JPH03210561A - リソグラフィー用ペリクル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明はリソグラフィー用ペリクル、特にはＬＳＩ、超
ＬＳＩなどの半導体装置あるいは液晶表示板などを製造
するときに使用される、実買的に５００ｎｕ以下の光を
用いる露光方式におけるリソグラフィー用ゴミよけペリ
クルに関するものである。

（従来の技術） ＬＳＩ　、超ＬＳＩ半導体装置あるいは液晶表示板など
の製造においては半導体ウェーハあるいは液晶用原板に
光を照射してバターニングを作成するのであるが、この
場合に用いられる露光原版にゴミが付着しているとこの
ゴミが光を吸収したり、あるいは光を曲げてしまうため
に転写したバターニングが変形したり、エツジががさつ
いたものとなり、さらには白地が黒く汚れたりして、寸
法、品買ならびに外観が損なわれるという不利が生じる
。

そのため、この種の作業は通常クリーンルームで行なわ
れるのであるが、このクリーンルーム内でも露光原版を
常に清浄に保つことが難しいので、これには露光原版の
表面にゴミよけのために露光用の光をよく通過させるペ
リクルを貼着する方法が採られており、このペリクルと
してはニトロセルロース、酢酸セルロースなどの薄膜が
使用されている。

（発明が解決しようとする訝題） しかし、このニトロセルロース、酢酸セルロースなどで
作られたペリクルは２１０〜４００ｎｍのような短波長
域では大きな吸収端ができるし、安定性が乏しく使用中
に黄変するために、デバイスの製造時に半導体装置にエ
キシマレーザ−やｉ線の紫外線のように波長域が２１０
〜４００ｎｍである露光を行なう超ＬＳＩ用あるいは高
密度の微細液晶表示板などのリソグラフィー用としては
使用できないという不利があり、このような短波長域に
も使用することのできるリソグラフィー用のペリクルの
出現が求められている。

（課題を解決するための手段） 本発明はこのような不利を解決したりリソグラフィー用
ペリクルに関するものであり、これは実質的に５００ｎ
ｍ以下の光を用いる露光方式において、プルラン化合物
膜またはプルラン化合物と多価アルコール化合物との混
合膜をゴミよけ用ペリクルとして用いてなることを特徴
とするものである。

すなわち、本発明者らは短波長域での使用に通したリソ
グラフィー用ペリクルを開発すべく種々検討した結果、
従来公知のニトロセルロース、酢酸セルロースに代えて
プルラン化合物膜またはプルラン化合物と多価アルコー
ル化合物との混合膜を使用したところ、このものは５０
０ｎｍ以下の光もよく通過させるし、２１０〜４００ｎ
ｍの短波長域でも吸収端を生じることがないので、５０
０ｎｍ以下の短波長域でのリソグラフィー用ペリクルと
して有用であるということを見出し、このペリクルとし
てのプルラン化合物膜またはプルラン化合物と多価アル
コール化合物との混合膜の形状、構造、その製造方法、
このプルラン化合物、多価アルコール化合物の種類など
についての研究を進めて本発明を完成させた。

（作用） 本発明のリソグラフィー用ペリクルは前記したようにプ
ルラン化合物膜またはプルラン化合物と多価アルコール
化合物との混合膜を使用するものであるが、この膜はプ
ルラン化合物またはプルラン化合物と多価アルコール化
合物との混合物をシクロヘキサン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド、アセトンなどのような溶剤に適宜に溶解し
たのち、この溶液をスピンコーターやナイフコーターな
どを用いる溶液キャスター法で成形するか、あるいはこ
のプルラン化合物またはプルラン化合物と多価アルコー
ル化合物との混合物をＴダイ法、インフレーション法な
どで溶融押出しする方法などのような公知の方法で膜状
物に成形加工することによフて製造することができる。

ここに使用するプルラン化合物は天然多糖類の１種であ
るが、これはメチル基、エチル基などのアルキル基、ヒ
ドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ジヒドロキ
シプロピル基などのヒドロキシアルキル基、アセチル基
、プロピオニル基などのアシル基などで置換された誘導
体、ざらにはその水酸基の一部または全部が化学的に変
性置換されたものであってもよく、ここに使用される多
価アルコール化合物は通常の多価アルコール、例えばポ
リビニルアルコール、ビニルエーテル・ビニルアルコー
ル共重合体、エチレン・ビニルアルコール共重合体、酢
酸ビニル・ビニルアルコール共重合体、あるいはこれら
の水酸基の一部または全部を化学的に変性置換したもの
で膜成形能を有するものとすればよいが、これらは特に
は２１０〜４００ｎｍのような短波長域での光透過率が
良好で、耐湿性と充分な膜温度をもつものを与えるとい
うことからプルランまたは多価アルコールをアクリロニ
トリルと反応させてその水酸基の一部または全部をシア
ノエチル化したものとすることがよい。なお、このプル
ラン化合物と多価アルコール化合物とを混合する場合の
混合比は任意の範囲とすればよい。

また、このプルラン化合物膜またはプルラン化合物と多
価アルコール化合物との混合膜の厚さは機械的強度をも
たせるために０，５μｍ以上のものとすることがよいが
、２１０　ｎｍ以上の波長域での紫外線をよく通過させ
るために表面反射防止膜を処理した場合でも厚さが３０
０μｍ以下のものとすることが望ましい。

