JPH03211803A - 平面コイル - Google Patents
平面コイルInfo
- Publication number
- JPH03211803A JPH03211803A JP735290A JP735290A JPH03211803A JP H03211803 A JPH03211803 A JP H03211803A JP 735290 A JP735290 A JP 735290A JP 735290 A JP735290 A JP 735290A JP H03211803 A JPH03211803 A JP H03211803A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coil pattern
- main coil
- auxiliary
- main
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Coils Or Transformers For Communication (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(II要)
通信装置等に使用する高周波用平面コイルに関し、
インダクタンスの増減調整が容易で且つ小型化を可能と
することを目的とし、 基板の上面の中央に主コイルパターン形成予定部及びこ
の周りに該基板の周縁側が始端、上記主コイルパターン
形成予定部側が終端となるようにうず巻状に形成された
主コイルパターン部を有し、該基板の下面中央に、上記
主コイルパターン形成予定部より大きい補助コイルパタ
ーン形成予定部をイj−L/、1つ該基板にそのF下の
主コイルパターン形成予定部と補助コイルパターン形成
予定部とを電気的に接続する導体を設けてなり、上記主
コイルパターン形成予定部を、該主コイルパターン部の
終端側が延長するようにトリミングしてインダクタンス
値が増加され、上記主コイルパターン部の隣り合うター
ン部の間の膝間に沿って、上記補助コイルバクーン形成
予定部を上記基板と例ゼてトリミングすることにより、
上記主コイルパターン部とは巻き方向が逆である補助コ
イルパターン部が形成されてインダクタンス値が減少さ
れるよう構成する。
することを目的とし、 基板の上面の中央に主コイルパターン形成予定部及びこ
の周りに該基板の周縁側が始端、上記主コイルパターン
形成予定部側が終端となるようにうず巻状に形成された
主コイルパターン部を有し、該基板の下面中央に、上記
主コイルパターン形成予定部より大きい補助コイルパタ
ーン形成予定部をイj−L/、1つ該基板にそのF下の
主コイルパターン形成予定部と補助コイルパターン形成
予定部とを電気的に接続する導体を設けてなり、上記主
コイルパターン形成予定部を、該主コイルパターン部の
終端側が延長するようにトリミングしてインダクタンス
値が増加され、上記主コイルパターン部の隣り合うター
ン部の間の膝間に沿って、上記補助コイルバクーン形成
予定部を上記基板と例ゼてトリミングすることにより、
上記主コイルパターン部とは巻き方向が逆である補助コ
イルパターン部が形成されてインダクタンス値が減少さ
れるよう構成する。
本発明は通信装置等に使用する高周波用平面」イルに湧
する。
する。
通信装置等に使用されている平面コイルは、巻線型のコ
イルと比較して実装高さを低くすることが可能であり、
またレーザートリミングによって所定巻数を得ることに
より任意のインダクタンス値を得ることが可能である。
イルと比較して実装高さを低くすることが可能であり、
またレーザートリミングによって所定巻数を得ることに
より任意のインダクタンス値を得ることが可能である。
この平面コイルにおいては、インダクタンス値の増減の
調整が容易にできるものが望まれている。
調整が容易にできるものが望まれている。
また通信装置等においては、高密度実装が進んでおり、
平面コイル自体は、平面図上、小型であることが望まし
い。
平面コイル自体は、平面図上、小型であることが望まし
い。
第9図は本出願人が先に特願平1−249669号によ
り出願した平面コイル1を示す。
り出願した平面コイル1を示す。
この平面コイル1は、長方形状の基板2上に主コイル部
3と、補助のコイル部4とが4j4設された構造である
。
3と、補助のコイル部4とが4j4設された構造である
。
主コイル部3は、外周端の端子5より内周に向かって時
計方向のうす巻きである主コイルパターン部3aと、中
央部の主コイルパターン形成予定部3bとよりなる。
計方向のうす巻きである主コイルパターン部3aと、中
央部の主コイルパターン形成予定部3bとよりなる。
補助コイル部4は、中央部の補助コイルパターン形成予
定部4bと、これから外周の端F6に向かって時計方向
のうず巻きである補助コイルパターン部4bとよりなる
。
定部4bと、これから外周の端F6に向かって時計方向
