JPH03209628A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体およびその製造方法Info
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- JPH03209628A JPH03209628A JP562490A JP562490A JPH03209628A JP H03209628 A JPH03209628 A JP H03209628A JP 562490 A JP562490 A JP 562490A JP 562490 A JP562490 A JP 562490A JP H03209628 A JPH03209628 A JP H03209628A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、固定磁気ディスク装置に搭載される磁気デ
ィスクなどの磁気記録媒体およびその製造方法に関する
。
ィスクなどの磁気記録媒体およびその製造方法に関する
。
固定磁気ディスク装置においては、通常、Ｃ８Ｓ （ｃ
ｏｎｔａｃｔ ５ｔａｒｔ ５ｔｏｐ）方式が採られる
。コノために、固定磁気ディスク装置に搭載される磁気
記録媒体（以下、単に媒体とも称する）の表面は、磁気
ヘッドの安定した低浮上走行が可能で、かつ、磁気ヘッ
ドとの摺動が円滑に行われるような適切な表面形状であ
ることが要求される。
ｏｎｔａｃｔ ５ｔａｒｔ ５ｔｏｐ）方式が採られる
。コノために、固定磁気ディスク装置に搭載される磁気
記録媒体（以下、単に媒体とも称する）の表面は、磁気
ヘッドの安定した低浮上走行が可能で、かつ、磁気ヘッ
ドとの摺動が円滑に行われるような適切な表面形状であ
ることが要求される。
固定磁気ディスク装置に搭載される媒体は、般に、ディ
スク状の非磁性基板上に、例えばスパッタ法で、磁性を
高めるための非磁性金属下地層。
スク状の非磁性基板上に、例えばスパッタ法で、磁性を
高めるための非磁性金属下地層。
強磁性金属からなる磁性層、磁性層を外部環境から保護
しかつ媒体表面の潤滑性能を高めるための保護層が順次
成膜積層されてなる。媒体表面の潤滑性能をさらに高め
るために保護層表面に液体潤滑剤を塗布して潤滑層を設
けることも行われるが、媒体の表面形状は媒体表面を形
成する固体層である保護層の表面形状で決まる。これら
の媒体を構成する各層はそれぞれ薄膜であり、全体合わ
せても数千Å以下の厚さであり、従って、媒体の表面形
状は支持体である非磁性基板の表面形状に大きく支配さ
れる。
しかつ媒体表面の潤滑性能を高めるための保護層が順次
成膜積層されてなる。媒体表面の潤滑性能をさらに高め
るために保護層表面に液体潤滑剤を塗布して潤滑層を設
けることも行われるが、媒体の表面形状は媒体表面を形
成する固体層である保護層の表面形状で決まる。これら
の媒体を構成する各層はそれぞれ薄膜であり、全体合わ
せても数千Å以下の厚さであり、従って、媒体の表面形
状は支持体である非磁性基板の表面形状に大きく支配さ
れる。
非磁性基板としては、通常、ディスク状＾β基板の表面
に無電解めっき法でＮｉ−Ｐ合金層を形成したものが用
いられる。このような非磁性基板の表面は以前は鏡面研
磨で仕上げられていた。
に無電解めっき法でＮｉ−Ｐ合金層を形成したものが用
いられる。このような非磁性基板の表面は以前は鏡面研
磨で仕上げられていた。
近年、高密度記録化の要求による磁気ヘッドの低浮上量
化、固定磁気ディスク装置の小型化（低消費電力化）に
対応するための媒体表面のステイクション／フリクンコ
ンの低減が強く望まれているが、前述の鏡面研磨で仕上
げられた非磁性基板を用いた場合には得られる媒体の表
