JPH0631275B2 - 置換プロパン‐亜ホスホン酸化合物及びその製造方法並びにそれを含有する医薬 - Google Patents
置換プロパン‐亜ホスホン酸化合物及びその製造方法並びにそれを含有する医薬Info
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、新規な3−アミノプロパン亜ホスホン酸、
その製造方法、及び医薬としてのその使用に関する。
その製造方法、及び医薬としてのその使用に関する。
この発明は、次の式(I) 〔式中、R1、R2及びR3の1つは水素、C1〜8−
アルキル、C3〜6−シクロアルキル、フェニル(場合
によってはハロゲン、C1〜4−アルキル、C1〜4−
アルコキシ及び/又はトリフルオロメチルにより置換さ
れている)、あるいはC7〜10−フェニルアルキル
(場合によってはフェニル部分においてハロゲン、C
1〜4−アルキル、C1〜4−アルコキシ及び/又はト
リフルオロメチルにより置換されている)であり;そし
て他の2者は水素である、〕 で表わされる化合物;及びその塩を提供する。
アルキル、C3〜6−シクロアルキル、フェニル(場合
によってはハロゲン、C1〜4−アルキル、C1〜4−
アルコキシ及び/又はトリフルオロメチルにより置換さ
れている)、あるいはC7〜10−フェニルアルキル
(場合によってはフェニル部分においてハロゲン、C
1〜4−アルキル、C1〜4−アルコキシ及び/又はト
リフルオロメチルにより置換されている)であり;そし
て他の2者は水素である、〕 で表わされる化合物;及びその塩を提供する。
フェニル基は1個又はそれより多く、好ましくは2個ま
での同一の又は異る置換基を有することができる。
での同一の又は異る置換基を有することができる。
アルキルは例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イ
ソプロピル、n−ブチル、sec−ブチル(2−メチルプ
ロピル)又はt−ブチル、さらにはn−ペンチル、n−
ヘキシル、n−ヘプチル又はn−オクチルである。
ソプロピル、n−ブチル、sec−ブチル(2−メチルプ
ロピル)又はt−ブチル、さらにはn−ペンチル、n−
ヘキシル、n−ヘプチル又はn−オクチルである。
シクロアルキルは例えば、シクロプロピル、シクロブチ
ル又はシクロペンチルであってもよく、しかし好ましく
はシクロヘキシルである。
ル又はシクロペンチルであってもよく、しかし好ましく
はシクロヘキシルである。
アルコキシは例えば、メトキシ、エトキシ、n−プロポ
キシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、sec−ブトキシ
又はt−ブトキシである。
キシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、sec−ブトキシ
又はt−ブトキシである。
ハロゲンは好ましくは弗素又は塩素、さらには臭素であ
る。
る。
フェニルアルキル基は例えば、ベンジル、1−もしくは
2−フェニルエチル、2−もしくは3−フェニルプロピ
ル、又は4−フェニルブチル基であり、各々は場合によ
ってはフェニル部分において前記のように置換されてい
る。
2−フェニルエチル、2−もしくは3−フェニルプロピ
ル、又は4−フェニルブチル基であり、各々は場合によ
ってはフェニル部分において前記のように置換されてい
る。
式(I)の化合物の塩は、特に、その医薬として許容さ
れる塩、例えば酸との対応する酸付加塩、及び塩基との
塩である。酸付加塩を形成するための適当な酸は、例え
ば、鉱酸、例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸又はリン酸、
あるいは有機酸、例えば有機スルホン酸、例えばベンゼ
ンスルホン酸、4−トルエンスルホン酸又はメタンスル
ホン酸、及び有機カルボン酸、例えば酢酸、乳酸、パル
ミチン酸、ステアリン酸、リンゴ酸、マレイン酸、フマ
ル酸、酒石酸、アルコルビン酸又はクエン酸である。塩
基との塩は、例えばアルカリ金属もしくはアルカリ土類
金属塩、例えばナトリウム、カリウム、カルシウムもし
くはマグネシウム塩、又はアンモニウム塩、例えばアン
モニアもしくは適当な有機アミン、例えばジエチルアミ
ン、ジ−(2−ヒドロキシエチル)−アミンもしくはト
リ−(2−ヒドロキシエチル)−アミンとの塩である。
式(I)の化合物はさらに内部塩を形成することもでき
る。
れる塩、例えば酸との対応する酸付加塩、及び塩基との
塩である。酸付加塩を形成するための適当な酸は、例え
ば、鉱酸、例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸又はリン酸、
あるいは有機酸、例えば有機スルホン酸、例えばベンゼ
ンスルホン酸、4−トルエンスルホン酸又はメタンスル
ホン酸、及び有機カルボン酸、例えば酢酸、乳酸、パル
ミチン酸、ステアリン酸、リンゴ酸、マレイン酸、フマ
ル酸、酒石酸、アルコルビン酸又はクエン酸である。塩
基との塩は、例えばアルカリ金属もしくはアルカリ土類
金属塩、例えばナトリウム、カリウム、カルシウムもし
くはマグネシウム塩、又はアンモニウム塩、例えばアン
モニアもしくは適当な有機アミン、例えばジエチルアミ
ン、ジ−(2−ヒドロキシエチル)−アミンもしくはト
リ−(2−ヒドロキシエチル)−アミンとの塩である。
式(I)の化合物はさらに内部塩を形成することもでき
る。
不斉炭素原子の存在に依存して、この発明の化合物は異
性体の混合物、特にラセミ体の形、又は純粋な異性体、
特に光学対掌体の形であることができる。
性体の混合物、特にラセミ体の形、又は純粋な異性体、
特に光学対掌体の形であることができる。
R1及びR3がそれぞれ水素であり、そしてR2が水
素、上記のように置換されている場合があるフェニル、
特に水素、又はハロゲノ−フェニル、そして最も好まし
くは水素又は第1に4−クロロフェニルもしくは4−フ
ルオロフェニルである式(I)の化合物、又はその塩、
特に医薬として許容される塩が好ましい。
素、上記のように置換されている場合があるフェニル、
特に水素、又はハロゲノ−フェニル、そして最も好まし
くは水素又は第1に4−クロロフェニルもしくは4−フ
ルオロフェニルである式(I)の化合物、又はその塩、
特に医薬として許容される塩が好ましい。
この発明はさらに、式(I)の化合物を製造するための
第1の方法を提供し、この方法は、次の式(II)、 (式中、R1、R2及びR3は前記の意味を有し、Zは
−NH2又は保護されたアミノ基Zoであり、Qは水素又
は保護基Qoであり、そしてRcは水素、C1〜4−ア
ルキル、又はアルカリ金属もしくはアンモニウム陽イオ
ンである、) で表わされる化合物において、基Rcを水素により、又
はアルカリ金属もしくはアンモニウム陽イオンにより置
き換え、そして基QがQoである場合にはこれを水素に
より置き換え、そして基Zが保護されたアミノ基Zoで
ある場合にはこれを−NH2に転換して式(I)の化合物
を生成せしめることを含んで成る。
第1の方法を提供し、この方法は、次の式(II)、 (式中、R1、R2及びR3は前記の意味を有し、Zは
−NH2又は保護されたアミノ基Zoであり、Qは水素又
は保護基Qoであり、そしてRcは水素、C1〜4−ア
ルキル、又はアルカリ金属もしくはアンモニウム陽イオ
ンである、) で表わされる化合物において、基Rcを水素により、又
はアルカリ金属もしくはアンモニウム陽イオンにより置
き換え、そして基QがQoである場合にはこれを水素に
より置き換え、そして基Zが保護されたアミノ基Zoで
ある場合にはこれを−NH2に転換して式(I)の化合物
を生成せしめることを含んで成る。
用いられる基に依存して、前記の置き換え及び転換操作
はそれ自体公知の方法により順次に、又は同時に行うこ
とができる。
はそれ自体公知の方法により順次に、又は同時に行うこ
とができる。
所望により、得られた塩を遊離化合物又は他の塩に、そ
して/又は所望により、得られた遊離化合物を塩に転換
し、そして/又は所望により、異性体の得られた混合物
を単一の異性体に分離することができる。
して/又は所望により、得られた遊離化合物を塩に転換
し、そして/又は所望により、異性体の得られた混合物
を単一の異性体に分離することができる。
典型的な保護されたアミノ基Zoはアシルアミノ基、例
えばアセチルアミノ、フタリミド、ベンジルオキシカル
ボニルアミノ又はtert−ブトキシカルボニルアミノ基、
又は1−アリール−C1〜4−アルキルアミノ基、例え
ばベンジルアミノである。
えばアセチルアミノ、フタリミド、ベンジルオキシカル
ボニルアミノ又はtert−ブトキシカルボニルアミノ基、
又は1−アリール−C1〜4−アルキルアミノ基、例え
ばベンジルアミノである。
場合によっては存在する保護基Qoは、当業界において
知られており、そしてEP0,009,348及びオーストラリ
アン・ジャーナル・オブ・ケミストリー(Aust.J.Che
m.)33,292(1980)に記載されている基、例えば式−C
(C1〜4−アルキル)(ORa)ORbを有する基、特に式−
CH(ORa)ORb(式中Ra及びRbはそれぞれC1〜4−ア
ルキルである)を有する基、そして次に式−CH(OC2H5)2
を有する基である。
知られており、そしてEP0,009,348及びオーストラリ
アン・ジャーナル・オブ・ケミストリー(Aust.J.Che
m.)33,292(1980)に記載されている基、例えば式−C
(C1〜4−アルキル)(ORa)ORbを有する基、特に式−
CH(ORa)ORb(式中Ra及びRbはそれぞれC1〜4−ア
ルキルである)を有する基、そして次に式−CH(OC2H5)2
を有する基である。
式(II)の化合物中のアルキル基Rcの水素による置き
換えは、適当な親核性試薬、例えばアルカリ金属水酸化
物、例えば水酸化ナトリウム、アルカリ金属ハロゲン化
物、特に臭化物又はヨウ化物、例えば臭化リチウム又は
ヨウ化ナトリウム、チオ尿素、アルカリ金属チオフェノ
ラート、例えばナトリウムチオフェノラートで処理する
ことにより行うことができる。置き換え反応は溶剤の非
存在下又は存在下で、所望により冷却又は加熱しなが
ら、密閉容器中でそして/又は不活性ガス雰囲気中で行
うことができる。
換えは、適当な親核性試薬、例えばアルカリ金属水酸化
物、例えば水酸化ナトリウム、アルカリ金属ハロゲン化
物、特に臭化物又はヨウ化物、例えば臭化リチウム又は
ヨウ化ナトリウム、チオ尿素、アルカリ金属チオフェノ
ラート、例えばナトリウムチオフェノラートで処理する
ことにより行うことができる。置き換え反応は溶剤の非
存在下又は存在下で、所望により冷却又は加熱しなが
ら、密閉容器中でそして/又は不活性ガス雰囲気中で行
うことができる。
式(II)の化合物中の基Qo及び/又はRc(RcはC
1〜4−アルキルである)の水素による置き換えは、加
水分解条件下で酸により、特に鉱酸、例えばハロゲン化
水素酸、例えば希又は濃水性形で使用される塩酸によ
り、処理することによって、あるいは有機シリルハライ
ド、例えばトリメチル−シリルイオジド又はブロミドで
処理し次に加水分解することによって、行うことができ
る。この反応は、好ましくは高温において、例えば反応
混合物を還流しながら、そして所望により有機稀釈剤を
用いて、密閉容器中で及び/又は不活性ガス雰囲気下で
行われる。
1〜4−アルキルである)の水素による置き換えは、加
水分解条件下で酸により、特に鉱酸、例えばハロゲン化
水素酸、例えば希又は濃水性形で使用される塩酸によ
り、処理することによって、あるいは有機シリルハライ
ド、例えばトリメチル−シリルイオジド又はブロミドで
処理し次に加水分解することによって、行うことができ
る。この反応は、好ましくは高温において、例えば反応
混合物を還流しながら、そして所望により有機稀釈剤を
用いて、密閉容器中で及び/又は不活性ガス雰囲気下で
行われる。
保護されたアミノ基Zoは、アミノ基に転換されるべき
保護されたアミノ基の特徴に従って選択される公知の方
法、例えば加溶媒分解法又は水素化分解法、例えば、酸
又は塩基の存在下での加水分解、酸分解、例えばトリフ
ルオロ酢酸による処理、ヒドラジンによる処理、又は金
属性水素化触媒の存在下での水素化分解、あるいはQが
水素である式(II)の化合物のために水素化/触媒法が
使用できない場合には任意の他の適当な方法により、遊
離アミノに転換することができる。加水分解条件下で、
酸、好ましくはハロゲン化水素酸、特に塩酸で処理する
ことにより、1段階ですべての基を、すなわちRc及び
Qoは水素に、そしてZoはNH2に転換するのが好まし
い。
保護されたアミノ基の特徴に従って選択される公知の方
法、例えば加溶媒分解法又は水素化分解法、例えば、酸
又は塩基の存在下での加水分解、酸分解、例えばトリフ
ルオロ酢酸による処理、ヒドラジンによる処理、又は金
属性水素化触媒の存在下での水素化分解、あるいはQが
水素である式(II)の化合物のために水素化/触媒法が
使用できない場合には任意の他の適当な方法により、遊
離アミノに転換することができる。加水分解条件下で、
酸、好ましくはハロゲン化水素酸、特に塩酸で処理する
ことにより、1段階ですべての基を、すなわちRc及び
Qoは水素に、そしてZoはNH2に転換するのが好まし
い。
式(II)の出発物質は新規化合物であり、そしてこの発
明の部分を形成する。すなわち、R1、R2、R3、R
c、Q及びZが前記の意味を有する式(II)の出発物質
は、R2及びQがそれぞれ水素であり、Rcがアルキル
でなければ、新規化合物であり、そしてこの発明の部分
を構成する。式(II)の新規化合物は、例えば、後に定
義する式(IV)中の基Xの性質に依存して種々の方法に
より、塩基性触媒の存在下又は遊離ラジカル形成剤の存
在下で、次の式(III)、 (式中、Rc及びQは前記の意味を有する、)で表わさ
