JPH03212649A - 電子写真用感光体 - Google Patents
電子写真用感光体Info
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- JPH03212649A JPH03212649A JP791190A JP791190A JPH03212649A JP H03212649 A JPH03212649 A JP H03212649A JP 791190 A JP791190 A JP 791190A JP 791190 A JP791190 A JP 791190A JP H03212649 A JPH03212649 A JP H03212649A
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- electrophotographic photoreceptor
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- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、電子写真用感光体、特に光導電層の表面に表
面保護層を有する電子写真用感光体の改良に関する。
面保護層を有する電子写真用感光体の改良に関する。
従来、電子写真用感光体としては、導電性支持体上にセ
レンないしセレン合金を主体とする光導電層を設けたも
の、酸化亜鉛、硫化カドミウムなどの無機光導電材料を
バインダー中に分散させたもの、ポリ−N−ビニルカル
バゾールとトリニトロフルオレノンあるいはアゾ顔料な
どの有機光導電材料を用いたもの及び非晶質シリコンを
用いたもの等が一般に知られている。
レンないしセレン合金を主体とする光導電層を設けたも
の、酸化亜鉛、硫化カドミウムなどの無機光導電材料を
バインダー中に分散させたもの、ポリ−N−ビニルカル
バゾールとトリニトロフルオレノンあるいはアゾ顔料な
どの有機光導電材料を用いたもの及び非晶質シリコンを
用いたもの等が一般に知られている。
しかし、これらの感光体は光導電層が露出している場合
、帯電過程のコロナ放電による損傷と複写プロセスで受
ける他部材との接触による物理的あるいは化学的な損傷
により感光体の寿命が短かく、長時間高画質を保ち得る
ものではなかった。
、帯電過程のコロナ放電による損傷と複写プロセスで受
ける他部材との接触による物理的あるいは化学的な損傷
により感光体の寿命が短かく、長時間高画質を保ち得る
ものではなかった。
このような欠点を解消する方法として感光体表面に保護
層を設ける技術が知られている。具体的には感光層の表
面に有機フィルムを設ける方法(特公昭38−1544
6)、無機酸化物を設ける方法(特公昭43−1451
7)、接着層を設けた後、絶縁層を積層する方法(特公
昭43−27591)、或いはプラズマCVD法、光C
VD法等によってa−3i層、a−5i:N:H層、a
−5i:O−H層等を積層する方法(特開昭57−17
9859、特開昭59−58443/)が開示されてい
る。
層を設ける技術が知られている。具体的には感光層の表
面に有機フィルムを設ける方法(特公昭38−1544
6)、無機酸化物を設ける方法(特公昭43−1451
7)、接着層を設けた後、絶縁層を積層する方法(特公
昭43−27591)、或いはプラズマCVD法、光C
VD法等によってa−3i層、a−5i:N:H層、a
−5i:O−H層等を積層する方法(特開昭57−17
9859、特開昭59−58443/)が開示されてい
る。
しかしながら、これらの感光体は保護層が電子写真的に
高抵抗(10”Ω・011以上)であるために、残留電
位の増大、繰り返し時に帯電電位の蓄積等が生じるとい
った欠点があった。
高抵抗(10”Ω・011以上)であるために、残留電
位の増大、繰り返し時に帯電電位の蓄積等が生じるとい
った欠点があった。
上記欠点を補う技術として、保護層樹脂の組成により抵
抗を適正化する方法(特公昭52−024414)が知
られている。また、保護層を光導電層とする方法(特公
昭48−038427、特公昭43−016198、特
公昭49−010258、USP−2901348)
、保護層中に色素やルイス酸に代表される移動剤を添加
する方法(特公昭44−000834、特開昭53−1
33444)、或いは金属や金属酸化物微粒子の添加に
より保護層の抵抗を制御する方法(特開昭53−003
338)等が提案されている。
抗を適正化する方法(特公昭52−024414)が知
られている。また、保護層を光導電層とする方法(特公
昭48−038427、特公昭43−016198、特
公昭49−010258、USP−2901348)
、保護層中に色素やルイス酸に代表される移動剤を添加
する方法(特公昭44−000834、特開昭53−1
33444)、或いは金属や金属酸化物微粒子の添加に
より保護層の抵抗を制御する方法(特開昭53−003
338)等が提案されている。
しかし、後者の場合には保護層による光の吸収が生じて
感光層へ到達する光量が減少し、結果として感光体の感
度が低下するという問題が生じる場合がある。この観点
から、特開昭57−030546に提案されている様に
平均粒径0.3μs以下の金属酸化物微粒子を抵抗制御
剤として保護層中に分散させることにより可視光に対し
実質的に透明する方法が知られている。
感光層へ到達する光量が減少し、結果として感光体の感
度が低下するという問題が生じる場合がある。この観点
から、特開昭57−030546に提案されている様に
平均粒径0.3μs以下の金属酸化物微粒子を抵抗制御
剤として保護層中に分散させることにより可視光に対し
実質的に透明する方法が知られている。
