JPH0383321A - 投影露光装置 - Google Patents
投影露光装置Info
- Publication number
- JPH0383321A JPH0383321A JP1220771A JP22077189A JPH0383321A JP H0383321 A JPH0383321 A JP H0383321A JP 1220771 A JP1220771 A JP 1220771A JP 22077189 A JP22077189 A JP 22077189A JP H0383321 A JPH0383321 A JP H0383321A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposure
- pellicle
- photomask
- bar code
- exposures
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は半導体製造分野および液晶製造分野のフォトリ
ソグラフィ工程で用いられる投影露光装置に関するもの
である。
ソグラフィ工程で用いられる投影露光装置に関するもの
である。
従来の技術
近年、投影露光装置は、半導体製造分野および液晶製造
分野で不可欠のものとされている。
分野で不可欠のものとされている。
以下に従来の投影露光装置について説明する。
第４図は従来の投影露光装置の概略を示す。第４図に於
て、５は露光時間制御器で、６は端末、７はシャッター
、８は光源、９はコンデンサーレンズ、１０はペリクル
枠、１１はフォトマスク、１２は投影レンズ、１３はウ
ェハー、１４はＸＹステージである。
て、５は露光時間制御器で、６は端末、７はシャッター
、８は光源、９はコンデンサーレンズ、１０はペリクル
枠、１１はフォトマスク、１２は投影レンズ、１３はウ
ェハー、１４はＸＹステージである。
以上のように構成された投影露光装置について、以下そ
の動作について説明する。
の動作について説明する。
まず、端末６から露光時間、Ｘ−Ｙステージ１４の動作
、アライメント動作等のデータを入力し、露光をスター
トさせる。すると、フォトマスク１１とウェハー１３の
アライメント動作が始まり、Ｘ−Ｙステージ１４上のウ
ェハー１３が所定の位置に合わせられる。その後、入力
した露光時間だけシャッター７が開き、光源８の光によ
りフォトマスク１１のパターンの像が、ウェハー１３に
露光される。
、アライメント動作等のデータを入力し、露光をスター
トさせる。すると、フォトマスク１１とウェハー１３の
アライメント動作が始まり、Ｘ−Ｙステージ１４上のウ
ェハー１３が所定の位置に合わせられる。その後、入力
した露光時間だけシャッター７が開き、光源８の光によ
りフォトマスク１１のパターンの像が、ウェハー１３に
露光される。
発明が解決しようとする課題
しかしながら上記の構成では、フォトマスクに貼り合わ
されたペリクルが露光光である紫外線によって劣化し透
過率が落ちること（第三図に示す）による露光時間の補
正を、端末から露光時間データを入力するときに手動で
行わなければならないので、露光毎に露光時間データを
手動で再入力せねばならず非常に煩雑であり、入力ミス
の原因にもなっていて、万が一露光時間補正量が誤って
いると露光過多や露光過小になり、ウニ／）−上で正し
い寸法のパターン形成ができなくなるという課題があっ
た。
されたペリクルが露光光である紫外線によって劣化し透
過率が落ちること（第三図に示す）による露光時間の補
正を、端末から露光時間データを入力するときに手動で
行わなければならないので、露光毎に露光時間データを
手動で再入力せねばならず非常に煩雑であり、入力ミス
の原因にもなっていて、万が一露光時間補正量が誤って
いると露光過多や露光過小になり、ウニ／）−上で正し
い寸法のパターン形成ができなくなるという課題があっ
た。
本発明は、上記従来の課題を解決するもので、フォトマ
スクに貼り合わされたペリクルに必要な適切な露光時間
補正を露光時間Ｉｌ制御器で自動により行ない露光され
る投影露光装置を提供することを目的とする。
スクに貼り合わされたペリクルに必要な適切な露光時間
補正を露光時間Ｉｌ制御器で自動により行ない露光され
る投影露光装置を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段
この目的を達成するために本発明は、ペリクル枠のペリ
クル種別を表すバーコードと、投影露光装置のバーコー
ドリーグと、露光補正データとフォトマスク露光回数の
対応データを保持し。
クル種別を表すバーコードと、投影露光装置のバーコー
ドリーグと、露光補正データとフォトマスク露光回数の
対応データを保持し。
フォトマスク露光回数記憶部を持つ露光時間制御器とい
う構成を有することを特徴とする前記投影露光装置を提
供するものである。
う構成を有することを特徴とする前記投影露光装置を提
供するものである。
作用
この構成によって、フォトマスクが所定の位置に装填さ
れたのを確認した後、ペリクルの有無をバーコードリー
グセンサーで検知し、ペリクルがなければ露光補正なし
の露光時間データを用い正しい露光を行なうことができ
、ペリクルがフォトマスクに貼り合わせてあれば、バー
コードリーグを動かせペリクル枠に記入されたへりクル
種別記号を読み取り、読み取った前記ペリクル種別記号
で決まる露光時間制御器中のフォトマスク露光回数記憶
部に保持されているフォトマスク露光回数に対応するあ
らかじめ入力されている適正露光補正値をもとに露光補
正した露光時間データを用い前記露光時間制御器で正し
い露光を行なうことができる。
れたのを確認した後、ペリクルの有無をバーコードリー
グセンサーで検知し、ペリクルがなければ露光補正なし
の露光時間データを用い正しい露光を行なうことができ
、ペリクルがフォトマスクに貼り合わせてあれば、バー