のうず巻きである補助コイルパターン部4bとよりなる
。
主、補助コイルパターン形成予定部3b、4bは、スル
ーホール8.導体パターン9.スルーホール10により
導通接続しである。
ーホール8.導体パターン9.スルーホール10により
導通接続しである。
電流は主、補助のコイル部3.4に1で示すように流れ
る。
る。
主コイルパターン部3aに流れる電流1により生ずる磁
界の磁束の向きは、第9図(C)中符号11で示す方向
である。
界の磁束の向きは、第9図(C)中符号11で示す方向
である。
主コイルパターン部4aに流れる電流1により生ずる磁
界の磁束の向きは、符号12で示す方向である。
界の磁束の向きは、符号12で示す方向である。
磁束12は磁束11を打ち消す方向に作用する。
この平面コイル1の全体のインダクタンス値りを下記の
式■に示す。なお、本実施例では主コイルパターン部3
aの巻数が主コイルパターン部4aの巻数より多いもの
とする。
式■に示す。なお、本実施例では主コイルパターン部3
aの巻数が主コイルパターン部4aの巻数より多いもの
とする。
L=k (TI −T2 ) ・・・・・・■ただ
し、TI :主コイルパターン部3bの巻数、 T2 :補助コイルパターン部4aの 巻数、 k:係数である。
し、TI :主コイルパターン部3bの巻数、 T2 :補助コイルパターン部4aの 巻数、 k:係数である。
■式より、主コイルパターン部3bの巻き数を増やすこ
とにより、平面コイル1の全体のインダクタンス値を増
加させることが出来ること、及び補助コイルパターン部
4aの巻き数を増やすことにより、平面コイル1の全体
のインダクタンス値を逆に減少させることが出来ること
が分かる。
とにより、平面コイル1の全体のインダクタンス値を増
加させることが出来ること、及び補助コイルパターン部
4aの巻き数を増やすことにより、平面コイル1の全体
のインダクタンス値を逆に減少させることが出来ること
が分かる。
平面コイル1を通信HM等に実装した状態において、平
面コイル1のインダクタンス値を可変調整する必要があ
る場合には、可変調整を以下のように行う。
面コイル1のインダクタンス値を可変調整する必要があ
る場合には、可変調整を以下のように行う。
インダクタンス値が不足しておりこれを増加させたい場
合には、第9図(A)中、主コイルバタ−ン形成予定部
3bに対して、符号15で示すようにレーザートリミン
グを適量行い、主コイルパターン部3aの巻数を増加さ
せる。
合には、第9図(A)中、主コイルバタ−ン形成予定部
3bに対して、符号15で示すようにレーザートリミン
グを適量行い、主コイルパターン部3aの巻数を増加さ
せる。
例えば、主コイルパターン部3aの巻数をΔ丁1増加さ
せたときの平面コイル1全体のインダクタンス値[−の
変化量△Lを下記の0式に示す。
せたときの平面コイル1全体のインダクタンス値[−の
変化量△Lを下記の0式に示す。
し+△L=k((T+ +△Tl)T2)より、八L
= k△T1 ・・・・・・■つまり、平面コイル
1の全体のインダクタンス値1五に八T1だけ増加する
。
= k△T1 ・・・・・・■つまり、平面コイル
1の全体のインダクタンス値1五に八T1だけ増加する
。
インダクタンス値が大きすぎ、又は上記の調整によりイ
ンダクタンス値が大となりすぎ、これを減少さぜlζい
場合には第9図(A)中、補助コイルパターン形成予定
部4bに対して、符号16で示すようにレーザー1〜リ
ミングを適宜量行い、補助]イルパターン部4aの巻数
を増加させる。
ンダクタンス値が大となりすぎ、これを減少さぜlζい
場合には第9図(A)中、補助コイルパターン形成予定
部4bに対して、符号16で示すようにレーザー1〜リ
ミングを適宜量行い、補助]イルパターン部4aの巻数
を増加させる。
例えば、補助コイルパターン部4aの巻数をΔT2増加
させたときの平面]イル1全体の1−の値の変化量Δ[
′を下記の0式に示す。
させたときの平面]イル1全体の1−の値の変化量Δ[
′を下記の0式に示す。
1−十へし’ =k (T+ −(T2 +△T2
)〉より、△L’=にΔT2 ・・・・・・■つ
まり、平面」イル1全体のインダクタンス(Cはにへ丁
2だけ減少する。
)〉より、△L’=にΔT2 ・・・・・・■つ
まり、平面」イル1全体のインダクタンス(Cはにへ丁
2だけ減少する。
主、補助コイル3,4が並設されているため、基板2は
長方形状となり、平面」イル1はサイズが大きくなって
プリント基板上への実装に要する面積が大となっている
。
長方形状となり、平面」イル1はサイズが大きくなって
プリント基板上への実装に要する面積が大となっている
。
また、第9図<A>、(B)から分かるように、主コイ
ル部3と補助コイル部4とは夫々の矩形状コイルパター
ンのうち−の辺だけで対向しており、hいに作用する磁
界は、各コイル部の360°の全周に口って発生する磁