面粗さが小さくてステイクションが大きく、また、砥粒
の突き刺さりによる異常突起が存在し、市場の要求に見
合う媒体を得ることができなかった。
化、固定磁気ディスク装置の小型化（低消費電力化）に
対応するための媒体表面のステイクション／フリクンコ
ンの低減が強く望まれているが、前述の鏡面研磨で仕上
げられた非磁性基板を用いた場合には得られる媒体の表
面粗さが小さくてステイクションが大きく、また、砥粒
の突き刺さりによる異常突起が存在し、市場の要求に見
合う媒体を得ることができなかった。
この対策として、非磁性基板表面を鏡面研磨したのちに
、さらにテープテクスチャアを施すことが行われるよう
になってきた。テープテクスチャアは、ディスク状の非
磁性基板を回転させながら基板表面に研磨テープを圧接
しほぼ円周方向に沿って微細な溝を形成して、所要の適
切に微細にあれだ表面形状としようとする加工方法であ
る。
、さらにテープテクスチャアを施すことが行われるよう
になってきた。テープテクスチャアは、ディスク状の非
磁性基板を回転させながら基板表面に研磨テープを圧接
しほぼ円周方向に沿って微細な溝を形成して、所要の適
切に微細にあれだ表面形状としようとする加工方法であ
る。
従来、このようなテープテクスチャアは一種類の研磨テ
ープで一回のテープテクスチャアが行われていた。その
ような加工においては、研磨テープの砥粒径を大きくす
ると、非磁性基板の表面粗さは大きくなり、得られる媒
体の表面粗さも太きくなってステイクションは低減でき
るが、磁気ヘッドの低浮上量化は望めなくなる。逆に研
磨テープの砥粒径を小さくすると、非磁性基板表面、従
って得られる媒体表面の粗さは小さくなり、磁気へンド
の低浮上量化は実現できるが、ステイクション／フリク
ションは大きくなってしまう。現在、市場では、磁気ヘ
ッドが浮上量０．１μｍ以下で安定浮上走行でき、ｌ１
１ｇ擦係数が０．４以下で、かつ、磁気ヘッドの吸着が
生じない表面形状の媒体が要求されているが、従来のテ
ープテクスチャアで加工された非磁性基板を用いたので
はこれらの要求を同時に満たす媒体を得ることはできな
かった。
ープで一回のテープテクスチャアが行われていた。その
ような加工においては、研磨テープの砥粒径を大きくす
ると、非磁性基板の表面粗さは大きくなり、得られる媒
体の表面粗さも太きくなってステイクションは低減でき
るが、磁気ヘッドの低浮上量化は望めなくなる。逆に研
磨テープの砥粒径を小さくすると、非磁性基板表面、従
って得られる媒体表面の粗さは小さくなり、磁気へンド
の低浮上量化は実現できるが、ステイクション／フリク
ションは大きくなってしまう。現在、市場では、磁気ヘ
ッドが浮上量０．１μｍ以下で安定浮上走行でき、ｌ１
１ｇ擦係数が０．４以下で、かつ、磁気ヘッドの吸着が
生じない表面形状の媒体が要求されているが、従来のテ
ープテクスチャアで加工された非磁性基板を用いたので
はこれらの要求を同時に満たす媒体を得ることはできな
かった。
この問題を解決するために、砥粒径の異なる複数の研磨
テープを用いて複数回テープテクスチャアを行う方法が
提案され検討が進められているが、研磨テープの砥粒径
の適切な選定が難しく、現在まだ満足できるテープテク
スチャアの方法は得られていない。
テープを用いて複数回テープテクスチャアを行う方法が
提案され検討が進められているが、研磨テープの砥粒径
の適切な選定が難しく、現在まだ満足できるテープテク
スチャアの方法は得られていない。
この発明は、上述の点に鑑みてなされたものであって、
磁気ヘッドの低浮上量化とスティクンヨン／フリクンヨ
ンの低減とを同時に達成できる表面形状を有する磁気記
録媒体およびその製造方法を提供することを課題とする