上述の様な保護層を有する感光体は感度の低下も少なく
保護層の機械的強度が増大し、耐久性が向上するといっ
た利点を有するものであるが、複写機の中で長期間くり
返し使用した後に、高湿下あるいは急激な湿度上昇の環
境下におくとコピー画像が流れる、いわゆる画像ボケが
発生する問題がある。この原因はいまだ明確になってい
ないが、感光体がくり返しコロナ放電にさらされるとコ
ロナ放電により発生するオゾンや各種イオンにより保護
層樹脂が酸化劣化を受け、構造が切断されたり、ラジカ
ルが形成され、またコロナ放出によるオゾンや各種イオ
ンは、空気中の水分、炭酸ガス等の不純物と反応し、窒
素化合物、カルボキシル基、アルデヒド基等を含む親水
性の化合物を形成する。これらは保護層表面の劣化部分
に強く化学的に吸着するので高湿下や急激に湿度が上昇
する様な場合には感光体表面に水分が多量に吸着されて
表面の2次元方向の抵抗が低下し、画像流れを発生する
ことに帰因するものと思われる。
保護層の機械的強度が増大し、耐久性が向上するといっ
た利点を有するものであるが、複写機の中で長期間くり
返し使用した後に、高湿下あるいは急激な湿度上昇の環
境下におくとコピー画像が流れる、いわゆる画像ボケが
発生する問題がある。この原因はいまだ明確になってい
ないが、感光体がくり返しコロナ放電にさらされるとコ
ロナ放電により発生するオゾンや各種イオンにより保護
層樹脂が酸化劣化を受け、構造が切断されたり、ラジカ
ルが形成され、またコロナ放出によるオゾンや各種イオ
ンは、空気中の水分、炭酸ガス等の不純物と反応し、窒
素化合物、カルボキシル基、アルデヒド基等を含む親水
性の化合物を形成する。これらは保護層表面の劣化部分
に強く化学的に吸着するので高湿下や急激に湿度が上昇
する様な場合には感光体表面に水分が多量に吸着されて
表面の2次元方向の抵抗が低下し、画像流れを発生する
ことに帰因するものと思われる。
この様な観点からコロナ帯電時に発生するオゾンなどの
酸化雰囲気で分散型感光層の表面が劣化するのを防止す
るもの(特開昭59−163/44)、 CTL/CG
L/保護層の順に積層した正帯電感光体のCGLあるい
は保護層中に特定の酸化防止剤を含有させ、オゾンによ
る帯電能の劣化を防止したもの(特開昭63−4466
2、特開昭63−50848〜50851、特開昭63
−52146、特開昭63−52150)も提案されて
いる。
酸化雰囲気で分散型感光層の表面が劣化するのを防止す
るもの(特開昭59−163/44)、 CTL/CG
L/保護層の順に積層した正帯電感光体のCGLあるい
は保護層中に特定の酸化防止剤を含有させ、オゾンによ
る帯電能の劣化を防止したもの(特開昭63−4466
2、特開昭63−50848〜50851、特開昭63
−52146、特開昭63−52150)も提案されて
いる。
しかし、これらの感光体はくり返し使用後の高湿下にお
ける画像流れを長期に亘って防止するという効果が十分
に発現されるものではなかった。
ける画像流れを長期に亘って防止するという効果が十分
に発現されるものではなかった。
本発明は、コロナ放電により発生するオゾンや各種イオ
ンによって、全く劣化することがなく、長期使用に亘っ
て良好な画像品質を与える電子写真用感光体を提供する
ことを目的とする。
ンによって、全く劣化することがなく、長期使用に亘っ
て良好な画像品質を与える電子写真用感光体を提供する
ことを目的とする。
本発明によれば、導電性支持体上に光導電層、表面保護
層を順次積層して成る電子写真用感光体において、表面
保護層がアクリロニトリル/ブタジェン/スチレン共重
合体樹脂、スチレン/アクリロニトリル共重合体樹脂、
塩素化ポリエチレン/アクリロニトリル/スチレン共重
合体樹脂及び塩素ポリエチレン樹脂から選ばれる少なく
とも1種の樹脂とフェノール系酸化防止剤を含有し、か
つフェノール系酸化防止剤の添加量が前記樹脂に対し重
量比で1/9〜3/1であることを特徴とする電子写真
用感光体が提供される。
層を順次積層して成る電子写真用感光体において、表面
保護層がアクリロニトリル/ブタジェン/スチレン共重
合体樹脂、スチレン/アクリロニトリル共重合体樹脂、
塩素化ポリエチレン/アクリロニトリル/スチレン共重
合体樹脂及び塩素ポリエチレン樹脂から選ばれる少なく
とも1種の樹脂とフェノール系酸化防止剤を含有し、か
つフェノール系酸化防止剤の添加量が前記樹脂に対し重
量比で1/9〜3/1であることを特徴とする電子写真
用感光体が提供される。
本発明者らは種々検討した結果、フェノール系酸化防止
剤はコロナ放電により発生するオゾン、各種イオンによ
る劣化防止に効果があり、しかも前記特定樹脂との相溶
性が良いことを知見し、これらを特定割合で配合したも
のを保護層の形成成分とした場合には副作用を伴わずに
良好な画像品質が長期に亘って維持出来ることを見出し
本発明に到達した。
剤はコロナ放電により発生するオゾン、各種イオンによ
る劣化防止に効果があり、しかも前記特定樹脂との相溶
性が良いことを知見し、これらを特定割合で配合したも
のを保護層の形成成分とした場合には副作用を伴わずに
良好な画像品質が長期に亘って維持出来ることを見出し
本発明に到達した。
本発明で用いるフェノール系酸化防止剤としては、たと
えば以下のような化合物が例示でき、これらは単独又は
2種以上混合して用いることができる。
えば以下のような化合物が例示でき、これらは単独又は
2種以上混合して用いることができる。
フェノール 化防止剤
2.6−ジーt−ブチル−p−クレゾール(BHT)、
2,6−ジーt−ブチルフェノール、2,4−ジ−メチ
ル−6−t−ブチルフェノール、ブチルヒドロキシアニ
ソール、2,2′−メチレンビス(4−メチル−6−t
−ブチルフェノール)、4.4′−チオビス(3−メチ
