン
エーテル溶液を、穏やかな還流が保持される速度で添加
する。添加終了後、混合物を更に1時間還流する。褐色
の曇り状溶液を0″Cに冷却しついで−45℃に予備冷
却した乾燥エーテルに懸濁させた4. 1 gの銅(1
)ブロもドジメチルスルフィド錯体の懸濁液にゆっくり
添加する。得られたオレンジ/黄色懸濁液を−45゜C
で1.5時間撹拌しついで温度を−40゜C以下または
それに等しい温度に保持しながら30分にわたって4.
97gのエチル(1,1−ジエトキシエチル)プロパー
1,2−ジエニルホスフィネートの冷却エーテル溶液を
添加する。芥子色の懸濁液を−40’Cで2.5時間撹
拌しついで−20゛Cで1. 5時間撹拌する.薄い赤
色懸濁液に飽和塩化アンモニウム溶液を添加しついで室
温にゆっくり加温する。反応物を、ジクロ口メタン及び
水に分配する。有機相を乾燥しついで溶剤を真空下で除
去し半固体残留物を得、これをエーテルに懸濁させ更に
濾過する。エーテルを除去しついで残留物をシリカゲル
によるクロマトグラフィー処理にゆだね、淡黄色オイル
としてエチル2−(4−クロロフエニル)(1.1−’
)エトキシエチル)プロプー1=エニルホスフィネート
を得るH ’II−NMR(CDCI!) :δ(pp
m) =7.40(4H.a+,PH).5.53(I
H.d.CI) 5.35(Ill,d.CH). 4
.06(2H,q,COtOP).3.90−3.60
(4H,m.2XCHzOC)13.06(2FI,d
.J=15Hz.P−CI!). 1.55(3H.d
,J=15Hz.P−CHs) .10%の無水エタノ
ールを含有する50mの無ジクロロメタンに溶解した1
4.42 gのエチル(1,l一ジエトキシエチル)−
2− (4−クロロフェニル)プロプー1−エニルホス
フィネートの溶液を、6.518 gのトリメチルクロ
ロシランで処理する.室温で24時間撹拌後、揮発性物
質を減圧下で除去する.得られたオイルをシリカゲルに
よるクロマトグラフィー処理にゆだね、無色オイルとし
てエチル2− (4−クロロフエニル)フロブー1−エ
ニルホスフィネートを得るi ’H−NMR(CDCI
コ):δ(ppm) =7.35(4H,s,Ph)
. 7.05(IH.d.t,J=549及び1.5
1{z.P−H). 5.56(IH.d.CI).
5.30(1}1.d,CI),4.20−3.97(
2H.q,CHxOP),3.07(2H,d,t.J
=17+1.5Hz+P−CHz)+ 1.27(3H
. t.cH3)。
20mのトリエチルオルトホルメートに溶解した1.6
8 gのエチル2− (4−クロロフェニル)プロプー
1−エニルホスフィネートの溶液を、0. 1 gのプ
ロントリフルオリドジエチルエテラートで処理しついで
得られた溶液を室温7日間撹拌する。
8 gのエチル2− (4−クロロフェニル)プロプー
1−エニルホスフィネートの溶液を、0. 1 gのプ
ロントリフルオリドジエチルエテラートで処理しついで
得られた溶液を室温7日間撹拌する。
反応混合物を20艷の10%炭酸水素ナトリウム水溶液
で処理しついでジクロロメタンで2回抽出する。
で処理しついでジクロロメタンで2回抽出する。
有機相を除去し、乾燥しついで濃縮しオイルを得る。シ
リカゲルによるクロマトグラフィー処理により無色オイ
ルとしてエチル2−(4−クロロフェニル)プロプー1
−エニルー(シエトキシメチル)ホスフィネートを得る
; ’H−NMR(CDCIs) :δ(ppm)=7