。
磁気ヘッドの低浮上量化とスティクンヨン／フリクンヨ
ンの低減とを同時に達成できる表面形状を有する磁気記
録媒体およびその製造方法を提供することを課題とする
。
上記の課題は、この発明によれば、非磁性基板の表面を
形成しているＮｉ−Ｐ合金層上に少なくとも磁性層２保
護層がこの順に積層されてなる磁気記録媒体において、
その表面粗さが中心線粗さＲａで４０Å以上１００Å以
下、相対負荷曲線の相対負荷長さ１０％におけるカッテ
ィング深さから相対負荷長さ１％におけるカッティング
深さを差し引いた値ｔｐ（１０％−１％）で８０Å以上
２００Å以下の範囲内にある磁気記録媒体とすることに
よって解決される。
形成しているＮｉ−Ｐ合金層上に少なくとも磁性層２保
護層がこの順に積層されてなる磁気記録媒体において、
その表面粗さが中心線粗さＲａで４０Å以上１００Å以
下、相対負荷曲線の相対負荷長さ１０％におけるカッテ
ィング深さから相対負荷長さ１％におけるカッティング
深さを差し引いた値ｔｐ（１０％−１％）で８０Å以上
２００Å以下の範囲内にある磁気記録媒体とすることに
よって解決される。
このような磁気記録媒体は、非磁性基板の表面を形成し
ているＮｉ−Ｐ合金層の表面を中心線平均粗さＲａで３
０Å以下に鏡面研磨し、 さらにその表面に （ａ） 柔軟材による洗剤こすり洗浄ら） 砥粒径２
μｍ以上５μｍ以下の研磨テープによる前段テープテク
スチャア （ｃ） 砥粒径０．５μｍ以上２μｍ未満の研磨テー
プによる後段テープテクスチャア （ｄ） 柔軟材による洗剤こすり洗浄の４工程からな
るテープテクスチャア加工を施して表面粗さをＲａで４
０Å以上８０Å以下、 ｔｌｌ＋ （１０％１％）で
８０Å以上１４０Å以下の範囲内とし、このＮｉ−Ｐ合
金層上に少なくとも磁性層、保護層をスパッタ法でこの
順に成膜積層することによって製造することができる。
ているＮｉ−Ｐ合金層の表面を中心線平均粗さＲａで３
０Å以下に鏡面研磨し、 さらにその表面に （ａ） 柔軟材による洗剤こすり洗浄ら） 砥粒径２
μｍ以上５μｍ以下の研磨テープによる前段テープテク
スチャア （ｃ） 砥粒径０．５μｍ以上２μｍ未満の研磨テー
プによる後段テープテクスチャア （ｄ） 柔軟材による洗剤こすり洗浄の４工程からな
るテープテクスチャア加工を施して表面粗さをＲａで４
０Å以上８０Å以下、 ｔｌｌ＋ （１０％１％）で
８０Å以上１４０Å以下の範囲内とし、このＮｉ−Ｐ合
金層上に少なくとも磁性層、保護層をスパッタ法でこの
順に成膜積層することによって製造することができる。
加工工程（ａ）および（ｄ）におけるこすり洗浄に用い
る柔軟材としてはスポンジ、不織布、ブラシなどが適用
でき、洗剤としては中性洗剤が用いられる。
る柔軟材としてはスポンジ、不織布、ブラシなどが適用
でき、洗剤としては中性洗剤が用いられる。
鏡面加工の施された非磁性基板は、工程（ａ）で機械的
ストレスを受けながら洗浄されることにより、単に洗剤
に接触させるだけの洗浄よりはより完全に、汚れ、残留
砥粒などの異物を除去され、続いて行われる粗面加工が
阻害されることなく均一に行えるようになる。しかも柔
軟材によるこすり洗浄であるから基板表面が損傷される
ことはない。
ストレスを受けながら洗浄されることにより、単に洗剤
に接触させるだけの洗浄よりはより完全に、汚れ、残留
砥粒などの異物を除去され、続いて行われる粗面加工が
阻害されることなく均一に行えるようになる。しかも柔
軟材によるこすり洗浄であるから基板表面が損傷される
ことはない。
次に、工程（ｂ）、（ｃ）で表面粗面化が行われるが、
工程ら）の前段テープテクスチャアでは基板表面があら
され微小突起が形成され、工程（ｃ）の後段テープテク
