JPH0320739A - フォトマスクと投影露光装置 - Google Patents
フォトマスクと投影露光装置Info
- Publication number
- JPH0320739A JPH0320739A JP1155421A JP15542189A JPH0320739A JP H0320739 A JPH0320739 A JP H0320739A JP 1155421 A JP1155421 A JP 1155421A JP 15542189 A JP15542189 A JP 15542189A JP H0320739 A JPH0320739 A JP H0320739A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pellicle
- exposure
- photomask
- exposure time
- bar code
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は半導体製造分野ふ・よび液晶製造分野のフォト
リングラフィ工程で用いられるフォトマヌク釦よび投影
露光装置に関するものである。
リングラフィ工程で用いられるフォトマヌク釦よび投影
露光装置に関するものである。
従来の技術
近年、投影露光装置は、半導体製造分野卦よび液晶製造
分野で不可欠のものとされている。
分野で不可欠のものとされている。
以下に従来の投影露光装置について説明する。
第３図は従来の投影露光装置の概略を示す。第３図に於
で、６は露光時間制御器で、６は端末、了はシャッター
、８は光源、９はコンデンサーレンズ、１０はペリクル
枠、１１はフォトマスク、１２ハ投影レンズ、１３はウ
ェハー、１４はｘ−Ｙステージである。
で、６は露光時間制御器で、６は端末、了はシャッター
、８は光源、９はコンデンサーレンズ、１０はペリクル
枠、１１はフォトマスク、１２ハ投影レンズ、１３はウ
ェハー、１４はｘ−Ｙステージである。
以上のように構戒された投影露光装置について、以下そ
の動作について説明する。
の動作について説明する。
１ず、端末らから露光時間、Ｘ−Ｙステージ１４の動作
、アライメント動作等のデータを入力し、露光をヌター
トさせる。すると、フォトマスク１１とウェハー１３の
アライメント動作が始１９、Ｘ−Ｙステージ１４上のウ
エハー１３が所定の位置に合わせられる。その後、入力
した露光時間だけシャッター７が開き、光源８の光によ
りフォトマスク１１のパターンの１象が、ウエハー１３
に露光される。
、アライメント動作等のデータを入力し、露光をヌター
トさせる。すると、フォトマスク１１とウェハー１３の
アライメント動作が始１９、Ｘ−Ｙステージ１４上のウ
エハー１３が所定の位置に合わせられる。その後、入力
した露光時間だけシャッター７が開き、光源８の光によ
りフォトマスク１１のパターンの１象が、ウエハー１３
に露光される。
発明が解決しようとする課題
しかしながら上記の構或では、フォトマスクに貼り合わ
されたペリクルの透過率の違いによる露光時間の補正を
、端末から露光時間データを入力するときに手動で行な
わなければならないので、露光時間データを入力後、フ
ォトマヌクに貼ってあったペリクルと透過率の異なるペ
リクルと貼り替えると露光時間補正が、不適切な値にな
シ露光過多や露光過小になシ、ウェハー上に正しい寸法
のパターン形戒ができなくなる。ペリクルは、露光によ
る劣化のため貼り替えが必要であう、複数のペリクルを
使っていると、貼ジ替え前と異なるヘリクルを貼り合わ
せることもある。へりクμを貼り替える前と異なるもの
にしたさいに、露光時間補正のデータの訂正が必要にな
るが、手動で行なっていたため訂正もれが起こシ、露光
時間補正が不適切な値になり露光過多や露光過小が起こ
シ、ウエハー上に正しい寸法のパターン形戒ができなく
なるという課題があった。
されたペリクルの透過率の違いによる露光時間の補正を
、端末から露光時間データを入力するときに手動で行な
わなければならないので、露光時間データを入力後、フ
ォトマヌクに貼ってあったペリクルと透過率の異なるペ
リクルと貼り替えると露光時間補正が、不適切な値にな
シ露光過多や露光過小になシ、ウェハー上に正しい寸法
のパターン形戒ができなくなる。ペリクルは、露光によ
る劣化のため貼り替えが必要であう、複数のペリクルを
使っていると、貼ジ替え前と異なるヘリクルを貼り合わ
せることもある。へりクμを貼り替える前と異なるもの
にしたさいに、露光時間補正のデータの訂正が必要にな
るが、手動で行なっていたため訂正もれが起こシ、露光
時間補正が不適切な値になり露光過多や露光過小が起こ
シ、ウエハー上に正しい寸法のパターン形戒ができなく
なるという課題があった。
本発明は、上記従来の課題を解決するもので、フォトマ
スクに貼り合わされたペリクルに必要な適切な露光時間
補正を露光時間制御器で自動によシ行ない露光される投
影露光装置と、バーコード表示部を有するペリクル枠を
貼９合わせたフォトマスクを提供することを目的とする
。
スクに貼り合わされたペリクルに必要な適切な露光時間
補正を露光時間制御器で自動によシ行ない露光される投
影露光装置と、バーコード表示部を有するペリクル枠を
貼９合わせたフォトマスクを提供することを目的とする
。
課題を解決するための手段