.38(4H,m,Ph). 5.51(IH,d.C
I). 4.62(IH,d,CH−P). 4.05
(2H,Q,CI11OP),3.88−3.56(C
H,I1,2XCH!QC). 2.07(2H.d,
d,CHzP). 1.28−1.14(9H.+s,
3XCH3)。
リカゲルによるクロマトグラフィー処理により無色オイ
ルとしてエチル2−(4−クロロフェニル)プロプー1
−エニルー(シエトキシメチル)ホスフィネートを得る
; ’H−NMR(CDCIs) :δ(ppm)=7
.38(4H,m,Ph). 5.51(IH,d.C
I). 4.62(IH,d,CH−P). 4.05
(2H,Q,CI11OP),3.88−3.56(C
H,I1,2XCH!QC). 2.07(2H.d,
d,CHzP). 1.28−1.14(9H.+s,
3XCH3)。
例7で記載したと同様の方法で、四酸化オスニウムの存
在下エチル2−(4−クロロフエニル)ブロプーl一エ
ニル(ジエトキシエチル)ホスフィネートと第三ブチル
N−クロローN−ヨードーカルバメートと反応させ、無
色オイルとしてエチル3−(N一第三ブトキシカルボニ
ルアミノ)−2− (4−クロロフェニル)−2−ヒド
ロキシープロビル(ジエトキシメチル)ホスフィネート
を得る; ’H−NMR(CDC13) :δ(ppm
) =7.46−7.26(411.m,Ph).5.
66+5.22(IH,D*0で交換,OH). 5.
07(IH.DtOで交換.NH). 4.52(II
I,d,CH−P). 4.18(2■.m.CI.O
P,ジアステレオマA). 3.9−3.05(88,
m,2xCHzOC,CHIN,CH,OP). 2.
59−2.20(211,ABq.CJP). 1.
37(9B,S,第三プチル), 1.33−0.90
(9H,+s,3xCIh).班具: 例7で記載した方法と同様の方法で、3−アミ/−2−
(4−1ロロフェニル)−2−ヒドロキシープロビル
(シクロヘキシルメチル)ホスフィン酸を調製すること
が出来る. 奥肥: 例7で記載した方法と同様の方法で、3−アミノー2−
(4−クロロフェニル)−2−ヒドロキシープロピル
(ベンジル)ホスフィン酸を調製することが出来る. 班U: 例7で記載した方法と同様の方法で3−アξノ−2−
(4−クロロフェニル)−2−ヒドロキシープロビル(
シクロプロビルメチル)ホスフィン酸を調製することが
出来る. 例エレ 例6で記載した方法と同様の方法で3−アミノ−2−
(4−クロロフェニル)−2−オキソープロピル(ベン
ジル)ホスフィン酸を調製することが出来る。
在下エチル2−(4−クロロフエニル)ブロプーl一エ
ニル(ジエトキシエチル)ホスフィネートと第三ブチル
N−クロローN−ヨードーカルバメートと反応させ、無
色オイルとしてエチル3−(N一第三ブトキシカルボニ
ルアミノ)−2− (4−クロロフェニル)−2−ヒド
ロキシープロビル(ジエトキシメチル)ホスフィネート
を得る; ’H−NMR(CDC13) :δ(ppm
) =7.46−7.26(411.m,Ph).5.
66+5.22(IH,D*0で交換,OH). 5.
07(IH.DtOで交換.NH). 4.52(II
I,d,CH−P). 4.18(2■.m.CI.O
P,ジアステレオマA). 3.9−3.05(88,
m,2xCHzOC,CHIN,CH,OP). 2.
59−2.20(211,ABq.CJP). 1.