スチャアでは主として微小突起の頭が削られる。続いて
、工程（ｄ）で基板表面の汚れ、異物が充分に除去され
て、頭の揃った微小突起のある理想的な表面形状で表面
の清浄な非磁性基板が得られる。
工程ら）の前段テープテクスチャアでは基板表面があら
され微小突起が形成され、工程（ｃ）の後段テープテク
スチャアでは主として微小突起の頭が削られる。続いて
、工程（ｄ）で基板表面の汚れ、異物が充分に除去され
て、頭の揃った微小突起のある理想的な表面形状で表面
の清浄な非磁性基板が得られる。
表面粗さのうち、 Ｒａは主として工程（ｂ）で制御さ
れ、ｔｐ（１０％−１％）は工程（ｃ）で制御される。
れ、ｔｐ（１０％−１％）は工程（ｃ）で制御される。
工程（ｂ）で用いる研磨テープ、工程（ｃ）で用いる研
磨テープをそれぞれ適切に選定することにより所要の表
面粗さの基板が得られ、それを用いて媒体を作製するこ
とにより、市場で要求される磁気ヘッドの低浮上量とス
テイクション／フリクションの低減とを同時に達成でき
る表面形状の媒体を得ることが可能となる。
磨テープをそれぞれ適切に選定することにより所要の表
面粗さの基板が得られ、それを用いて媒体を作製するこ
とにより、市場で要求される磁気ヘッドの低浮上量とス
テイクション／フリクションの低減とを同時に達成でき
る表面形状の媒体を得ることが可能となる。
実施例１
５．２５インチディスク状ＡＪ基板（外径１３０ｍｍ、
内径４０ｍｍ ）の表面に無電解めっき法でＮｉ−Ｐ合
金層を形成し、その表面を鏡面研磨して、＾ｌ基板上に
膜厚が１１μｍで表面粗さがＲａで２０人であるＮＩＰ
合金層の設けられた非磁性基板とし、この基板上にテー
プテクスチャア加工を行う。
内径４０ｍｍ ）の表面に無電解めっき法でＮｉ−Ｐ合
金層を形成し、その表面を鏡面研磨して、＾ｌ基板上に
膜厚が１１μｍで表面粗さがＲａで２０人であるＮＩＰ
合金層の設けられた非磁性基板とし、この基板上にテー
プテクスチャア加工を行う。
第１図にテープテクスチャア加工の概念図を示す。基板
１は、まずスピンドル（１）９１に取り付けられ、矢印
Ａの方向に回転させられながら純水ノズル（１）７１
、洗剤ノズル（１）８１からそれぞれ純水、洗剤をかけ
られる。その状態で矢印Ｂの方向に回転するスポンジ（
１）６１が基板１の表面に押し付けられ基板１の表面を
こすりながら洗浄する。鏡面研磨後の汚れ、異物が除去
された基板１はスピンドル（２〕９２に移して取り付け
られる。ここでは矢印Ｃの方向に回転する基板１の表面
に、前段ゴムローラ４にかけられ矢印りの方向に走行す
る前段研磨テープ２を押し付けることにより、前段テー
プテクスチャアが行われる。前段テープテクスチャア終
了後、基板１はスピンドル（３）９３に移され、矢印Ｅ
の方向に回転する基板１の表面に、後段ゴムローラ５に
かけられ矢印Ｆの方向に走行する後段研磨テープ３を押
しつけることにより、後段テープテクスチャアが行われ
る。その後、基板１はスピンドル（４）９４に移され、
矢印Ｇの方向に回転する基板１上に純水ノズル（２）？
２．洗剤ノズル（２）８２からそれぞれ純水、洗剤をか
けながら、矢印Ｈの方向に回転するスポンジ（２）６２
を基板１の表面に押し付は表面をこすりながら洗浄し、
テープテクスチャア加工を終了する。
１は、まずスピンドル（１）９１に取り付けられ、矢印
Ａの方向に回転させられながら純水ノズル（１）７１
、洗剤ノズル（１）８１からそれぞれ純水、洗剤をかけ
られる。その状態で矢印Ｂの方向に回転するスポンジ（
１）６１が基板１の表面に押し付けられ基板１の表面を
こすりながら洗浄する。鏡面研磨後の汚れ、異物が除去
された基板１はスピンドル（２〕９２に移して取り付け
られる。ここでは矢印Ｃの方向に回転する基板１の表面