界のうち、90°に自る部分で発生している磁界に限ら
れている。
ル部3と補助コイル部4とは夫々の矩形状コイルパター
ンのうち−の辺だけで対向しており、hいに作用する磁
界は、各コイル部の360°の全周に口って発生する磁
界のうち、90°に自る部分で発生している磁界に限ら
れている。
従って、主コイルパターン部3a及び補助コイルパター
ン部4aの増加巻き数に対する平面コイル1のインダク
タンス値の変化量は小さく、即ち感度が低く、上記の係
数にの値は小さい。
ン部4aの増加巻き数に対する平面コイル1のインダク
タンス値の変化量は小さく、即ち感度が低く、上記の係
数にの値は小さい。
このため、平面コイル1の全体のインダクタンスを単位
量変化させるに要するレーザートリミング15.16の
長さがその分長くなり、インダクタンス値の増減の調整
が面倒となる。
量変化させるに要するレーザートリミング15.16の
長さがその分長くなり、インダクタンス値の増減の調整
が面倒となる。
本発明はインダクタンスの増減調整が容易で11つ小型
化を図った平面コイルを提供することを目的とする。
化を図った平面コイルを提供することを目的とする。
第1図は本発明の平面」イル20の原叩構成をホす。
21は基板である。
22は主コイルパターン形成予定部であり、基板21の
上面21aの中央に形成しである。
上面21aの中央に形成しである。
23は主コイルパターンであり、ハツチングを何して示
すように、基板21の上面21aのうち、主コイルパタ
ーン形成予定部22の周りに、うf巻状に形成しである
。
すように、基板21の上面21aのうち、主コイルパタ
ーン形成予定部22の周りに、うf巻状に形成しである
。
24は補助コイルパターン形成予定部であり、基板21
の下面21bの中央に形成しである。この補助コイルパ
ターン形成予定部24は、主コイルパターン形成予定部
22よりサイズが大きく、周囲の部分は主コイルパター
ン部23に対向する部位まで張り出している。22Aは
補助コイルパターン形成予定部24に写したコイルパタ
ーン形成予定部22の輪郭を示づ。
の下面21bの中央に形成しである。この補助コイルパ
ターン形成予定部24は、主コイルパターン形成予定部
22よりサイズが大きく、周囲の部分は主コイルパター
ン部23に対向する部位まで張り出している。22Aは
補助コイルパターン形成予定部24に写したコイルパタ
ーン形成予定部22の輪郭を示づ。
25は補助コイルパターンであり、クロスハツチングを
付して示すように、基板21の下面21bに一部形成し
である。
付して示すように、基板21の下面21bに一部形成し
である。
26は導体であり、基板21に形成してあり、主コイル
パターン形成予定部22と補助コイルパターン形成予定
部24とを電気的に接続している。
パターン形成予定部22と補助コイルパターン形成予定
部24とを電気的に接続している。
主コイルパターン部23の巻数をT+、補助コイルパタ
ーン部24の巻数をT2とすると、■)丁2である。
ーン部24の巻数をT2とすると、■)丁2である。
27.28は端子であり、電iiは例えば矢印で示すよ
うに流れる。以下コイルパターン部の巻き方向は、電流
の流れの方向に沿う方向とする。
うに流れる。以下コイルパターン部の巻き方向は、電流
の流れの方向に沿う方向とする。
主コイルパターン部23は、基板21の周縁の端子27
が始端29であり、巻き方向が時計方向であり、主コイ
ルパターン形成予定部22が終端30である。
が始端29であり、巻き方向が時計方向であり、主コイ
ルパターン形成予定部22が終端30である。
補助コイルパターン部25は、補助コイルパターン形成
予定部24が始@i31であり、巻き方向が主コイルパ
ターン部23とは逆であり、反部t1方向であり、端子
28が終端32である。
予定部24が始@i31であり、巻き方向が主コイルパ
ターン部23とは逆であり、反部t1方向であり、端子
28が終端32である。
主コイルパターン形成予定部22を符号34゜35で示
すようにトリミングを行うと、主コイルパターン部23
の巻き数が増え、平面」イル20のインダクタンス1直
が増える。
すようにトリミングを行うと、主コイルパターン部23
の巻き数が増え、平面」イル20のインダクタンス1直
が増える。
主コイルパターン形成予定部22のトリミングは、t・
リミング力を矢印34で示すように作用さけ、矢印35
で示すように移動させて行う。
リミング力を矢印34で示すように作用さけ、矢印35
で示すように移動させて行う。
この1〜リミングにより、主コイルパターン部23の巻
き数が増え、平面コイル20のインダクタンス(直が増
える。
き数が増え、平面コイル20のインダクタンス(直が増
える。
補助コイルパターン形成予定部24のトリミングは、第
2図(A>に併せて示すように、上記のトリミング力よ
