JPH0321213B2 - - Google Patents
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- JPH0321213B2 JPH0321213B2 JP57093710A JP9371082A JPH0321213B2 JP H0321213 B2 JPH0321213 B2 JP H0321213B2 JP 57093710 A JP57093710 A JP 57093710A JP 9371082 A JP9371082 A JP 9371082A JP H0321213 B2 JPH0321213 B2 JP H0321213B2
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- JP
- Japan
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- temperature
- low
- temperature plasma
- reactor
- electrode plate
- Prior art date
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/14—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/14—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment
- B29C2059/147—Low pressure plasma; Glow discharge plasma
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
- B29K2313/00—Use of textile products or fabrics as reinforcement
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Or Physical Treatment Of Fibers (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
- Treatment Of Fiber Materials (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、編物、織物、不織布等の繊維製品あ
るいはフイルムを連続的に低温プラズマ処理する
ための低温プラズマ処理装置における低温プラズ
マ雰囲気中の被処理物の温度を制御することがで
きるようにした方法及び装置に関するものであ
る。
るいはフイルムを連続的に低温プラズマ処理する
ための低温プラズマ処理装置における低温プラズ
マ雰囲気中の被処理物の温度を制御することがで
きるようにした方法及び装置に関するものであ
る。
従来、工業的に織物、織物、不織布などの布帛
あるいは紐、カーペツトなどの繊維製品あるいは
フイルムを連続的に処理する例えば染色前の工程
では、繊維に付着している撥水性夾雑物の除去、
あるいは親水化し布帛に染料液が容易に浸透せし
めるための精練工程および染色後柔軟、撥水、静
電防止、防汚、吸水などの特性を付与する仕上工
程があるが、いずれの工程も水系で処理を行つて
いた。
あるいは紐、カーペツトなどの繊維製品あるいは
フイルムを連続的に処理する例えば染色前の工程
では、繊維に付着している撥水性夾雑物の除去、
あるいは親水化し布帛に染料液が容易に浸透せし
めるための精練工程および染色後柔軟、撥水、静
電防止、防汚、吸水などの特性を付与する仕上工
程があるが、いずれの工程も水系で処理を行つて
いた。
たとえば精練工程では、木綿を含む布帛の場合
カセイソーダ、ソーダ灰などのアルカリ精練助剤
を付与し、100℃前後で20分以上スチーミングあ
るいはアルカリ、精練助剤を含む水溶液で煮沸し
て、撥水性夾雑物を水溶化せしめ次いで処理布帛
に付着している薬剤および可溶化された夾雑物等
の付着物を除去するための手段として水洗を繰り
返し行い更には、水洗後乾燥する工程が必要であ
つた。
カセイソーダ、ソーダ灰などのアルカリ精練助剤
を付与し、100℃前後で20分以上スチーミングあ
るいはアルカリ、精練助剤を含む水溶液で煮沸し
て、撥水性夾雑物を水溶化せしめ次いで処理布帛
に付着している薬剤および可溶化された夾雑物等
の付着物を除去するための手段として水洗を繰り
返し行い更には、水洗後乾燥する工程が必要であ
つた。
また仕上工程においては、水に溶解あるいは分
散させた仕上加工剤を付与した後乾燥機を通して
水分を蒸発除去させる工程が必要であり加工目的
によつてはさらに高温熱処理により仕上剤を反応
固着せしめる工程が必要であつた。
散させた仕上加工剤を付与した後乾燥機を通して
水分を蒸発除去させる工程が必要であり加工目的
