JPH0321000A - X線自動露出制御装置 - Google Patents
X線自動露出制御装置Info
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- JPH0321000A JPH0321000A JP15235689A JP15235689A JPH0321000A JP H0321000 A JPH0321000 A JP H0321000A JP 15235689 A JP15235689 A JP 15235689A JP 15235689 A JP15235689 A JP 15235689A JP H0321000 A JPH0321000 A JP H0321000A
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- Japan
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- control device
- ray
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- fluoroscopy
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- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 16
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 5
- 238000002594 fluoroscopy Methods 0.000 abstract description 16
- 239000012466 permeate Substances 0.000 abstract 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 20
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 18
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
Landscapes
- X-Ray Techniques (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、X線自動露出装置に関し、特に、被写体厚特
性の補正及びホトタイマ制御技術に関する。
性の補正及びホトタイマ制御技術に関する。
従来のX線透視撮影装置は、X線を被写体に照射し,そ
の透過X線をイメージインテンシファイアに入力し、該
イメージインテンシファイアの出力の一部をホトマルで
採光して撮影条件を設定するX線自動露出制御装置を備
えている。
の透過X線をイメージインテンシファイアに入力し、該
イメージインテンシファイアの出力の一部をホトマルで
採光して撮影条件を設定するX線自動露出制御装置を備
えている。
前記従来のX線自動露出制御装置は,ホトマルの出力を
積分してこの信号をアナログ・ディジタル変換(A/D
変換)して,マイクロコンピュータに入力して.一定(
固定)のホトタイマの目標値(ディジタル値)に達した
時X線をしゃ断するものであった。
積分してこの信号をアナログ・ディジタル変換(A/D
変換)して,マイクロコンピュータに入力して.一定(
固定)のホトタイマの目標値(ディジタル値)に達した
時X線をしゃ断するものであった。
しかしながら,前記従来のX線自動露出制御装置では、
ホトタイマの目標値は被写体厚に関係なく一定であるた
め、被写体厚によってホトマルの出力の積分回路の積分
時定数(アナログ値)を電子回路で切換えて、補正を行
っている。
ホトタイマの目標値は被写体厚に関係なく一定であるた
め、被写体厚によってホトマルの出力の積分回路の積分
時定数(アナログ値)を電子回路で切換えて、補正を行
っている。
この積分回路の積分時定数を電子回路で切換えて変化さ
せるため、積分回路の精度にばらつきが生じるという問
題があった。
せるため、積分回路の精度にばらつきが生じるという問
題があった。
また、積分回路の積分時定数を電子回路で切換え、さら
に、被写体厚の補正を可変抵抗で行っているので,再現
性に問題があった。
に、被写体厚の補正を可変抵抗で行っているので,再現
性に問題があった。
本発明は,前記問題点を解決するためになされたもので
ある。
ある。
本発明の目的は、前記ホトマルの出力の積分回路の積分
時定数を切換えて変化させたとき、積分回路の精度のば
らつきを防止することができる技術を提供することにあ
る. 本発明の他の目的は、被写体厚の補正の再現性を向上さ
せる技術を提供することにある。
時定数を切換えて変化させたとき、積分回路の精度のば
らつきを防止することができる技術を提供することにあ
る. 本発明の他の目的は、被写体厚の補正の再現性を向上さ