り強力なトリミング力を矢印36で示すように、基板2
1の上面2Ia側より、主コイルパターン部23の隣り
合うターン部37a。
2図(A>に併せて示すように、上記のトリミング力よ
り強力なトリミング力を矢印36で示すように、基板2
1の上面2Ia側より、主コイルパターン部23の隣り
合うターン部37a。
37bの間の膝間38に作用させ、これを矢印39で示
すように膝間38に沿って移動させる。
すように膝間38に沿って移動させる。
第2図(B)に示すように、ターン部37a。
37b間の基板21がトリミングされ、史には補助コイ
ルパターン形成予定部24がトリミングされ、符号10
0で示すように除去され補助コイルパターン部25が形
成され又はこの巻き数が増える。
ルパターン形成予定部24がトリミングされ、符号10
0で示すように除去され補助コイルパターン部25が形
成され又はこの巻き数が増える。
補助コイルパターン部25に流れる電流の向きは、主コ
イルパターン部23に流れる電流の向きとは逆であり、
補助のコイルパターン部25に流れる電流により発生し
た磁界の磁束は、主コイルパターン部23に流れる電流
により発生した磁界の磁束を相殺するように作用する。
イルパターン部23に流れる電流の向きとは逆であり、
補助のコイルパターン部25に流れる電流により発生し
た磁界の磁束は、主コイルパターン部23に流れる電流
により発生した磁界の磁束を相殺するように作用する。
従って、補助コイルパターン部25を形成し又はこの巻
き数を増やすと、平面コイル20のインダクタンス値を
減らすことができる。
き数を増やすと、平面コイル20のインダクタンス値を
減らすことができる。
(作用)
補助コイルパターン部25は主コイルパターン部24の
内周側にこれと同心状に形成される。しかも主コイルパ
ターン形成予定部22と補助コイルパターン形成予定部
24とが平面図上略型なり合っており、補助コイルパタ
ーン形成予定部24を配設するためだけにスペースを設
ける必要はない。史には、第2図<8)に示すように補
助コイルパターン部25は主コイルパターン部23の真
下に対応する部位に形成され、補助コイルパターン部2
5を形成するための平面図上のスペースは全く不要とな
り、また、主コイルパターン部23のピッチを広げる必
要もない。
内周側にこれと同心状に形成される。しかも主コイルパ
ターン形成予定部22と補助コイルパターン形成予定部
24とが平面図上略型なり合っており、補助コイルパタ
ーン形成予定部24を配設するためだけにスペースを設
ける必要はない。史には、第2図<8)に示すように補
助コイルパターン部25は主コイルパターン部23の真
下に対応する部位に形成され、補助コイルパターン部2
5を形成するための平面図上のスペースは全く不要とな
り、また、主コイルパターン部23のピッチを広げる必
要もない。
この結果、平面コイル20は従来に比べて略半分の大き
さとなり、小型化される。
さとなり、小型化される。
また、主コイルパターン部23と補助コイルパターン部
24とは同心状に配され、両者はその周方向の一部では
なく、全周360度に亘って磁気的に結合しており、主
コイルパターン部23及び補助コイルパターン部25の
巻き数増加に対する平面コイル20のインダクタンス値
の変化量は従来に比べて大きくなり、前記の係数は従来
に比べて大となる。
24とは同心状に配され、両者はその周方向の一部では
なく、全周360度に亘って磁気的に結合しており、主
コイルパターン部23及び補助コイルパターン部25の
巻き数増加に対する平面コイル20のインダクタンス値
の変化量は従来に比べて大きくなり、前記の係数は従来
に比べて大となる。
これにより平面コイル20のインダクタンスの調整は感
度自り行うことが出来、インダクタンスの調整が容易と
なる。
度自り行うことが出来、インダクタンスの調整が容易と
なる。
また、インダクタンスの増減調整のためのトリミングは
略同じ個所に施せば足り、またインダクタンスを増やす
トリミングの方向とインダクタンスを減らすトリミング
の方向とは同一方向であり、このことによってもインダ
クタンスの調整は容易となる。
略同じ個所に施せば足り、またインダクタンスを増やす
トリミングの方向とインダクタンスを減らすトリミング
の方向とは同一方向であり、このことによってもインダ
クタンスの調整は容易となる。
第3図及び第4図は本発明の一実施例になる平面コイル
40を示す。
40を示す。
41.42は共にセラミック基板であり、略正方形状で
ある。
ある。
基板41の上面41aには、その中央に矩形状の主コイ
ルパターン形成予定部43.この周りに矩形うず巻状の
主コイルパターン部44が形成しである。
ルパターン形成予定部43.この周りに矩形うず巻状の
主コイルパターン部44が形成しである。
第4図及び第5図に示すように、別の基板42の上面4
2aの中央に矩形状の補助コイルパターン形成予定部4