によつてはさらに高温熱処理により仕上剤を反応
固着せしめる工程が必要であつた。
ところがかかる処理手段では処理用の薬剤がコ
スト高になること、薬剤を布帛に反応せしめるた
めに多量の熱量を必要とすること、さらには、精
練工程の場合処理された布帛に含まれる残液、あ
るいは夾雑物及び又は付着物を除去せしめるため
の多数の水洗機、及びこれらの各水洗機内に供給
すべき多量の水資源が必要であること、更に水洗
された排液を廃棄処理するための装置が必要であ
る等のことから、布帛を処理するには多量の水資
源、熱エネルギー設備費等がかさんでいるのが現
状である。更には水洗機より排出される廃液中に
は必然的にも薬剤が含まれることから、排液公害
等の問題も生じ該廃液の処理にも多大なる設備
費、人件費等が嵩んでいのもので、特に繊維加工
業界においては、経済的に欠けるものであつた。
スト高になること、薬剤を布帛に反応せしめるた
めに多量の熱量を必要とすること、さらには、精
練工程の場合処理された布帛に含まれる残液、あ
るいは夾雑物及び又は付着物を除去せしめるため
の多数の水洗機、及びこれらの各水洗機内に供給
すべき多量の水資源が必要であること、更に水洗
された排液を廃棄処理するための装置が必要であ
る等のことから、布帛を処理するには多量の水資
源、熱エネルギー設備費等がかさんでいるのが現
状である。更には水洗機より排出される廃液中に
は必然的にも薬剤が含まれることから、排液公害
等の問題も生じ該廃液の処理にも多大なる設備
費、人件費等が嵩んでいのもので、特に繊維加工
業界においては、経済的に欠けるものであつた。
このようなことから、最近では、布帛等の繊維
製品に低温プラズマ雰囲気で処理して、例えば布
帛の糊抜、精練効果あるいは仕上加工効果を得る
ことが提案されているが、この布帛の低温プラズ
マ（以下これを単にプラズマと称す）処理時にお
ける布帛の温度を変化させることにより、その反
応器内の真空度及び高周波エネルギーが一定であ
つても、繊維製品へのプラズマ処理効果を変化さ
せることができることに着目して本発明がなされ
たものである。即ちプラズマ反応器内の真空度及
び高周波エネルギーが一定であつても、その反応
器内のプラズマ雰囲気中の繊維製品温度を上昇さ
せることにより、繊維製品へのプラズマ反応速度
が早くなりそのプラズマ反応処理時間を短縮する
ことができる。また耐熱性の弱い繊維製品のプラ
ズマ処理時においてはそのプラズマ雰囲気中の繊
維製品温度を低下させることが望ましい。すなわ
ち、プラズマ雰囲気中の繊維製品温度を低下させ
ることによりその処理時間は延びるが、耐熱性の
弱い繊維製品の焦げや痩化を防止することができ
る。従つて、このようなことからプラズマ処理す
べき繊維製品の品質に応じてプラズマ雰囲気中の
繊維製品温度を加減することができれば繊維製品
の質に応じて効率よく、しかもその品質低下を招
くことなくプラズマ処理を行なうことができる。
製品に低温プラズマ雰囲気で処理して、例えば布
帛の糊抜、精練効果あるいは仕上加工効果を得る
ことが提案されているが、この布帛の低温プラズ
マ（以下これを単にプラズマと称す）処理時にお
ける布帛の温度を変化させることにより、その反
応器内の真空度及び高周波エネルギーが一定であ
つても、繊維製品へのプラズマ処理効果を変化さ
せることができることに着目して本発明がなされ
たものである。即ちプラズマ反応器内の真空度及
び高周波エネルギーが一定であつても、その反応
器内のプラズマ雰囲気中の繊維製品温度を上昇さ
せることにより、繊維製品へのプラズマ反応速度
が早くなりそのプラズマ反応処理時間を短縮する
ことができる。また耐熱性の弱い繊維製品のプラ
ズマ処理時においてはそのプラズマ雰囲気中の繊
維製品温度を低下させることが望ましい。すなわ
ち、プラズマ雰囲気中の繊維製品温度を低下させ
ることによりその処理時間は延びるが、耐熱性の
弱い繊維製品の焦げや痩化を防止することができ
る。従つて、このようなことからプラズマ処理す
べき繊維製品の品質に応じてプラズマ雰囲気中の
繊維製品温度を加減することができれば繊維製品
の質に応じて効率よく、しかもその品質低下を招
くことなくプラズマ処理を行なうことができる。
本発明はかかることから鑑みてなされたもの
で、構造簡単にしてプラズマ雰囲気中の被処理物
（繊維製品あるいはフイルム等）の温度を加減す
ることができるようにした低温プラズマ雰囲気中
の被処理物温度制御方法及びその装置を提供する
ことを目的とするものである。
で、構造簡単にしてプラズマ雰囲気中の被処理物
（繊維製品あるいはフイルム等）の温度を加減す
ることができるようにした低温プラズマ雰囲気中
の被処理物温度制御方法及びその装置を提供する
ことを目的とするものである。
以下に本発明を図面に示す実施例に基いて詳細
に説明する。
に説明する。
１は連続処理が可能な反応器であつて、この反
応器１は低温プラズマ処理すべき布帛２をこの反