ル−6−t−ブチルフェノール)、ビスフェノールA、
OL−α−トコフェロール、スチレン化フェノール、
スチレン化クレゾール、3,5−ジ−t−ブチルヒドロ
キシベンズアルデヒド、2,6−ジーt−ブチル−4−
ヒドロキシメチルフェノール、2゜6−ジーS−ブチル
フェノール、2,4−ジ−t−ブチルフェノール、3,
5−ジ−t−ブチルフェノール、o−n−ブトキシフェ
ノール、o−t−ブチルフェノールチルフェノール、p
−t−ブチルフェノール、0−イソブトキシフェノール
、o−n−プロポキシフェノール、0−クレゾール、4
.6−ジーt−ブチル−3−メチルフェノール、2,6
−シメチルフエノール、2,3,5,6−チトラメチル
フエノール、3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4′
−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸ステアリルエステ
ル、2,4,6,− トリーt−ブチルフェノール、
2,4.6−トリメチルフエノール、2,4,6−トリ
ス(3’,5’−ジ−t−ブチル−4′−ヒドロキシベ
ンジル)メシチレン、1。
2,6−ジーt−ブチルフェノール、2,4−ジ−メチ
ル−6−t−ブチルフェノール、ブチルヒドロキシアニ
ソール、2,2′−メチレンビス(4−メチル−6−t
−ブチルフェノール)、4.4′−チオビス(3−メチ
ル−6−t−ブチルフェノール)、ビスフェノールA、
OL−α−トコフェロール、スチレン化フェノール、
スチレン化クレゾール、3,5−ジ−t−ブチルヒドロ
キシベンズアルデヒド、2,6−ジーt−ブチル−4−
ヒドロキシメチルフェノール、2゜6−ジーS−ブチル
フェノール、2,4−ジ−t−ブチルフェノール、3,
5−ジ−t−ブチルフェノール、o−n−ブトキシフェ
ノール、o−t−ブチルフェノールチルフェノール、p
−t−ブチルフェノール、0−イソブトキシフェノール
、o−n−プロポキシフェノール、0−クレゾール、4
.6−ジーt−ブチル−3−メチルフェノール、2,6
−シメチルフエノール、2,3,5,6−チトラメチル
フエノール、3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4′
−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸ステアリルエステ
ル、2,4,6,− トリーt−ブチルフェノール、
2,4.6−トリメチルフエノール、2,4,6−トリ
ス(3’,5’−ジ−t−ブチル−4′−ヒドロキシベ
ンジル)メシチレン、1。
6−ヘキサンシオールービス(3(3.5−ジ−t−ブ
チル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、2
,2−チオ−ジエチレンビス[:3−(3,5−ジ−t
−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]
、2,2−チオビス(4−メチル−6−t−ブチルフェ
ノール)、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベ
ンジルフォスフェート−ジエチルエステル、 1,3.
5−トリメチル−2,4,6−トリス(3。
チル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、2
,2−チオ−ジエチレンビス[:3−(3,5−ジ−t
−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]
、2,2−チオビス(4−メチル−6−t−ブチルフェ
ノール)、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベ
ンジルフォスフェート−ジエチルエステル、 1,3.
5−トリメチル−2,4,6−トリス(3。
5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼ
ン、n−オクタデシル−3−(3’,5’−ジ−t−ブ
チル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2−
t−ブチル−6(3′−t−ブチル−5′−メチル−2
−ヒドロキシベンジル)−4−メチルフェニルアクリレ
ート、4,4′−ブチリデン−ビス(3−メチル−6−
t−ブチルフェノール)、ハイドロキノン、2,5−ジ
−t−ブチルハイドロキノン、テトラメチルハイドロキ
ノン等。
ン、n−オクタデシル−3−(3’,5’−ジ−t−ブ
チル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2−
t−ブチル−6(3′−t−ブチル−5′−メチル−2
−ヒドロキシベンジル)−4−メチルフェニルアクリレ
ート、4,4′−ブチリデン−ビス(3−メチル−6−
t−ブチルフェノール)、ハイドロキノン、2,5−ジ
−t−ブチルハイドロキノン、テトラメチルハイドロキ
ノン等。
本発明で保護層に含有させる樹脂はアクリロニトリル/
ブタジェン/スチレン共重合体樹脂、スチレン/アクリ
ロニトリル共重合体樹脂、塩素化ポリエチレン/アクリ
ロニトリル/スチレン共重合体樹脂及び塩素ポリエチレ
ン樹脂から選ばれる少なくとも1種の樹脂である。
ブタジェン/スチレン共重合体樹脂、スチレン/アクリ
ロニトリル共重合体樹脂、塩素化ポリエチレン/アクリ
ロニトリル/スチレン共重合体樹脂及び塩素ポリエチレ
ン樹脂から選ばれる少なくとも1種の樹脂である。
アクリロニトリル/ブタジェン/スチレン共重合樹脂は
下記一般式 で表わされ、下表の商品名で市販され容易に入手可能な