5が形成しである。46は補助コイルパターン部であり
、一部形成しである。
2aの中央に矩形状の補助コイルパターン形成予定部4
5が形成しである。46は補助コイルパターン部であり
、一部形成しである。
主コイルパター2部440巻き数をT+、補助コイルパ
ターン部46の巻き数をT2とすると、丁1 )T2で
ある。
ターン部46の巻き数をT2とすると、丁1 )T2で
ある。
主に、主フィルパターン部44の巻数が平面コイル40
のインダクタンス値を決定し、補助コイルパターン部4
6の巻数が平面コイル40のインダクタンス値を調整す
る。
のインダクタンス値を決定し、補助コイルパターン部4
6の巻数が平面コイル40のインダクタンス値を調整す
る。
基板41.42は第4図に示すように積重されており、
主コイルパターン形成予定Fi43及び主コイルパター
ン部44が基板41の上面41a側に、補助コイルパタ
ーン形成予定部45及び補助コイルパターン部46が同
じく基板41の下面4、1 b側に配されている。
主コイルパターン形成予定Fi43及び主コイルパター
ン部44が基板41の上面41a側に、補助コイルパタ
ーン形成予定部45及び補助コイルパターン部46が同
じく基板41の下面4、1 b側に配されている。
47.48は端子であり、夫々平面コイル400両側の
辺の中央に固定しである。
辺の中央に固定しである。
基板41の中央の孔には半田49が埋まっており、コイ
ルパターン形成予定部43.45を電気的に接続してい
る。
ルパターン形成予定部43.45を電気的に接続してい
る。
電流iは例えば矢印で示すように流れる。即ち、端子4
7→主〕イルパタ一ン部44→主コイルパターン形成予
定部43→半田49−→補助コイルパターン形成予定部
45→補助コイルパターン部46→基板41のスルーホ
ール50→基板41上の配線パターン51→端子48の
順である。コイルパターン部の巻き方向は、電流の方向
に沿う方向とする。
7→主〕イルパタ一ン部44→主コイルパターン形成予
定部43→半田49−→補助コイルパターン形成予定部
45→補助コイルパターン部46→基板41のスルーホ
ール50→基板41上の配線パターン51→端子48の
順である。コイルパターン部の巻き方向は、電流の方向
に沿う方向とする。
主コイルパターン44は、基板41の周縁側が始端52
であり、端子47と接続され、巻き方向が時計方向であ
り、コイルパターン形成予定部43の周縁が終端53で
ある。
であり、端子47と接続され、巻き方向が時計方向であ
り、コイルパターン形成予定部43の周縁が終端53で
ある。
補助コイルパターン部46は、コイルパターン形成予定
′g145の部位が始端54であり、巻き方向が主コイ
ルパターン44とは逆である反[14方向であり、スル
ーホール50の位置が終端55である。
′g145の部位が始端54であり、巻き方向が主コイ
ルパターン44とは逆である反[14方向であり、スル
ーホール50の位置が終端55である。
主コイルパターン部44と補助コイルパターンPI14
6とは、主コイルパターン形成予定部43を中心とする
同心状である。
6とは、主コイルパターン形成予定部43を中心とする
同心状である。
主コイルパターン形成予定部43の輪郭を補助コイルパ
ターン形成予定部45上に描くと第5図中符@43Aで
示す如くになる工即ち、補助コイルパターン形成予定部
45は主コイルパターン形成予定部43より一回り大き
く、周囲の部分は↑コイルパターン部44に対向してい
る。
ターン形成予定部45上に描くと第5図中符@43Aで
示す如くになる工即ち、補助コイルパターン形成予定部
45は主コイルパターン形成予定部43より一回り大き
く、周囲の部分は↑コイルパターン部44に対向してい
る。
56は磁性体製の長方形状のヨーク部材であり、基板4
2の下面に固定しである。
2の下面に固定しである。
上記の平面コイル40は、端子47.48を利用して通
信装置のプリント基板(図示せず)上に実装される。
信装置のプリント基板(図示せず)上に実装される。
平面コイル40の平面図上の大きさは、略矩形状の基板
41と同じ大きさであり、従来より小型であり、従来に
比べて高密度実装される。
41と同じ大きさであり、従来より小型であり、従来に
比べて高密度実装される。
実装した状態で、必要に応じてインダクタンスの調整を
行う。
行う。
平面コイル40の端子47.48間のインダクタンス値
を増やす場合には、第3図申付号60で示すように、主
コイルパターン形成予定部43にレーザートリミングを
行う。
を増やす場合には、第3図申付号60で示すように、主
コイルパターン形成予定部43にレーザートリミングを
行う。
これにより、例えば第6図申付号61で小すように、主
コイルパターン部44と同じ巻き方向のコイルパターン
が主コイルパターン部44の終端側に延長して形成され
、主コイルパター2部440巻き数が増え、前記0式に