応器１内に連続的に導入するための導入口３と、
反応器１内の布帛を連続的に導出させるための導
出口４が設けられている。またこの導入口３及び
導出口４の夫々には、布帛を連続的に挿通するこ
とはできるが、反応器１内を真空（0.1〜
10Torr、望ましくは0.5〜2Torr）に保つことが
できるシール機構５及び６が設けられているが、
かかるシール機構５，６は、本発明者らが開発し
ている公知のシール機構を利用することによつて
反応器１の導入口及び導出口をシールすることが
できる。更にこの反応器１の内部には、低温プラ
ズマ処理機構が設けられているが、この低温プラ
ズマ処理機構は移行する布帛２の移送路を境とし
て上方に設置された高周波発生電極７と、その下
方に設置されたアース電極８とを有し、この一方
の高周波発生電極７には反応器１外に設箱された
発振器（図示せず）からの高周波が供給されてい
るものであり、他方のアース電極８はアースされ
ている。上記の高周波発生電極７は金網あるいは
多孔性の金属板等で平面的に形成されており、ま
たアース電極８は第２図に示す如く金属管を密間
隔で蛇行状かつ平面状に折曲げ形成したものであ
る。９は高周波発生電極７の全面に向けてガスを
吹き出すための絶縁材料からなるガスノズル、１
０はアース電極８を囲むようにして形成されてい
る絶縁性材料からなる吸気ダクトであつて、この
吸気ダクト１０は図示しない真空ポンプに接続さ
れている。１１は反応器１内に配設された布帛の
ガイドロールであつて、このガイドロールにより
上下対の電極７と８との間に形成される布帛通路
１２内に布帛を移送することができる。また前記
のアース電極８を形成している金続管内には反応
器１の外部より湯又は水、油、気体等流通するこ
とができ、この金属管内を通つた流体は反応器１
外に設けた温度計１３によつてその流体温を測定
することもできるようになつている。
応器１は低温プラズマ処理すべき布帛２をこの反
応器１内に連続的に導入するための導入口３と、
反応器１内の布帛を連続的に導出させるための導
出口４が設けられている。またこの導入口３及び
導出口４の夫々には、布帛を連続的に挿通するこ
とはできるが、反応器１内を真空（0.1〜
10Torr、望ましくは0.5〜2Torr）に保つことが
できるシール機構５及び６が設けられているが、
かかるシール機構５，６は、本発明者らが開発し
ている公知のシール機構を利用することによつて
反応器１の導入口及び導出口をシールすることが
できる。更にこの反応器１の内部には、低温プラ
ズマ処理機構が設けられているが、この低温プラ
ズマ処理機構は移行する布帛２の移送路を境とし
て上方に設置された高周波発生電極７と、その下
方に設置されたアース電極８とを有し、この一方
の高周波発生電極７には反応器１外に設箱された
発振器（図示せず）からの高周波が供給されてい
るものであり、他方のアース電極８はアースされ
ている。上記の高周波発生電極７は金網あるいは
多孔性の金属板等で平面的に形成されており、ま
たアース電極８は第２図に示す如く金属管を密間
隔で蛇行状かつ平面状に折曲げ形成したものであ
る。９は高周波発生電極７の全面に向けてガスを
吹き出すための絶縁材料からなるガスノズル、１
０はアース電極８を囲むようにして形成されてい
る絶縁性材料からなる吸気ダクトであつて、この
吸気ダクト１０は図示しない真空ポンプに接続さ
れている。１１は反応器１内に配設された布帛の
ガイドロールであつて、このガイドロールにより
上下対の電極７と８との間に形成される布帛通路
１２内に布帛を移送することができる。また前記
のアース電極８を形成している金続管内には反応
器１の外部より湯又は水、油、気体等流通するこ
とができ、この金属管内を通つた流体は反応器１
外に設けた温度計１３によつてその流体温を測定
することもできるようになつている。
以上が本実施例の構成であるが、次にその作用
について述べると、先ず真空ポンプ（図示せず）
を駆動して反応器１内の真空度が0.5〜5Torrと
なるように減圧した後、ガスノズル９より空気又
は酸素あるいはその他のガスを反応器１内に供給
して、この反応器１内の真空度が約1Torrとなる
ように調整する。そこで高周波電源（図示せず）
より高周波、例えば13.56MHzを高周波発生電極
に給電してプラズマを発生させる。かくして発生
するプラズマ及びこのプラズマにより励起された
ガスの雰囲気中、即ち両電極７，８間の布帛通路
１２内に布帛２を移行せしめることにより、該布
帛２の繊維に低温プラズマが作用し、布帛の親水
化が達成されるものであるが、上記プラズマの発
生を持続することによつてそのプラズマ雰囲気中
が加熱されるが、この加熱温度が上昇されると、
上記被処理布帛２が、例えば耐熱性に弱い化繊で
ある場合には、該布帛が痩化したり、焦げを生じ
ることがあるので、そのプラズマ雰囲気中を走行
する被処理物の温度を低下させる必要がある。そ