ものである.これ等は2種以上混合して用いてもかまわ
ない。
下記一般式 で表わされ、下表の商品名で市販され容易に入手可能な
ものである.これ等は2種以上混合して用いてもかまわ
ない。
アクリロニトリルブタジェンスチレン共重合樹脂の代表
例スチレン/アクリロニトリル共重合樹脂は下記一般式 %式% 下表の商品名で市販され容易に入手 可能なものである。
例スチレン/アクリロニトリル共重合樹脂は下記一般式 %式% 下表の商品名で市販され容易に入手 可能なものである。
これ等は2種以上混合して用
いてもかまわない。
スチレンアクリロニトリル共重合樹脂の代表例ン共重合
体樹脂(AC5樹脂)は下記一般式%式%) () () で表わされ、これらは2種以上混合して用いてもかまわ
ない。
体樹脂(AC5樹脂)は下記一般式%式%) () () で表わされ、これらは2種以上混合して用いてもかまわ
ない。
塩素化ポリエチレン樹脂は下記一般式
で表わされ、下表の商品名で市販され容易に入手可能な
ものである。これ等は2種以上混合して用いてもかまわ
ない。
ものである。これ等は2種以上混合して用いてもかまわ
ない。
塩素化ポリエチレン樹脂の代表例
前記樹脂に対するフェノール系酸化防止剤の添加量は重
量比で179〜3/1であり、さらに好適には1/1〜
5/2である。添加量が179未満であるとオゾンや各
種イオンによる劣化を抑制する効果の持続性が悪く、添
加量が3/1より多い場合にはフェノール系酸化防止剤
が表面保護層表面に析出し、白濁、更に、表面保護層の
機械的強度が低下すると共に複写機内での使用により表
面保護層膜が削れやすくなり、耐久性が劣化する。
量比で179〜3/1であり、さらに好適には1/1〜
5/2である。添加量が179未満であるとオゾンや各
種イオンによる劣化を抑制する効果の持続性が悪く、添
加量が3/1より多い場合にはフェノール系酸化防止剤
が表面保護層表面に析出し、白濁、更に、表面保護層の
機械的強度が低下すると共に複写機内での使用により表
面保護層膜が削れやすくなり、耐久性が劣化する。
表面保護層の比抵抗は1010〜1013Ω・cm、好
ましくは10”−10”Ω”cmであり、1010Ω’
cm以下では画像のシャープ性が低下し、1013Ω・
cm以上では画像の地肌汚れが生じ、この傾向は表面保
護層の膜厚が厚いほど顕著に表われる。
ましくは10”−10”Ω”cmであり、1010Ω’
cm以下では画像のシャープ性が低下し、1013Ω・
cm以上では画像の地肌汚れが生じ、この傾向は表面保
護層の膜厚が厚いほど顕著に表われる。
上記特定樹脂は通常101@Ω・Cl11程度の体積固
有抵抗を有するもので、表面保護層として使用するには
、その膜厚を5000人程度Luて使用するか、あるい
は何らかの抵抗制御剤を添加して、その体積抵抗を10
12Ω・cm程度に下げて使用することが望ましい。後
者の場合には膜厚は任意に設定でき、5−程度に厚膜化
した場合には、機械的強度が上昇し、更に耐久性が向上
する。
有抵抗を有するもので、表面保護層として使用するには
、その膜厚を5000人程度Luて使用するか、あるい
は何らかの抵抗制御剤を添加して、その体積抵抗を10
12Ω・cm程度に下げて使用することが望ましい。後
者の場合には膜厚は任意に設定でき、5−程度に厚膜化
した場合には、機械的強度が上昇し、更に耐久性が向上
する。
抵抗制御剤としては脂肪酸塩類、高級アルコール類、硫
酸エステル類、脂肪酸アミン類、第4級アンモニウム塩
類、アルキルピリジウム塩類、ポリオキシエチレンアル
キルエーテル類、ポリオキジエチレンアルキルエステル
類、ソルビタンアルキルエステル、イミダシリン誘導体
のアニオン系、カチオン系、又はノニオン系有機電解質
;Au、 Ag、Cu、 Ni、 AQ等の金属;Zn
O1Tie2、SnO□、In2O3,5b2o、含有
SnO,、In2O,含有SnO□等の金属酸化物;M
gF、、CaF、、BiF、、AQF、、SnF、、S
nF、、 TiF、等の金属フッ化物;テトライソプロ
ピルチタネート。
酸エステル類、脂肪酸アミン類、第4級アンモニウム塩
類、アルキルピリジウム塩類、ポリオキシエチレンアル
キルエーテル類、ポリオキジエチレンアルキルエステル
類、ソルビタンアルキルエステル、イミダシリン誘導体
のアニオン系、カチオン系、又はノニオン系有機電解質
;Au、 Ag、Cu、 Ni、 AQ等の金属;Zn
O1Tie2、SnO□、In2O3,5b2o、含有
SnO,、In2O,含有SnO□等の金属酸化物;M
gF、、CaF、、BiF、、AQF、、SnF、、S
nF、、 TiF、等の金属フッ化物;テトライソプロ
ピルチタネート。
テトラノルマルブチルチタネート、チタンアセチルアセ
トネート、チタンラクテートエチルエステル等の有機チ
タン化合物;及びそれらの混合物等が挙げられる。
トネート、チタンラクテートエチルエステル等の有機チ
タン化合物;及びそれらの混合物等が挙げられる。
本発明の表面保護層を形成するには、まず、上記特定樹
脂を適当な溶剤に溶解させ、表面保護層の体積抵抗が1
012Ω・cm程度になる様、上記抵抗制御剤の1種又
は2種以上を添加する。抵抗制御剤が特定樹脂に対し相
溶しない場合は必要に応じてボールミル等の手段を用い
る。次に、上記表面保護層形成液中の上記特定樹脂に対
して重量比で179〜3/1のフェノール系酸化防止剤
を添加し、光導電層上に塗布、乾燥、硬化すればよい。
脂を適当な溶剤に溶解させ、表面保護層の体積抵抗が1
012Ω・cm程度になる様、上記抵抗制御剤の1種又
は2種以上を添加する。抵抗制御剤が特定樹脂に対し相
溶しない場合は必要に応じてボールミル等の手段を用い
る。次に、上記表面保護層形成液中の上記特定樹脂に対