れる化合物を、次の式(IV)、 〔式中、R1及びR2は前記の意味を有し、そしてXは
次の式(Ia)、 (式中、R3及びZは前記の意味を有する、)で表わさ
れる基に転換され得る基である、〕 で表わされる化合物と反応せしめて、次の式(V)、 (式中、R1、R2、Rc、Q及びXは前記の意味を有
する。)で表わされる化合物を生成せしめ、そして次に
基Xを式(Ia)の基に転換して式(II)の化合物を生
成せしめることにより製造される。
明の部分を形成する。すなわち、R1、R2、R3、R
c、Q及びZが前記の意味を有する式(II)の出発物質
は、R2及びQがそれぞれ水素であり、Rcがアルキル
でなければ、新規化合物であり、そしてこの発明の部分
を構成する。式(II)の新規化合物は、例えば、後に定
義する式(IV)中の基Xの性質に依存して種々の方法に
より、塩基性触媒の存在下又は遊離ラジカル形成剤の存
在下で、次の式(III)、 (式中、Rc及びQは前記の意味を有する、)で表わさ
れる化合物を、次の式(IV)、 〔式中、R1及びR2は前記の意味を有し、そしてXは
次の式(Ia)、 (式中、R3及びZは前記の意味を有する、)で表わさ
れる基に転換され得る基である、〕 で表わされる化合物と反応せしめて、次の式(V)、 (式中、R1、R2、Rc、Q及びXは前記の意味を有
する。)で表わされる化合物を生成せしめ、そして次に
基Xを式(Ia)の基に転換して式(II)の化合物を生
成せしめることにより製造される。
基Xは第一にシアノであるが、しかしさらにカルバモイ
ル、次に式(Ib)、 (式中、R3及びZoは前記の意味を有する、)で表わ
される基であってもよく;あるいはXは次の式(I
c)、 〔式中、R3は前記の意味を有し、そして は場合によっては官能的に変形されているカルボニル
基、例えば対応するケタール又はチオケタール(対応す
る環状基を含む)である、〕で表わされる基である。
ル、次に式(Ib)、 (式中、R3及びZoは前記の意味を有する、)で表わ
される基であってもよく;あるいはXは次の式(I
c)、 〔式中、R3は前記の意味を有し、そして は場合によっては官能的に変形されているカルボニル
基、例えば対応するケタール又はチオケタール(対応す
る環状基を含む)である、〕で表わされる基である。
式(III)の化合物においてQが保護基Qoでありそし
てRcがC1〜4−アルキルであり、そして式(IV)の
化合物においてXが活性化基Xa例えばシアノ又は である場合、塩基性触媒又は遊離ラジカル触媒のいずれ
かを使用することができる。しかしながら式(III)の
同じ化合物が式(IV)〔Xが例えば式(Ib)の残基で
ある〕の化合物と反応する場合、遊離ラジカル触媒が必
要である。
てRcがC1〜4−アルキルであり、そして式(IV)の
化合物においてXが活性化基Xa例えばシアノ又は である場合、塩基性触媒又は遊離ラジカル触媒のいずれ
かを使用することができる。しかしながら式(III)の
同じ化合物が式(IV)〔Xが例えば式(Ib)の残基で
ある〕の化合物と反応する場合、遊離ラジカル触媒が必
要である。
第1段階において使用される塩基性触媒は、例えばアル
カリ金属C1〜4−アルコキシド、例えばナトリウムも
しくはカリウムC1〜4−アルコキシド、特にナトリウ
ムメトキシド、ナトリウムエトキシドもしくはカリウム
tert−ブトキシド、アルカリ金属もしくはアルカリ土類
金属フルオリド、例えば弗化カリウムもしくは弗化セシ
スム、又はアルカリ金属ヒドリド、例えばナトリウムヒ
ドリドである。反応は溶剤を添加して又は添加しないで
行われる。溶剤が添加される場合、これは好ましくはア
ルコール、特に、塩基性触媒として使用されるアルコキ
シドに対応するC1〜4−アルカノールである。反応温
度は、0℃から添加された溶剤の沸点まで異ることがで
きる。
カリ金属C1〜4−アルコキシド、例えばナトリウムも
しくはカリウムC1〜4−アルコキシド、特にナトリウ
ムメトキシド、ナトリウムエトキシドもしくはカリウム
tert−ブトキシド、アルカリ金属もしくはアルカリ土類
金属フルオリド、例えば弗化カリウムもしくは弗化セシ
スム、又はアルカリ金属ヒドリド、例えばナトリウムヒ
ドリドである。反応は溶剤を添加して又は添加しないで
行われる。溶剤が添加される場合、これは好ましくはア
ルコール、特に、塩基性触媒として使用されるアルコキ
シドに対応するC1〜4−アルカノールである。反応温
度は、0℃から添加された溶剤の沸点まで異ることがで
きる。
遊離ラジカル形成剤は、例えば、イオン化及び紫外線照
射、過酸化化合物、例えば無機過酸化化合物、例えば過
酸化水素又は過硫酸アンモニウム、又は有機過酸化物、
例えば過酸化ベンゾイル又はtert−ブチルパーオキシ
ド、又は有機アゾ化合物、例えばアゾ−ビス−イソブチ
ロニトリルである。遊離ラジカル形成剤を用いる反応
は、場合によっては溶剤の存在下で、そして所望により
冷却又は加熱しながら、密閉容器中でそして/又は不活
性ガス雰囲気中で行われる。
射、過酸化化合物、例えば無機過酸化化合物、例えば過
酸化水素又は過硫酸アンモニウム、又は有機過酸化物、
例えば過酸化ベンゾイル又はtert−ブチルパーオキシ
ド、又は有機アゾ化合物、例えばアゾ−ビス−イソブチ
ロニトリルである。遊離ラジカル形成剤を用いる反応
は、場合によっては溶剤の存在下で、そして所望により
冷却又は加熱しながら、密閉容器中でそして/又は不活
性ガス雰囲気中で行われる。
基(X)の基(Ia)への転換は公知の方法に従って行
われる。シアノ及びカルバモイルは還元によりアミノメ
チルに転換される。シアノは、例えば、適当な触媒、例
えばラネーニッケル及び溶剤、例えば好ましくはアンモ
ニアを含有するエタノールの存在下での水素化により、
そしてカルバモイルは、例えば、適当なヒドリド還元
剤、例えばテトラヒドロフラン中ボラン(Qが水素であ
る式(V)の化合物のために水素化/触媒法が使用でき
ない場合)で処理することにより、転換される。
われる。シアノ及びカルバモイルは還元によりアミノメ
チルに転換される。シアノは、例えば、適当な触媒、例
えばラネーニッケル及び溶剤、例えば好ましくはアンモ
ニアを含有するエタノールの存在下での水素化により、
そしてカルバモイルは、例えば、適当なヒドリド還元
剤、例えばテトラヒドロフラン中ボラン(Qが水素であ
る式(V)の化合物のために水素化/触媒法が使用でき
ない場合)で処理することにより、転換される。
保護されたアミノ基Zoは前記のようにして−NH2に転
換され得る。
換され得る。
Xが基(Ic)でありYが酸素である式(V)の化合物
中の基Xの式(Ia)の基への転換は、公知の還元的ア
ミノ化法により、例えば、適当な溶剤、例えばジオキサ
ン中酢酸アンモニウムの存在下で、そして例えば約0℃
に冷却しながら、ナトリウムシアノボロヒドリドで処理
することにより行われる。
中の基Xの式(Ia)の基への転換は、公知の還元的ア
ミノ化法により、例えば、適当な溶剤、例えばジオキサ
ン中酢酸アンモニウムの存在下で、そして例えば約0℃
に冷却しながら、ナトリウムシアノボロヒドリドで処理
することにより行われる。
式(III)の化合物は公知であり、又は公知の方法で製
造することができ、それぞれオーストラリアン・ジャー
ナル・オブ・ケミストリー(Aust.J.Chem.)33:292(198
0)、又はEP0,009,348に記載されている。
造することができ、それぞれオーストラリアン・ジャー
ナル・オブ・ケミストリー(Aust.J.Chem.)33:292(198
0)、又はEP0,009,348に記載されている。
式(IV)の化合物は公知であり、又は公知の方法で製造
することができる。
することができる。
式(III)の化合物の特定の例には次の化合物が含まれ
る。
る。
メチル−(ジメトキシメチル)ホスホニト、 エチル−(ジメトキシメチル)ホスホニト、 n−プロピル−(ジメトキシメチル)ホスホニト、 i−プロピル−(ジメトキシメチル)ホスホニト、 n−ブチル(ジメトキシメチル)ホスホニト、 メチル−(ジエトキシメチル)ホスホニト、 n−プロピル−(ジエトキシメチル)ホスホニト、 n−ブチル−(ジエトキシメチル)ホスホニト、 メチル−(1,1−ジメトキシエチル)ホスホニト、 エチル−(1,1−ジメトキシエチル)ホスホニト、 エチル−(1,1−ジエトキシエチル)ホスホニト、 メチル−(1,1−ジメトキシブチル)ホスホニト、 好ましくは、メチル−(ジメトキシメチル)ホスホニ
ト、 エチル−(ジエトキシメチル)ホスホニト、 メチル−(1,1−ジメトキシエチル)ホスホニト、 エチル−(1,1−ジエトキシエチル)ホスホニト、 特に好ましくは、エチル−(ジエトキシメチル)ホスホ
ニト。
ト、 エチル−(ジエトキシメチル)ホスホニト、 メチル−(1,1−ジメトキシエチル)ホスホニト、 エチル−(1,1−ジエトキシエチル)ホスホニト、 特に好ましくは、エチル−(ジエトキシメチル)ホスホ
ニト。
QがQoである式(V)の化合物、特にXがシアノ基又
は式(Ic)の基である化合物はまた、次の式(VI)、 (式中、Qoは前記の意味を有し、RcoはC1〜4−
アルキルであり、そして各RDは独立にC1〜6−アル
キル、好ましくはC1〜2−アルキル、特にメチルであ
り、RcoとRdは同一であるか又は異る、)で表わさ
れる化合物を、次の式(VII)、 (式中、R1及びR2は前記の意味を有し、そしてXは
前記の意味を有するが、しかし第一にシアノ又は式(I
c)の基であり、Halはハロゲン、例えばヨウ素、臭素
又は塩素である。〕 で表わされる基と反応せしめることにより製造すること
ができる。この反応は、好ましくはArbusov法の条件下
で、例えば、室温から高温、例えば160℃の範囲の反応
温度において、反応中に生成するトリアルキルシリルハ
ライドを除去しながら行われる。
は式(Ic)の基である化合物はまた、次の式(VI)、 (式中、Qoは前記の意味を有し、RcoはC1〜4−
アルキルであり、そして各RDは独立にC1〜6−アル
キル、好ましくはC1〜2−アルキル、特にメチルであ
り、RcoとRdは同一であるか又は異る、)で表わさ
れる化合物を、次の式(VII)、 (式中、R1及びR2は前記の意味を有し、そしてXは
前記の意味を有するが、しかし第一にシアノ又は式(I
c)の基であり、Halはハロゲン、例えばヨウ素、臭素
又は塩素である。〕 で表わされる基と反応せしめることにより製造すること
ができる。この反応は、好ましくはArbusov法の条件下
で、例えば、室温から高温、例えば160℃の範囲の反応
温度において、反応中に生成するトリアルキルシリルハ
ライドを除去しながら行われる。
さらに、QがQoでありそしてXが活性化基Xa、例え
ばシアノ又は である式(V)の化合物は、上に定義された式(VI)の
化合物を、R1、R2及びXが前記の意味を有する式
(IV)の化合物と反応せしめることによって製造するこ
とができる。この反応は好ましくは、ミハエリス付加反
応の一般的条件下で、例えば室温から80℃の間の温度
において、不活性溶剤の存在下、又は一層大きな可能性
としては不存在下で実施される。
ばシアノ又は である式(V)の化合物は、上に定義された式(VI)の
化合物を、R1、R2及びXが前記の意味を有する式
(IV)の化合物と反応せしめることによって製造するこ
とができる。この反応は好ましくは、ミハエリス付加反
応の一般的条件下で、例えば室温から80℃の間の温度
において、不活性溶剤の存在下、又は一層大きな可能性
としては不存在下で実施される。
式(VI)のシリル試薬は新規であり、そしてこの発明の
部分である。式(VI)の好ましい化合物は次の式(VI
A)、 (式中、Ra、Rb、Rco及びRdは前記の意味を有
し、そしてR4は水素又はC1〜4−アルキル、例えば
エチル−トリメチルシリル(ジエトキシメチル)ホスホ
ニト、メチル−トリメチルシリル(ジメトキシメチル)
ホスホニト、又はエチル−トリメチルシリル(1,1−
ジエトキシエチルホスホニトである、) を有する化合物である。
部分である。式(VI)の好ましい化合物は次の式(VI
A)、 (式中、Ra、Rb、Rco及びRdは前記の意味を有
し、そしてR4は水素又はC1〜4−アルキル、例えば
エチル−トリメチルシリル(ジエトキシメチル)ホスホ
ニト、メチル−トリメチルシリル(ジメトキシメチル)
ホスホニト、又はエチル−トリメチルシリル(1,1−
ジエトキシエチルホスホニトである、) を有する化合物である。
式(VI)の化合物は、場合によっては塩基性触媒の存在
下で、QがQoでありそしてRcがアルキルである式
(III)の化合物、すなわち次の式(IIIA)、 (式中、Qo及びRcoは前記の意味を有する、) で表わされる化合物、好ましくは次の式(IIIB)、 (式中、Rco、Ra及びRbは前記の意味を有し、そ
してR4は水素又はC1〜4−アルキルである、) で表わされる化合物、適当なシリル化剤、例えばトリメ
チルシリルクロリド、ジメチル−tert−ブチル−シリル
クロリド又はジメチル(2,3−ジメチル−2−ブチ
ル)シリルクロリドと、第三級塩基、例えばピリジンも
しくはトリエチルアミン、ヘキサメチルジシラザン、1
−トリメチルシリル−イミダゾール、又は1−(ジメチ
ル−tert−ブチル−シリル)−イミダゾール、又は他の
任意の適当なシリル化剤と反応せしめることにより製造
することができる。
下で、QがQoでありそしてRcがアルキルである式
(III)の化合物、すなわち次の式(IIIA)、 (式中、Qo及びRcoは前記の意味を有する、) で表わされる化合物、好ましくは次の式(IIIB)、 (式中、Rco、Ra及びRbは前記の意味を有し、そ
してR4は水素又はC1〜4−アルキルである、) で表わされる化合物、適当なシリル化剤、例えばトリメ
チルシリルクロリド、ジメチル−tert−ブチル−シリル
クロリド又はジメチル(2,3−ジメチル−2−ブチ
ル)シリルクロリドと、第三級塩基、例えばピリジンも
しくはトリエチルアミン、ヘキサメチルジシラザン、1
