JPH0358315A - 磁気ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は磁気記録再生装置に用いられる磁気ディスクの
構造に係り、特にハードディスクドライブに使用される
薄膜型磁気ディスクの基板の構造に関する。

（従来の技術） 従来、Ｈ　Ｄ　Ｄ　（ｌｉａｒｄ　Ｄｉｓｋ　Ｄｒｉｖ
ｅ）に使用される薄膜型磁気ディスクにおいては、Ｃ　
Ｓ　Ｓ　（ＣｏｎｔａｃｔＳｔａｒｔ　＆　Ｓｔｏｐ）
時、磁気ディスクと磁気ヘッドとの吸着を回避すること
が信頼性向上を改善する面で最も重要な課題となってい
る。

この吸着現象を回避するために、従来、テクスチャーと
呼ばれる凹凸を基板面に形成したのち、磁性体からなる
磁気記録媒体をこの基板面に形戊した磁気ディスクが見
られる。一般に、このテスクチャー形成プロセスは次の
ようなものである。

まず、例えば、Ａｇ合金等からなる基体の基板面に非磁
性無電解ニッケル膜を施し、研磨によって基板面を鏡面
に仕上げたのち、この基板面を研磨テープ等によって切
削加工し、所望の形状、大きさの凹凸部からなるテクス
チャ一面を表面に形成する。

第６図は従来の磁気ディスク基板図のテスクチャ一面を
示す一部拡大断面図であり、同図において１１は無電解
メッキにより図示しない基体の表面に形戊されたニッケ
ル膜、１２は切削加工等によってニッケル膜１１に形成
された凹部、１３はパリ、１４は凹部１２に捕えらえた
研磨粉などからなる塵埃である。

（本発明が解決しようとする課題） 上述の様に形威されたテクスチャ一面は、切削加工によ
ってニッケル膜１１がセン断破壊され、バリ１３が発生
したり、凹部１２に研磨粉などの塵埃１４か補えられて
いるために、次工程における磁性膜や保護膜の成膜時に
、パリ等・の存在によりこれらの膜が強調された形状、
大きさになる等の問題点があった。

第７図は第６図に示すテクスチャ一面に磁性膜や保護膜
を形成した従来の磁気ディスク２０を示す断面図であり
、同図において、１５は磁性膜及び保護膜であり、パリ
１３等の存在より磁性膜及び保護膜１５は異常に突出し
た突起部１５ａを形成していることを示す。

このため、従来の磁気ディスク２０においては、ＣＳＳ
ｌｌ与に磁気ヘッドがクラッシュを起しやす《、また、
突起部１５ａが容易に摩耗し易く、磁気ヘッドとの接触
面積士曽大による摩擦力の上昇の結果、ヘッドの吸着を
起しやすく、著しく信頼性に欠けるという問題点があっ
た。

（課題を解決するための手段） 本発明は上記課題を解決するためになされたものであり
、表面層にテクスチャー処理が施されたディスク基板上
に、上記表面層に同種又は異種の非磁性金属を非電解メ
ッキにより成膜し、この成膜面上に少なくとも磁性体か
らなる磁気記録媒体層を形威してなることを特徴とする
磁気ディスクを提供しようとするものである。

（実施例） 第１図は本発明になる磁気ディスク３０の断面図であり
、第２図は第１図に示す磁気ディスクのディスク基板３
１を示す断面図であるが、前記従来例の構或要素と同一
構成要素には同一符号を付し説明を省略する。同図にお
いて、３２は本発明の要部である第２の非磁性金属膜で
あり、第６図に示す従来の磁気ディスク基板１０のテク
スチャ一面に無電解メッキにより形或されたものである
（第２図参照）。

３３は前記第２９非磁性金属膜３２上に形戊された本発
明の磁性膜及び保護膜であるが、従来例と異なりテクス
チャ一面のバリ１３や埃塵１４の影響を受けず、比較的
穏やかな凹凸部を形戊していることが分る。

次にこの理由について説明する。

一般的にテープ研磨等で基板面に機械的に加工されたテ
クスチャ一面は、次工程の戊膜面の状態に大きな影響を
与えるものであるが、それと同時に、次工程の或膜方法
によっても大きく異なってく　　る　。

例えば、スパッタリングや電気ツキ等の手法によって、
第６図に示すディスク基板１０のテクスチャ一面に直接
磁性膜及び保護膜１５を形成した場合、パリ１３等の突
起部を核として結晶が成長し、パリ等の突起部の高さが
強調され、異常突起１５ａが形成されることになる。

しかしながら、本発明の様に、無電解メッキ法により、
テクスチャー面を形戊する材料と同一材料又は異種の非
磁性材料をこの上にメッキすると、レベリング（平滑化
）作用によりバリ１３や埃塵１４は容易に被覆され、第
２図に示す様に、比較的穏やかな凹凸部からなるテクス
チャー面を有するディスク基板３１が得られる結果、そ
の上に形或される磁性膜及び保護膜３３も穏やかな凹凸
部となり、異常突起のない本発明の磁気ディスク３０が
得られる。