37(9B,S,第三プチル), 1.33−0.90
(9H,+s,3xCIh).班具: 例7で記載した方法と同様の方法で、3−アミ/−2−
(4−1ロロフェニル)−2−ヒドロキシープロビル
(シクロヘキシルメチル)ホスフィン酸を調製すること
が出来る. 奥肥: 例7で記載した方法と同様の方法で、3−アミノー2−
(4−クロロフェニル)−2−ヒドロキシープロピル
(ベンジル)ホスフィン酸を調製することが出来る. 班U: 例7で記載した方法と同様の方法で3−アξノ−2−
(4−クロロフェニル)−2−ヒドロキシープロビル(
シクロプロビルメチル)ホスフィン酸を調製することが
出来る. 例エレ 例6で記載した方法と同様の方法で3−アミノ−2−
(4−クロロフェニル)−2−オキソープロピル(ベン
ジル)ホスフィン酸を調製することが出来る。
班旦:
例6で記載した方法と同様の方法で3−ア嵩ノ−2−
(4−クロロフェニル)−2−オキソープロビル(ジエ
トキシメチル)ホスフイン酸を調製することが出来る。
(4−クロロフェニル)−2−オキソープロビル(ジエ
トキシメチル)ホスフイン酸を調製することが出来る。
舊抜:
有効威分例えば3−アミノー2−オキソープロビル(n
−プチル)ホスフィン酸100■を各々含有するio.
ooo個の錠剤の調製を次のように行うことが出来る
: 一組一城一 有効威分 1 . 000. 00
gラクトース 257.00 g
コーンスターチ 75.00 gポリ
エチレングリコール 75.00 gステアリン
酸マグネシウム 18.00 g蒸留水
適 量王星:全ての粉末を0. 6 m
の篩の目を有する篩を通過させる.ついで医薬物質、ラ
クトース、ステアリン酸マグネシウム及び半分のでん粉
を適当な混合器内で混合する。残りの半分のでん粉を、
40mの水に懸濁させついで懸濁液を150一の水に溶
解したポリエチレングリコールの沸騰溶液に添加する.
生じたペーストを、粉末に添加しこれを必要により更に
水を加えながら造粒する。顆粒を35℃で一夜乾燥し、
1.211111の篩の目を有する篩上で砕きついで1
2.8eaの直径を有する錠剤に圧縮し、上面に切れ目
をつける。
−プチル)ホスフィン酸100■を各々含有するio.
ooo個の錠剤の調製を次のように行うことが出来る
: 一組一城一 有効威分 1 . 000. 00
gラクトース 257.00 g
コーンスターチ 75.00 gポリ
エチレングリコール 75.00 gステアリン
酸マグネシウム 18.00 g蒸留水
適 量王星:全ての粉末を0. 6 m
の篩の目を有する篩を通過させる.ついで医薬物質、ラ
クトース、ステアリン酸マグネシウム及び半分のでん粉
を適当な混合器内で混合する。残りの半分のでん粉を、
40mの水に懸濁させついで懸濁液を150一の水に溶
解したポリエチレングリコールの沸騰溶液に添加する.
生じたペーストを、粉末に添加しこれを必要により更に
水を加えながら造粒する。顆粒を35℃で一夜乾燥し、
1.211111の篩の目を有する篩上で砕きついで1
2.8eaの直径を有する錠剤に圧縮し、上面に切れ目
をつける。
明旦:
有効威分例えば3−アξノー2−オキソープ口ピル(n
−プチル)ホスフィン酸25■を各々含有する10,0
00個の錠剤の調製を次のように行うことが出来る: 一組一羞一 有効威分 250.O gラクトー
ス 1,750.0g王里:全ての粉
末を0. 6 teaの篩の目を有する篩に通過させる
。ついで医薬物質を適当な混合器内に装入しついで均一
になるまでラクトースと混合する。Na3のカプセルを
、カプセル充填器を用いて200■に充填する。
−プチル)ホスフィン酸25■を各々含有する10,0
00個の錠剤の調製を次のように行うことが出来る: 一組一羞一 有効威分 250.O gラクトー
ス 1,750.0g王里:全ての粉
末を0. 6 teaの篩の目を有する篩に通過させる
。ついで医薬物質を適当な混合器内に装入しついで均一
になるまでラクトースと混合する。Na3のカプセルを
、カプセル充填器を用いて200■に充填する。
開旦:
例16及び17に記載した方法と同様の方法で、有効成