−トリメチルシリル−イミダゾール、又は1−(ジメチ
ル−tert−ブチル−シリル)−イミダゾール、又は他の
任意の適当なシリル化剤と反応せしめることにより製造
することができる。
採用される工程条件は使用される特定のシリル化剤に依
存して異る。反応温度は約−20℃〜約150℃であり、
そして反応は不活性溶剤、例えばジエチルエーテル、ト
ルエン、テトラヒドロフラン又はジオキサンを使用し
て、又は使用しないで行われる。他の方法として、過剰
のシリル化剤を稀釈剤として使用することができる。式
(IIIA)又は(IIIB)の化合物に対するシリル化剤の
モル比は便利には1:1であるが、ある場合にはモル過
剰量のシリル化剤を使用するのが便利である。
存して異る。反応温度は約−20℃〜約150℃であり、
そして反応は不活性溶剤、例えばジエチルエーテル、ト
ルエン、テトラヒドロフラン又はジオキサンを使用し
て、又は使用しないで行われる。他の方法として、過剰
のシリル化剤を稀釈剤として使用することができる。式
(IIIA)又は(IIIB)の化合物に対するシリル化剤の
モル比は便利には1:1であるが、ある場合にはモル過
剰量のシリル化剤を使用するのが便利である。
式(VII)の化合物は公知であり又は公知の方法により
製造することができる。
製造することができる。
式(I)の化合物はまた、次の式(VIII)、 (式中、R1、R2及びXは前記の意味を有する。) で表わされる化合物において、基Xを次の式(Id) (式中、R3は前記の意味を有する、) で表わされる基に転換することによっても製造すること
ができる。
ができる。
基Xの式(Id)の基への転換は、式(II)の出発物質
の製造に関して前記した任意の方法により行うことがで
きる。
の製造に関して前記した任意の方法により行うことがで
きる。
上記の反応は、公知の方法に従って、試薬としても機能
し得る溶剤の存在下又は非存在下において、必要であれ
ば冷却又は加熱しながら、密閉容器中で、そして/又は
不活性雰囲気下で行われる。
し得る溶剤の存在下又は非存在下において、必要であれ
ば冷却又は加熱しながら、密閉容器中で、そして/又は
不活性雰囲気下で行われる。
式(VIII)の出発物質は、例えば、式(V)の化合物か
ら、Rc−O−基をヒドロキシに転換することにより製
造することができ、この反応は前記の方法に従って、例
えば酸性加水分解により、例えば水性鉱酸、例えば塩酸
で処理することにより、あるいは親核性試薬で処理しそ
して同時に又は引き続きQoである基Qを水素に転換す
ることにより製造することができる。
ら、Rc−O−基をヒドロキシに転換することにより製
造することができ、この反応は前記の方法に従って、例
えば酸性加水分解により、例えば水性鉱酸、例えば塩酸
で処理することにより、あるいは親核性試薬で処理しそ
して同時に又は引き続きQoである基Qを水素に転換す
ることにより製造することができる。
R1、R2及びR3が前記の意味を有し、RcがRco
であり、そしてQは前記の意味を有するQoである式
(II)の化合物はまた、次の式(IX)、 で表わされる化合物を、公知の方法により、例えば触媒
的水素化により還元することによっても製造することが
できる。
であり、そしてQは前記の意味を有するQoである式
(II)の化合物はまた、次の式(IX)、 で表わされる化合物を、公知の方法により、例えば触媒
的水素化により還元することによっても製造することが
できる。
式(IX)の化合物は、次の式(X)、 で表わされる化合物を、次の式(XI)、 (式中、R1、Qo及びRcoは前記の意味を有し、そ
してMはアルカリ金属又は遷移金属の原子であり、好ま
しくはリチウムである、) で表わされる陰イオンの形で、次の式(XII)、 (式中、R2及びR3は前記の意味を有する、) で表わされる化合物と反応せしめることにより製造する
ことができる。式(XI)の化合物は式(X)の化合物
を、金属原子M(Mは前記の意味を有する、)を含有す
る塩基と反応せしめることにより製造することができ
る。
してMはアルカリ金属又は遷移金属の原子であり、好ま
しくはリチウムである、) で表わされる陰イオンの形で、次の式(XII)、 (式中、R2及びR3は前記の意味を有する、) で表わされる化合物と反応せしめることにより製造する
ことができる。式(XI)の化合物は式(X)の化合物
を、金属原子M(Mは前記の意味を有する、)を含有す
る塩基と反応せしめることにより製造することができ
る。
式(IX)の化合物及びその製造方法は新規であり、そし
てこの発明の部分を構成する。
てこの発明の部分を構成する。
第一段階において使用される塩基は、例えばC1〜4−
アルキルリチウム、C2〜4−アルキルリチウムアミド
又は金属アミド、好ましくはリチウムジイソプロピルア
ミドである。反応は、非プロトン性溶剤、好ましくはエ
ーテルを用いて、特にテトラヒドロフランを用いて行う
ことができる。不活性ガス雰囲気下、反応温度は−78
℃〜室温の範囲で異なることができる。
アルキルリチウム、C2〜4−アルキルリチウムアミド
又は金属アミド、好ましくはリチウムジイソプロピルア
ミドである。反応は、非プロトン性溶剤、好ましくはエ
ーテルを用いて、特にテトラヒドロフランを用いて行う
ことができる。不活性ガス雰囲気下、反応温度は−78
℃〜室温の範囲で異なることができる。
式(X)の化合物は公知であり(EP0,009,348)又は
公知の方法により製造することができる。
公知の方法により製造することができる。
次の式(V)、 〔式中、Rc及びR2は前記の意味を有し、Qは保護基
QoであってこのQoは前記の意味を有し、R1は水素
であり、そしてXは前に定義した基Xから選択されそし
て式(Ia)の基−CH(R3)−Z(ここで、R3はHであ
りそしてZは前記の意味を有する)に転換され得る基で
ある活性基Xaである。〕 で表わされる化合物はまた、次の式(VA)、 で表わされる化合物を、次の式(VB)、 (式中、Qo、Rco、Xa及びMは前記の意味を有す
る、) で表わされる陰イオンの形で、次の式(XIII)、 LR2 (XIII)、 (式中、R2は前記の意味を有し、そしてLは脱離基、
例えばハロゲン又はトシルである、) で表わされる化合物と反応せしめることにより製造する
ことができる。
QoであってこのQoは前記の意味を有し、R1は水素
であり、そしてXは前に定義した基Xから選択されそし
て式(Ia)の基−CH(R3)−Z(ここで、R3はHであ
りそしてZは前記の意味を有する)に転換され得る基で
ある活性基Xaである。〕 で表わされる化合物はまた、次の式(VA)、 で表わされる化合物を、次の式(VB)、 (式中、Qo、Rco、Xa及びMは前記の意味を有す
る、) で表わされる陰イオンの形で、次の式(XIII)、 LR2 (XIII)、 (式中、R2は前記の意味を有し、そしてLは脱離基、
例えばハロゲン又はトシルである、) で表わされる化合物と反応せしめることにより製造する
ことができる。
式(VA)の出発物質は公知であり、又は式(VB)の
公知化合物について記載されている方法、例えばヨーロ
ッパ特許出願EP0,009,348に記載されている方法に従
って製造することができる。
公知化合物について記載されている方法、例えばヨーロ
ッパ特許出願EP0,009,348に記載されている方法に従
って製造することができる。
使用される工程条件に依存して、式(I)の化合物は遊
離の形(ツビッテルイオン)又はそれらの塩の形で得ら
れる。遊離化合物は塩からそれ自体公知の方法により得
ることができ、酸付加塩を塩基性剤を処理することによ
り、そして塩基との塩を適当な酸性剤で処理することに
より得られる。酸付加塩は遊離化合物から酸又は陰イオ
ン交換体との反応により、塩基との塩は遊離化合物を塩
基又は適当な陽イオン交換体で処理することにより得る
ことができる。
離の形(ツビッテルイオン)又はそれらの塩の形で得ら
れる。遊離化合物は塩からそれ自体公知の方法により得
ることができ、酸付加塩を塩基性剤を処理することによ
り、そして塩基との塩を適当な酸性剤で処理することに
より得られる。酸付加塩は遊離化合物から酸又は陰イオ
ン交換体との反応により、塩基との塩は遊離化合物を塩
基又は適当な陽イオン交換体で処理することにより得る
ことができる。
化合物(それらの塩を包含する)は、それらの水加物の
形で得ることができ、又は結晶化のために使用された他
の溶剤を含有することができる。
形で得ることができ、又は結晶化のために使用された他
の溶剤を含有することができる。
遊離形の及びその塩の形の新規化合物の密接な関連性に
基き、意味及び目的に依存して適切な場合には、“遊離
化合物”なる語は所望によりさらにその塩を包含すべき
であり、そして“塩”なる語は所望によりさらに遊離化
合物を包含すべきである。
基き、意味及び目的に依存して適切な場合には、“遊離
化合物”なる語は所望によりさらにその塩を包含すべき
であり、そして“塩”なる語は所望によりさらに遊離化
合物を包含すべきである。
式(I)の化合物の異性体の混合物は公知の方法に従っ
て単一異性体に分離することができる。ラセミ体は、公
知の古典的方法を用いて、例えば光学活性塩形成酸、例
えば(+)−もしくは(−)−酒石酸又はD−(+)−
樟脳スルホン酸、又は光学活性塩形成塩基、例えば
(+)−もしくは(−)−α−メチル−ベンジルアミン
を用いてジアステレオマー塩を形成し、このジアステレ
オマー塩を分離し、そしてこの分離された所望の遊離光
学対掌体を遊離させることにより、個々の光学対掌体に
分離することができる。
て単一異性体に分離することができる。ラセミ体は、公
知の古典的方法を用いて、例えば光学活性塩形成酸、例
えば(+)−もしくは(−)−酒石酸又はD−(+)−
樟脳スルホン酸、又は光学活性塩形成塩基、例えば
(+)−もしくは(−)−α−メチル−ベンジルアミン
を用いてジアステレオマー塩を形成し、このジアステレ
オマー塩を分離し、そしてこの分離された所望の遊離光
学対掌体を遊離させることにより、個々の光学対掌体に
分離することができる。
この発明はさらに、方法の任意の段階で中間体として得
られた化合物を出発物質として使用しそして残りの工程
段階を実施し、又は出発物質を反応条件下で生成せし
め、又は誘導体、例えば塩の形で使用する方法の態様に
関する。
られた化合物を出発物質として使用しそして残りの工程
段階を実施し、又は出発物質を反応条件下で生成せし
め、又は誘導体、例えば塩の形で使用する方法の態様に
関する。
この発明の方法において、使用される出発物質は、好ま
しくは特に価値があるとして最初に記載した化合物をも
たらす出発物質である。
しくは特に価値があるとして最初に記載した化合物をも
たらす出発物質である。
この発明の化合物は、1〜100nmol/の阻害濃度をもっ
て、GABAB受容体部位に対して非常に強い親和性を有す
ることが見出された。例1の化合物について、バクロフ
ェン(baclofen)の活性より少なくとも20倍顕著な活
性が観察される。GABAB受容体部位における作動薬(ago
nist)は、バクロフェンと同様に、脊髄痙れん、多発性
硬化症、及び脳性麻痺において筋弛緩剤として使用する
ことができ、さらにこれらは三叉神経痛において、薬物
禁断症状において、及び鎮痛薬として活性であることが
予想される。GABAB及びGABAA受容体作動性を合わせ持つ
化合物は抗抑制剤として活性であろう。
て、GABAB受容体部位に対して非常に強い親和性を有す
ることが見出された。例1の化合物について、バクロフ
ェン(baclofen)の活性より少なくとも20倍顕著な活
性が観察される。GABAB受容体部位における作動薬(ago
nist)は、バクロフェンと同様に、脊髄痙れん、多発性
硬化症、及び脳性麻痺において筋弛緩剤として使用する
ことができ、さらにこれらは三叉神経痛において、薬物
禁断症状において、及び鎮痛薬として活性であることが
予想される。GABAB及びGABAA受容体作動性を合わせ持つ
化合物は抗抑制剤として活性であろう。
他方、拮抗薬は筋刺激薬として作用し、そして筋萎縮、
ジストロフィー及び例えばパーキンソン病及びエルブ麻
痺に関連する弱化において活性であることが予想され
る。GABAB受容器拮抗薬は神経伝達中にグルタミン酸及
びアルパラギン酸の放出を増加することが予想されるの
で、脳での情報処理における陽性効果が予想される。
ジストロフィー及び例えばパーキンソン病及びエルブ麻
痺に関連する弱化において活性であることが予想され
る。GABAB受容器拮抗薬は神経伝達中にグルタミン酸及
びアルパラギン酸の放出を増加することが予想されるの
で、脳での情報処理における陽性効果が予想される。
この発明の代表的な化合物として、例8の化合物は、GA
BAB受容体部位において35nMのIC50−値をもって、筋
弛緩薬として(6〜9mg/kg i.P.の回転棒マウスID
50値)、鎮痛薬として(4mg/kg p.o.の、マウスにお
けるフェニルキノン苦悶ED50値)及び抗痙れん薬とし
て(DBA/2マウスにおける聴性発作、6mg/kg i.p.のI
D50値)活性であることが示された。200mg/kg i.p.に
おいて死が観察されなかった。
BAB受容体部位において35nMのIC50−値をもって、筋
弛緩薬として(6〜9mg/kg i.P.の回転棒マウスID
50値)、鎮痛薬として(4mg/kg p.o.の、マウスにお
けるフェニルキノン苦悶ED50値)及び抗痙れん薬とし
て(DBA/2マウスにおける聴性発作、6mg/kg i.p.のI
D50値)活性であることが示された。200mg/kg i.p.に
おいて死が観察されなかった。
この発明の化合物はそれらの薬理学的プロフィールに従
って筋弛緩薬、筋刺激薬、鎮痛薬、鎮痙薬、抗抑制薬、
ノートロピクス(nootropics)、及び薬物禁断症状緩和
薬として活性であることが要求される。
って筋弛緩薬、筋刺激薬、鎮痛薬、鎮痙薬、抗抑制薬、