せる技術を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述及び添付図面によって明らかになるであろ
う。
明細書の記述及び添付図面によって明らかになるであろ
う。
前記目的を達或するために、本発明は、Xaを被検体に
照射し、その透過X線をイメージインテンシファイアに
入力し、該イメージインテンシファイアの出力の一部を
ホトマルで採光して透視条件を決める系と、該透視条件
により撮影条件を決める系とを備えたX線自動露出制御
装置において、撮影管電圧、撮影管電流及びホトタイマ
の目標値を,透視管電圧からマイクロコンピュータ等で
構成されるX線制御装置で計算して設定し,その後撮影
を開始し、前記ホトマルの出力を積分回路で積分し、こ
の積分値をA/D変換して前記X線制御装置に入力し、
前記積分値と前記設定されたホトタイマの目標値とをX
線制御装置で比較し,等しいか又はそれ以上になった時
X線をしゃ断する制御手段を備えたことを最も主要な特
徴とする。
照射し、その透過X線をイメージインテンシファイアに
入力し、該イメージインテンシファイアの出力の一部を
ホトマルで採光して透視条件を決める系と、該透視条件
により撮影条件を決める系とを備えたX線自動露出制御
装置において、撮影管電圧、撮影管電流及びホトタイマ
の目標値を,透視管電圧からマイクロコンピュータ等で
構成されるX線制御装置で計算して設定し,その後撮影
を開始し、前記ホトマルの出力を積分回路で積分し、こ
の積分値をA/D変換して前記X線制御装置に入力し、
前記積分値と前記設定されたホトタイマの目標値とをX
線制御装置で比較し,等しいか又はそれ以上になった時
X線をしゃ断する制御手段を備えたことを最も主要な特
徴とする。
前記の手段によれば,透視時のホトマルの出力を積分回
路で積分し,この積分値をA/D変換してX線制御装置
に入力し、この値が一定となるように透視管電圧を上下
させる.この時の透視管電圧が被写体厚に対応している
ので、この透視管電圧に対応させてホトタイマの目標を
X線制御装置により計算させる。
路で積分し,この積分値をA/D変換してX線制御装置
に入力し、この値が一定となるように透視管電圧を上下
させる.この時の透視管電圧が被写体厚に対応している
ので、この透視管電圧に対応させてホトタイマの目標を
X線制御装置により計算させる。
また、撮影時のホトマルの出力の積分値をA/D変換し
て,その変換値とホトタイマの目標値とをX線制御装置
により比較して、等しいか又はそれ以上になった時x,
mをしゃ断する。
て,その変換値とホトタイマの目標値とをX線制御装置
により比較して、等しいか又はそれ以上になった時x,
mをしゃ断する。
これにより,撮影時のホトマルの出力の積分時定数を被
写体厚により変えることなく、一定の積分時定数で積分
を行うので,ホトマル信号の積分回路の積分時定数を切
換えて変化させたとき、積分回路の精度のばらつきを防
止することができる。
写体厚により変えることなく、一定の積分時定数で積分
を行うので,ホトマル信号の積分回路の積分時定数を切
換えて変化させたとき、積分回路の精度のばらつきを防
止することができる。
また、ホトタイマの目標値においてもディジタルデータ
とし、被写体厚補正をディジタルデータで処理するので
、電子回路による被写体厚補正回路を削減することがで
き、かつ、ホトタイマの目標値の再現性を向上すること
ができる。
とし、被写体厚補正をディジタルデータで処理するので
、電子回路による被写体厚補正回路を削減することがで
き、かつ、ホトタイマの目標値の再現性を向上すること
ができる。
以下、本発明の一実施例を図面を用いて具体的に説明す
る。
る。
第1図は、本発明のX線自動露出制御装置の一実施例の
概酩構戒を説明するためのブロック図、第2図は,第工
図に示すX線制御装置の詳細構成を示すブロック図、 第3図は,第1図に示すXla自動露出制御装置の動作
を説明するためのフローチャートである。
概酩構戒を説明するためのブロック図、第2図は,第工
図に示すX線制御装置の詳細構成を示すブロック図、 第3図は,第1図に示すXla自動露出制御装置の動作
を説明するためのフローチャートである。
本発明に係るX線透視撮影装置は、第1図に示すように
、X線条件を設定する単巻変圧器13と、X線照射をO
N/OFFさせるサイリスタ (SCR)14と,この
サイリスタ(SCR)14を制御するマイクロコンピュ
ータで構威されるX線制御装置12と、このXg*J御
装[12からの低電圧出力を高電圧に昇圧する高圧トラ
ンス15を通してX線管球1に接続されているX線照射
系を備えている。
、X線条件を設定する単巻変圧器13と、X線照射をO
N/OFFさせるサイリスタ (SCR)14と,この
サイリスタ(SCR)14を制御するマイクロコンピュ
ータで構威されるX線制御装置12と、このXg*J御
装[12からの低電圧出力を高電圧に昇圧する高圧トラ