分として本発明の他の化合物、例えは例1〜15に記載
した化合物を10〜100■含有する錠剤及びカプセル
剤を調製する。
分として本発明の他の化合物、例えは例1〜15に記載
した化合物を10〜100■含有する錠剤及びカプセル
剤を調製する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、次式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R_1はハロゲンであり、R_1′はハロゲン
もしくは水素であり、さらにR_2およびR_2′は水
素であるか;又はR_1とR_1′は水素を表わし、R
_2は脂肪族もしくは芳香族基であり、さらにR_2′
はヒドロキシであるかもしくはR_2とR_2′は共に
一緒になってオキソを表わし、さらにRは2個以上の炭
素原子を有する脂肪族、脂環式、脂環式−脂肪族もしく
は芳香脂肪族基を表わすか、又はもしもR_1およびR
_1′が水素を表わす場合、R_2は芳香族基を表わし
、更にR_2′はヒドロキシであり、Rはメチルである
) で表わされる化合物、又はその塩。 2、前記式 I 中、R_1がハロゲンであり、R_1′
がハロゲンもしくは水素であり、更にR_2及びR_2
′が水素であるか、またはR_1及びR_1′が水素で
あり、R_2が芳香族基であり更にR_2′がヒドロキ
シであるか、またはR_2及びR_2′が共に一緒にな
ってオキソを表わすか、またはここにおいてRが2個以
上の炭素原子を有する脂肪族、脂環式、脂環式−脂肪族
または芳香脂肪族基である、請求項1記載の化合物また
はその塩。 3、前記式 I 中、R_1がハロゲンであり、R_1′
がハロゲンまたは水素であり更にR_2及びR_2′が
水素であるか、またはR_1及びR_1′が水素であり
、R_2は低級アルキル、フェニル、ハロゲン、低級ア
ルキル、低級アルコキシ及び/またはトリフルオロメチ
ルによりモノ−もしくはジ置換されたフェニル、または
ピリジルであり更にR_2′はヒドロキシであるかまた
はR_2及びR_2′が共に一緒になってオキソを表わ
し、更にここにおいてRは2個以上の炭素原子を有する
低級アルキル、低級アルケニル、低級アルキニル、3〜
6個の環状炭素原子を有するシクロアルキル、ヒドロキ
シシクロアルキル、シクロアルキル−低級アルキル、シ
クロアルキル−(ヒドロキシ)低級アルキルもしくは低
級アルキルチオシクロアルキル−(ヒドロキシ)−低級
アルキル基、オキソ−低級アルキル、アミノ−低級アル
キル、低級アルカノイルアミノ−低級アルキル、フタル
イミド−低級アルキル、モノ−もしくはジヒドロキシ−
低級アルキル、ヒドロキシ−低級アルケニル、アミノ−
(ヒドロキシ)低級アルケニル、低級アルカノイルアミ
ノ−(ヒドロキシ)低級アルキル、フタルイミド−(ヒ
ドロキシ)低級アルキル、モノ−、ジ−もしくはポリハ
ロゲノ−低級アルキル、モノ−、ジ−もしくはポリハロ
ゲノ−低級アルケニル、モノ−、ジ−もしくはポリハロ
ゲノ−(ヒドロキシ)低級アルキル、モノ−、ジ−もし
くはポリハロゲノ−(ヒドロキシ)低級アルケニル、ア
ミノ低級アルコキシ−低級アルキル、低級アルキルチオ
−低級アルキル、低級アルカンスルフィニル−低級アル
キル、低級アルカンスルホニル−低級アルキル、ジ−低
級アルコキシ−低級アルキル、ジ−低級アルキルチオ−
低級アルキル、低級アルコキシ−(ヒドロキシ)低級ア
ルキル、低級アルコキシ−(ハロゲノ)低級アルキル、
フェニル−低級アルキル、フェニル部分においてハロゲ
ン、低級アルキル、低級アルコキシ及び/またはトリフ
ルオロメチルによりモノ−もしくはジ置換されたフェニ
ル−低級アルキル、ナフチル−低級アルキル、2〜6個
の環状炭素原子を有するオキサ−もしくはチアシクロア
ルキル、または3〜5個の環状炭素原子を有するジオキ
サ−、オキサチア−もしくはジチアシクロアルキルであ
るか、またはもしもR_1及びR_1′が水素を表わす
場合、R_2はフェニル、ハロゲン、低級アルキル、低
級アルコキシ及び/またはトリフルオロメチルによりモ
ノ−もしくはジ置換されたフェニル、またはピリジルで