に、前段ゴムローラ４にかけられ矢印りの方向に走行す
る前段研磨テープ２を押し付けることにより、前段テー
プテクスチャアが行われる。前段テープテクスチャア終
了後、基板１はスピンドル（３）９３に移され、矢印Ｅ
の方向に回転する基板１の表面に、後段ゴムローラ５に
かけられ矢印Ｆの方向に走行する後段研磨テープ３を押
しつけることにより、後段テープテクスチャアが行われ
る。その後、基板１はスピンドル（４）９４に移され、
矢印Ｇの方向に回転する基板１上に純水ノズル（２）？
２．洗剤ノズル（２）８２からそれぞれ純水、洗剤をか
けながら、矢印Ｈの方向に回転するスポンジ（２）６２
を基板１の表面に押し付は表面をこすりながら洗浄し、
テープテクスチャア加工を終了する。
前段右よび後段のテープテクスチャアの条件を第１表に
示すように設定して加工を行ったみ第 １ 表 テープテクスチャア加工後の基板の表面粗さはＲａで７
０人、ｔｐ（１０％−１％）で１２０人であった。
示すように設定して加工を行ったみ第 １ 表 テープテクスチャア加工後の基板の表面粗さはＲａで７
０人、ｔｐ（１０％−１％）で１２０人であった。
このように加工された基板をアルコール洗浄し、その表
面にスパッタ法てＣｒ下地層（膜厚１５００人）Ｃｏ合
金磁性層（膜厚５００人）、Ｃ保護層（膜厚４００人）
を順次成膜積層する。スパッタ後の表面粗さ（これが媒
体の表面粗さとなる）はＲａで７５人、 ｔｐ（１０
％−１％）で１５０人であった。スノマツタは１０ｍＴ
ｏｒｒの后ガス雰囲気中、基板加熱温度２５０℃で行っ
た。
面にスパッタ法てＣｒ下地層（膜厚１５００人）Ｃｏ合
金磁性層（膜厚５００人）、Ｃ保護層（膜厚４００人）
を順次成膜積層する。スパッタ後の表面粗さ（これが媒
体の表面粗さとなる）はＲａで７５人、 ｔｐ（１０
％−１％）で１５０人であった。スノマツタは１０ｍＴ
ｏｒｒの后ガス雰囲気中、基板加熱温度２５０℃で行っ
た。
その後、フロロカーボン系の液体潤滑剤を保護層表面に
ディッピング法て膜厚２０人に塗布して媒体とした。
ディッピング法て膜厚２０人に塗布して媒体とした。
実施例２
実施例１におけるテープテクスチャアの条件を第２表に
示すように変え、その他は実施例１と同様にして媒体を
作製した。
示すように変え、その他は実施例１と同様にして媒体を
作製した。
第２表
テープテクスチャア加工後の基板の表面粗さは、Ｒａで
４０人、 ｔｐ（１０％−１％）で１００人であった
。
４０人、 ｔｐ（１０％−１％）で１００人であった
。
また、スパッタ後の表面粗さはＲａで４５人、ｔｐ（１
０％−１％）で１３０人であった。実施例２におけるテ
ープテクスチャア加工後の基板の表面プロファイル、ス
パッタ後の表面プロファイルを第２図の線図に示す。第
２図（ａ）はテープテクスチャア加工後の基板の表面プ
ロファイルを示す線図、第２図Ｑ：１）はスパッタ後の
表面プロファイルを示す線図である。
０％−１％）で１３０人であった。実施例２におけるテ
ープテクスチャア加工後の基板の表面プロファイル、ス
パッタ後の表面プロファイルを第２図の線図に示す。第
２図（ａ）はテープテクスチャア加工後の基板の表面プ
ロファイルを示す線図、第２図Ｑ：１）はスパッタ後の
表面プロファイルを示す線図である。
比較例１
テープテクスチャア加工を行わず、その他は実施例１と
同様にして媒体を作製した。スパッタ後の表面粗さはＲ
ａで２０人、 ｔｐ（１０％−１％）で３０人であっ
た。
同様にして媒体を作製した。スパッタ後の表面粗さはＲ
ａで２０人、 ｔｐ（１０％−１％）で３０人であっ
た。
上ヒ 較 例 ２
実施例１におけるテープテクスチャアを前段テープテク
スチャアのみとし、その他は実施例１と同様にして媒体