こで、上記のアース電極を兼ねている金属管８内
へ例えば冷水を通水することにより、該電極を冷
却し、更に上記プラズマ雰囲気中を走行する被処
理物２を、その冷却電極８に近接又は接触させて
移行させることによりプラズマ雰囲気中の被処理
物の温度を低下させることができるので、その被
処理物の品質低下を防止することができる。
について述べると、先ず真空ポンプ（図示せず）
を駆動して反応器１内の真空度が0.5〜5Torrと
なるように減圧した後、ガスノズル９より空気又
は酸素あるいはその他のガスを反応器１内に供給
して、この反応器１内の真空度が約1Torrとなる
ように調整する。そこで高周波電源（図示せず）
より高周波、例えば13.56MHzを高周波発生電極
に給電してプラズマを発生させる。かくして発生
するプラズマ及びこのプラズマにより励起された
ガスの雰囲気中、即ち両電極７，８間の布帛通路
１２内に布帛２を移行せしめることにより、該布
帛２の繊維に低温プラズマが作用し、布帛の親水
化が達成されるものであるが、上記プラズマの発
生を持続することによつてそのプラズマ雰囲気中
が加熱されるが、この加熱温度が上昇されると、
上記被処理布帛２が、例えば耐熱性に弱い化繊で
ある場合には、該布帛が痩化したり、焦げを生じ
ることがあるので、そのプラズマ雰囲気中を走行
する被処理物の温度を低下させる必要がある。そ
こで、上記のアース電極を兼ねている金属管８内
へ例えば冷水を通水することにより、該電極を冷
却し、更に上記プラズマ雰囲気中を走行する被処
理物２を、その冷却電極８に近接又は接触させて
移行させることによりプラズマ雰囲気中の被処理
物の温度を低下させることができるので、その被
処理物の品質低下を防止することができる。
またそれとは逆に耐熱性が高い被処理布帛の場
合は、そのプラズマ雰囲気中の被処理物の温度を
高くすることによりプラズマ反応時間を早めるこ
とができるので、この場合には金属管８内へ加熱
流体を流通させ金属管８を加熱し、更に上記プラ
ズマ雰囲気中を走行する被処理物２をその金属管
８に近接又は接触させて進行させることにより、
プラズマ雰囲気中の被処理物の温度を効果的に可
熱することができるものである。
合は、そのプラズマ雰囲気中の被処理物の温度を
高くすることによりプラズマ反応時間を早めるこ
とができるので、この場合には金属管８内へ加熱
流体を流通させ金属管８を加熱し、更に上記プラ
ズマ雰囲気中を走行する被処理物２をその金属管
８に近接又は接触させて進行させることにより、
プラズマ雰囲気中の被処理物の温度を効果的に可
熱することができるものである。
以上のように本発明は繊違製品あるいはフイル
ム等を低温プラズマ処理するための低温プラズマ
反応器内に流通できる金属管を屈曲させて電極を
形成し、この電極によつて発生される低温プラズ
マ雰囲気中を通過する被処理物の温度を、この電
極内に流通させる流体で制御するようにしたもの
であるから、そのプラズマ雰囲気中の被処理物の
温度を処理すべき被処理物に応じて、制御するこ
とにより低温プラズマ処理の処理時間を早めるこ
と、あるいは高温による被処理物の損傷を未然に
防止すること、さらには、繊維製品の内芯部にま
で低温プラズマガスを作用させて有効な低温プラ
ズマ処理布帛を得ることができる等の効果があ
る。
ム等を低温プラズマ処理するための低温プラズマ
反応器内に流通できる金属管を屈曲させて電極を
形成し、この電極によつて発生される低温プラズ
マ雰囲気中を通過する被処理物の温度を、この電
極内に流通させる流体で制御するようにしたもの
であるから、そのプラズマ雰囲気中の被処理物の
温度を処理すべき被処理物に応じて、制御するこ
とにより低温プラズマ処理の処理時間を早めるこ
と、あるいは高温による被処理物の損傷を未然に
防止すること、さらには、繊維製品の内芯部にま
で低温プラズマガスを作用させて有効な低温プラ
ズマ処理布帛を得ることができる等の効果があ
る。
図面はいずれも本発明を実施する有効な装置の
実施例を示し、第１図はその断面図、第２図はア
ース電極のみの平面図である。 １……反応器、２……布帛、３……導入口、４
……導出口、５，６……シール機構、７……高周
波発生電極、８……アース電極、９……ガスノズ
ル、１０……吸気ダクト、１１……ガイドロー
ル、１２……布帛通路、１３……温度計。
実施例を示し、第１図はその断面図、第２図はア
ース電極のみの平面図である。 １……反応器、２……布帛、３……導入口、４
……導出口、５，６……シール機構、７……高周
波発生電極、８……アース電極、９……ガスノズ
ル、１０……吸気ダクト、１１……ガイドロー
ル、１２……布帛通路、１３……温度計。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 繊維製品あるいはフイルム等を低温プラズマ
処理するための低温プラズマ反応器内に、熱媒体
を流通できる金属管を用いて電極板に形成すると