コードリーグを動かせペリクル枠に記入されたへりクル
種別記号を読み取り、読み取った前記ペリクル種別記号
で決まる露光時間制御器中のフォトマスク露光回数記憶
部に保持されているフォトマスク露光回数に対応するあ
らかじめ入力されている適正露光補正値をもとに露光補
正した露光時間データを用い前記露光時間制御器で正し
い露光を行なうことができる。
実施例
以下本発明の一実施例について、図面を参照しながら説
明する。
明する。
第１図は本発明の一実施例における投影露光装置の概略
を示すものである。第１図において、１はペリクル枠上
にあるバーコード、２はバーコードリーグセンサー ３
はバーコードリーグ制御部、４は記憶装置、５は露光時
間制御器、６は端末、７はシャッター、８は光源、９は
コンテセンサーレンズ、１０はへりタル枠、１１はフォ
トマスク、１２は投影レンズ、１３はウェハー １４は
Ｘ−Ｙステージである。４の記憶装置内部には、フォト
マスク露光回数記憶部１５と露光回数と露光補正量の関
係を記したデータの記憶部１６がある。
を示すものである。第１図において、１はペリクル枠上
にあるバーコード、２はバーコードリーグセンサー ３
はバーコードリーグ制御部、４は記憶装置、５は露光時
間制御器、６は端末、７はシャッター、８は光源、９は
コンテセンサーレンズ、１０はへりタル枠、１１はフォ
トマスク、１２は投影レンズ、１３はウェハー １４は
Ｘ−Ｙステージである。４の記憶装置内部には、フォト
マスク露光回数記憶部１５と露光回数と露光補正量の関
係を記したデータの記憶部１６がある。
以上のように構成された投影露光装置について、以下そ
の動作について説明する。
の動作について説明する。
まず、フォトマスク１１が所定の位置に装填されたのを
確認した後、ペリクル枠１０の有無をバーコードリーグ
センサ一部２で検知し、ペリクル枠１０がなければ露光
補正なしの露光時間データを用いて正しい露光を行ない
、ペリクル枠１ｏがフォトマスク１１に貼り合わせてあ
れば、露光装置のバーコードリーグセンサ一部を働かせ
ペリクル枠１０に記入されたペリクル種別記号を記入し
たバーコード１を読み取り、読み取った前記ペリクル種
別記号を意味するバーコード１をもとに露光時間制御器
５で前記露光時間制御器５中にあらかじめ記憶している
フォトマスク露光回数に対応した適正露光補正値をもと
に露光補正した露光時間データを用い正しい露光を行な
うことができる。又、フォトマスク露光回数記憶部１５
は、フォトマスク毎の露光回数を保持する。
確認した後、ペリクル枠１０の有無をバーコードリーグ
センサ一部２で検知し、ペリクル枠１０がなければ露光
補正なしの露光時間データを用いて正しい露光を行ない
、ペリクル枠１ｏがフォトマスク１１に貼り合わせてあ
れば、露光装置のバーコードリーグセンサ一部を働かせ
ペリクル枠１０に記入されたペリクル種別記号を記入し
たバーコード１を読み取り、読み取った前記ペリクル種
別記号を意味するバーコード１をもとに露光時間制御器
５で前記露光時間制御器５中にあらかじめ記憶している
フォトマスク露光回数に対応した適正露光補正値をもと
に露光補正した露光時間データを用い正しい露光を行な
うことができる。又、フォトマスク露光回数記憶部１５
は、フォトマスク毎の露光回数を保持する。
以上のように本実施例によれば、ペリクル枠上にバーコ
ードと、投影露光装置にバーコードリーグを設け、読み
取ったペリクル枠上のバーコードデータによりフォトマ
スクの露光回数に対応する適正な露光補正を行い、種々
の露光回数のフォトマスクの露光時間を自動で適正にす
ることができる。
ードと、投影露光装置にバーコードリーグを設け、読み
取ったペリクル枠上のバーコードデータによりフォトマ
スクの露光回数に対応する適正な露光補正を行い、種々
の露光回数のフォトマスクの露光時間を自動で適正にす
ることができる。
発明の効果
以上のように本発明は、フォトマスクに貼り合わせたペ
リクル枠にバーコード表示部と、投影露光装置にバーコ
ードリーグ部と、露光補正データとフォトマスク露光回
数の対応データを保持する記憶部とフォトマスク露光回
数記憶部を持つ露光時間制御器を設けることにより、フ
ォトマスクの露光回数に対応する適正な露光時間補正を
自動的に行なうことができる優れた投影露光装置の露光
時間制御を実現できるものである。
リクル枠にバーコード表示部と、投影露光装置にバーコ
ードリーグ部と、露光補正データとフォトマスク露光回
数の対応データを保持する記憶部とフォトマスク露光回
数記憶部を持つ露光時間制御器を設けることにより、フ
ォトマスクの露光回数に対応する適正な露光時間補正を
自動的に行なうことができる優れた投影露光装置の露光
時間制御を実現できるものである。
第１図は本発明の一実施例における投影露光装置の装置
概略図、第２図はペリクルなしフォトマスクは露光補正
が不要であるが、ペリクル装着フォトマスクで、露光回
数がゼロ回では、ペリクルＡで＋１０％の露光補正が適
正露光補正量であり、ペリクルＢは＋２０％の露光補正
が適正露光補正量であり、露光回数が１００万回では、
ペリクルＡは＋１８％の露光補正が適正露光補正量であ
り、ペリクルＢは＋３０％の露光補正が適正露光補正量
であることを示す図、第３図はフォトマスクの露光回数
の増加に従ってペリクルが劣化し透過率が低下すること
を示す図、第４図は従来の投影露光装置の装置概略図で
ある。 １・・・・・・バーコード、２・・・・・・バーコード
リーグセンサ一部、３・・・・・・バーコードリーグ制
御部、４・・・・・・記憶装置、５・・・・・・露光時
間制御装置、６・・・・・・端末、７・・・・・・シャ
ッター、８・・・・・・光源、９・・・・・・コンデン
サーレンズ、１０・・・・・・ペリクル枠、１１・・・
・・・フォトマスク、１２・・・・・・投影レンズ、１
３・・・・・・ウェハー １４・・・・・・Ｘ−Ｙステ
ージ、１５・・・・・・フォトマスク露光回数記憶部、