を作製した。スパッタ後の表面粗さ（まＲａで８０人、
ｔｐ（１０％−１％）で２２０人であった。
スチャアのみとし、その他は実施例１と同様にして媒体
を作製した。スパッタ後の表面粗さ（まＲａで８０人、
ｔｐ（１０％−１％）で２２０人であった。
比較例３
実施例２におけるテープテクスチャアを後段テプテクス
チャアのみとし、その他は実施例２と同様にして媒体を
作製した。スパッタ後の表面粗さはＲａで１５人、ｔｐ
（１０％−１％）で３０人であった。
チャアのみとし、その他は実施例２と同様にして媒体を
作製した。スパッタ後の表面粗さはＲａで１５人、ｔｐ
（１０％−１％）で３０人であった。
これらの媒体について、ヘソドバニッシを行った後に、
ＧＨＴ （Ｇｌｉｄｅ ）ｌｉｇｈｔ Ｔｅ５ｔ）およ
びドラッグテストで表面特性の評価を行った。ＧＨＴで
は磁気へノド浮上量０．１μｍで行い検出される突起数
（媒体の面当りの）を調べた。また、ドラッグテストで
は荷重１５ｇｆの薄膜磁気ヘッドを用い、摺動６０分後
の摩擦係数μ６ｏを調べた。その結果を第３表に示す。
ＧＨＴ （Ｇｌｉｄｅ ）ｌｉｇｈｔ Ｔｅ５ｔ）およ
びドラッグテストで表面特性の評価を行った。ＧＨＴで
は磁気へノド浮上量０．１μｍで行い検出される突起数
（媒体の面当りの）を調べた。また、ドラッグテストで
は荷重１５ｇｆの薄膜磁気ヘッドを用い、摺動６０分後
の摩擦係数μ６ｏを調べた。その結果を第３表に示す。
第 ３ 表
突起個数は１以下、摩擦係数μ６ｏは０．４以下が要求
されるが、第３表に見られるとおり、実施例１゜２の媒
体は両者を同時に達成できるが、比較例１２．３の媒体
はいずれかの特性が悪く、実施例のテープテクスチャア
加工方法が非常に有効であることは明らかである。
されるが、第３表に見られるとおり、実施例１゜２の媒
体は両者を同時に達成できるが、比較例１２．３の媒体
はいずれかの特性が悪く、実施例のテープテクスチャア
加工方法が非常に有効であることは明らかである。
また、第３図および第４図は、ドラッグテストにおける
摺動時間による摩擦係数μの変動を例示する線図であり
、第３図は実施例１．第４図は比較例２についての線図
である。第３図では摩擦係数μは値が小さく、しかも摺
動時間が増してもほとんど上昇せず安定しているが、第
４図では摩擦係数μは値が大きく、かつ、摺動時間とと
もに上昇しており、実施例１の媒体が比較例２より優れ
ていることを示している。
摺動時間による摩擦係数μの変動を例示する線図であり
、第３図は実施例１．第４図は比較例２についての線図
である。第３図では摩擦係数μは値が小さく、しかも摺
動時間が増してもほとんど上昇せず安定しているが、第
４図では摩擦係数μは値が大きく、かつ、摺動時間とと
もに上昇しており、実施例１の媒体が比較例２より優れ
ていることを示している。
テープテクスチャア加工において、前段テープテクスチ
ャアの研磨テープとしては砥粒径２μｍ以上５μｍ以下
のものが好ましく、後段テープテクスチャアでは砥粒径
０．５μｍ以上２μｍ未満の研磨テープが好ましい。こ
のような研磨テープを用いてテープテクスチャア加工を
行って得られる表面粗さがＲａで４０Å以上８０Å以下
、ｔｐ（１０％−１％）で８０Ａ以上１４０Å以下の範
囲にある基板を用いることにより、表面粗さがＲａで４
０Å以上１００Å以下、 ｔｐ（１０％−１％）で８
０Å以上２００Å以下の媒体を作製することができ、市
場で要求される磁気ヘッドの低浮上量化、ステイクショ
ン／フリクションの低減に適応することが可能となる。
ャアの研磨テープとしては砥粒径２μｍ以上５μｍ以下
のものが好ましく、後段テープテクスチャアでは砥粒径
０．５μｍ以上２μｍ未満の研磨テープが好ましい。こ