ノートロピクス(nootropics)、及び薬物禁断症状緩和
薬として活性であることが要求される。
前記の有利な性質がこの発明の化合物を、ヒトを含む哺
乳類動物のための特異的療法剤として非常に価値あるも
のにしている。
乳類動物のための特異的療法剤として非常に価値あるも
のにしている。
この発明はまた、式(I)の化合物又はその医薬として
許容される塩を含有する医薬組成物に関する。これらの
製造は、それが経口的に又は非経腸的に、例えば静脈内
に、筋中に又は皮下に投与された場合、特に上記の症状
において使用することができる。必要な投与量は、治療
されるべき特定の疾患、その重症度及び療法期間に依存
する。個々の投与の回数及び量並びにさらに投与方法
は、関与する宿主の個々の試験を基礎にして最良に決定
され、この方法は当業者に良く知られている。しかしな
がら、原則として、この発明の医療的有効量は約0.1〜
10mg/kg体重・日である。医薬製剤は公知の方法に従
って標準的助剤を用いて製造される。
許容される塩を含有する医薬組成物に関する。これらの
製造は、それが経口的に又は非経腸的に、例えば静脈内
に、筋中に又は皮下に投与された場合、特に上記の症状
において使用することができる。必要な投与量は、治療
されるべき特定の疾患、その重症度及び療法期間に依存
する。個々の投与の回数及び量並びにさらに投与方法
は、関与する宿主の個々の試験を基礎にして最良に決定
され、この方法は当業者に良く知られている。しかしな
がら、原則として、この発明の医療的有効量は約0.1〜
10mg/kg体重・日である。医薬製剤は公知の方法に従
って標準的助剤を用いて製造される。
次の例はこの発明を説明することを意図するものであ
り、そしてこの発明をこの例に限定することを意図する
ものではない。すべての部は重量による。とくにことわ
らない限り、減圧蒸発は好ましくは20〜130ミリバール
の間で行う。31Pとして示すデータはリン31−NMRデ
ータである。
り、そしてこの発明をこの例に限定することを意図する
ものではない。すべての部は重量による。とくにことわ
らない限り、減圧蒸発は好ましくは20〜130ミリバール
の間で行う。31Pとして示すデータはリン31−NMRデ
ータである。
例1. a)30mの36%水性塩酸中5.4gのエチル3−ア
ミノプロピル(ジエトキシメチル)ホスフィネートの溶
液を、窒素雰囲気下で3時間還流加熱する。次に、この
反応混合物を室温に冷却し、減圧濃縮し、そして10m
の水と共に減圧下で2回共蒸発せしめる。粗生成物を
50mの乾燥メタノールに溶解し、溶液を0℃に冷却
し、そして5mのプロピレンオキシドを滴加する。混
合物を減圧濃縮し、50mのエタノールと共にすりつ
ぶし、そして粗生成物を濾過する。エタノールとメタノ
ールとの混合物からの再結晶化により3−アミノプロピ
ル亜ホスホン酸を得る。m.p.209℃〜213℃、31P=+2
8.2ppm(D2O)。
ミノプロピル(ジエトキシメチル)ホスフィネートの溶
液を、窒素雰囲気下で3時間還流加熱する。次に、この
反応混合物を室温に冷却し、減圧濃縮し、そして10m
の水と共に減圧下で2回共蒸発せしめる。粗生成物を
50mの乾燥メタノールに溶解し、溶液を0℃に冷却
し、そして5mのプロピレンオキシドを滴加する。混
合物を減圧濃縮し、50mのエタノールと共にすりつ
ぶし、そして粗生成物を濾過する。エタノールとメタノ
ールとの混合物からの再結晶化により3−アミノプロピ
ル亜ホスホン酸を得る。m.p.209℃〜213℃、31P=+2
8.2ppm(D2O)。
b)出発物質は次のようにして製造することができる。
25mのエタノール中20gのエチル−(ジエトキシ
メチル)ホスホニト〔オーストラリアン・ジャーナル・
オブ・ケミストリー(Aust.J.Chem.)33、292(1980)〕及び
5gのアクリロニトリルの溶液を、25mのエタノー
ル中1gの水酸化ナトリウム(油中50%分散体)の攪
拌された混合物に加える。反応混合物を室温に放置加温
し、そして4時間攪拌する。1mの氷酢酸を加え、そ
してこの混合物を減圧濃縮する。生ずる粗生成物を50
mの酢酸エチルに溶解し、26mの水で2回洗浄
し、そして有機抽出物を硫酸マグネシウムで乾燥し、そ
して次に減圧下で濃縮する。粗生成物を減圧蒸留してエ
チル2−シアノエチル(ジエトキシメチル)ホスフィネ
ートを得る。b.p.114℃/0.01mbar、31P=+40.8ppm
(CDC3)。
25mのエタノール中20gのエチル−(ジエトキシ
メチル)ホスホニト〔オーストラリアン・ジャーナル・
オブ・ケミストリー(Aust.J.Chem.)33、292(1980)〕及び
5gのアクリロニトリルの溶液を、25mのエタノー
ル中1gの水酸化ナトリウム(油中50%分散体)の攪
拌された混合物に加える。反応混合物を室温に放置加温
し、そして4時間攪拌する。1mの氷酢酸を加え、そ
してこの混合物を減圧濃縮する。生ずる粗生成物を50
mの酢酸エチルに溶解し、26mの水で2回洗浄
し、そして有機抽出物を硫酸マグネシウムで乾燥し、そ
して次に減圧下で濃縮する。粗生成物を減圧蒸留してエ
チル2−シアノエチル(ジエトキシメチル)ホスフィネ
ートを得る。b.p.114℃/0.01mbar、31P=+40.8ppm
(CDC3)。
この生成物はまた次のようにして製造することができ
る。
る。
9gのヘキサメチルジシラザン中10.6gのエチル−(ジ
エトキシメチル)ホスホニトの溶液を窒素雰囲気下で3
時間還流加熱する。反応混合物を20℃に放冷し、そし
て次に減圧蒸留してエチル−トリメチルシリル(ジエト
キシメチル)ホスホニトを得る。b.P.51℃/0.01mbar、
31P=+146.9ppm(CDC3)。
エトキシメチル)ホスホニトの溶液を窒素雰囲気下で3
時間還流加熱する。反応混合物を20℃に放冷し、そし
て次に減圧蒸留してエチル−トリメチルシリル(ジエト
キシメチル)ホスホニトを得る。b.P.51℃/0.01mbar、
31P=+146.9ppm(CDC3)。
エチル−トリメチルシリル(ジエトキシメチル)ホスホ
ニトと3−クロロプロピオニトリルとの反応によりエチ
ル2−シアノエチル(ジエトキシメチル)ホスフィネー
トを得る。上記化合物と同一。
ニトと3−クロロプロピオニトリルとの反応によりエチ
ル2−シアノエチル(ジエトキシメチル)ホスフィネー
トを得る。上記化合物と同一。
450mのエタノール中9.6gのエチル2−シアノエチル
(ジエトキシメチル)ホスフィネートの溶液をエタノー
ル中8%アンモニア溶液82gに加える。これに、5m
のラネーニッケルを加え、そして生ずる混合物を、理
論量の水素が取り込まれるまで1barにて水素化する。
次にこの混合物を濾過し、濾液を減圧縮宿し、そして粗
生成物を蒸留してエチル3−アミノプロピル(ジエトキ
シメチル)ホスフィネートを得る。b.p.150℃/0.01mba
r、31P=+46.4ppm(CDC3)。
(ジエトキシメチル)ホスフィネートの溶液をエタノー
ル中8%アンモニア溶液82gに加える。これに、5m
のラネーニッケルを加え、そして生ずる混合物を、理
論量の水素が取り込まれるまで1barにて水素化する。
次にこの混合物を濾過し、濾液を減圧縮宿し、そして粗
生成物を蒸留してエチル3−アミノプロピル(ジエトキ
シメチル)ホスフィネートを得る。b.p.150℃/0.01mba
r、31P=+46.4ppm(CDC3)。
例2. 前記の例1に例示された方法に従って得られる他の化合
物は、例えば、次の表に示す化合物である R1 R2 R3 a)水素 4−クロロフェニル 水素 (RS、R又はS形) b)水素 2−メチルフェニル 水素 c)水素 4−ブロモフェニル 水素 d)水素 2−メトキシフェニル 水素 e)水素 3,4−ジメトキシフェニル 水素 f)水素 4−トリフルオロメチルフェニル 水素 g)水素 3,4−ジクロロフェニル 水素 h)水素 sec−ブチル 水素 i)水素 n−オクチル 水素j)水素 4−クロロベンジル 水素 例3. a)50mの36%水性塩酸中14.1gのエチル3−ア
ミノ−1−メチルプロピル(ジエトキシメチル)ホスフ
ィネートの溶液を5時間還流加熱する。次に、反応混合
物を室温に放冷し、減圧下で濃縮しそして20mの水
と共に減圧下で共蒸留する。次に、粗生成物を20m
の水に溶解し、20mのジエチルエーテルで2回洗浄
し、そして次に水層を分離し、そして減圧濃縮する。粗
生成物を50mの乾燥エタノールに溶解し、そして5
mのプロピレンオキシドを滴加して油状固体を生成せ
しめる。次に、この生成物をダウエックス50W-X2により
調製されたイオン交換樹脂カラムに通し、そして水によ
り溶出する。ニンヒドリン陽性を示す画分を集め、そし
て減圧蒸発を行って3−アミノ−1−メチル−プロピル
亜ホスホン酸を吸湿性固体として得る。m.p.55℃〜60
℃、31P=35.1ppm(D2O)。
物は、例えば、次の表に示す化合物である R1 R2 R3 a)水素 4−クロロフェニル 水素 (RS、R又はS形) b)水素 2−メチルフェニル 水素 c)水素 4−ブロモフェニル 水素 d)水素 2−メトキシフェニル 水素 e)水素 3,4−ジメトキシフェニル 水素 f)水素 4−トリフルオロメチルフェニル 水素 g)水素 3,4−ジクロロフェニル 水素 h)水素 sec−ブチル 水素 i)水素 n−オクチル 水素j)水素 4−クロロベンジル 水素 例3. a)50mの36%水性塩酸中14.1gのエチル3−ア
ミノ−1−メチルプロピル(ジエトキシメチル)ホスフ
ィネートの溶液を5時間還流加熱する。次に、反応混合
物を室温に放冷し、減圧下で濃縮しそして20mの水
と共に減圧下で共蒸留する。次に、粗生成物を20m
の水に溶解し、20mのジエチルエーテルで2回洗浄
し、そして次に水層を分離し、そして減圧濃縮する。粗
生成物を50mの乾燥エタノールに溶解し、そして5
mのプロピレンオキシドを滴加して油状固体を生成せ
しめる。次に、この生成物をダウエックス50W-X2により
調製されたイオン交換樹脂カラムに通し、そして水によ
り溶出する。ニンヒドリン陽性を示す画分を集め、そし
て減圧蒸発を行って3−アミノ−1−メチル−プロピル
亜ホスホン酸を吸湿性固体として得る。m.p.55℃〜60
℃、31P=35.1ppm(D2O)。
b)出発物質は次のようにして製造することができる。
30mの乾燥エタノール中23.5gのエチル−(ジエト
キシメチル)ホスホニト及び6.7gのクロトノニトリル
の溶液を、30mのエタノール中1.2gの水酸化ナト
リウム(油中50%分散体)の攪拌された混合物に、窒
素雰囲気下0℃にて加える。この反応混合物を室温まで
放置加温し、そして4時間攪拌する。1mの氷酢酸を
加え、そしてこの混合物を減圧濃縮する。生ずる粗生成
物を50mの酢酸エチルに溶解し、25mの水で2
回洗浄し、そして有機抽出物を硫酸マグネシウムで乾燥
し、そして次に減圧濃縮する。粗生成物を減圧蒸留して
エチル2−シアノ−1−メチルエチル(ジエトキシメチ
ル)ホスフィネートを得る。b.p.116℃/0.01mbar、31P
=+42.2及び+42.0ppm(CDC3)。
キシメチル)ホスホニト及び6.7gのクロトノニトリル
の溶液を、30mのエタノール中1.2gの水酸化ナト
リウム(油中50%分散体)の攪拌された混合物に、窒
素雰囲気下0℃にて加える。この反応混合物を室温まで
放置加温し、そして4時間攪拌する。1mの氷酢酸を
加え、そしてこの混合物を減圧濃縮する。生ずる粗生成
物を50mの酢酸エチルに溶解し、25mの水で2
回洗浄し、そして有機抽出物を硫酸マグネシウムで乾燥
し、そして次に減圧濃縮する。粗生成物を減圧蒸留して
エチル2−シアノ−1−メチルエチル(ジエトキシメチ
ル)ホスフィネートを得る。b.p.116℃/0.01mbar、31P
=+42.2及び+42.0ppm(CDC3)。
150mのエタノール中17.0gのエチル1−メチル−
2−シアノエチル(ジエトキシメチル)ホスフィネート
の溶液を、エタノール中8%アンモニウム溶液155.0g
に加える。これに、10mのラネーニッケルを加え、
そして生ずる混合物を、理論量の水素が取り込まれるま
で1barにて水素化する。次に、この混合物を濾過し、
そして濾液を減圧濃縮し、そして粗生成物を減圧蒸留し
てエチル3−アミノ−1−メチルプロピル(ジエトキシ
メチル)ホスフィネートを得る。b.p.140℃/0.01mbar、
31P=+47.0及び+46.7ppm(CDC3)。
2−シアノエチル(ジエトキシメチル)ホスフィネート
の溶液を、エタノール中8%アンモニウム溶液155.0g
に加える。これに、10mのラネーニッケルを加え、
そして生ずる混合物を、理論量の水素が取り込まれるま
で1barにて水素化する。次に、この混合物を濾過し、
そして濾液を減圧濃縮し、そして粗生成物を減圧蒸留し
てエチル3−アミノ−1−メチルプロピル(ジエトキシ
メチル)ホスフィネートを得る。b.p.140℃/0.01mbar、
31P=+47.0及び+46.7ppm(CDC3)。
例4. a)30mの36%水性塩酸中6.0gのエチル3−ア
ミノ−2−メチルプロピル(ジエトキシメチル)ホスフ
ィネートの溶液を7時間還流加熱する。次に、この反応
混合物を室温に冷却し、減圧濃縮し、そして10mの
水と共に減圧下で2回共蒸発せしめた。粗生成物を50
mの乾燥エーテルに溶解し、そして5mのプロピレ
ンオキシドを滴加する。沈澱した固体を濾過し、そして
乾燥して3−アミノ−2−メチルプロピル亜ホスホン酸
−水和物を得る。m.p.76℃〜100℃、31P=+25.8ppm(D
2O)。
ミノ−2−メチルプロピル(ジエトキシメチル)ホスフ
ィネートの溶液を7時間還流加熱する。次に、この反応
混合物を室温に冷却し、減圧濃縮し、そして10mの
水と共に減圧下で2回共蒸発せしめた。粗生成物を50
mの乾燥エーテルに溶解し、そして5mのプロピレ