して重量比で179〜3/1のフェノール系酸化防止剤
を添加し、光導電層上に塗布、乾燥、硬化すればよい。
本発明の電子写真用感光体においては、表面保護層以外
の光導電層及び導電性支持体の構成及び形成方法は従来
のものがそのまま適用できる。
の光導電層及び導電性支持体の構成及び形成方法は従来
のものがそのまま適用できる。
すなわち、光導電層の構成材料としては、Se、又は5
e−Te、 As、Se、等のSe系合金: ZnO1
CdS、 CdSe等のII−Vl族化合物の粒子を樹
脂に分散させた系:ポリビニルカルバゾール、アントラ
センなどの有機光導電材料:アモルファスSi等が用い
られる。
e−Te、 As、Se、等のSe系合金: ZnO1
CdS、 CdSe等のII−Vl族化合物の粒子を樹
脂に分散させた系:ポリビニルカルバゾール、アントラ
センなどの有機光導電材料:アモルファスSi等が用い
られる。
光導電層の形成方法としては蒸着、スパッタリング、塗
布などの方法が適宜選択される。光導電層の構成は特に
制約されず単層であっても或いは前記光導電材料を主成
分とする電荷発生層とドナー又はアクセプターを主成分
とする電荷輸送層との積層であってもよい、その膜厚は
単層型光導電層の場合は3〜1100IJ、積層型光導
電層の場合は電荷発生層については0.05〜3pm、
電荷輸送層については3〜100−の範囲が適当である
。
布などの方法が適宜選択される。光導電層の構成は特に
制約されず単層であっても或いは前記光導電材料を主成
分とする電荷発生層とドナー又はアクセプターを主成分
とする電荷輸送層との積層であってもよい、その膜厚は
単層型光導電層の場合は3〜1100IJ、積層型光導
電層の場合は電荷発生層については0.05〜3pm、
電荷輸送層については3〜100−の範囲が適当である
。
本発明においては、更に表面保護層と光導電層との間に
接着性を高めるための接着層、電荷注入を阻止するため
の電気的バリアー層1表面保護層形成液中の溶剤による
有機系光導電層の侵食を防止するための耐溶剤層を設け
てもよい。
接着性を高めるための接着層、電荷注入を阻止するため
の電気的バリアー層1表面保護層形成液中の溶剤による
有機系光導電層の侵食を防止するための耐溶剤層を設け
てもよい。
本発明に係わる導電性支持体としては、A1、Ni、F
e、 Cu、 Au等の金属又は合金;ポリエステル、
ポリカーボネート、ポリイミド等のプラスチック又はガ
ラス等の絶縁性基板上にA1、Ag、 Au等の金属膜
又はIn2O,、SnO□等の金属酸化物膜を設けたも
の;導電処理紙等が例示できる。形状は特に制約されな
いが、通常は板状、ドラム状又はベルト状である。
e、 Cu、 Au等の金属又は合金;ポリエステル、
ポリカーボネート、ポリイミド等のプラスチック又はガ
ラス等の絶縁性基板上にA1、Ag、 Au等の金属膜
又はIn2O,、SnO□等の金属酸化物膜を設けたも
の;導電処理紙等が例示できる。形状は特に制約されな
いが、通常は板状、ドラム状又はベルト状である。
以下に本発明を実施例によって説明する。
実施例1
80mmφX 340m+i(長さ)のAQドラム支持
体を真空蒸着装置内にセットし、またこの装置の蒸着源
ボートにAs、 Se、合金を入れ、真空度3 X 1
0”−’ Torr、支持体温度200℃、ボート温度
450℃の条件で蒸着を行い、支持体上に60Ijs厚
の光導電層を形成した。
体を真空蒸着装置内にセットし、またこの装置の蒸着源
ボートにAs、 Se、合金を入れ、真空度3 X 1
0”−’ Torr、支持体温度200℃、ボート温度
450℃の条件で蒸着を行い、支持体上に60Ijs厚
の光導電層を形成した。
次にこの上に、 a)アルコキシ基含有ポリシロキサン
とb)水酸基含有ポリシロキサンとC)炭酸原子に結合
したアミノ基、イミノ基又はニトリル基を少なくとも1
個及びアルコキシ基が2〜3個結合した珪素原子を有す
る有機珪素化合物とを主成分とするシリコーン樹脂A(
トーレシリコーン社製AY42−440)と前記a)、
b)及びC)の成分比が異なるシリコーン樹脂B(トー
レシリコーン社製AY42−441)との等量(重量)
混合物のりグロイン溶液を塗布し、120℃で1時間乾
燥して0.1.厚の電気的バリアー層を形成した。次に
、アクリロニトリル/ブタジェン/スチレン共重合体樹
脂(タフレックス:三菱モンサンド(株)製)の5wt
%溶液60重量部と抵抗制御剤SnO,微粉末2重量部
とをボールミルで120時間分散した後、2,6−ジー
t−ブチル−p−クレゾール(BHT)を0.45重量
部添加し、これを電気的バリアー層上へ塗布し、130
℃で1時間の乾燥を行ない、5声厚の表面保護層を形成
して電子写真用感光体を作製した。
とb)水酸基含有ポリシロキサンとC)炭酸原子に結合
したアミノ基、イミノ基又はニトリル基を少なくとも1
個及びアルコキシ基が2〜3個結合した珪素原子を有す
る有機珪素化合物とを主成分とするシリコーン樹脂A(
トーレシリコーン社製AY42−440)と前記a)、
b)及びC)の成分比が異なるシリコーン樹脂B(トー
レシリコーン社製AY42−441)との等量(重量)
混合物のりグロイン溶液を塗布し、120℃で1時間乾
燥して0.1.厚の電気的バリアー層を形成した。次に
、アクリロニトリル/ブタジェン/スチレン共重合体樹
脂(タフレックス:三菱モンサンド(株)製)の5wt
%溶液60重量部と抵抗制御剤SnO,微粉末2重量部
とをボールミルで120時間分散した後、2,6−ジー
t−ブチル−p−クレゾール(BHT)を0.45重量
部添加し、これを電気的バリアー層上へ塗布し、130
℃で1時間の乾燥を行ない、5声厚の表面保護層を形成
して電子写真用感光体を作製した。
実施例2