のような研磨テープを用いてテープテクスチャア加工を
行って得られる表面粗さがＲａで４０Å以上８０Å以下
、ｔｐ（１０％−１％）で８０Ａ以上１４０Å以下の範
囲にある基板を用いることにより、表面粗さがＲａで４
０Å以上１００Å以下、 ｔｐ（１０％−１％）で８
０Å以上２００Å以下の媒体を作製することができ、市
場で要求される磁気ヘッドの低浮上量化、ステイクショ
ン／フリクションの低減に適応することが可能となる。
なお、テープテクスチャア加工において、こすり洗浄に
用いられる柔軟材としては、スポンジの他に不織布、ブ
ラシなども好適である。
用いられる柔軟材としては、スポンジの他に不織布、ブ
ラシなども好適である。
この発明によれば、前述の工程（ａ）〜工程（ｄ）から
なるテープテクスチャア加工により表面粗さがＲａで４
０Å以上８０Å以下、 ｔｐ （１０％−１％）で８
０Å以上１４０Å以下の非磁性基板を作製し、 この基
板を用いることにより表面粗さがＲａ で４０Å以上１
００Å以下、 ｔｐ（１０％−１％）で８０Å以上２
００Å以下の磁気記録媒体が得られ、浮上量０．１μｍ
以下での磁気ヘッドの安定した浮上走行が可能なこと。
なるテープテクスチャア加工により表面粗さがＲａで４
０Å以上８０Å以下、 ｔｐ （１０％−１％）で８
０Å以上１４０Å以下の非磁性基板を作製し、 この基
板を用いることにより表面粗さがＲａ で４０Å以上１
００Å以下、 ｔｐ（１０％−１％）で８０Å以上２
００Å以下の磁気記録媒体が得られ、浮上量０．１μｍ
以下での磁気ヘッドの安定した浮上走行が可能なこと。
摩擦係数０．４以下でかつ磁気ヘッドの吸着が生じない
ことという市場の要求を同時に満たすことができる。
ことという市場の要求を同時に満たすことができる。
第１図はこの発明におけるテープテクスチャア加工の一
実施例の概念図、第２図は実施例２におけるテープテク
スチャア加工後の基板の表面プロファイルおよびスパッ
タ後の表面プロファイルを示す線図、第３図は実施例１
の媒体のドラッグテストでの摺動時間と摩擦係数との関
係を示す線図、第４図は比較例２の媒体のドラッグテス
トでの摺動時間と摩擦係数との関係を示す線図である。 １ 基板、２ 前段研磨テープ、３ 後段研磨テープ、
４ 前段ゴムローラ、５ 後段ゴムローラ、６１ ス
ポンジ（１）、６２ スポンジ（２）、７１ 純水
ノズル（１）、７２ 純水ノズル（２）、８１ 洗
剤ノズル（１）、８２ 洗剤ノズル（２）、９１
スピンドル（１）、９２ スピンドル（２）、９３
スピンドル〔３〕、９４ スピンドル（４）。 第 図
実施例の概念図、第２図は実施例２におけるテープテク
スチャア加工後の基板の表面プロファイルおよびスパッ
タ後の表面プロファイルを示す線図、第３図は実施例１
の媒体のドラッグテストでの摺動時間と摩擦係数との関
係を示す線図、第４図は比較例２の媒体のドラッグテス
トでの摺動時間と摩擦係数との関係を示す線図である。 １ 基板、２ 前段研磨テープ、３ 後段研磨テープ、
４ 前段ゴムローラ、５ 後段ゴムローラ、６１ ス
ポンジ（１）、６２ スポンジ（２）、７１ 純水
ノズル（１）、７２ 純水ノズル（２）、８１ 洗
剤ノズル（１）、８２ 洗剤ノズル（２）、９１
スピンドル（１）、９２ スピンドル（２）、９３
スピンドル〔３〕、９４ スピンドル（４）。 第 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）非磁性基板の表面を形成しているＮｉ−Ｐ合金層上
に少なくとも磁性層、保護層がこの順に積層されてなる
磁気記録媒体において、その表面粗さが中心線平均粗さ
Ｒａで４０Å以上１００Å以下、相対負荷曲線の相対負