ンオキシドを滴加する。沈澱した固体を濾過し、そして
乾燥して3−アミノ−2−メチルプロピル亜ホスホン酸
−水和物を得る。m.p.76℃〜100℃、31P=+25.8ppm(D
2O)。
b)出発物質は次のようにして製造することができる。
30mのエタノール中23.5gのエチル−(ジエトキシ
メチル)ホスホニト及び6.7gのメタクリロニトリルの
溶液を、30mのエタノール中1.2gのナトリウムヒ
ドリド(油中50%分散体)の攪拌された混合物に窒素
雰囲気下0℃にて滴加する。反応混合物を室温に放置加
温し、そして4時間攪拌する。1mの酢酸を加え、そ
してこの混合物を減圧濃縮する。生ずる粗生成物を50
mの酢酸エチルに溶解し、25mの水で2回洗浄
し、そして有機抽出物を硫酸マグネシウムで乾燥し、そ
して次に減圧下で濃縮する。粗生成物を減圧濃縮してエ
チル2−シアノプロピル(ジエトキシメチル)ホスフィ
ネートを得る。b.p.116℃/0.01mbar、31P=+40.4及び
+40.3ppm(CDC3)。
メチル)ホスホニト及び6.7gのメタクリロニトリルの
溶液を、30mのエタノール中1.2gのナトリウムヒ
ドリド(油中50%分散体)の攪拌された混合物に窒素
雰囲気下0℃にて滴加する。反応混合物を室温に放置加
温し、そして4時間攪拌する。1mの酢酸を加え、そ
してこの混合物を減圧濃縮する。生ずる粗生成物を50
mの酢酸エチルに溶解し、25mの水で2回洗浄
し、そして有機抽出物を硫酸マグネシウムで乾燥し、そ
して次に減圧下で濃縮する。粗生成物を減圧濃縮してエ
チル2−シアノプロピル(ジエトキシメチル)ホスフィ
ネートを得る。b.p.116℃/0.01mbar、31P=+40.4及び
+40.3ppm(CDC3)。
150mのエタノール中17.0gのエチル2−シアノプ
ロピル(ジエトキシメチル)ホスフィネート溶液を、エ
タノール中8%アンモニア溶液155gに加える。これ
に、10mのラネーニッケルを加えそして生ずる混合
物を理論量の水素が取り込まれるまで1バールで水素化
する。この混合物を濾過し、濾液を減圧濃縮し、そして
粗生成物を減圧蒸留してエチル3−アミノ−2−メチル
プロピル(ジエトキシメチル)ホスフィネートを得る。
b.p.150℃/0.01bar、31P=+45.8及び+45.7ppm(CD
C3)。
ロピル(ジエトキシメチル)ホスフィネート溶液を、エ
タノール中8%アンモニア溶液155gに加える。これ
に、10mのラネーニッケルを加えそして生ずる混合
物を理論量の水素が取り込まれるまで1バールで水素化
する。この混合物を濾過し、濾液を減圧濃縮し、そして
粗生成物を減圧蒸留してエチル3−アミノ−2−メチル
プロピル(ジエトキシメチル)ホスフィネートを得る。
b.p.150℃/0.01bar、31P=+45.8及び+45.7ppm(CD
C3)。
例5. a)100mの36%水性塩酸中9.8gのエチル3−アミ
ノブチル(ジエトキシメチル)ホスフィネートの溶液を
1時間還流加熱する。次に、反応混合物を室温に放冷
し、減圧濃縮し、そして10mの水と共に減圧下で共
蒸発せしめる。次に、粗生成物を20mの水に溶解
し、20mのジエチルエーテルで2回洗浄し、そして
水性相を分離し、そして減圧蒸発せしめる。粗生成物を
ダウエックス50W−X2のカラムに通し、水で溶出す
る。ニンヒドリン陽性を示す画分を一緒にし、そして減
圧濃縮して3−アミノブチル亜ホスホン酸(1/3 MH2O)
を得る。m.p.195℃〜200℃、31P=+28.1ppm(D2O)。
ノブチル(ジエトキシメチル)ホスフィネートの溶液を
1時間還流加熱する。次に、反応混合物を室温に放冷
し、減圧濃縮し、そして10mの水と共に減圧下で共
蒸発せしめる。次に、粗生成物を20mの水に溶解
し、20mのジエチルエーテルで2回洗浄し、そして
水性相を分離し、そして減圧蒸発せしめる。粗生成物を
ダウエックス50W−X2のカラムに通し、水で溶出す
る。ニンヒドリン陽性を示す画分を一緒にし、そして減
圧濃縮して3−アミノブチル亜ホスホン酸(1/3 MH2O)
を得る。m.p.195℃〜200℃、31P=+28.1ppm(D2O)。
b)出発物質は次のようにして製造することができる。
15.0gのエチル−トリメチルシリル(ジエトキシメチ
ル)ホスホニトを3.9gのメチルビニルケトンの攪拌さ
れた溶液に、窒素雰囲気化室温にて滴下する。次に、混
合物を50℃にて1時間加熱する。次に、この混合物を
室温に放冷し、そして25mのクロロホルムを加え次
に10mの水を加え、この混合物を0.5時間激して攪
拌する。次に有機相を分離し、硫酸マグネシウムで乾燥
しそして減圧下で濃縮し、そして粗生成物を減圧蒸留し
てエチル3−オキソブチル(ジエトキシメチル)ホスフ
ィネートを得る。b.p.130℃〜135℃/0.02mbar、31P=
+45.3ppm(CDC3)。
ル)ホスホニトを3.9gのメチルビニルケトンの攪拌さ
れた溶液に、窒素雰囲気化室温にて滴下する。次に、混
合物を50℃にて1時間加熱する。次に、この混合物を
室温に放冷し、そして25mのクロロホルムを加え次
に10mの水を加え、この混合物を0.5時間激して攪
拌する。次に有機相を分離し、硫酸マグネシウムで乾燥
しそして減圧下で濃縮し、そして粗生成物を減圧蒸留し
てエチル3−オキソブチル(ジエトキシメチル)ホスフ
ィネートを得る。b.p.130℃〜135℃/0.02mbar、31P=
+45.3ppm(CDC3)。
100mのメタノール中8.0gのエチル3−オキソブチル
(ジエトキシメチル)ホスフィネートの溶液に、22.8g
の酢酸アンモニウム及び1.3gのナトリウムシアノボロ
ヒドレートを加える。この混合物を窒素雰囲気下で室温
にて2.5時間攪拌し、そして次に一夜放置する。次に、
必要量の希塩酸により混合物をpH2に酸性化し、そして
メタノールを減圧蒸発せしめる。粗生成物を25mの
水に溶解し、20mのジエチルエーテルで2回洗浄
し、そして次に水相を水酸化カリウムによりpH12にア
ルカリ性化する。次に、溶液を塩化ナトリウムで飽和し
そして25mずつのジクロロメタンで3回抽出する。
有機相を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過しそして減圧
蒸発せしめ、そして粗生成物を蒸発してエチル3−アミ
ノブチル(ジエトキシメチル)ホスフィネートを得る。
b.p.150℃/0.01mbar、31P=+46.1ppm(CDC
3)。
(ジエトキシメチル)ホスフィネートの溶液に、22.8g
の酢酸アンモニウム及び1.3gのナトリウムシアノボロ
ヒドレートを加える。この混合物を窒素雰囲気下で室温
にて2.5時間攪拌し、そして次に一夜放置する。次に、
必要量の希塩酸により混合物をpH2に酸性化し、そして
メタノールを減圧蒸発せしめる。粗生成物を25mの
水に溶解し、20mのジエチルエーテルで2回洗浄
し、そして次に水相を水酸化カリウムによりpH12にア
ルカリ性化する。次に、溶液を塩化ナトリウムで飽和し
そして25mずつのジクロロメタンで3回抽出する。
有機相を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過しそして減圧
蒸発せしめ、そして粗生成物を蒸発してエチル3−アミ
ノブチル(ジエトキシメチル)ホスフィネートを得る。
b.p.150℃/0.01mbar、31P=+46.1ppm(CDC
3)。
例6. a)200mの36%水性塩酸中17.9gのエチル3−ア
ミノ−1−(4−クロロフェニル)プロピル(ジエトキ
シメチル)ホスフィネートの溶液を6時間還流加熱す
る。次に、反応混合物を室温に放冷し、減圧下で濃縮
し、そして50mの水と共に減圧下で共蒸発する。次
に、粗生成物を50mの水に溶解し、20mのジエ
チルエーテルで2回洗浄し、そして次に水相を分離し、
そして減圧蒸発せしめる。次に、粗生成物を50mの
エタノールに溶解し、そして5mのプロピレンオキシ
ドを滴加する。沈澱した固体を濾過により集め、そして
乾燥して3−アミノ−1−(4−クロロフェニル)プロ
ピル亜ホスホン酸を得る。m.p 210℃〜220℃、31P=+
29.6ppm(D2O)。
ミノ−1−(4−クロロフェニル)プロピル(ジエトキ
シメチル)ホスフィネートの溶液を6時間還流加熱す
る。次に、反応混合物を室温に放冷し、減圧下で濃縮
し、そして50mの水と共に減圧下で共蒸発する。次
に、粗生成物を50mの水に溶解し、20mのジエ
チルエーテルで2回洗浄し、そして次に水相を分離し、
そして減圧蒸発せしめる。次に、粗生成物を50mの
エタノールに溶解し、そして5mのプロピレンオキシ
ドを滴加する。沈澱した固体を濾過により集め、そして
乾燥して3−アミノ−1−(4−クロロフェニル)プロ
ピル亜ホスホン酸を得る。m.p 210℃〜220℃、31P=+
29.6ppm(D2O)。
b)出発物質は次のようにして製造することができる。
100mのエタノール中25.8gのエチル−(ジエトキシ
メチル)ホスホニト及び18.0gの4−クロロシナモニト
リルの溶液を30mのエタノール中1.2gのナトリウ
ムヒドリド(油中50%分散体)の攪拌された混合物
に、窒素雰囲気下0℃にて加える。この反応混合物を室
温に放置加温し、そして4時間攪拌する。1mの氷酢
酸を加え、そしてこの混合物を減圧下で遠心分離する。
得られる粗生成物を50mの酢酸エチルに溶解し、2
5mの水で2回洗浄し、そして有機抽出物を硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、そして次に減圧濃縮する。粗生成物
を減圧蒸留してエチル1−(4−クロロフェニル)−2
−シアノエチル(ジエトキシメチル)ホスフィネートを
得る。b.p.180℃〜200℃/0.02mbar、31P=+37.9及び
+37.8ppm(CDC3)。
メチル)ホスホニト及び18.0gの4−クロロシナモニト
リルの溶液を30mのエタノール中1.2gのナトリウ
ムヒドリド(油中50%分散体)の攪拌された混合物
に、窒素雰囲気下0℃にて加える。この反応混合物を室
温に放置加温し、そして4時間攪拌する。1mの氷酢
酸を加え、そしてこの混合物を減圧下で遠心分離する。
得られる粗生成物を50mの酢酸エチルに溶解し、2
5mの水で2回洗浄し、そして有機抽出物を硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、そして次に減圧濃縮する。粗生成物
を減圧蒸留してエチル1−(4−クロロフェニル)−2
−シアノエチル(ジエトキシメチル)ホスフィネートを
得る。b.p.180℃〜200℃/0.02mbar、31P=+37.9及び
+37.8ppm(CDC3)。
85mのエタノール中20gのエチル1−(4−クロ
ロフェニル)−2−シアノエチル(ジエトキシメチル)
ホスフィネートの溶液をエタノール中8%アンモニア溶
液131gに加える。これに、8.5mのラネーニッケルを
加え、そして生ずる混合物を、理論量を水素が取り込ま
れるまで1barにて水素化する。この混合物を濾過し、
濾液を減圧濃縮し、そして粗生成物を減圧蒸留してエチ
ル3−アミノ−1−(4−クロロフェニル)プロピル
(ジエトキシメチル)ホスフィネートを得る。b.p.190
℃/0.02mbar、31P=+41.5及び41.3ppm(CDC
3)。
ロフェニル)−2−シアノエチル(ジエトキシメチル)
ホスフィネートの溶液をエタノール中8%アンモニア溶
液131gに加える。これに、8.5mのラネーニッケルを
加え、そして生ずる混合物を、理論量を水素が取り込ま
れるまで1barにて水素化する。この混合物を濾過し、
濾液を減圧濃縮し、そして粗生成物を減圧蒸留してエチ
ル3−アミノ−1−(4−クロロフェニル)プロピル
(ジエトキシメチル)ホスフィネートを得る。b.p.190
℃/0.02mbar、31P=+41.5及び41.3ppm(CDC
3)。
例7. a)100mの36%水性塩酸中10.5gのエチル3−ア
ミノ−3−(4−クロロフェニル)プロピル(ジエトキ
シメチル)ホスフィネートの溶液を2時間還流する。次
に、反応混合物を室温に放冷し、減圧濃縮し、そして2
5mの水と共に減圧下で2回共蒸発せしめる。次に、
粗生成物を20mの水に溶解し、20mのジエチル
エーテルで2回洗浄し、そして水性層を分離し、そして
減圧蒸発せしめる。粗生成物を50mのエタノールに
溶解し、そして5mのプロピレンオキシドを滴加す
る。沈澱した固体を濾過により集め、そして3−アミノ
−3−(4−クロロフェニル)プロピル亜ホスホン酸を
得る。m.p.284℃〜286℃、31P=+27.2ppm(D2O)。
ミノ−3−(4−クロロフェニル)プロピル(ジエトキ
シメチル)ホスフィネートの溶液を2時間還流する。次
に、反応混合物を室温に放冷し、減圧濃縮し、そして2
5mの水と共に減圧下で2回共蒸発せしめる。次に、
粗生成物を20mの水に溶解し、20mのジエチル
エーテルで2回洗浄し、そして水性層を分離し、そして
減圧蒸発せしめる。粗生成物を50mのエタノールに
溶解し、そして5mのプロピレンオキシドを滴加す
る。沈澱した固体を濾過により集め、そして3−アミノ
−3−(4−クロロフェニル)プロピル亜ホスホン酸を
得る。m.p.284℃〜286℃、31P=+27.2ppm(D2O)。
b)出発物質は次のようにして製造することができる。
17.7gのエチル−トリメチルシリル(ジエトキシメチ
ル)ホスホニトを11.7gの4−クロロフェニルビニルケ
トンの攪拌された溶液に室温にて滴下する。反応混合物
を1時間攪拌し、25mのクロロホルムを加え次に1
0mの水を加え、そしてこの混合物を0.5時間、激し
て攪拌する。次に、有機層を分離し、硫酸マグネシウム
で乾燥し、そして減圧下で濃縮してエチル2−4−クロ
ロベンゾイル−エチル(ジエトキシメチル)ホスフィネ
ートを油状物として得る。31P=+45.5ppm(CDC
3)。
ル)ホスホニトを11.7gの4−クロロフェニルビニルケ