ンス15を通してX線管球1に接続されているX線照射
系を備えている。
X線管球1から照射されたX線は,被写体2を透過して
、イメージインテンシファイヤ(以下、I.Iという)
3に入力され,光に変換される。
、イメージインテンシファイヤ(以下、I.Iという)
3に入力され,光に変換される。
この変換された光をディストリビュータ5によってテレ
ビカメラ4と光の検出回路に分配する。ここで着出した
信号(以下,ホトマル信号という)を増幅回路(オペア
ンプ)6で増幅する。この増幅回路6において,透視の
時は透視ゲインを決める抵抗7、撮影の時は撮影ゲイン
を決める抵抗8で増幅する。
ビカメラ4と光の検出回路に分配する。ここで着出した
信号(以下,ホトマル信号という)を増幅回路(オペア
ンプ)6で増幅する。この増幅回路6において,透視の
時は透視ゲインを決める抵抗7、撮影の時は撮影ゲイン
を決める抵抗8で増幅する。
この増幅された信号は、透視時においては直接A/D変
換器11でA/D変換し、撮影時においては積分回路1
0(9は積分回路10のオペアンプ、9Aは時定数設定
回路である)によって積分した後、A/D変換器11で
A/D変換してX線制御装置12にデータを取り込むよ
うになっている。前記2つのA/D変換されたデータに
より自動露出制御を行うようになっている。
換器11でA/D変換し、撮影時においては積分回路1
0(9は積分回路10のオペアンプ、9Aは時定数設定
回路である)によって積分した後、A/D変換器11で
A/D変換してX線制御装置12にデータを取り込むよ
うになっている。前記2つのA/D変換されたデータに
より自動露出制御を行うようになっている。
前記xi制御装置12は、第2図に示すように、中央処
理装置(CPU)21.制御プログラムが格納されてい
るEPROM (不揮発メモリ)22、処理等に使用す
るRAM (Random Access Memor
−y) 23,あらかじめ実験で設定されたホトタイマ
の目標値データが格納されているEEPROM(不揮発
メモリ)24,入出力ポート25及びデータ・アドレス
バス26で構成されている。
理装置(CPU)21.制御プログラムが格納されてい
るEPROM (不揮発メモリ)22、処理等に使用す
るRAM (Random Access Memor
−y) 23,あらかじめ実験で設定されたホトタイマ
の目標値データが格納されているEEPROM(不揮発
メモリ)24,入出力ポート25及びデータ・アドレス
バス26で構成されている。
次に、本実施例のX線自動露出制御装置の動作にって説
明する。
明する。
まず,第3図に示すように,透視時において被写体2を
テレビカメラ4によりw4察して適正な輝度となるよう
に制御するため、透視時にA/D変換して得られたデー
タが一定値になるように透視条件を変化させる(ステッ
プ101〜104)。
テレビカメラ4によりw4察して適正な輝度となるよう
に制御するため、透視時にA/D変換して得られたデー
タが一定値になるように透視条件を変化させる(ステッ
プ101〜104)。
ここでは、特に,透視管電圧を変化させている。
つまり、得られたデータが一定値(適正輝度)より低い
時は、透視管電圧を上げ、逆に一定値より高い時は,透
視管電圧を下げて、常に一定位になるように透視管電圧
を自動設定するようになっている。すなわち、適正輝度
にするには、被写体厚が厚ければ透視管電圧を高くし、
逆に被写体厚が薄ければ透視管電圧を低くするようにな
っている。
時は、透視管電圧を上げ、逆に一定値より高い時は,透
視管電圧を下げて、常に一定位になるように透視管電圧
を自動設定するようになっている。すなわち、適正輝度
にするには、被写体厚が厚ければ透視管電圧を高くし、
逆に被写体厚が薄ければ透視管電圧を低くするようにな
っている。
この性質により被写体厚を検出し、被写体厚(透視管電
圧)によってホトタイマの目標値を計算する(ステップ
105)。
圧)によってホトタイマの目標値を計算する(ステップ
105)。
第4図に示すように、透視管電圧60KV、80KV、
IOOKV (このデータの数を増やすほど精度がよく
なる.)ごとにホトタイマの目標値Y60,Y80.Y
IOOをデータとしてEEPROM (不揮発メモリ)
24に記憶しておき、透視管電圧(被写体厚)によって
ホトタイマの目標値を計算する。すなわち、透視管電圧
60KV.80KV、IOOKVの3点で決まる直線上
の点を計算で求める。また、分割撮影の場合には,分割
照射野(サイズ)毎にデータを持っている。EEPRO
M24を用いたのは、書き換えを自由にするためである
。
IOOKV (このデータの数を増やすほど精度がよく
なる.)ごとにホトタイマの目標値Y60,Y80.Y
IOOをデータとしてEEPROM (不揮発メモリ)
24に記憶しておき、透視管電圧(被写体厚)によって
ホトタイマの目標値を計算する。すなわち、透視管電圧
60KV.80KV、IOOKVの3点で決まる直線上