従って平面コイル40のインダクタンス値が増える。
コイルパターン部44と同じ巻き方向のコイルパターン
が主コイルパターン部44の終端側に延長して形成され
、主コイルパター2部440巻き数が増え、前記0式に
従って平面コイル40のインダクタンス値が増える。
このときのレーザトリミングは、レーザの強さをセラミ
ック基板41までをトリミングしない強さに定めて行う
。
ック基板41までをトリミングしない強さに定めて行う
。
逆に、平面コイル40のインダクタンス値を減らすには
、a’13図中、符@63で示すように、主コイルパタ
ーン部44の隣り合うターン部64a。
、a’13図中、符@63で示すように、主コイルパタ
ーン部44の隣り合うターン部64a。
64bの間の膝間65に沿って、基板41及びこの下面
側の補助コイルパターン部46をトリミングしつる強さ
のレーザによりレーザー1へリミングを行う。
側の補助コイルパターン部46をトリミングしつる強さ
のレーザによりレーザー1へリミングを行う。
これにより、第8図申付号66で示すように、基板41
及び補助コイルパターン部46が除去され、補助コイル
パターン部46については第7図申付号67で示すよう
に、補助コイルパターン部46と■]じ巻き方向のコイ
ルパターンが補助コイルパターン部46の始端54側に
延長して形成され、補助コイルパターン部46の巻き数
が増え、前記0式に従って平面コイル40のインダクタ
ンス値が減少する。
及び補助コイルパターン部46が除去され、補助コイル
パターン部46については第7図申付号67で示すよう
に、補助コイルパターン部46と■]じ巻き方向のコイ
ルパターンが補助コイルパターン部46の始端54側に
延長して形成され、補助コイルパターン部46の巻き数
が増え、前記0式に従って平面コイル40のインダクタ
ンス値が減少する。
主コイルパターン部44と補助コイルパターン部46と
1ユ同心状の配置関係にあり、第8図に小すように、主
コイルパターン部43に流れる電流iにより生ずる磁界
(符号70iユ磁束を示す)と、補助コイルパターン部
46に流れる電流iにより生ずる磁界(符号71は磁束
を示す)とは、各コイルパターン部の全周360度にe
って相Uに作用し合うことになり、前記式における係数
には従来に比べて人となる。
1ユ同心状の配置関係にあり、第8図に小すように、主
コイルパターン部43に流れる電流iにより生ずる磁界
(符号70iユ磁束を示す)と、補助コイルパターン部
46に流れる電流iにより生ずる磁界(符号71は磁束
を示す)とは、各コイルパターン部の全周360度にe
って相Uに作用し合うことになり、前記式における係数
には従来に比べて人となる。
これにより、コイルパターンの延長長さに対する平面コ
イル40のインダクタンス値の変化がの割合は大となる
。
イル40のインダクタンス値の変化がの割合は大となる
。
従って、所望量のインダクタンス値の調整を、レーザー
トリミングの長さを短くて済ますことができる。
トリミングの長さを短くて済ますことができる。
また、インダクタンス値の増減のためのレーザートリミ
ングの方向は共に時語方向と同方向である。この点から
もレーザトリミングは容易となる。
ングの方向は共に時語方向と同方向である。この点から
もレーザトリミングは容易となる。
また、上記の補助コイルパターン部46の延長コイルパ
ターン67の形成方法及び第8図より分かるように、コ
イルパターン67(補助コイルパターン部46)は、主
コイルパターン部44の真下の位置に主コイルパターン
部44に沿って形成される。
ターン67の形成方法及び第8図より分かるように、コ
イルパターン67(補助コイルパターン部46)は、主
コイルパターン部44の真下の位置に主コイルパターン
部44に沿って形成される。
このため、補助コイルパターン部46(コイルパターン
部67)を配するための平面図上のスペースは不要とな
り、且つ、主コイルパターン部44のピッチを広げてお
く必要もない。
部67)を配するための平面図上のスペースは不要とな
り、且つ、主コイルパターン部44のピッチを広げてお
く必要もない。
これにより、平面コイル40は従来に比べて約1/2の
大きさとなる。
大きさとなる。
以上説明した様に、本発明によれば、補助コイルパター
ン部が主コイルパターン部の真下に形成される構成であ
るため、補助コイルパターン部は基板の大きさを大とす
ることにならf1主コイルパターン部と補助コイルパタ
ーン部とを並設した従来に比べて約1/2の小型化を図
ることが出来、高密度実装に工程である。
ン部が主コイルパターン部の真下に形成される構成であ
るため、補助コイルパターン部は基板の大きさを大とす
ることにならf1主コイルパターン部と補助コイルパタ
ーン部とを並設した従来に比べて約1/2の小型化を図
ることが出来、高密度実装に工程である。
また、主補助コイルパターン部の磁気的結合を全周の3