トンの攪拌された溶液に室温にて滴下する。反応混合物
を1時間攪拌し、25mのクロロホルムを加え次に1
0mの水を加え、そしてこの混合物を0.5時間、激し
て攪拌する。次に、有機層を分離し、硫酸マグネシウム
で乾燥し、そして減圧下で濃縮してエチル2−4−クロ
ロベンゾイル−エチル(ジエトキシメチル)ホスフィネ
ートを油状物として得る。31P=+45.5ppm(CDC
3)。
200mのメタノール中25.4gのエチル2−(4−クロ
ロベンゾイル)エチル(ジエトキシメチル)ホスフィネ
ートの溶液に、52gの酢酸アンモニウム及び4.23gの
ナトリウムシアノボロヒドレートを加える。この混合物
を窒素雰囲気下室温にて3日間攪拌する。次に、この混
合物を、必要量の希塩酸によりpH2に酸性化し、そして
メタノールを減圧下で蒸発せしめる。粗生成物を25m
の水に溶解し、20mのジエチルエーテルで2回洗
浄し、そして次に水層を水酸化カリウムでpH12にす
る。次に、溶液を塩化ナトリウムで飽和し、そして25
mずつのジクロロメタンで抽出する。有機相を硫酸マ
グネシウムで乾燥し、そして次に減圧濃縮してエチル3
−アミノ−3−(4−クロロフェニル)プロピル(ジエ
トキシメチル)ホスフィネートを粘稠油状物として得
る。31P=+45.9ppm(CDC3)。
ロベンゾイル)エチル(ジエトキシメチル)ホスフィネ
ートの溶液に、52gの酢酸アンモニウム及び4.23gの
ナトリウムシアノボロヒドレートを加える。この混合物
を窒素雰囲気下室温にて3日間攪拌する。次に、この混
合物を、必要量の希塩酸によりpH2に酸性化し、そして
メタノールを減圧下で蒸発せしめる。粗生成物を25m
の水に溶解し、20mのジエチルエーテルで2回洗
浄し、そして次に水層を水酸化カリウムでpH12にす
る。次に、溶液を塩化ナトリウムで飽和し、そして25
mずつのジクロロメタンで抽出する。有機相を硫酸マ
グネシウムで乾燥し、そして次に減圧濃縮してエチル3
−アミノ−3−(4−クロロフェニル)プロピル(ジエ
トキシメチル)ホスフィネートを粘稠油状物として得
る。31P=+45.9ppm(CDC3)。
例8. a)60mの36%水性塩酸中5.0gのエチル3−ア
ミノ−2−(4−クロロフェニル)プロピル(ジエトキ
シメチル)ホスフィネートの溶液を、1時間還流加熱す
る。次に、この反応混合物を室温に冷却し、減圧下で濃
縮し、そして20mの水と共に減圧下で2回共蒸発せ
しめる。粗生成物を20mの水に溶液し、20mの
ジエチルエーテルで2回洗浄し、そして次に水層を分離
しそして減圧下で蒸発せしめる。粗生成物を50mの
エタノールに溶解し、そして5mのプロピレンオキシ
ドを滴加する。沈澱した固形物を濾過により集め、そし
て乾燥して3−アミノ−2−(4−クロロフェニル)プ
ロピル亜ホスホン酸(1/3 MH2O)を得る。m.p.235℃〜2
40℃、31P=+23.9ppm(D2O)。
ミノ−2−(4−クロロフェニル)プロピル(ジエトキ
シメチル)ホスフィネートの溶液を、1時間還流加熱す
る。次に、この反応混合物を室温に冷却し、減圧下で濃
縮し、そして20mの水と共に減圧下で2回共蒸発せ
しめる。粗生成物を20mの水に溶液し、20mの
ジエチルエーテルで2回洗浄し、そして次に水層を分離
しそして減圧下で蒸発せしめる。粗生成物を50mの
エタノールに溶解し、そして5mのプロピレンオキシ
ドを滴加する。沈澱した固形物を濾過により集め、そし
て乾燥して3−アミノ−2−(4−クロロフェニル)プ
ロピル亜ホスホン酸(1/3 MH2O)を得る。m.p.235℃〜2
40℃、31P=+23.9ppm(D2O)。
b)出発物質は次のようにして製造することができる。
40mのテトラヒドロフラン中1.16gのジイソプロピ
ルアミンの溶液にヘキサン中1.6M n−ブチルリチウ
ム溶液7.2mを加える。次に、この溶液をこの温度に
て10分間攪拌し、次に20mのテトラヒドロフラン
中2.0gのエチル−(ジエトキシメチル)メチルホスフ
ィネートの溶液を加える。次にこの混合物を−78℃に
て1時間攪拌し、この後20mのテトラビドロフラン
中1.75gの4−クロロ−β−ニトロスチレンの溶液を導
入する。次にこの混合物を室温に放置加温し、40m
の飽和塩化アンモニウム溶液を加える。次に水層を25
mずつのジエチルエーテルで2回抽出し、そして有機
抽出液を一緒にし、そして硫酸マグネシウムにより乾燥
する。次に溶剤を減圧濃縮し、そして粗生成物を、シリ
カゲル上で、溶離液として酢酸エチルを用いてクロマト
グラフ処理しエチル2−(4−クロロフェニル)−3−
ニトロプロピル(ジエトキシメチル)ホスフィネートを
粘稠油状物として得る。32P=+41.8ppm(CDC
3)。
ルアミンの溶液にヘキサン中1.6M n−ブチルリチウ
ム溶液7.2mを加える。次に、この溶液をこの温度に
て10分間攪拌し、次に20mのテトラヒドロフラン
中2.0gのエチル−(ジエトキシメチル)メチルホスフ
ィネートの溶液を加える。次にこの混合物を−78℃に
て1時間攪拌し、この後20mのテトラビドロフラン
中1.75gの4−クロロ−β−ニトロスチレンの溶液を導
入する。次にこの混合物を室温に放置加温し、40m
の飽和塩化アンモニウム溶液を加える。次に水層を25
mずつのジエチルエーテルで2回抽出し、そして有機
抽出液を一緒にし、そして硫酸マグネシウムにより乾燥
する。次に溶剤を減圧濃縮し、そして粗生成物を、シリ
カゲル上で、溶離液として酢酸エチルを用いてクロマト
グラフ処理しエチル2−(4−クロロフェニル)−3−
ニトロプロピル(ジエトキシメチル)ホスフィネートを
粘稠油状物として得る。32P=+41.8ppm(CDC
3)。
70mのエタノール中8.0gのエチル2−(4−クロ
ロフェニル)−3−ニトロプロピル(ジエトキシメチ
ル)ホスフィネートの溶液を、エタノール中8%アンモ
ニア溶液64gに加える。これに、8mのラネーニッ
ケルを加え、生ずる混合物を、理論量の水素が取り込ま
れるまで1barにて水素化する。次に混合物を濾過し、
濾液を減圧濃縮してエチル3−アミノ−2−(4−クロ
ロフェニル)プロピル(ジエトキシメチル)ホスフィネ
ートを粘稠油状物として得る。32P=+44.2及び44.1pp
m(CDC3)。
ロフェニル)−3−ニトロプロピル(ジエトキシメチ
ル)ホスフィネートの溶液を、エタノール中8%アンモ
ニア溶液64gに加える。これに、8mのラネーニッ
ケルを加え、生ずる混合物を、理論量の水素が取り込ま
れるまで1barにて水素化する。次に混合物を濾過し、
濾液を減圧濃縮してエチル3−アミノ−2−(4−クロ
ロフェニル)プロピル(ジエトキシメチル)ホスフィネ
ートを粘稠油状物として得る。32P=+44.2及び44.1pp
m(CDC3)。
例9. 30mの36%水性塩酸中1.4gのエチル3−アミノ
−2−シクロヘキシルプロピル(ジエトキシメチル)ホ
スフィネートの溶液を1時間還流加熱する。次に、反応
混合物を室温に放冷し、減圧濃縮し、そして10mの
水と共に減圧下で2回共蒸発せしめる。次に、粗生成物
を20mの水に溶解し、20mのジエチルエーテル
で2回洗浄し、そして次に水相を分離しそして減圧蒸発
せしめる。粗生成物を50mの乾燥エタノールに溶解
し、そして5mのプロピレンオキシドを添加する。沈
澱した固体を濾過により集め、そして乾燥して3−アミ
ノ−2−シクロヘキシルプロピル亜ホスホン酸を得る。
m.p.235℃〜240℃、31P=28.2ppm(D2O)。
−2−シクロヘキシルプロピル(ジエトキシメチル)ホ
スフィネートの溶液を1時間還流加熱する。次に、反応
混合物を室温に放冷し、減圧濃縮し、そして10mの
水と共に減圧下で2回共蒸発せしめる。次に、粗生成物
を20mの水に溶解し、20mのジエチルエーテル
で2回洗浄し、そして次に水相を分離しそして減圧蒸発
せしめる。粗生成物を50mの乾燥エタノールに溶解
し、そして5mのプロピレンオキシドを添加する。沈
澱した固体を濾過により集め、そして乾燥して3−アミ
ノ−2−シクロヘキシルプロピル亜ホスホン酸を得る。
m.p.235℃〜240℃、31P=28.2ppm(D2O)。
b)40mのテトラヒドロフラン中5.8gのジイソプ
ロピルアミンの溶液に、窒素雰囲気下−78℃にてヘキ
サン中1.6M n−ブチルリチウム溶液35.7mを加え
る。次にこの溶液をこの温度にて10分間攪拌し、この
後20mのテトラヒドロフラン中10.0gのエチル−
(ジエトキシメチル)メチルホスフィネートの溶液を加
える。次に、この混合物を−78℃にて一時間攪拌し、
この後20mのテトラビドロフラン中8.5gのβ−テ
トロスチレンの溶液を導入する。次にこの混合物を室温
に放置加熱し、40mの飽和塩化アンモニウム溶液を
加える。次に水層を25mずつのジエチルエーテルで
抽出し、そして有機抽出液を一緒にし、そして硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。次に、溶剤を減圧蒸発せしめ、そ
して粗生成物をシリカゲル上で溶離剤として酢酸エチル
を用いてクロマトグラフ処理し、エチル3−ニトロ−2
−フェニルプロピル(ジエトキシメチル)ホスフィネー
トを粘稠油状物として得る。31P=+42.3及び+42.0pp
m(CDC3)。
ロピルアミンの溶液に、窒素雰囲気下−78℃にてヘキ
サン中1.6M n−ブチルリチウム溶液35.7mを加え
る。次にこの溶液をこの温度にて10分間攪拌し、この
後20mのテトラヒドロフラン中10.0gのエチル−
(ジエトキシメチル)メチルホスフィネートの溶液を加
える。次に、この混合物を−78℃にて一時間攪拌し、
この後20mのテトラビドロフラン中8.5gのβ−テ
トロスチレンの溶液を導入する。次にこの混合物を室温
に放置加熱し、40mの飽和塩化アンモニウム溶液を
加える。次に水層を25mずつのジエチルエーテルで
抽出し、そして有機抽出液を一緒にし、そして硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。次に、溶剤を減圧蒸発せしめ、そ
して粗生成物をシリカゲル上で溶離剤として酢酸エチル
を用いてクロマトグラフ処理し、エチル3−ニトロ−2
−フェニルプロピル(ジエトキシメチル)ホスフィネー
トを粘稠油状物として得る。31P=+42.3及び+42.0pp
m(CDC3)。
25mのエタノール中1.0gのエチル3−ニトロ−2
−フェニルプロピル(ジエトキシメチル)ホスフィネー
トの溶液を、エタノール中8%アンモニア溶液25gに
加える。これに、0.5mのラネーニッケルを加え、そ
して生ずる混合物を、理論量の水素が取り込まれるまで
1barにて水素化する。次に、混合物を濾過し、そして
濾液を減圧蒸発せしめてエチル3−アミノ−2−フェニ
ルプロピル(ジエトキシメチル)ホスフィネートを粘稠
油状物として得る。31P=+44.4ppm(CDC3)。
−フェニルプロピル(ジエトキシメチル)ホスフィネー
トの溶液を、エタノール中8%アンモニア溶液25gに
加える。これに、0.5mのラネーニッケルを加え、そ
して生ずる混合物を、理論量の水素が取り込まれるまで
1barにて水素化する。次に、混合物を濾過し、そして
濾液を減圧蒸発せしめてエチル3−アミノ−2−フェニ
ルプロピル(ジエトキシメチル)ホスフィネートを粘稠
油状物として得る。31P=+44.4ppm(CDC3)。
25mのtert−ブタノール中3.45gのエチル3−アミ
ノ−2−フェニルプロピル(ジエトキシメチル)ホスフ
ィネートの溶液を、25mのtert−ブタノールに懸濁
されたアルミニウム中5%ロジウム2.0gに加える。生
ずる混合物を150barの雰囲気中100℃の温度にて20時
間水素化する。次にこの混合物を濾過し、そして濾液を
減圧濃縮する。粗生成物をシリカゲル上で溶離剤として
エタノールを使用してクロマトグラフ処理し、エチル3
−アミノ−2−シクロヘキシルプロピル(ジエトキシメ
チル)ホスフィネートを粘稠油状物として得る。31P=
47.1及び+47.0ppm(CDC3)。
ノ−2−フェニルプロピル(ジエトキシメチル)ホスフ
ィネートの溶液を、25mのtert−ブタノールに懸濁
されたアルミニウム中5%ロジウム2.0gに加える。生
ずる混合物を150barの雰囲気中100℃の温度にて20時
間水素化する。次にこの混合物を濾過し、そして濾液を
減圧濃縮する。粗生成物をシリカゲル上で溶離剤として
エタノールを使用してクロマトグラフ処理し、エチル3
−アミノ−2−シクロヘキシルプロピル(ジエトキシメ
チル)ホスフィネートを粘稠油状物として得る。31P=
47.1及び+47.0ppm(CDC3)。
例10. a)35mの36%水性塩酸中3.5gのエチル3−ア
ミノ−2−ベンジルプロピル(ジエトキシメチル)ホス
フィネートの溶液を3時間還流加熱する。次に、この反
応混合物を室温に冷却し、減圧下で濃縮し、そして20
mの水と共に減圧下で2回共蒸発せしめる。粗生成物
を20mの水に溶解し、20mのジエチルエーテル
で2回洗浄し、そして次に水層を分離し、そして減圧蒸
発せしめる。粗生成物を50mのエタノールに溶解
し、そして5mのプロピレンオキシドを滴加する。沈
澱した固形物を濾過により集め、そして乾燥して3−ア
ミノ−2−ベンジルプロピル亜ホスホン酸を得る。m.p.
205℃〜212℃、31P=+26.1ppm(D2O)。
ミノ−2−ベンジルプロピル(ジエトキシメチル)ホス
フィネートの溶液を3時間還流加熱する。次に、この反
応混合物を室温に冷却し、減圧下で濃縮し、そして20
mの水と共に減圧下で2回共蒸発せしめる。粗生成物
を20mの水に溶解し、20mのジエチルエーテル
で2回洗浄し、そして次に水層を分離し、そして減圧蒸
発せしめる。粗生成物を50mのエタノールに溶解
し、そして5mのプロピレンオキシドを滴加する。沈
澱した固形物を濾過により集め、そして乾燥して3−ア
ミノ−2−ベンジルプロピル亜ホスホン酸を得る。m.p.