の点を計算で求める。また、分割撮影の場合には,分割
照射野(サイズ)毎にデータを持っている。EEPRO
M24を用いたのは、書き換えを自由にするためである
。
ホトタイマの目標値を計算して設定し,た後,撮影を開
始する(ステップ106)。また,撮影中、ホトマル信
号の積分値を101!ls毎にA/D変換してX線制御
装置12によりホトタイマの目標値と比較する(ステッ
プ107)。その時、両者が等しいか又はA/D変換値
が上回った場合(ステップ108).X線照射をやめる
(ステップ109)。
始する(ステップ106)。また,撮影中、ホトマル信
号の積分値を101!ls毎にA/D変換してX線制御
装置12によりホトタイマの目標値と比較する(ステッ
プ107)。その時、両者が等しいか又はA/D変換値
が上回った場合(ステップ108).X線照射をやめる
(ステップ109)。
前記ステップ108で両者が等しいか又はA/D変換値
が上回っていない場合には、ステップ10714す。
が上回っていない場合には、ステップ10714す。
このようにして、被写体厚が変っても、XH写真の黒化
度を適正なものにすることができる。
度を適正なものにすることができる。
以上の説明からわかるように、本実施例によれば、第5
図(従来のものと本実施例のものとの比較図)に示すよ
うに、被写体厚に応じてホトマル信号の積分値にバイア
ス電圧を加えて被写体厚の変化に対する補正回路を構戒
する必要がない。
図(従来のものと本実施例のものとの比較図)に示すよ
うに、被写体厚に応じてホトマル信号の積分値にバイア
ス電圧を加えて被写体厚の変化に対する補正回路を構戒
する必要がない。
また、X線写真を1枚撮りにするか、四分割撮りにする
かによっても補正する必要があるが,この補正をするた
めの積分時定数を切換える回路も構成する必要がない。
かによっても補正する必要があるが,この補正をするた
めの積分時定数を切換える回路も構成する必要がない。
X線写真の分割サイズによる補正は、第4図に示すよう
に、Z60.Z80.Z100というように分割サイズ
毎にデータを持つことで1!1題を解決している。
に、Z60.Z80.Z100というように分割サイズ
毎にデータを持つことで1!1題を解決している。
また,積分時定数は一定(切換え回路不要)でバイアス
回路によってバイアスを加えることなく、透視条件(透
視管電圧)によってホトタイマの目標を、あらかじめメ
モリされたデータにより計算し,このデータによって撮
影を制御できる。
回路によってバイアスを加えることなく、透視条件(透
視管電圧)によってホトタイマの目標を、あらかじめメ
モリされたデータにより計算し,このデータによって撮
影を制御できる。
また、被写体厚補正だけでなく、フィルムの分割サイズ
によっても補正が必要であるが、従来、この補正は、積
分回路の積分時定数を切替えることで行っていたが、こ
の補正もフィルムの分割サイズによってホトタイマの目
標値を補正計算するようにすれば,補正回路が削減でき
る。
によっても補正が必要であるが、従来、この補正は、積
分回路の積分時定数を切替えることで行っていたが、こ
の補正もフィルムの分割サイズによってホトタイマの目
標値を補正計算するようにすれば,補正回路が削減でき
る。
また、被写体厚特性の補正をX線制御装置12によりデ
ィジタル処理を行ってホトタイマの目標値にするため、
再現性が向上する。
ィジタル処理を行ってホトタイマの目標値にするため、
再現性が向上する。
以上、本発明を実施例にもとすき具体的に説明したが、
本発明は、前記実施例に限定されるものではなく、その
要旨を逸脱しない範囲において神々変更可能であること
は言うまでもない。
本発明は、前記実施例に限定されるものではなく、その
要旨を逸脱しない範囲において神々変更可能であること
は言うまでもない。
以上、説明したように、本発明によれば、被写体厚特性
の補正をX線制御装置によりディジタル処理を行ってホ
トタイマの目標値にするため、再現性が向上する。
の補正をX線制御装置によりディジタル処理を行ってホ
トタイマの目標値にするため、再現性が向上する。
また,撮影時のホトマル信号の積分値は、被写体厚によ
って補正する必要がない(ホトタイマの目標値で補正を
行っているため)ため、電子回路による補正回路が削減
でき低価格化できる。
って補正する必要がない(ホトタイマの目標値で補正を
行っているため)ため、電子回路による補正回路が削減
でき低価格化できる。
また、被写体厚補正だけでなく、フィルムの分割サイズ
によっても補正が必要であるが、従来、この補正は、積
分回路の積分時定数を切替えることで行っていたが、こ
の補正もフィルムの分割サイズによってホトタイマの目
標値を補正計算するようにすれば、補正回路が削減でき
る。
によっても補正が必要であるが、従来、この補正は、積
分回路の積分時定数を切替えることで行っていたが、こ
の補正もフィルムの分割サイズによってホトタイマの目