あり、更にR_2′はヒドロキシ、Rはメチルを表わす
請求項1記載の化合物またはその塩。 4、前記式 I 中、R_1がハロゲンであり、R_1′
がハロゲンまたは水素であり、更にR_2及びR_2′
が水素であるか、またはR_1及びR_1′が水素であ
り、R_2がフェニルであるか、またはハロゲン、低級
アルキル、低級アルコキシ及び/またはトリフルオロメ
チルによりモノ−もしくはジ置換されたフェニルであり
、更にR_2′がヒドロキシであるかまたはR_2及び
R_2′は共に一緒になってオキソを表わし、更にここ
においてRは2個以上の炭素原子を有する低級アルキル
、低級アルケニル、低級アルキニル、3〜6個の環状炭
素原子を有するシクロアルキル、ヒドロキシシクロアル
キル、シクロアルキル−低級アルキル、シクロアルキル
−(ヒドロキシ)−低級アルキルもしくは低級アルキル
チオシクロアルキル−(ヒドロキシ)−低級アルキル基
、オキソ−低級アルキル、アミノ−低級アルキル、低級
アルカノイルアミノ−低級アルキル、フタルイミド−低
級アルキル、モノ−もしくはジヒドロキシ−低級アルキ
ル、ヒドロキシ−低級アルケニル、アミノ−(ヒドロキ
シ)低級アルキル、低級アルカノイルアミノ−(ヒドロ
キシ)低級アルキル、フタルイミド−(ヒドロキシ)低
級アルキル、モノ−、ジ−もしくはポリハロゲノ−低級
アルキル、モノ−、ジ−もしくはポリハロゲノ−低級ア
ルケニル、モノ−、ジ−もしくはポリハロゲノ−(ヒド
ロキシ)低級アルキル、モノ−、ジ−もしくはポリハロ
ゲノ−(ヒドロキシ)低級アルキル、アミノ低級アルコ
キシ−低級アルキル、低級アルキルチオ−低級アルキル
、低級アルサンスルフィニル−低級アルキル、低級アル
カンスルホニル−低級アルキル、ジ−低級アルコキシ−
低級アルキル、ジ−低級アルキルチオ−低級アルキル、
低級アルコキシ−(ヒドロキシ)低級アルキル、低級ア
ルコキシ−(ハロゲノ)低級アルキル、フェニル−低級
アルキル、フェニル部分において、ハロゲン、低級アル
キル、低級アルコキシ及び/またはトリフルオロメチル
によりモノ−もしくはジ置換されたフェニル−低級アル
キル、ナフチル−低級アルキル、2〜6個の環状炭素原
子を有するオキサ−もしくはチアシクロアルキル、また
は3〜5個の環状炭素原子を有するジオキサ−、オキサ
チア−もしくはジチアシクロアルキルである、請求項2
記載の化合物、またはその塩。 5、前記式 I 中、R_1及びR_1′がフルオロであ
り更にR_2及びR_2′が水素であるか、またはR_
1及びR_1′が水素であり、R_2がフェニル、ハロ
ゲン、C_1〜C_4アルキル、C_1〜C_4アルコ
キシ及び/またはトリフルオロメチルにより置換された
フェニルであり更にR_2′がヒドロキシまたはR_1
及びR_1′が水素であり更にR_2及びR_2′が共
に一緒になってオキソを表わし更にここにおいてR_1
がC_2〜C_1_2アルキル、C_2〜C_7アルケ
ニル、C_2〜C_7アルキニル、モノ−もしくはジヒ
ドロキシ−C_2〜C_7アルキル、オキソ−C_3〜
C_7アルキル、アミノ−C_3〜C_6アルキル、フ
タルイミド−C_3〜C_6アルキルまたはフタルイミ
ド−C_3〜C_7(ヒドロキシ)アルキルである、請
求項2記載の化合物、またはその塩。 6、前記式 I 中、R_1及びR_1′がフルオロであ
り更にR_2及びR_2′が水素であるか、またはR_
1及びR_1′が水素であり更にR_2及びR_2′が
共に一緒になってオキソを表わし、ここにおいてRはC
_2〜C_7アルキル、α−飽和C_3〜C_7アルケ
ニル、α−置換C_3〜C_7アルキル、α−,β−,
γ−もしくはδ−ヒドロキシ−C_2〜C_7アルキル
、α−,α−ジフルオロ−C_2〜C_4アルキル、モ
ノ−、ジ−もしくはトリフルオロ−α−ヒドロキシ−C
_3〜C_7アルキル、モノ−、ジ−もしくはトリハロ
ゲノ−α−ヒドロキシ−C_3〜C_7アルケニル、C
_1〜C_4アルコキシ−C_1〜C_4アルキル、ジ
−C_1〜C_4アルコキシ−C_1〜C_4アルキル
、C_3〜C_6シクロアルキル−C_1〜C_4アル
キル、α−ヒドロキシ−C_3〜C_6シクロアルキル