205℃〜212℃、31P=+26.1ppm(D2O)。
b)出発物質は次のようにして製造することができる。
40mのテトラヒドロフラン中0.97gのジイソプロピ
ルアミンの溶液に、−78℃にて窒素雰囲気下でヘキサ
ン中1.6M n−ブチルリチウムの溶液6.0mを加え
る。次に、この溶液をこの温度で10分間攪拌し、この
後10mのテトラヒドロフラン中2.0gのエチル2−
シアノエチル(ジエトキシメチル)ホスフィネートの溶
液を加える。次に、この混合物を−78℃にて一時間攪
拌し、この後10mのテトラビドロフラン中1.4gの
ベンジルブロミドの溶液を導入する。次にこの混合物を
室温に放置加温し、40mの飽和塩化アンモニウムを
加える。次に、水層を25mずつのジエチルエーテル
で2回抽出し、そして有機抽出液を一緒にし、そして硫
酸マグネシウムで乾燥する。次に、溶剤を減圧下で蒸発
せしめ、そして粗生成物をシリカゲル上で溶離剤として
酢酸エチルを用いてクロマトグラフ処理してエチル2−
ベンジル−2−シアノエチル(ジエトキシメチル)ホス
フィネートを粘稠油状物として得る。31P=+40.7及び
+40.5ppm(CDC3)。
ルアミンの溶液に、−78℃にて窒素雰囲気下でヘキサ
ン中1.6M n−ブチルリチウムの溶液6.0mを加え
る。次に、この溶液をこの温度で10分間攪拌し、この
後10mのテトラヒドロフラン中2.0gのエチル2−
シアノエチル(ジエトキシメチル)ホスフィネートの溶
液を加える。次に、この混合物を−78℃にて一時間攪
拌し、この後10mのテトラビドロフラン中1.4gの
ベンジルブロミドの溶液を導入する。次にこの混合物を
室温に放置加温し、40mの飽和塩化アンモニウムを
加える。次に、水層を25mずつのジエチルエーテル
で2回抽出し、そして有機抽出液を一緒にし、そして硫
酸マグネシウムで乾燥する。次に、溶剤を減圧下で蒸発
せしめ、そして粗生成物をシリカゲル上で溶離剤として
酢酸エチルを用いてクロマトグラフ処理してエチル2−
ベンジル−2−シアノエチル(ジエトキシメチル)ホス
フィネートを粘稠油状物として得る。31P=+40.7及び
+40.5ppm(CDC3)。
50mのエタノール中3.5gのエチル2−ベンジル−
2−シアノエチル(ジエトキシメチル)ホスフィネート
の溶液を、エタノール中8%アンモニア溶液25gに加
える。これに2mのラネーニッケルを加え、そして生
ずる生成物を、理論量の水素が取り込まれるまで1bar
にて水素化する。次に、この混合物を濾過し、そして濾
液を減圧濃縮してエチル3−アミノ−2−ベンジルプロ
ピル(ジエトキシメチル)ホスフィネートを粘稠油状物
として得る。31P=+46.3ppm(CDC3)。
2−シアノエチル(ジエトキシメチル)ホスフィネート
の溶液を、エタノール中8%アンモニア溶液25gに加
える。これに2mのラネーニッケルを加え、そして生
ずる生成物を、理論量の水素が取り込まれるまで1bar
にて水素化する。次に、この混合物を濾過し、そして濾
液を減圧濃縮してエチル3−アミノ−2−ベンジルプロ
ピル(ジエトキシメチル)ホスフィネートを粘稠油状物
として得る。31P=+46.3ppm(CDC3)。
例11. 60mの36%水性塩酸中5.0gのエチル3−アミノ
−2−(4−クロロフェニル)プロピル(ジエトキシメ
チル)ホスフィネートの溶液を1時間還流加熱する。次
に、この反応混合物を室温に冷却し、減圧濃縮し、そし
て20mの水と共に減圧下で3回共蒸発せしめ3−ア
ミノ−2−(4−クロロフェニル)プロピル亜ホスホン
酸塩酸塩を吸湿性固体として得る。31P=+30.1ppm(D2
O)。
−2−(4−クロロフェニル)プロピル(ジエトキシメ
チル)ホスフィネートの溶液を1時間還流加熱する。次
に、この反応混合物を室温に冷却し、減圧濃縮し、そし
て20mの水と共に減圧下で3回共蒸発せしめ3−ア
ミノ−2−(4−クロロフェニル)プロピル亜ホスホン
酸塩酸塩を吸湿性固体として得る。31P=+30.1ppm(D2
O)。
例12. 10mの0.1M水酸化ナトリウム溶液中0.25の3−ア
ミノ−2−(4−クロロフェニル)プロピル亜ホスホン
酸の溶液を室温にて1時間攪拌し、そして次に減圧下で
濃縮して吸湿性固体としてナトリウム3−アミノ−2−
(4−クロロフェニル)プロピルホスフィネートを得
る。31P=+26.0ppm(D2O)。
ミノ−2−(4−クロロフェニル)プロピル亜ホスホン
酸の溶液を室温にて1時間攪拌し、そして次に減圧下で
濃縮して吸湿性固体としてナトリウム3−アミノ−2−
(4−クロロフェニル)プロピルホスフィネートを得
る。31P=+26.0ppm(D2O)。
例13. a)40mの36%水性塩酸中4.0gのエチル3−ア
ミノ−2−フェニルプロピル(ジエトキシメチル)ホス
フィネートの溶液を2時間還流加熱する。次に、反応混
合物を室温に放冷し、減圧下で濃縮し、そして20m
の水と共に減圧下で2回共蒸発せしめる。粗生成物を2
0mの水に溶解し、20mのジエチルエーテルで2
回洗浄し、そして水層を水離し、そして減圧下で蒸発せ
しめる。粗生成物を50mのエタノールに溶解し、そ
して5mのプロピレンオキシドを滴加する。沈澱した
固体を濾過により集め、そして乾燥して3−アミノ−2
−フェニルプロピル亜ホスホン酸を得る。m.p.228℃〜2
35℃、31P=+24.3ppm(D2O)。
ミノ−2−フェニルプロピル(ジエトキシメチル)ホス
フィネートの溶液を2時間還流加熱する。次に、反応混
合物を室温に放冷し、減圧下で濃縮し、そして20m
の水と共に減圧下で2回共蒸発せしめる。粗生成物を2
0mの水に溶解し、20mのジエチルエーテルで2
回洗浄し、そして水層を水離し、そして減圧下で蒸発せ
しめる。粗生成物を50mのエタノールに溶解し、そ
して5mのプロピレンオキシドを滴加する。沈澱した
固体を濾過により集め、そして乾燥して3−アミノ−2
−フェニルプロピル亜ホスホン酸を得る。m.p.228℃〜2
35℃、31P=+24.3ppm(D2O)。
b)出発物質は次のようにして製造することができる。
40mのテトラヒドロフラン中5.8gのジイソプロピ
ルアミンの溶液に、−78℃窒素雰囲気下で、ヘキサン
中1.6M n−ブチルリチウム溶液35.7mを加える。
次に、この溶液をこの温度にて10分間攪拌し、この後
20mのテトラヒドロフラン中10.0gのエチル−(ジ
エトキシメチル)メチルホスフィネートの溶液を加え
る。次にこの混合物を−78℃にて1時間攪拌し、この
後20mのテトラビドロフラン中8.5gのβ−ニトロ
スチレンの溶液を導入する。次に、この混合物を室温に
放置加温して40m飽和塩化アンモニウム溶液を加え
る。次に水層を25mずつのジエチルエーテルで2回
抽出し、そして有機抽出液を一緒にしそして硫酸マグネ
シウムで乾燥する。次に、溶剤を減圧下で蒸発せしめ、
そして粗生成物をシリカゲル上で溶離剤として酢酸エチ
ルを用いてクロマトグラフ処理してエチル3−ニトロ−
2−フェニルプロピル(ジエトキシメチル)ホスフィネ
ートを粘稠油状物として得る。31P=+42.4及び42.0pp
m(CDC3)。
ルアミンの溶液に、−78℃窒素雰囲気下で、ヘキサン
中1.6M n−ブチルリチウム溶液35.7mを加える。
次に、この溶液をこの温度にて10分間攪拌し、この後
20mのテトラヒドロフラン中10.0gのエチル−(ジ
エトキシメチル)メチルホスフィネートの溶液を加え
る。次にこの混合物を−78℃にて1時間攪拌し、この
後20mのテトラビドロフラン中8.5gのβ−ニトロ
スチレンの溶液を導入する。次に、この混合物を室温に
放置加温して40m飽和塩化アンモニウム溶液を加え
る。次に水層を25mずつのジエチルエーテルで2回
抽出し、そして有機抽出液を一緒にしそして硫酸マグネ
シウムで乾燥する。次に、溶剤を減圧下で蒸発せしめ、
そして粗生成物をシリカゲル上で溶離剤として酢酸エチ
ルを用いてクロマトグラフ処理してエチル3−ニトロ−
2−フェニルプロピル(ジエトキシメチル)ホスフィネ
ートを粘稠油状物として得る。31P=+42.4及び42.0pp
m(CDC3)。
60mのエタノール中5.7gのエチル3−ニトロ−2
−フェニルプロピル(ジエトキシメチル)ホスフィネー
トの溶液を、エタノール中8%アンモニア溶液50gに
加える。これに、9mのラネーニッケルを加え、生ず
る混合物を、理論量の水素が取り込まれるまで1barに
て水素化する。次に、この混合物を濾過し、濾液を減圧
濃縮してエチル3−アミノ−2−フェニルプロピル(ジ
エトキシメチル)ホスフィネートを粘稠油状物として得
る。31P=+44.4ppm(CDC3)。
−フェニルプロピル(ジエトキシメチル)ホスフィネー
トの溶液を、エタノール中8%アンモニア溶液50gに
加える。これに、9mのラネーニッケルを加え、生ず
る混合物を、理論量の水素が取り込まれるまで1barに
て水素化する。次に、この混合物を濾過し、濾液を減圧
濃縮してエチル3−アミノ−2−フェニルプロピル(ジ
エトキシメチル)ホスフィネートを粘稠油状物として得
る。31P=+44.4ppm(CDC3)。
例14. a)40mの36%水素塩酸中4.4gのエチル3−ア
ミノ−2−(4−フルオロフェニル)プロピル(ジエト
キシメチル)ホスフィネートの溶液を2時間還流加熱す
る。次に、反応混合物を室温に放冷し、減圧濃縮し、そ
して20mの水と共に減圧下で2回共蒸発せしめる。
粗生成物を20mの水に溶解し、20mのジエチル
エーテルで2回洗浄し、そして水性層を分離し、そして
減圧蒸発せしめる。粗生成物を50mのエタノールに
溶解し、そして5mのプロピレンオキシドを滴加す
る。沈澱した固体を濾過により集め、そして乾燥して3
−アミノ−2−(4−フロオロフェニル)プロピル亜ホ
スホン酸(1/3 M H2O)を得る。m.p.225℃〜235℃、31
P=+24.1ppm(D2O)。
ミノ−2−(4−フルオロフェニル)プロピル(ジエト
キシメチル)ホスフィネートの溶液を2時間還流加熱す
る。次に、反応混合物を室温に放冷し、減圧濃縮し、そ
して20mの水と共に減圧下で2回共蒸発せしめる。
粗生成物を20mの水に溶解し、20mのジエチル
エーテルで2回洗浄し、そして水性層を分離し、そして
減圧蒸発せしめる。粗生成物を50mのエタノールに
溶解し、そして5mのプロピレンオキシドを滴加す
る。沈澱した固体を濾過により集め、そして乾燥して3
−アミノ−2−(4−フロオロフェニル)プロピル亜ホ
スホン酸(1/3 M H2O)を得る。m.p.225℃〜235℃、31
P=+24.1ppm(D2O)。
b)出発物質は次のようにして製造することができる。
40mのテトラヒドロフラン中5.8gのジイソプロピ
ルアミンの溶液を−78℃にて窒素雰囲気下で、ヘキサ
ン中1.6M n−ブチルリチウム溶液35.7mを加え
る。次に、この溶液をこの温度にて10分間攪拌し、こ
の後20mのテトラヒドロフラン中10.0gのエチル−
(ジエトキシメチル)メチルホスフィネートの溶液を加
える。次に、この混合物を−78℃にて1時間攪拌し、
この後20mのテトラビドロフラン中7.96gの4−フ
ルオロ−β−ニトロスチレンの溶液を導入する。次に、
この混合物を室温に放置加熱し、40mの飽和塩加ア
ンモニウム溶液を加える。次に、水層を25mずつの
ジエチルエーテルで2回抽出しそして有機抽出液を一緒
にし、そして硫酸マグネシウムで乾燥する。次に溶剤を
減圧蒸発せしめ、そして粗生成物をシリカゲル上で溶離
剤として酢酸エチルを用いてクロマトグラフ処理してエ
チル2−(4−フロオロフェニル)−3−ニトロプロピ
ル(ジエトキシメチル)ホスフィネートを粘稠油状物と
して得る。31P=+42.3及び+41.9ppm(CDC
3)。
ルアミンの溶液を−78℃にて窒素雰囲気下で、ヘキサ
ン中1.6M n−ブチルリチウム溶液35.7mを加え
る。次に、この溶液をこの温度にて10分間攪拌し、こ
の後20mのテトラヒドロフラン中10.0gのエチル−
(ジエトキシメチル)メチルホスフィネートの溶液を加
える。次に、この混合物を−78℃にて1時間攪拌し、
この後20mのテトラビドロフラン中7.96gの4−フ
ルオロ−β−ニトロスチレンの溶液を導入する。次に、
この混合物を室温に放置加熱し、40mの飽和塩加ア
ンモニウム溶液を加える。次に、水層を25mずつの
ジエチルエーテルで2回抽出しそして有機抽出液を一緒
にし、そして硫酸マグネシウムで乾燥する。次に溶剤を
減圧蒸発せしめ、そして粗生成物をシリカゲル上で溶離
剤として酢酸エチルを用いてクロマトグラフ処理してエ
チル2−(4−フロオロフェニル)−3−ニトロプロピ
ル(ジエトキシメチル)ホスフィネートを粘稠油状物と
して得る。31P=+42.3及び+41.9ppm(CDC
3)。
50mのエタノール中5.0gのエチル2−(4−フル
オルフェニル)−3−ニトロプロピル(ジエトキシメチ
ル)ホスフィネートの溶液を、エタノール中8%アンモ
ニア溶液40gに加える。これに、7mのラネーニッ
ケルを加え、そして生ずる混合物を、理論量の水素が取
り込まれるまで水素化する。次に、この混合物を濾過
し、そして濾液を減圧濃縮してエチル3−アミノ−2−
(4−フルオロフェニル)プロピル(ジエトキシメチ
ル)ホスフィネートを粘稠油状物として得る。31P=+
44.4ppm(CDC3)。
オルフェニル)−3−ニトロプロピル(ジエトキシメチ
ル)ホスフィネートの溶液を、エタノール中8%アンモ
ニア溶液40gに加える。これに、7mのラネーニッ
ケルを加え、そして生ずる混合物を、理論量の水素が取
り込まれるまで水素化する。次に、この混合物を濾過
し、そして濾液を減圧濃縮してエチル3−アミノ−2−
(4−フルオロフェニル)プロピル(ジエトキシメチ
ル)ホスフィネートを粘稠油状物として得る。31P=+
44.4ppm(CDC3)。
例15. a)40mの36%水性塩酸中3.7gのエチル3−ア
ミノ−2−(4−メチルフェニル)プロピル(ジエトキ
シメチル)ホスフィネートの溶液を1時間還流加熱す
る。次に、この反応混合物を室温に放冷し、減圧濃縮
し、そして20mの水と共に減圧下で2回共蒸発せし
める。粗生成物を20mの水に溶解し、20mのジ
エチルエーテルで2回洗浄し、そして水層を分離し、そ
して減圧蒸発せしめる。粗生成物を50mのエタノー
ルに溶解し、そして5mのプロピレンオキシドを滴加
する。沈澱した固体を濾過により集め、そして乾燥して
3−アミノ−2−(4−メチルフェニル)プロピル亜ホ
スホン酸を得る。m.p.250℃〜255℃、31P=+24.5ppm
(D2O)。
ミノ−2−(4−メチルフェニル)プロピル(ジエトキ
シメチル)ホスフィネートの溶液を1時間還流加熱す
る。次に、この反応混合物を室温に放冷し、減圧濃縮
し、そして20mの水と共に減圧下で2回共蒸発せし
める。粗生成物を20mの水に溶解し、20mのジ
エチルエーテルで2回洗浄し、そして水層を分離し、そ
して減圧蒸発せしめる。粗生成物を50mのエタノー
ルに溶解し、そして5mのプロピレンオキシドを滴加
する。沈澱した固体を濾過により集め、そして乾燥して
3−アミノ−2−(4−メチルフェニル)プロピル亜ホ
スホン酸を得る。m.p.250℃〜255℃、31P=+24.5ppm
(D2O)。
b)出発物質は次のようにして製造することができる。
40mのテトラヒドロフラン中8.7gのジイソプロピ
ルアミンの溶液に、−78℃にて窒素雰囲気下で、ヘキ
サン中1.6M n−ブチルリチウム溶液53.2mを加え
る。次に、この溶液をこの温度にて10分間攪拌し、こ
の後20mのテトラヒドロフラン中15.0gのエチル−
(ジエトキシメチル)メチルホスフィネートの溶液を加
える。次にこの混合物を−78℃にて1時間攪拌し、こ
の後20mのテトラビドロフラン中11.6gの4−メチ
ル−β−ニトロスチレンの溶液を導入する。次にこの混
合物を室温に放置加温し40mの飽和塩化アンモニウ
ムを加える。次に水層を25mずつのジエチルエーテ
ルで2回抽出し、そして有機抽出液を一緒にしそして硫
酸マグネシウム乾燥する。次に溶剤を減圧蒸発せしめ、