１６・・・・・・露光回数と露光補正量の関係を記した
データの記憶部。
概略図、第２図はペリクルなしフォトマスクは露光補正
が不要であるが、ペリクル装着フォトマスクで、露光回
数がゼロ回では、ペリクルＡで＋１０％の露光補正が適
正露光補正量であり、ペリクルＢは＋２０％の露光補正
が適正露光補正量であり、露光回数が１００万回では、
ペリクルＡは＋１８％の露光補正が適正露光補正量であ
り、ペリクルＢは＋３０％の露光補正が適正露光補正量
であることを示す図、第３図はフォトマスクの露光回数
の増加に従ってペリクルが劣化し透過率が低下すること
を示す図、第４図は従来の投影露光装置の装置概略図で
ある。 １・・・・・・バーコード、２・・・・・・バーコード
リーグセンサ一部、３・・・・・・バーコードリーグ制
御部、４・・・・・・記憶装置、５・・・・・・露光時
間制御装置、６・・・・・・端末、７・・・・・・シャ
ッター、８・・・・・・光源、９・・・・・・コンデン
サーレンズ、１０・・・・・・ペリクル枠、１１・・・
・・・フォトマスク、１２・・・・・・投影レンズ、１
３・・・・・・ウェハー １４・・・・・・Ｘ−Ｙステ
ージ、１５・・・・・・フォトマスク露光回数記憶部、
１６・・・・・・露光回数と露光補正量の関係を記した
データの記憶部。
Claims (1)
- フォトマスクに貼り合わせてあるペリクル枠に表示され
たバーコードに対応するフォトマスク露光回数記憶部を
露光時間制御装置内部にもち、フォトマスクの露光回数
を前記フォトマスク露光回数記憶部に保持し、フォトマ
スク露光回数に対応するあらかじめ入力された露光時間
補正量から露光時間を決定する前記露光時間制御器を有
することを特徴とする投影露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1220771A JPH0383321A (ja) | 1989-08-28 | 1989-08-28 | 投影露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1220771A JPH0383321A (ja) | 1989-08-28 | 1989-08-28 | 投影露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0383321A true JPH0383321A (ja) | 1991-04-09 |
Family
ID=16756305
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1220771A Pending JPH0383321A (ja) | 1989-08-28 | 1989-08-28 | 投影露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0383321A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5396312A (en) * | 1991-10-28 | 1995-03-07 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Apparatus for optically forming pattern |
| US6473520B2 (en) * | 1998-02-24 | 2002-10-29 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | Pellicle, identification system of the same, and method of identifying the same |
| US6894766B1 (en) * | 2001-03-27 | 2005-05-17 | Dupont Photomasks, Inc. | Method for constructing a photomask assembly using an encoded mark |
| JP2020076822A (ja) * | 2018-11-06 | 2020-05-21 | 旭化成株式会社 | 製版システム及び製版方法並びにプログラム |
-
1989
- 1989-08-28 JP JP1220771A patent/JPH0383321A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5396312A (en) * | 1991-10-28 | 1995-03-07 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Apparatus for optically forming pattern |
| US6473520B2 (en) * | 1998-02-24 | 2002-10-29 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | Pellicle, identification system of the same, and method of identifying the same |
| US6894766B1 (en) * | 2001-03-27 | 2005-05-17 | Dupont Photomasks, Inc. | Method for constructing a photomask assembly using an encoded mark |
| JP2020076822A (ja) * | 2018-11-06 | 2020-05-21 | 旭化成株式会社 | 製版システム及び製版方法並びにプログラム |
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