2.6−ジーt−ブチル−P−クレゾール(BIT)の
添加量を3重量部に代えた他は実施例1と全く同様にし
て電子写真用感光体を作製した。
添加量を3重量部に代えた他は実施例1と全く同様にし
て電子写真用感光体を作製した。
実施例3
2.6−ジーt−ブチル−P−クレゾール(BIT)の
添加量を7.5重量部に変えた他は実施例1と全く同様
にして電子写真用感光体を作製した。
添加量を7.5重量部に変えた他は実施例1と全く同様
にして電子写真用感光体を作製した。
実施例4
フェノール系酸化防止剤を2,6−ジーt−ブチル−p
−クレゾール(BIT)から2,6−ジーt−ブチルフ
ェノールに代えた他は実施例2と全く同様にして電子写
真用感光体を作製した。
−クレゾール(BIT)から2,6−ジーt−ブチルフ
ェノールに代えた他は実施例2と全く同様にして電子写
真用感光体を作製した。
実施例5
フェノール系酸化防止剤を2,6−ジーt−ブチル−P
−クレゾール(BHT)から2,5−ジ−t−ブチルハ
イドロキノンに代えた他は実施例2と全く同様にして電
子写真用感光体を作製した。
−クレゾール(BHT)から2,5−ジ−t−ブチルハ
イドロキノンに代えた他は実施例2と全く同様にして電
子写真用感光体を作製した。
実施例6
実施例1と全く同様にしてAMドラム支持体上らに光導
電層を形成し、次にジルコニウムブチレート2重量部、
γ−グリシドキシプロビルトリメトキシシラン1重量部
、BuOH40重量部、MeOH30重量部とから成る
溶液を光導電層上にし、120℃2時間の乾燥を行い0
.2声厚の電気的バリアー層を形成した0次に抵抗制御
剤をSnO2微粉末からAQF□粉末に代え、フェノー
ル系酸化防止剤を2,6−ジーt−ブチル−p−クレゾ
ール(BHT)から3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒド
ロキシ−ベンジルフォスフェート−ジエチルエステルに
変えた他は実施例2と全く同様にして表面保護層を形成
し電子写真用感光体を作製した。
電層を形成し、次にジルコニウムブチレート2重量部、
γ−グリシドキシプロビルトリメトキシシラン1重量部
、BuOH40重量部、MeOH30重量部とから成る
溶液を光導電層上にし、120℃2時間の乾燥を行い0
.2声厚の電気的バリアー層を形成した0次に抵抗制御
剤をSnO2微粉末からAQF□粉末に代え、フェノー
ル系酸化防止剤を2,6−ジーt−ブチル−p−クレゾ
ール(BHT)から3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒド
ロキシ−ベンジルフォスフェート−ジエチルエステルに
変えた他は実施例2と全く同様にして表面保護層を形成
し電子写真用感光体を作製した。
実施例7
80nv+φX400m5(長さ)のへ〇ドラム支持体
上に、下記構造■のフェニルスチルベン誘導体とポリカ
ーボネートとテトラヒドロフランをそれぞれ重量比で1
:1:8で溶解したものに全重量の10万分の1のシリ
コンオイル(KF50、信越化学■製)を加えた溶液を
塗布し乾燥させて膜厚が20paの電荷輸送層を設けた
。
上に、下記構造■のフェニルスチルベン誘導体とポリカ
ーボネートとテトラヒドロフランをそれぞれ重量比で1
:1:8で溶解したものに全重量の10万分の1のシリ
コンオイル(KF50、信越化学■製)を加えた溶液を
塗布し乾燥させて膜厚が20paの電荷輸送層を設けた
。
次にこの上に下記構造■のジスアゾ顔料とポリエステル
樹脂(バイロン200、東洋紡■製)の固形分を重量比
で5=2のものをテトラヒドロフランとエチルセルソル
ブが重量比で4:6の分散媒に固形分濃度が1重量%に
なるように分散させた分散液を塗布し、乾燥させ0.5
.厚の電荷発生層を設け、光導電層を形成した。
樹脂(バイロン200、東洋紡■製)の固形分を重量比
で5=2のものをテトラヒドロフランとエチルセルソル
ブが重量比で4:6の分散媒に固形分濃度が1重量%に
なるように分散させた分散液を塗布し、乾燥させ0.5
.厚の電荷発生層を設け、光導電層を形成した。
次にこの光導電層上に、ポリアミド5wt%メタノール
/ブタノールを塗布し、120℃で20分の乾燥を行な
い0.1声厚の電気的バリアー層を形成した。
/ブタノールを塗布し、120℃で20分の乾燥を行な
い0.1声厚の電気的バリアー層を形成した。
次にこの電気的バリアー層上にフェノール系酸化防止剤
を2,6−ジーt−ブチル−p−クレゾール(BIT)
からDL−α−トコフェロールに代えた他は実施例1と
全く同様にして表面保護層を形成し電子写真用感光体を
作製した。
を2,6−ジーt−ブチル−p−クレゾール(BIT)
からDL−α−トコフェロールに代えた他は実施例1と
全く同様にして表面保護層を形成し電子写真用感光体を
作製した。
実施例8
実施例8において、アクリロニトリル/ブタジェン/ス
チレン共重合体樹脂をスチレン/アクリロニトリル共重
合体樹脂(サンレックス:三菱モンサンド化成(株)製
)に代えた以外は実施例1と同様にして電子写真用感光
体を作製した。
チレン共重合体樹脂をスチレン/アクリロニトリル共重
合体樹脂(サンレックス:三菱モンサンド化成(株)製
)に代えた以外は実施例1と同様にして電子写真用感光
体を作製した。
実施例9
2.6−ジーt−ブチル−p−クレゾール(BIT)の
添加量を3重量部に代えた他は実施例1と全く同様にし
て電子写真用感光体を作製した。
添加量を3重量部に代えた他は実施例1と全く同様にし
て電子写真用感光体を作製した。
実施例10
2.6−ジーt−ブチル−p−クレゾール(BIT)の
添加量を7.5重量部に代えた他は実施例8と全く同様
にして電子写真用感光体を作製した。
添加量を7.5重量部に代えた他は実施例8と全く同様