共に、その電極板の板厚方向に通気性をもたらせ
るための隙間を形成してなる低温プラズマ発生極
板を内装し、この極板によつて発生される低温プ
ラズマ雰囲気中を通過する被処理物の温度を、こ
の電極内に流通させる流体で制御することを特徴
とする低温プラズマ雰囲気中の被処理物温度制御
方法。 ２ 繊維製品あるいはフイルム等を低温プラズマ
処理する反応器を有する低温プラズマ処理装置に
おいて、その反応器内に、温度制御流体を流通し
得る極板を形成すると共に、その極板の板厚方向
に通気する隙間を形成してなる低温プラズマ発生
極板を配置したことを特徴とする低温プラズマ雰
囲気中の被処理物温度制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57093710A JPS58210844A (ja) | 1982-06-01 | 1982-06-01 | 低温プラズマ雰囲気中の被処理物温度制御方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57093710A JPS58210844A (ja) | 1982-06-01 | 1982-06-01 | 低温プラズマ雰囲気中の被処理物温度制御方法及びその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58210844A JPS58210844A (ja) | 1983-12-08 |
| JPH0321213B2 true JPH0321213B2 (ja) | 1991-03-22 |
Family
ID=14089968
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57093710A Granted JPS58210844A (ja) | 1982-06-01 | 1982-06-01 | 低温プラズマ雰囲気中の被処理物温度制御方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58210844A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012059872A (ja) * | 2010-09-08 | 2012-03-22 | Hitachi High-Technologies Corp | 熱処理装置 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6119343A (ja) * | 1984-07-05 | 1986-01-28 | Shin Etsu Chem Co Ltd | タイヤコ−ド平織状物の低温プラズマ処理方法 |
| JPS6328967A (ja) * | 1986-07-18 | 1988-02-06 | ユニチカ株式会社 | 繊維製品の低温プラズマ処理方法及びその装置 |
| ATE553242T1 (de) * | 2003-05-05 | 2012-04-15 | Commw Scient Ind Res Org | Plasmabehandlungsvorrichtung und -verfahren |
| JP2011222404A (ja) * | 2010-04-13 | 2011-11-04 | Akitoshi Okino | プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置ならびにプラズマ処理された処理対象物 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6039088B2 (ja) * | 1977-12-08 | 1985-09-04 | 東レ株式会社 | 高分子樹脂の放電処理方法 |
| JPS5718737A (en) * | 1980-06-21 | 1982-01-30 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Apparatus for continuous plasma treatment |
-
1982
- 1982-06-01 JP JP57093710A patent/JPS58210844A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012059872A (ja) * | 2010-09-08 | 2012-03-22 | Hitachi High-Technologies Corp | 熱処理装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58210844A (ja) | 1983-12-08 |
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