荷長さ１０％におけるカッティング深さから相対負荷長
さ１％におけるカッティング深さを差し引いた値ｔｐ（
１０％−１％）で８０Å以上２００Å以下の範囲内にあ
ることを特徴とする磁気記録媒体。 ２）非磁性基板の表面を形成しているＮｉ−Ｐ合金層の
表面を中心線平均粗さＲａで３０Å以下に鏡面研磨し、
さらにその表面に （ａ）柔軟材による洗剤こすり洗浄 （ｂ）砥粒径２μｍ以上５μｍ以下の研磨テープによる
前段テープテクスチャア （ｃ）砥粒径０．５μｍ以上２μｍ未満の研磨テープに
よる後段テープテクスチャア （ｄ）柔軟材による洗剤こすり洗浄 の４工程からなるテープテクスチャア加工を行って表面
粗さをＲａで４０Å以上８０Å以下、ｔｐ（１０％−１
％）で８０Å以上１４０Å以下の範囲内とし、このＮｉ
−Ｐ合金層上に少なくとも磁性層、保護層をスパッタ法
でこの順に成膜積層することを特徴とする磁気記録媒体
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP562490A JPH03209628A (ja) | 1990-01-12 | 1990-01-12 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP562490A JPH03209628A (ja) | 1990-01-12 | 1990-01-12 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03209628A true JPH03209628A (ja) | 1991-09-12 |
Family
ID=11616320
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP562490A Pending JPH03209628A (ja) | 1990-01-12 | 1990-01-12 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03209628A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5576087A (en) * | 1992-09-18 | 1996-11-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Magneto-optical recording medium |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01154314A (ja) * | 1987-12-10 | 1989-06-16 | Fuji Electric Co Ltd | 磁気ディスク |
-
1990
- 1990-01-12 JP JP562490A patent/JPH03209628A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01154314A (ja) * | 1987-12-10 | 1989-06-16 | Fuji Electric Co Ltd | 磁気ディスク |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5576087A (en) * | 1992-09-18 | 1996-11-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Magneto-optical recording medium |
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