またはC_3〜C_6−シクロアルキル−α−ヒドロキ
シ−C_1〜C_4アルキルである、請求項2記載の化
合物、またはその塩。 7、前記式1中、R_1及びR_1′が水素であり、R
_2がフェニル、ハロゲン、C_1〜C_4アルキル、
C_1〜C_4アルコキシ及び/またはトリフルオロメ
チルにより置換されたフェニルであり更にR_2′がヒ
ドロキシであり、更にここにおいてRがC_1〜C_7
アルキルである、請求項1記載の化合物、またはその塩
。 8、RがC_2〜C_7アルキルであり更にR_1及び
R_1′がフルオロであり更にR_2及びR_2′が水
素であるか、またはR_1及びR_1′が水素であり更
にR_2及びR_2′が共に一緒になってオキソである
、請求項2記載の化合物、またはその塩。 9、3−アミノ−2−オキソ−プロピル(n−ブチル)
ホスフィン酸である、請求項1記載の化合物、またはそ
の塩。 10、3−アミノ−2−(4−クロロフェニル)−2−
ヒドロキシ−プロピル(n−ブチル)ホスフィン酸であ
る、請求項1記載の化合物、またはその塩。 11、3−アミノ−1,1−ジフルオロ−プロピル(n
−ブチル)ホスフィン酸である、請求項1記載の化合物
、またはその塩。 12、3−アミノ−2−オキソ−プロピル(シクロプロ
ピルメチル)ホスフィン酸である、請求項1記載の化合
物、またはその塩。 13、3−アミノ−2−オキソ−プロピル(シクロヘキ
シルメチル)ホスフィン酸である、請求項1記載の化合
物、またはその塩。 14,3−アミノ−2−ヒドロキシ−2−メチル−プロ
ピル(n−ブチル)ホスフィン酸である、請求項1記載
の化合物、またはその塩。 15,3−アミノ−1−フルオロ−プロピル(n−ブチ
ル)ホスフィン酸である、請求項1記載の化合物、また
はその塩。 16、3−アミノ−2−(4−クロロフェニル)−2−
ヒドロキシ−プロピル(シキロヘキシルメチル)ホスフ
ィン酸である、請求項1記載の化合物、またはその塩。 17、3−アミノ−2−(4−クロロフェニル)−2−
ヒドロキシ−プロピル(ベンジル)ホスフィン酸である
、請求項1記載の化合物、またはその塩。 18、3−アミノ−2−(4−クロロフェニル)−2−
ヒドロキシ−プロピル(シクロプロピルメチル)ホスフ
ィン酸である、請求項1記載の化合物、またはその塩。 19、3−アミノ−2−(4−クロロフェニル)−2−
ヒドロキシ−プロピル(シクロプロピルメチル)ホスフ
ィン酸である、請求項1記載の化合物、またはその塩。 20、3−アミノ−2−(4−クロロフェニル)−2−
オキソ−プロピル(ジエトキシメチル)ホスフィン酸で
ある、請求項1記載の化合物、またはその塩。 21、3−アミノ−2−(4−クロロフェニル)−2−
ヒドロキシ−プロピル(ジエトキシメチル)ホスフィン
酸である、請求項1記載の化合物、またはその塩。 22、3−アミノ−2−(4−クロロフェニル)−2−
ヒドロキシ−プロピル(メチル)ホスフィン酸である、
請求項1記載の化合物、またはその塩。 23、請求項1〜22項のいずれか1項に記載の化合物
の少なくとも1種並びに通常の医薬賦形剤を含んでなる
医薬組成物。 24、次式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼( I ), (式中、R_1はハロゲンであり、R_1′はハロゲン
もしくは水素であり、さらにR_2およびR_2′は水
素であるか;又はR_1とR_1′は水素を表わし、R
_2は脂肪族もしくは芳香族基であり、さらにR_2′
はヒドロキシであるかもしくはR_2とR_2′は共に
一緒になってオキソを表わし、さらにRは2個以上の炭
素原子を有する脂肪族、脂環式、脂環式−脂肪族もしく
は芳香脂肪族基を表わすか、又はもしもR_1およびR
_1′が水素を表わす場合、R_2は芳香族基を表わし
、更にR_2′はヒドロキシであり、Rはメチルである
) で表わされる化合物、又はその塩の製造方法であって、 a)次式II: ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、R、R_1、R_1′、R_2およびR_2′