この傾向はメッキ膜３２の厚さが厚い程顕著となる。

第３図は無電解ニッケル膜厚とその表面粗度との関係を
実験的に求めたグラフであり、横軸にメッキ膜の厚さ（
入）、縦軸に平均粗さＲａ及び最大平均粗さＲｔａを示
す。

但し、最大平均粗さＲｔａは、平均粗さより大きな突起
に着目し、所定の区間を所定の小区間分割したときの各
小区間の最大高さを平均した値である。

第３図から分ることは、メッキ膜３２の厚さを増してい
くと、平均粗さＲａが徐々に小さくなっていくことから
平坦化（平滑化）が進んでいることが分り、また、Ｒｔ
ａの変化がメッキ膜３２の厚さの変化に依存しないこと
から、無電解によるメッキ膜３２が凹部と凸部に均等に
付着したことを示すものである。これらの結果は、異常
突起の性質が失われ、そのかわりに穏やかな凹凸による
高低差が維持された理想的なテクスチャ一面が得られる
ことを示している。

上述の様に形成されたディスク基板３１は平滑で、かつ
、耐摩耗性に優れた突起を有し、更には、加工層パリ、
塵埃の影響を受けることなく次工程の磁性膜や保護膜を
電気メッキやスパッタリングによって戊膜出来る。

換言すれば、この様に形成されたディスク基板３１は１
次工程の磁性膜や保護を戊膜するに際し成膜法を選ばな
い基板であり、これによって製造された磁気ディスクは
耐摩耗性（耐久性）に富みヘッドクラッシュが改善され
た高信頼性の磁気ディスクが得られる。

次に、本発明ｌこなる磁気ディスクの実施例１と従来の
磁気ディスクを比較例にとり、その特性上の相違点や本
発明の特徴的な効果について述べる。

［実施例１コ ＡＮ合金に無電解ニッケルメッキが施され、鏡面ボリツ
シュされた市販の基板にＷＡ＃３．ＯＯＯ　トＷ　Ａ　
＃　ｌｌ，０００の市販研磨テープによって表面粗度Ｒ
ａの約　１４０人のテクスチャーを施したのち、０．５
６μｍの無電解ニッケルメッキ膜をこの上に形成しディ
スク基板とした。

次に、ＤＣマグネトロンスパッタリングにより、クロム
４５０人、磁性膜７００人、カーボン３５０人を順次戊
膜し磁気ディスクとした。

［比較例］ １合金に無電解ニッケルメッキが施された鏡面ボリッシ
ュされた市販の基板に、Ｗ　Ａ　＃　３，０００とＷ　
Ａ　９　８．０００の市販研磨テープにより表面粗度Ｒ
ａ約１４０人のテクスチャーを施し、ディスク基仮とし
た。

次に、ＤＣマグネトロンスパッタリングにより、クロム
４５０人、磁性膜７００人、カーボン３５０人を順次成
膜し磁気ディスクとした。

第４図は、実験的に得られたバーニッシュ（表面の突起
を除去するために行う研磨）回数とグライドカウント（
磁気ヘッドと突起が衝突する回数）との関係を示すグラ
フであり、上記実施例１と比較例について実験したもの
である。

横軸にバーニツシュ回数を示し、縦軸にグラインドカウ
ント数を示す。

同図から明らかな様に、比較例においてはバーニツシュ
回数を増していくとグラインドカウント数は急激に減少
するが、実施例１においては、それより緩やかに減少し
ていることが分る。このことは本発明の磁気ディスクが
、ヘッド衝撃に強い突起を有していることを示している
に外ならない。

第５図は、実施例１及び比較例の磁気ディスクと磁気ヘ
ッドの連続摺ｆ７ｌ（ＣＳＳ加速試ｊＡ）に対する動１
！！擦係数μ，の変化を実験的に求めたグラフであり、
横軸に摺動時間（　ｍｉｎ），縦軸に動摩擦係数μｋを
とってある。

周囲から明らかな様に、比較例においては！１１１１擦
係数μ，の変化は圏動時間と共に急激に大きくなるが、
これに対して実施例１においては肋！１！擦係数μ，の
上昇は比較的緩やかであり、耐摩耗性に優れていること
が分る。

（発明の効果） 上述の様に本発明になる磁気ディスクによれば、表面層
にテクスチャー処理が施されたディスク基板上に、上記
表面層に同種又は異種の非磁性金属を非電解メッキによ
り或膜し、この成膜而上に少なくとも磁性体からなる磁
気記録媒体層を形或したため、磁気ディスク面は平滑で
かつ耐摩耗性に優れた突起を有し、ヘッドクラッシュが
大幅に改善されて高信頼性に富んで磁気ディスクの提供
を可能とするものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明にになる磁気ディスクの断面図、第２図
は第１図に示す磁気ディスクの基板を示す断面図、第３
図は無電解ニッケル膜厚とその表面粗度との関係を実験
的に求めたグラフ、第４図はバーニツシュ回数とグライ
ンドカウントとの関係を示すグラフ、第５図は実施例１
及び比較例の磁気ディスクと磁気ヘッドの連続摺動に対
する勅！！Ｊ［係数μｋの変化を実験的に求めたグラフ
、第６図は従来の磁気ディスク基板のテクスチャ一面を
示す一部拡大断面図、第７図は第６図に示すテクスチャ
一面に磁性膜や保護膜を形或した従来の磁気ディスクを
示す断面図である。 １１・・・ニッケル膜、１２・・・凹部、１３・・・パ
リ、１４・・・塵埃、１５・・・磁性膜及び保護膜、１
５ａ・・・突起部、３０・・・磁気ディスク、３１・・
・ディスク基板、３２・・・非磁性金属膜３３・・・磁
性膜及び保護膜。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 表面層にテクスチャー処理が施されたディスク基板上に
   、上記表面層に同種又は異種の非磁性金属を非電解メッ
   キにより成膜し、この成膜面上に少なくとも磁性体から
   なる磁気記録媒体層を形成してなることを特徴とする磁
   気ディスク。