そして粗生成物をシリカゲル上で溶離剤として酢酸エチ
ルを用いてクロマトグラフ処理してエチル2−(4−メ
チルフェニル)−3−ニトロプロピル(ジエトキシメチ
ル)ホスフィネートを粘稠油状物として得る。31P=+
42.5及び+42.1ppm(CDC3)。
ルアミンの溶液に、−78℃にて窒素雰囲気下で、ヘキ
サン中1.6M n−ブチルリチウム溶液53.2mを加え
る。次に、この溶液をこの温度にて10分間攪拌し、こ
の後20mのテトラヒドロフラン中15.0gのエチル−
(ジエトキシメチル)メチルホスフィネートの溶液を加
える。次にこの混合物を−78℃にて1時間攪拌し、こ
の後20mのテトラビドロフラン中11.6gの4−メチ
ル−β−ニトロスチレンの溶液を導入する。次にこの混
合物を室温に放置加温し40mの飽和塩化アンモニウ
ムを加える。次に水層を25mずつのジエチルエーテ
ルで2回抽出し、そして有機抽出液を一緒にしそして硫
酸マグネシウム乾燥する。次に溶剤を減圧蒸発せしめ、
そして粗生成物をシリカゲル上で溶離剤として酢酸エチ
ルを用いてクロマトグラフ処理してエチル2−(4−メ
チルフェニル)−3−ニトロプロピル(ジエトキシメチ
ル)ホスフィネートを粘稠油状物として得る。31P=+
42.5及び+42.1ppm(CDC3)。
60mのエタノール中6.5gのエチル2−(4−メチ
ルフェニル)−3−ニトロプロピル(ジエトキシメチ
ル)ホスフィネートの溶液を、エタノール中8%アンモ
ニア溶液52gに加える。これに、8mのラネーニッ
ケルを加えそして生ずる混合物を理論量の水素が取り込
まれるまで1barにて水素化する。次にこの混合物を濾
過し、そして濾液を減圧濃縮してエチル3−アミノ−2
−(4−メチルフェニル)プロピル(ジエトキシメチ
ル)ホスフィネートを粘稠油状物として得る。31P=+
44.6ppm(CDC3)。
ルフェニル)−3−ニトロプロピル(ジエトキシメチ
ル)ホスフィネートの溶液を、エタノール中8%アンモ
ニア溶液52gに加える。これに、8mのラネーニッ
ケルを加えそして生ずる混合物を理論量の水素が取り込
まれるまで1barにて水素化する。次にこの混合物を濾
過し、そして濾液を減圧濃縮してエチル3−アミノ−2
−(4−メチルフェニル)プロピル(ジエトキシメチ
ル)ホスフィネートを粘稠油状物として得る。31P=+
44.6ppm(CDC3)。
例16. a)30mの36%水素塩酸中4.6gのエチル3−ア
ミノ−2−(4−メトキシフェニル)プロピル(ジエト
キシメチル)ホスフィネートの溶液を1時間還流加熱す
る。次にこの反応混合物を室温に放冷し、減圧濃縮し、
そして20mの水と共に減圧下で2回共蒸発せしめ
る。粗生成物を20mの水に溶解し、20mのジエ
チルエーテルで2回洗浄し、そして次に水性層を分離し
そして減圧蒸発せしめる。粗生成物を50mのエタノ
ールに溶解し、そして5mのプロピレンオキシドを滴
加する。沈澱した固体を濾過により集め、そして乾燥し
て3−アミノ−2−(4−メトキシフェニル)プロピル
亜ホスホン酸(1/2 MH2O)を得る。m.p.260℃〜265℃、
31P=+24.5ppm(D2O)。
ミノ−2−(4−メトキシフェニル)プロピル(ジエト
キシメチル)ホスフィネートの溶液を1時間還流加熱す
る。次にこの反応混合物を室温に放冷し、減圧濃縮し、
そして20mの水と共に減圧下で2回共蒸発せしめ
る。粗生成物を20mの水に溶解し、20mのジエ
チルエーテルで2回洗浄し、そして次に水性層を分離し
そして減圧蒸発せしめる。粗生成物を50mのエタノ
ールに溶解し、そして5mのプロピレンオキシドを滴
加する。沈澱した固体を濾過により集め、そして乾燥し
て3−アミノ−2−(4−メトキシフェニル)プロピル
亜ホスホン酸(1/2 MH2O)を得る。m.p.260℃〜265℃、
31P=+24.5ppm(D2O)。
b)出発物質は次のようにして製造することができる。
40mのテトラヒドロフラン中8.7gのジイソプロピ
ルアミンの溶液を−78℃にて窒素雰囲気下で、ヘキサ
ン中1.6M n−ブチルリチウム溶液53.6mを加え
る。次に、この溶液をこの温度にて10分間攪拌し、こ
の後20mのテトラヒドロフラン中15.0gのエチル−
(ジエトキシメチル)メチルホスフィネートの溶液を加
える。次に、この混合物を−78℃にて1時間攪拌し、
この後20mのテトラビドロフラン中12.8gの4−メ
トキシ−β−ニトロスチレンの溶液を導入する。次に、
この混合物を室温まで放置加温し、40mの飽和塩化
アンモニウム溶液を加える。次に、水層を25mのジ
エチルエーテルで2回抽出し、そして有機抽出液を一緒
にしそして硫酸マグネシウム乾燥する。次に溶剤を減圧
蒸発せしめ、そして粗生成物をシリカゲル上で溶離剤と
して酢酸エチルを用いてクロマトグラフ処理してエチル
2−(4−メトキシフェニル)−3−ニトロプロピル
(ジエトキシメチル)ホスフィネートを粘稠油状物とし
て得る。31P=+42.4及び+42.1ppm(CDC3)。
ルアミンの溶液を−78℃にて窒素雰囲気下で、ヘキサ
ン中1.6M n−ブチルリチウム溶液53.6mを加え
る。次に、この溶液をこの温度にて10分間攪拌し、こ
の後20mのテトラヒドロフラン中15.0gのエチル−
(ジエトキシメチル)メチルホスフィネートの溶液を加
える。次に、この混合物を−78℃にて1時間攪拌し、
この後20mのテトラビドロフラン中12.8gの4−メ
トキシ−β−ニトロスチレンの溶液を導入する。次に、
この混合物を室温まで放置加温し、40mの飽和塩化
アンモニウム溶液を加える。次に、水層を25mのジ
エチルエーテルで2回抽出し、そして有機抽出液を一緒
にしそして硫酸マグネシウム乾燥する。次に溶剤を減圧
蒸発せしめ、そして粗生成物をシリカゲル上で溶離剤と
して酢酸エチルを用いてクロマトグラフ処理してエチル
2−(4−メトキシフェニル)−3−ニトロプロピル
(ジエトキシメチル)ホスフィネートを粘稠油状物とし
て得る。31P=+42.4及び+42.1ppm(CDC3)。
50mのエタノール中6.6gのエチル2−(4−メト
キシフェニル)−3−ニトロプロピル(ジエトキシメチ
ル)ホスフィネートの溶液を、エタノール中8%アンモ
ニア溶液52gに加える。これに、8mのラネーニッ
ケルを加え、そして生ずる混合物を理論量の水素が取り
込まれるまで1barにて水素化する。次に、この混合物
を濾過し、そして濾液を減圧濃縮してエチル3−アミノ
−2−(4−メトキシフェニル)プロピル(ジエトキシ
メチル)ホスフィネートを粘稠油状物として得る。31P
=+44.5ppm(CDC3)。
キシフェニル)−3−ニトロプロピル(ジエトキシメチ
ル)ホスフィネートの溶液を、エタノール中8%アンモ
ニア溶液52gに加える。これに、8mのラネーニッ
ケルを加え、そして生ずる混合物を理論量の水素が取り
込まれるまで1barにて水素化する。次に、この混合物
を濾過し、そして濾液を減圧濃縮してエチル3−アミノ
−2−(4−メトキシフェニル)プロピル(ジエトキシ
メチル)ホスフィネートを粘稠油状物として得る。31P
=+44.5ppm(CDC3)。
例17. 次の成分と共に10mgの活性成分を含有する錠剤10.000
個を製造する。
個を製造する。
3−アミノプロピル亜ホスホン酸 100.00g ラクトース 1,157.00g コーンスターチ 75.00g ポリエチレングリコール6,000 75.00g ステアリン酸マグネシウム 18.00g 精製水 適当量 方法:粉末のすべてを0.6mm目の篩に通す。次に、薬剤
物質、ラクトース、ステアリン酸マグネシウム及び澱粉
の半分を40mの水に懸濁し、そしてこの懸濁液を15
0mの水中ポリエチレングリコールの沸騰溶液に加え
る。形成されたペーストを、所望により追加量の水で粒
状化された粉末に加える。顆粒を35℃にて一夜乾燥
し、1.2mm目の篩に通して破砕し、そして上面に分割溝
を有する直径6.4mmの錠剤に圧縮する。
物質、ラクトース、ステアリン酸マグネシウム及び澱粉
の半分を40mの水に懸濁し、そしてこの懸濁液を15
0mの水中ポリエチレングリコールの沸騰溶液に加え
る。形成されたペーストを、所望により追加量の水で粒
状化された粉末に加える。顆粒を35℃にて一夜乾燥
し、1.2mm目の篩に通して破砕し、そして上面に分割溝
を有する直径6.4mmの錠剤に圧縮する。
例18. 次の成分と共に25mgの活性成分を含有するカプセル1
0.000を製造を行う。
0.000を製造を行う。
3−アミノ−2−(4−クロロフェニル)− プロピル亜ホスホン酸 250.0g ラクトース 1,750.0g 方法:すべての粉末を0.6mm目の篩に通す。次に、薬剤
物質を適当なミキサーに入れ、そして均一になるまでラ
クトースと混合する。カプセル充填機を用いて200mgをN
O.3カプセルに充填する。
物質を適当なミキサーに入れ、そして均一になるまでラ
クトースと混合する。カプセル充填機を用いて200mgをN
O.3カプセルに充填する。
この発明の他の化合物、例えば例に記載した化合物の活
性成分10〜100mgを含有する錠剤及びカプセルが同様に
して製造される。
性成分10〜100mgを含有する錠剤及びカプセルが同様に
して製造される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ロジヤー グラハム ホール イギリス国,マンチエスター エム21 1 エルエス,チヨールトン‐カム‐ハーデイ ー,ニロラス ロード 131 (72)発明者 ジエームズ ジヤツク イギリス国,チエシア エスケー7 2ピ ーエイチ,ストツクポート,ブラムホー ル,ハクスレイ ドライブ 6
Claims (11)
- 【請求項1】次の式(I) 〔式中、R1,R2及びR3の1つは水素、C1〜8−
アルキル、C3〜6−シクロアルキル、フェニル(場合
によってはハロゲン、C1〜4−アルキル、C1〜4−
アルコキシ及び/又はトリフルオロメチルにより置換さ
れている)、あるいはC7〜10−フェニルアルキル
(場合によってはフェニル部分においてハロゲン、C
1〜4−アルキル、C1〜4−アルコキシ及び/又はト
リフルオロメチルにより置換されている)であり;そし
て他の2者は水素である、〕 で表わされる化合物、又はその塩。 - 【請求項2】R1及びR2が水素であり、そしてR2が
水素又はフェニル(場合によってはハロゲン、C1〜4
−アルキル、C1〜4−アルコキシ及び/又はトリフル
オロメチルにより置換されている)である特許請求の範
囲第1項に記載の式(I)の化合物、又はその塩。 - 【請求項3】R1及びR2が水素であり、そしてR2が
水素又はハロゲンフェニルである特許請求の範囲第1項
に記載の式(I)の化合物、又はその塩。 - 【請求項4】R1及びR2が水素であり、そしてR2が
水素、4−クロロフェニル又は4−フルオロフェニルで
ある特許請求の範囲第1項に記載の式(I)の化合物、
又はその塩。 - 【請求項5】3−アミノプロピル亜ホスホン酸である特
許請求の範囲第1項に記載の化合物又はその塩。 - 【請求項6】3−アミノ−2−(4−クロロフェニル)
プロピル亜ホスホン酸である特許請求の範囲第1項に記
載の化合物又はその塩。 - 【請求項7】不斉炭素原子を有するラセミ体形又は光学
対掌体形の特許請求の範囲第1項〜4項及び第6項のい
ずれか1項に記載の化合物、及びその塩。 - 【請求項8】特許請求の範囲第1項に記載の式(I)の
化合物の酸付加塩。 - 【請求項9】特許請求の範囲第8項に記載の式(I)の
化合物の医薬として許容される酸付加塩。 - 【請求項10】次の式(I)、 〔式中、R1,R2及びR3の1つは水素、C1〜8−
アルキル、C3〜6−シクロアルキル、フェニル(場合
によってはハロゲン、C1〜4−アルキル、C1〜4−
アルコキシ及び/又はトリフルオロメチルにより置換さ
れている)、あるいはC7〜10−フェニルアルキル
(場合によってはフェニル部分においてハロゲン、C
1〜4−アルキル、C1〜4−アルコキシ及び/又はト
リフルオロメチルにより置換されている)であり;そし
て他の2者は水素である、〕 で表わされる化合物、又はその塩の製造方法であって、
次の式(II)、 〔式中、R1,R2及びR3は前記の意味を有し、Zは
−NH2又は保護されたアミノ基Zoであり、Qは水素
又は保護基Qoであり、そしてRcは水素、C1〜4−
アルキル、又はアルカリ金属もしくはアンモニウム陽イ
オンである、) で表わされる化合物において、基Rcを水素により、又
はアルカリ金属もしくはアンモニウム陽イオンにより置
き換え、そして基QがQoである場合にはこれを水素に
より置き換え、そして基Zが保護されたアミノ基Zoで
ある場合にはこれを−NH2に転換するか;あるいは、 次の式(VIII)、 〔式中、R1及びR2は前記の意味を有し、そしてXは
次の式(Id)、 (式中、R3は前記の意味を有する、) で表わされる基に転換することができる基である、〕 で表わされる化合物において、基Xを式(Id)の基に
転換し;そして所望により、得られた塩を遊離化合物
に、又は他の塩に転換し、そして/又は所望により、得
られた遊離化合物を塩に転換し、そして/又は所望によ
り異性体の得られた混合物を個々の異性体に分離するこ
とを特徴とする方法。 - 【請求項11】次の式(I)、 〔式中、R1,R2及びR3の1つは水素、C1〜8−
アルキル、C3〜6−シクロアルキル、フェニル(場合
によってはハロゲン、C1〜4−アルキル、C1〜4−
アルコキシ及び/又はトリフルオロメチルにより置換さ
れている)、あるいはC7〜10−フェニルアルキル
(場合によってはフェニル部分においてハロゲン、C
1〜4−アルキル、C1〜4−アルコキシ及び/又はト
リフルオロメチルにより置換されている)であり;そし
て他の2者は水素である、〕 で表わされる化合物、又はその塩を医薬として許容され
る担体と共に含んで成る筋弛緩、鎮痙又は鎮痛剤。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB848425872A GB8425872D0 (en) | 1984-10-12 | 1984-10-12 | Chemical compounds |
| GB8425872 | 1984-12-10 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6193189A JPS6193189A (ja) | 1986-05-12 |
| JPH0631275B2 true JPH0631275B2 (ja) | 1994-04-27 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60224973A Expired - Lifetime JPH0631275B2 (ja) | 1984-10-12 | 1985-10-11 | 置換プロパン‐亜ホスホン酸化合物及びその製造方法並びにそれを含有する医薬 |
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| Country | Link |
|---|---|
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| EP (1) | EP0181833B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0631275B2 (ja) |
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| CA (1) | CA1296736C (ja) |
| DE (1) | DE3577442D1 (ja) |
| DK (2) | DK168572C (ja) |
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| PT (1) | PT81287B (ja) |
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