この目的を達或するために本発明は、ペリクノレ枠のペ
リクル種別を表すバーコードと、投影露光装置のバーコ
ードリーダと、露光補正データとペリクル種別の対応デ
ータを保持する記憶部を持つ露光時間制御器という構成
を有することを特徴とする前記投影露光装置を提供する
ものである。
リクル種別を表すバーコードと、投影露光装置のバーコ
ードリーダと、露光補正データとペリクル種別の対応デ
ータを保持する記憶部を持つ露光時間制御器という構成
を有することを特徴とする前記投影露光装置を提供する
ものである。
作 用
との構或によって、フォトマスクが所定の位置に装填さ
れたのを確認した後、ペリクルの有無をバーコードリー
ダセンサーで検知し、ペリクルが無ければ露光補正なし
の露光時間データを用い正しい露光を行なうことができ
、ペリクルがフォトマスクに貼り合わせてあれば、バー
コードリーダをはたらかせペリクル枠に記入されたべリ
クノレ種別記号を読み取シ、読み取った前記ペリクル種
別記号で決渣る露光時間制御器中にあらかじめ入力され
ている適正露光補正値をもとに露光補正した露光時間デ
ータを用い露光時間制御器で正しい露光を行なうことが
できる。
れたのを確認した後、ペリクルの有無をバーコードリー
ダセンサーで検知し、ペリクルが無ければ露光補正なし
の露光時間データを用い正しい露光を行なうことができ
、ペリクルがフォトマスクに貼り合わせてあれば、バー
コードリーダをはたらかせペリクル枠に記入されたべリ
クノレ種別記号を読み取シ、読み取った前記ペリクル種
別記号で決渣る露光時間制御器中にあらかじめ入力され
ている適正露光補正値をもとに露光補正した露光時間デ
ータを用い露光時間制御器で正しい露光を行なうことが
できる。
実施例
以下本発明の一実施例について、図面を参照しながら説
明する。
明する。
第１図は本発明の一実施例にかける投影露光装置の概略
をしめすものである。第１図に訃いて、１はベリクノレ
枠上にあるバーコード、２はバーコードリーダセンサー
、３はバーコードリーダ制御部、４は記憶装置、５は露
光時間制御器、６は端末、７はシャッター、８は光源、
９はコンデンサーレンス、１０１ｄペリクル枠、１１は
フォトマスク、１２は投影レンズ、１３はウェハー、１
４はＸ−Ｙステージである。
をしめすものである。第１図に訃いて、１はベリクノレ
枠上にあるバーコード、２はバーコードリーダセンサー
、３はバーコードリーダ制御部、４は記憶装置、５は露
光時間制御器、６は端末、７はシャッター、８は光源、
９はコンデンサーレンス、１０１ｄペリクル枠、１１は
フォトマスク、１２は投影レンズ、１３はウェハー、１
４はＸ−Ｙステージである。
以上のように構或された投影露光装置について、以下そ
の動作について説明する。
の動作について説明する。
１ず、フォトマスク１１が所定の位置に装填されたのを
確認した後、ペリクル枠１０の有無をバ一コードリーダ
センサ一部２で検知し、ペリクル枠１ｏが無ければ露光
補正なしの露光時間データを用いて正しい露光を行ない
、ペリクル枠１０がフォトマヌク１１に貼り合わせてあ
れば、露光装置のバーコードリーダセンサ一部２をはた
らかせペリクル枠１０に記入されたペリクル種別記号を
記入したバーコード１を読み取シ、読み取った前記ペリ
クル種別記号を意味するバーコード１をもとに露光時間
制御器５で前記露光時間制御器５中にあらかじめ記憶し
ている適正露光補正値をもとに露光補正した霜光時間デ
ータを用い正しい露光を行なうことができる。
確認した後、ペリクル枠１０の有無をバ一コードリーダ
センサ一部２で検知し、ペリクル枠１ｏが無ければ露光
補正なしの露光時間データを用いて正しい露光を行ない
、ペリクル枠１０がフォトマヌク１１に貼り合わせてあ
れば、露光装置のバーコードリーダセンサ一部２をはた
らかせペリクル枠１０に記入されたペリクル種別記号を
記入したバーコード１を読み取シ、読み取った前記ペリ
クル種別記号を意味するバーコード１をもとに露光時間
制御器５で前記露光時間制御器５中にあらかじめ記憶し
ている適正露光補正値をもとに露光補正した霜光時間デ
ータを用い正しい露光を行なうことができる。
以上のように本実施例によれば、ペリクル枠上にバーコ
ードと、投影露光装置にバーコードリーダを設け、読み
取ったペリクル枠上のバーコードデータによシペリクル
種別を判定して対応する適正な露光補正をおこない、種
々のペリクルを貼り合わせたフォトマヌクの露光時間を
自動で適正にすることができる。
ードと、投影露光装置にバーコードリーダを設け、読み
取ったペリクル枠上のバーコードデータによシペリクル
種別を判定して対応する適正な露光補正をおこない、種
々のペリクルを貼り合わせたフォトマヌクの露光時間を
自動で適正にすることができる。
発明の効果
以上のように本発明は、フォトマスクに貼り合わせたべ
リクノレ枠にバーコード表示部と、投影露光装置にバー
コードリーダ部と、露光補正データとペリクル種別の対
応データを保持する記憶部を持つ露光時間制御器を設け
ることによシ、フォトマスクに貼υ合わせたベリクｐに
対応する適正な露光時間補正る自動的に行なうことがで
きる優れた投影露光装置の露光時間制御方法を実現でき
るものである。
リクノレ枠にバーコード表示部と、投影露光装置にバー
コードリーダ部と、露光補正データとペリクル種別の対
応データを保持する記憶部を持つ露光時間制御器を設け