本発明によるプルラン化合物膜またはプルラン化合物と
多価アルコール化合物との混合膜は紫外線透過率が高く
、波長が２１０〜４００ｎｍの短波長域の光もよく透過
させるので、短波長域でのリソグラフィー用ペリクルと
して特に有用とされるが、この使用に当ってはアルミニ
ウムなどの枠体に接着固定して使用することがよい。

（実施例） つぎに本発明の実施例をあげる。

実施例１．比較例 ２０％ジメチルホルムアミド溶液の２０℃における粘度
が３００ｃｐであるシアノエチルプルランの５％アセト
ン溶液をクリアランス５０μｌのナイフコーターを用い
て平滑なガラス板上にキャストし、室温で２４時間乾燥
後、６０℃で２時間、１００℃で１時間乾燥した。

ついで内径１３０ｍｍのアルミニウムフレームの端面に
エポキシ系接着剤・アラルダイトラピッド〔昭和高分子
（株）製部品名〕を塗布したものにこのシアノエチルプ
ルラン薄膜を接着して１時間硬化させたのち、ガラス板
ごと水中に浸漬し、５分径ガラス板から自然に剥離した
ものを取り出し、風乾後、アルミニウムフレームの外側
にはみ出している部分のフィルムを切りとったところ、
均一な張りのある厚さ１．３μ■のリソグラフィー用ペ
リクルとしての薄膜が得られた。

つぎにこの薄膜の光線透過率をしらべたところ、このも
のは２４０〜５００ｎ朧の波長域で９０％以上の透過率
を示し、膜面両面に反射防止処理をしたものにつし）で
は４３６ｎ■のｇ線で９８．８％、３６５ｎ鵬のｉ線で
９８．６％、　２４９ｎ論のエキシマレーザ−で９８．
２％の透過率を示し、さらに２１０ｎ■の透過率が８８
％であり、これはまた使用中に黄変することもなかった
のでペリクルとしてすぐれたものであることが確認され
た。

しかし、比較のためにニトロセルロース・ＨＩＧ−２０
〔旭化成工業（株）製部品名〕の酢酸エチル溶液を用い
たほかは上記と同様に処理して得た厚さ１．４μｍのリ
ソグラフィー用ペリクルは４３６μ■のｇ線の透過率は
９７．９％、３８５ｎｍのｉ線の透過率は９７．５％で
あったが、２４９ｎｍのエキシマレーザ−の透過率は４
１．１％とわるく、これはまたｉ線を使用中に黄変する
ためにペリクルとして使用することができないものであ
った。

実施例２ プルラン５０重量％とポリビニルアルコール５０重量％
の混合物をアクリロニトリルを用いて完全にシアノエチ
ル化したもののメチルエチルケトン５％溶液を作り、こ
れをクリアランス１ｍｍのナイフコーターを用いて平滑
ガラス板上にキャストし、４０℃で２４時間乾燥したの
ち７０℃で４時間、１００℃で２時間乾燥し、ついで水
中に浸漬して膜を自然剥離させて膜厚が２４０μｍの膜
体を作った。

つぎにこの膜体をアルミニウムの端面にエポキシ系接着
材（前出）を用いて平滑となるように接着し、アルミニ
ウムフレームの外側にはみ出した部分を切りとってリソ
グラフィー用ペリクルを作り、このものの光線透過率を
しらべたところ、２４０〜５００ｎａ＋の波長域で９０
％以上の透過率を示し、膜両面に反射防止処理したもの
については４３６ｎｍのｇ線が９５．０％、３６５ｎｍ
の五線が９４．３％、２４９ｎｍのエキシマレーザ−が
９０．８％の光線透過率を示し、このものはまた機械的
強度も充分であり、使用中にペリクルが黄変することも
なかフた。

実施例３ プルラン４０重量％と部分けん化ポリビニルアルコール
（けん化度８０％）６０重量％との混合物を実施例２と
同様の方法でシアノエチル化したものの５％ジメチルホ
ルムアミド溶液を作り、これを用いて実施例１と同様の
方法で厚さ１．５μｍのリソグラフィー用ペリクルを作
り、このものの光線透過率をしらべたところ、２６０〜
５００ｎｍの波長域で９０％以上の透過率を示し、膜両
面に反射防止処理をしたものにつし）では４３６ｎ曹の
ｇ線で９８．０％、３６５ｎｌのｉ線で９７．３％、　
２４９ｎｍのエキシマレーザ−で９０．６％であり、こ
れはまた使用中にペリクルが黄変することもないので、
リソグラフィー用ペリクルとしてすぐれたものであるこ
とが確認された。

（発明の効果） 本発明のリソグラフィー用ペリクルは上記したようにプ
ルラン化合物膜またはプルラン化合物と多価アルコール
化合物との混合膜をゴミよけ用ペリクルとして用いたも
のであるが、このものは２１０〜５００ｎｍの短波長域
をもつ紫外線の光線透過率が高く、使用中に黄変するこ
ともないので、ＬＳＩ　、超ＬＳＩなどの大規模集積回
路あるいは超微細な液晶表示板回路などの露光用ペリク
ルとして有用とされるし、さらには光透過性がすぐれて
いることから露光時間の短縮、厚膜化によるペリクル膜
強度の向上も期待できるという有利性を与えるものであ
る。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、プルラン化合物膜またはプルラン化合物と多価アル
   コール化合物との混合膜をゴミよけ用ペリクルとして用
   いてなることを特徴とするリソグラフィー用ペリクル。 ２、プルラン化合物がシアノエチルプルランである請求
   項１に記載のリソグラフィー用ペリクル。 ３、多価アルコールがシアノエチルポリビニルアルコー
   ルである請求項１に記載のリソグラフィー用ペリクル。