60°に亘って得ているため、レーザトリミングに対す
るインダクタンス値の変化のν1合が大となり、所望量
のインダクタンスの調整のためのトリミングの長さが短
くて済み、インダクタンスの増減調整を容易に行うこと
が出来る。
60°に亘って得ているため、レーザトリミングに対す
るインダクタンス値の変化のν1合が大となり、所望量
のインダクタンスの調整のためのトリミングの長さが短
くて済み、インダクタンスの増減調整を容易に行うこと
が出来る。
更には、インダクタンスの増減のためのトリミングの方
向は同一方向であり、この点で6インダクタンスの増減
調整を容易に行うことが出来る。
向は同一方向であり、この点で6インダクタンスの増減
調整を容易に行うことが出来る。
第1図は本発明の原理構成図、
第2図は補助コイルパターン形成予定部のトリミングを
説明する第1図中If−II線に沿う断面図、第3図は
本発明の一実施例の平面コイルの平面図、 第4図は第3図中IV−IV線に沿う断面図、第5図は
第3図中、上層の基板を除去して小す図、 第6図はインダクタンス値を増加させるトリミング後の
平面図、 第7図はインダクタンス値を減少させるトリミング後の
補助コイルパターン部を示す図、第8図はインダクタン
ス値を減少させるトリミング後の状態及び主コイルパタ
ーン部と補助コイルパターン部の磁界の相互作用状態を
示す図、第9図は本出願人が先に出願した平面コイルを
示す図である。 図において、 20.40は平面コイル、 21.41.42は基板、 21a、41aは上面、 21b、41bは下面、 22.48は主コイルパターン形成予定部、23.44
は主コイルパターン部、 24.45は補助コイルパターン形成予定部、25.4
6は補助コイルパターン部、 26は導体、 27.28.47.48は端f、 29.31,52.54は始端、 37a、37b、64a、64bはターン部、38.6
5は膝間、 30.32.53.55は終端、 35.39はトリミング方向、 49は¥[l、 57はヨーク部材、 60.63はレー+f1−リミングの方向、61.67
は延長形成されたコイルパターン、66、 100はト
リミングにより陥入された部分、70.71は磁束 を示す。 λQ」会預)An、− 中頃9利の原理11べ図 第 ! 図 (A) (8) 第2図 $3Tfj、’P kJ@ 4籾*ヱλτ云t、−c
#T5第5 図 A>ダクタ>待直玄増力口させるトリミングぞ須、のキ
イ自ffi第 図 第7図 第8図
説明する第1図中If−II線に沿う断面図、第3図は
本発明の一実施例の平面コイルの平面図、 第4図は第3図中IV−IV線に沿う断面図、第5図は
第3図中、上層の基板を除去して小す図、 第6図はインダクタンス値を増加させるトリミング後の
平面図、 第7図はインダクタンス値を減少させるトリミング後の
補助コイルパターン部を示す図、第8図はインダクタン
ス値を減少させるトリミング後の状態及び主コイルパタ
ーン部と補助コイルパターン部の磁界の相互作用状態を
示す図、第9図は本出願人が先に出願した平面コイルを
示す図である。 図において、 20.40は平面コイル、 21.41.42は基板、 21a、41aは上面、 21b、41bは下面、 22.48は主コイルパターン形成予定部、23.44
は主コイルパターン部、 24.45は補助コイルパターン形成予定部、25.4
6は補助コイルパターン部、 26は導体、 27.28.47.48は端f、 29.31,52.54は始端、 37a、37b、64a、64bはターン部、38.6
5は膝間、 30.32.53.55は終端、 35.39はトリミング方向、 49は¥[l、 57はヨーク部材、 60.63はレー+f1−リミングの方向、61.67
は延長形成されたコイルパターン、66、 100はト
リミングにより陥入された部分、70.71は磁束 を示す。 λQ」会預)An、− 中頃9利の原理11べ図 第 ! 図 (A) (8) 第2図 $3Tfj、’P kJ@ 4籾*ヱλτ云t、−c
#T5第5 図 A>ダクタ>待直玄増力口させるトリミングぞ須、のキ
イ自ffi第 図 第7図 第8図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 基板(21,41)の上面(21a,41a)の中央
に主コイルパターン形成予定部(22,43)及びこの
周りに該基板の周縁側が始端(29,52)、上記主コ
イルパターン形成予定部側が終端(31,55)となる
ようにうず巻状に形成された主コイルパターン部(23
,44)を有し、 該基板(21,41)の下面(21b,41b)中央に
、上記主コイルパターン形成予定部(23,44)より
大きい補助コイルパターン形成予定部(24,45)を
有し、 且つ該基板にその上下の主コイルパターン形成予定部と
補助コイルパターン形成予定部とを電気的に接続する導