標値を補正計算するようにすれば、補正回路が削減でき
る。
第工図は、本発明のX線自動露出制御装置の一実施例の
概略構或を説明するためのブロック図、第2図は、第l
図に示すX線制御装置の詳細構或を示すブロック図、 第3図は、第1図に示すX線自動露出制御装置の動作を
説明するためのフローチャート、第4図は、ホトタイマ
の目標値を計算するためのグラフ、 第5図は、第1図に示す実施例の効果を説明するための
図である。 図中、1・・・X線管球,2・・・被写体、3・・・I
.I、4・・・テレビカメラ、5・・・ディストリビュ
ータ、6・・・増幅回路(オペアンプ)、7・・・透視
ゲインを決める抵抗,8・・・撮影ゲインを決める抵抗
,9・・・オペアンプ、9A・・・積分回路の時定数設
定回路, 10・・・積分回路、l1・・A/D変換
器,12・・・X線制御装置、13・・・単巻変圧器、
14・・・SCR、15・・・高圧トランス。 猶ム凪 σ 一〇 ざσ /(/ν F−KV −550− 第 S (A) 従沫II+ ((5) +金β4 時間
概略構或を説明するためのブロック図、第2図は、第l
図に示すX線制御装置の詳細構或を示すブロック図、 第3図は、第1図に示すX線自動露出制御装置の動作を
説明するためのフローチャート、第4図は、ホトタイマ
の目標値を計算するためのグラフ、 第5図は、第1図に示す実施例の効果を説明するための
図である。 図中、1・・・X線管球,2・・・被写体、3・・・I
.I、4・・・テレビカメラ、5・・・ディストリビュ
ータ、6・・・増幅回路(オペアンプ)、7・・・透視
ゲインを決める抵抗,8・・・撮影ゲインを決める抵抗
,9・・・オペアンプ、9A・・・積分回路の時定数設
定回路, 10・・・積分回路、l1・・A/D変換
器,12・・・X線制御装置、13・・・単巻変圧器、
14・・・SCR、15・・・高圧トランス。 猶ム凪 σ 一〇 ざσ /(/ν F−KV −550− 第 S (A) 従沫II+ ((5) +金β4 時間
Claims (1)
- (1)X線を被写体に照射し、その透過X線をイメージ
インテンシファイアに入力し、該イメージインテンシフ
ァイアの出力の一部をホトマルで採光して透視条件を決
める系と、該透視条件により撮影条件を決める系とを備
えたX線自動露出制御装置において、撮影管電圧、撮影
管電流及びホトタイマの目標値を、透視管電圧からマイ
クロコンピュータ等で構成されるX線制御装置により計
算して設定し、その後撮影を開始し、前記ホトマルの出
力を積分回路で積分し、この積分値をアナログ・ディジ
タル変換して前記X線制御装置に入力し、前記積分値と
前記設定されたホトタイマの目標値とをX線制御装置で
比較し、等しいか又はそれ以上になった時X線をしゃ断
する制御手段を備えたことを特徴とするX線自動露出制
御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15235689A JPH0321000A (ja) | 1989-06-16 | 1989-06-16 | X線自動露出制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15235689A JPH0321000A (ja) | 1989-06-16 | 1989-06-16 | X線自動露出制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0321000A true JPH0321000A (ja) | 1991-01-29 |
Family
ID=15538754
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15235689A Pending JPH0321000A (ja) | 1989-06-16 | 1989-06-16 | X線自動露出制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0321000A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5623940A (en) * | 1979-08-03 | 1981-03-06 | Tokyo Shibaura Electric Co | Xxray diagnosis apparatus |
-
1989
- 1989-06-16 JP JP15235689A patent/JPH0321000A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5623940A (en) * | 1979-08-03 | 1981-03-06 | Tokyo Shibaura Electric Co | Xxray diagnosis apparatus |
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