は式 I で定義した意味と同じであり、Zは保護された
、もしくは潜在的アミノ基Z_0であり、さらにR_4
は水素もしくはヒドロキシ保護基R_5であり、ここに
おいてRの成分としてのアミノおよび/またはヒドロキ
シR_2′、またはオキソR_2+R_2′は一時的に
保護された形で存在することもできる)で表わされる化
合物において、基R_5又はR_6を水素によって置換
しおよび/または基Z_0を−NH_2に変換するか;
または b)次式III: ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中、R_1とR_1′は式 I で定義した意味と同
じであり、さらにXは式−CH_2NH_2( I a)
の基に変換されうることのできる基である) で表わされる化合物において、基Xを式 I aの基に変
換し;または c)次式IV: ▲数式、化学式、表等があります▼(IV), (式中、R′は式 I (式中、Rは低級アルキルである
)の化合物を得るため、低級アルケニル、低級アルカジ
ェニルもしくは低級アルキニルから選ばれ、または式
I (式中、Rはシクロヘキシルである)の化合物を得る
ためフェニルから選ばれる)で表わされる化合物を還元
し、さらに所望により、このプロセスで得られた生成塩
を遊離化合物、または他の塩に変換するか、および/ま
たは、所望により生成した遊離化合物を上記定義に合致
させるため塩に変換し、および/または、所望により生
成した異性体混合物を個々の異性体に分離する、前記方
法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB8912814.4 | 1989-06-03 | ||
| GB898912814A GB8912814D0 (en) | 1989-06-03 | 1989-06-03 | P-substituted propane-phospinic acid compounds |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0320288A true JPH0320288A (ja) | 1991-01-29 |
Family
ID=10657847
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2144591A Pending JPH0320288A (ja) | 1989-06-03 | 1990-06-04 | P―置換プロパン―ホスフィン酸化合物 |
Country Status (21)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0402312B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0320288A (ja) |
| KR (1) | KR910000766A (ja) |
| AT (1) | ATE117693T1 (ja) |
| AU (1) | AU633577B2 (ja) |
| CA (1) | CA2018036A1 (ja) |
| DD (1) | DD294945A5 (ja) |
| DE (1) | DE69016270T2 (ja) |
| DK (1) | DK0402312T3 (ja) |
| ES (1) | ES2067717T3 (ja) |
| FI (1) | FI95263C (ja) |
| GB (1) | GB8912814D0 (ja) |
| HU (1) | HU207335B (ja) |
| IE (1) | IE65155B1 (ja) |
| IL (1) | IL94537A (ja) |
| MX (1) | MX20962A (ja) |
| NO (1) | NO177675C (ja) |
| NZ (1) | NZ233915A (ja) |
| PT (1) | PT94244B (ja) |
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