にして電子写真用感光体を作製した。
実施例11
フェノール系酸化防止剤を2,6−ジーt−ブチル−p
−クレゾール(B)!T)から2,6−ジーt−ブチル
フェノールに変えた他は実施例9と全く同様にして電子
写真用感光体を作製した。
−クレゾール(B)!T)から2,6−ジーt−ブチル
フェノールに変えた他は実施例9と全く同様にして電子
写真用感光体を作製した。
実施例12
フェノール系酸化防止剤を2,6−ジーt−ブチル−p
−クレゾール(B)IT)から2,5−ジ−t−ブチル
ハイドロキノンを変えた他は実施例9と全く同様にして
電子写真用感光体を作製した。
−クレゾール(B)IT)から2,5−ジ−t−ブチル
ハイドロキノンを変えた他は実施例9と全く同様にして
電子写真用感光体を作製した。
実施例13
実施例6において、アクリロニトリル/ブタジェン/ス
チレン共重合体樹脂をスチレン/アクリロニトリル共重
合体樹脂に代えた以外は実施例6と同様にして電子写真
用感光体を作製した。
チレン共重合体樹脂をスチレン/アクリロニトリル共重
合体樹脂に代えた以外は実施例6と同様にして電子写真
用感光体を作製した。
実施例14
実施例7において、アクリロニトリル/ブタジェン/ス
チレン共重合体樹脂をスチレン/アクリロニトリル共重
合体樹脂に代えた以外は実施例7と同様にして電子写真
用感光体を作成した。
チレン共重合体樹脂をスチレン/アクリロニトリル共重
合体樹脂に代えた以外は実施例7と同様にして電子写真
用感光体を作成した。
実施例15
実施例1において、アクリロニトリル/ブタジェン/ス
チレン共重合体樹脂を塩素化ポリエチレン/スチレン/
アクリロニトリル共重合体樹脂(AC3樹脂:昭和電工
(株)製)に代えた以外は実施例1と同様にして電子写
真用感光体を作製した。
チレン共重合体樹脂を塩素化ポリエチレン/スチレン/
アクリロニトリル共重合体樹脂(AC3樹脂:昭和電工
(株)製)に代えた以外は実施例1と同様にして電子写
真用感光体を作製した。
実施例16
2.6−ジーt−ブチル−p−クレゾール(BIT)の
添加量を3重量部に代えた他は実施例15と全く同様に
して電子写真用感光体を作製した。
添加量を3重量部に代えた他は実施例15と全く同様に
して電子写真用感光体を作製した。
実施例17
2.6−ジーt−ブチル−p−クレゾール(BIT)の
添加量を7.5重量部に代えた他は実施例15と全く同
様にして電子写真用感光体を作製した。
添加量を7.5重量部に代えた他は実施例15と全く同
様にして電子写真用感光体を作製した。
実施例18
フェノール系酸化防止剤を2,6−ジーt−ブチル−P
−クレゾール(BIT)から2,6−ジーt−ブチルフ
ェノールに変えた他は実施例16と全く同様にして電子
写真用感光体を作製した。
−クレゾール(BIT)から2,6−ジーt−ブチルフ
ェノールに変えた他は実施例16と全く同様にして電子
写真用感光体を作製した。
実施例19
フェノール系酸化防止剤を2,6−ジーt−ブチル−p
−クレゾール(BHT)から2,5−ジ−t−ブチルハ
イドロキノンに変えた他は実施例16と全く同様にして
電子写真用感光体を作製した。
−クレゾール(BHT)から2,5−ジ−t−ブチルハ
イドロキノンに変えた他は実施例16と全く同様にして
電子写真用感光体を作製した。
実施例20
実施例6において、アクリロニトリル/ブタジェン/ス
チレン共重合体樹脂を塩素化ポリエチレンスチレン/ア
クリロニトリル共重合体樹脂に代えた以外は実施例6と
同様にして電子写真用感光体を作製した。
チレン共重合体樹脂を塩素化ポリエチレンスチレン/ア
クリロニトリル共重合体樹脂に代えた以外は実施例6と
同様にして電子写真用感光体を作製した。
実施例21
実施例7において、アクリロニトリル/ブタジェン/ス
チレン共重合体樹脂を塩素化ポリエチレンスチレン/ア
クリロニトリル共重合体樹脂に代えた以外は実施例7と
同様にして電子写真用感光体を作成した。
チレン共重合体樹脂を塩素化ポリエチレンスチレン/ア
クリロニトリル共重合体樹脂に代えた以外は実施例7と
同様にして電子写真用感光体を作成した。
実施例22
実施例1において、アクリロニトリル/ブタジェン/ス
チレン共重合体樹脂を塩素化ポリエチレン樹脂(エラス
レン:昭和電工(株)製)に代えた以外は実施例1と同
様にして電子写真用感光体を作製した。
チレン共重合体樹脂を塩素化ポリエチレン樹脂(エラス
レン:昭和電工(株)製)に代えた以外は実施例1と同
様にして電子写真用感光体を作製した。
実施例23
2.6−ジーt−ブチル−P−クレゾール(BIT)の
添加量を3重量部に代えた他は実施例22と全く同様に
して電子写真用感光体を作製した。
添加量を3重量部に代えた他は実施例22と全く同様に
して電子写真用感光体を作製した。
実施例24
2.6−ジーt−ブチル−p−クレゾール(BIT)の
添加量を7.5重量部に代えた他は実施例22と全く同
様にして電子写真用感光体を作製した。
添加量を7.5重量部に代えた他は実施例22と全く同
様にして電子写真用感光体を作製した。
実施例25
フェノール系酸化防止剤を2,6−ジーt−ブチル−p
−クレゾール(BIT)から2,6−ジーt−ブチルフ
ェノールに変えた他は実施例23と全く同様にして電子
写真用感光体を作製した。
−クレゾール(BIT)から2,6−ジーt−ブチルフ
ェノールに変えた他は実施例23と全く同様にして電子
写真用感光体を作製した。
実施例26
フェノール系酸化防止剤を2,6−ジーt−ブチル−p
−クレゾール(BIT)から2,5−ジ−t−ブチルハ
イドロキノンに変えた他は実施例23と全く同様にして
電子写真用感光体を作製した。
−クレゾール(BIT)から2,5−ジ−t−ブチルハ