ることによシ、フォトマスクに貼υ合わせたベリクｐに
対応する適正な露光時間補正る自動的に行なうことがで
きる優れた投影露光装置の露光時間制御方法を実現でき
るものである。
第１図は本発明の一実施例における投影露光装置の装置
概略図、第２図は１μｍの寸法を得るのにベリク１ｖＢ
は＋１０優の露光補正ベリクμＡは−｝−２０％の露光
補正が適正露光補正量であることを示す図、第３図は従
来の投影露光装置の装置概略図である。 １・・・・・・バーコード、２・・・・・・バーコード
リーダセンサ一部、３・・・・・・バーコードリーダ制
御部、４・・・・・・記憶装置、６・・・・・・露光時
間制御装置、６・・・・・・端末、了・・・・・・シャ
ッター、８・・・・・・光Ｌ ９・・・・・・コンデン
サーレンズ，１０・・・・・・ペリクル枠、１１・・・
・・・フォトマスク、１２・・・・・・投影レンズ、１
３・・・・・・ウェハー、１４・・・・・・Ｘ−Ｙ７．
テージ。
概略図、第２図は１μｍの寸法を得るのにベリク１ｖＢ
は＋１０優の露光補正ベリクμＡは−｝−２０％の露光
補正が適正露光補正量であることを示す図、第３図は従
来の投影露光装置の装置概略図である。 １・・・・・・バーコード、２・・・・・・バーコード
リーダセンサ一部、３・・・・・・バーコードリーダ制
御部、４・・・・・・記憶装置、６・・・・・・露光時
間制御装置、６・・・・・・端末、了・・・・・・シャ
ッター、８・・・・・・光Ｌ ９・・・・・・コンデン
サーレンズ，１０・・・・・・ペリクル枠、１１・・・
・・・フォトマスク、１２・・・・・・投影レンズ、１
３・・・・・・ウェハー、１４・・・・・・Ｘ−Ｙ７．
テージ。
Claims (2)
- （１）バーコード表示部を有するペリクル枠を貼り合わ
せたフォトマスク。 - （２）特許請求の範囲第１項記載のフォトマスクに貼り
合わせてあるペリクル枠に表示されたバーコードを読み
取るバーコードリーダ部と、読み取ったバーコードによ
って決まる露光時間制御器内部の記憶部にあらかじめ記
録された露光時間補正量から露光時間を決定する前記露
光時間制御器を有することを特徴とする投影露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1155421A JPH0320739A (ja) | 1989-06-16 | 1989-06-16 | フォトマスクと投影露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1155421A JPH0320739A (ja) | 1989-06-16 | 1989-06-16 | フォトマスクと投影露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0320739A true JPH0320739A (ja) | 1991-01-29 |
Family
ID=15605635
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1155421A Pending JPH0320739A (ja) | 1989-06-16 | 1989-06-16 | フォトマスクと投影露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0320739A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6352203B1 (en) * | 1999-03-17 | 2002-03-05 | Compaq Information Technologies Group, L.P. | Automated semiconductor identification system |
| US6473520B2 (en) | 1998-02-24 | 2002-10-29 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | Pellicle, identification system of the same, and method of identifying the same |
-
1989
- 1989-06-16 JP JP1155421A patent/JPH0320739A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6473520B2 (en) | 1998-02-24 | 2002-10-29 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | Pellicle, identification system of the same, and method of identifying the same |
| US6352203B1 (en) * | 1999-03-17 | 2002-03-05 | Compaq Information Technologies Group, L.P. | Automated semiconductor identification system |
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