体(26,49)を設けてなり、上記主コイルパターン
形成予定部(22,43)を、該主コイルパターン部の
終端側が延長するようにトリミングしてインダクタンス
値が増加され、上記主コイルパターン部の隣り合うター
ン部(37a,37b,64a,64b)の間の膝間(
38,65)に沿つて、上記補助コイルパターン形成予
定部(24,45)を上記基板(21,41)と併せて
トリミングすることにより、上記主コイルパターン部と
は巻き方向が逆である補助コイルパターン部(25,4
6)が形成されてインダクタンス値が減少される構成の
平面コイル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP735290A JPH03211803A (ja) | 1990-01-17 | 1990-01-17 | 平面コイル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP735290A JPH03211803A (ja) | 1990-01-17 | 1990-01-17 | 平面コイル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03211803A true JPH03211803A (ja) | 1991-09-17 |
Family
ID=11663564
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP735290A Pending JPH03211803A (ja) | 1990-01-17 | 1990-01-17 | 平面コイル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03211803A (ja) |
-
1990
- 1990-01-17 JP JP735290A patent/JPH03211803A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7280024B2 (en) | Integrated transformer structure and method of fabrication | |
| JP4376493B2 (ja) | プリント回路ボード | |
| US6232562B1 (en) | Hybrid integrated circuit device | |
| JP3610339B2 (ja) | 高密度電子パッケージおよびその製造方法 | |
| JP4247518B2 (ja) | 小型インダクタ/変圧器及びその製造方法 | |
| US5055816A (en) | Method for fabricating an electronic device | |
| DE4306655C2 (de) | Verfahren zum Herstellen eines planaren Induktionselements | |
| US20020047768A1 (en) | Microelectronic magnetic structure, device including the structure, and methods of forming the structure and device | |
| US6188305B1 (en) | Transformer formed in conjunction with printed circuit board | |
| JPH11238634A (ja) | 面実装型コイル部品 | |
| JP3548643B2 (ja) | プレーナーインダクタ | |
| JP2000040620A (ja) | インダクタ及び該インダクタを使用した回路装置 | |
| US10714254B2 (en) | Electronic component | |
| JP3661380B2 (ja) | 平面型インダクタ | |
| JP2005340577A (ja) | 多層プリント基板 | |
| JP6344540B2 (ja) | 電力変換モジュール | |
| JPH06124843A (ja) | 高周波用薄膜トランス | |
| JP3527105B2 (ja) | プリント基板 | |
| JPH03211803A (ja) | 平面コイル | |
| JP3937757B2 (ja) | インダクタンス素子及びその製造方法 | |
| JP3909799B2 (ja) | 半導体集積回路装置 | |
| JPH03209708A (ja) | 平面コイル | |
| JP3114392B2 (ja) | 薄膜形磁気誘導素子 | |
| JPS62142395A (ja) | 多機能回路基板 | |
| JPH03211804A (ja) | 平面コイル |