イドロキノンに変えた他は実施例23と全く同様にして
電子写真用感光体を作製した。
実施例27
実施例6において、アクリロニトリル/ブタジェン/ス
チレン共重合体樹脂を塩素化ポリエチレン樹脂に代えた
以外は実施例6と同様にして電子写真用感光体を作製し
た。
チレン共重合体樹脂を塩素化ポリエチレン樹脂に代えた
以外は実施例6と同様にして電子写真用感光体を作製し
た。
実施例28
実施例7において、アクリロニトリル/ブタジエン/ス
チレン共重合体樹脂を塩素化ポリエチレン樹脂に代えた
以外は実施例7と同様にして電子写真用感光体を作成し
た。
チレン共重合体樹脂を塩素化ポリエチレン樹脂に代えた
以外は実施例7と同様にして電子写真用感光体を作成し
た。
比較例1
フェノール系酸化防止剤である2、6−ジーt−ブチル
−p−クレゾール(BHT)を添加しない他は実施例1
と全く同様にして電子写真用感光体を作製した。
−p−クレゾール(BHT)を添加しない他は実施例1
と全く同様にして電子写真用感光体を作製した。
比較例2
2.6−ジーt−ブチル−P−クレゾール(BHT)の
添加量を0.03重量部に代えた他は実施例1と全く同
様にして電子写真用感光体を作製した。
添加量を0.03重量部に代えた他は実施例1と全く同
様にして電子写真用感光体を作製した。
比較例3
2.6−ジーt−ブチル−P−クレゾール(BIT)の
添加量を12重量部に代えた他は実施例1と全く同様に
して電子写真用感光体を作製した。
添加量を12重量部に代えた他は実施例1と全く同様に
して電子写真用感光体を作製した。
比較例4
フェノール系酸化防止剤であるDL−α−トコフェロー
ルを添加しない他は実施例7と全く同様にして電子写真
用感光体を作製した。
ルを添加しない他は実施例7と全く同様にして電子写真
用感光体を作製した。
実施例1〜28及び比較例1〜4で作製した電子写真用
感光体を普通紙複写機(リコー製FT6550)に組み
込み、複写枚数毎の作像環境による解像力の変化を評価
した結果を表−1に示す。
感光体を普通紙複写機(リコー製FT6550)に組み
込み、複写枚数毎の作像環境による解像力の変化を評価
した結果を表−1に示す。
表−1から明らかな様に、表面保護層の結着樹脂として
前記特定樹脂を用い、更に特定量のフェノール系酸化防
止剤を添加したものは、環境の変化によらず長期間の使
用に亘って良好な画質を維持出来る信頼性の高い電子写
真用感光体であることが判る。
前記特定樹脂を用い、更に特定量のフェノール系酸化防
止剤を添加したものは、環境の変化によらず長期間の使
用に亘って良好な画質を維持出来る信頼性の高い電子写
真用感光体であることが判る。
前記特定樹脂に対するフェノール系酸化防止剤の添加量
は重量比で179〜3/1が好適で、1/9以下の添加
量ではオゾンや各種イオンによる高温高湿下の像流れの
抑制効果の持続性が十分ではなく、また3/1以上の添
加では、表面保護層被膜の表面が初期から白濁し荒れて
おり、被膜の機械的強度の劣化が生じることが判る。
は重量比で179〜3/1が好適で、1/9以下の添加
量ではオゾンや各種イオンによる高温高湿下の像流れの
抑制効果の持続性が十分ではなく、また3/1以上の添
加では、表面保護層被膜の表面が初期から白濁し荒れて
おり、被膜の機械的強度の劣化が生じることが判る。
本発明の電子写真用感光体は、コロナ放電により発生す
るオゾンや各種イオンによって全く劣化することがなく
、また環境の変化によらず長期使用に亘って、良好な画
像品質を維持出来るものである。
るオゾンや各種イオンによって全く劣化することがなく
、また環境の変化によらず長期使用に亘って、良好な画
像品質を維持出来るものである。
Claims (1)
- (1)導電性支持体上に光導電層、表面保護層を順次積
層して成る電子写真用感光体において、表面保護層がア
クリロニトリル/ブタジエン/スチレン共重合体樹脂、
スチレン/アクリロニトリル共重合体樹脂、塩素化ポリ
エチレン/アクリロニトリル/スチレン共重合体樹脂及
び塩素ポリエチレン樹脂から選ばれる少なくとも1種の
樹脂とフェノール系酸化防止剤を含有し、かつフェノー
ル系酸化防止剤の添加量が前記樹脂に対し重量比で1/
9〜3/1であることを特徴とする電子写真用感光体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP791190A JPH03212649A (ja) | 1990-01-17 | 1990-01-17 | 電子写真用感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP791190A JPH03212649A (ja) | 1990-01-17 | 1990-01-17 | 電子写真用感光体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03212649A true JPH03212649A (ja) | 1991-09-18 |
Family
ID=11678728
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP791190A Pending JPH03212649A (ja) | 1990-01-17 | 1990-01-17 | 電子写真用感光体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03212649A (ja) |
-
1990
- 1990-01-17 JP JP791190A patent/JPH03212649A/ja active Pending
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