JPH03212929A - レジスト塗布装置 - Google Patents
レジスト塗布装置Info
- Publication number
- JPH03212929A JPH03212929A JP2009372A JP937290A JPH03212929A JP H03212929 A JPH03212929 A JP H03212929A JP 2009372 A JP2009372 A JP 2009372A JP 937290 A JP937290 A JP 937290A JP H03212929 A JPH03212929 A JP H03212929A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resist
- amount
- discharged
- state
- liquid
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- Pending
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- Coating Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、半導体製造装置の特にレジスト塗布装置に
関するものである。
関するものである。
第３図は従来のレジスト（感光性樹脂）塗布装置の断面
図である。図において、（１）はレジスト供給容器、（
２）はポンプ、（８）はフィルタ、（４）はレジストノ
ズル、（６）は半導体ウェハ、（６）は気泡を含んだレ
ジストの排出管、（γ）はレジスト排液箱、（８）は排
出量ｍ整用のニードルバルブ、（９）はカップ、叫は回
転用モータ、συはレジスト排液である。
図である。図において、（１）はレジスト供給容器、（
２）はポンプ、（８）はフィルタ、（４）はレジストノ
ズル、（６）は半導体ウェハ、（６）は気泡を含んだレ
ジストの排出管、（γ）はレジスト排液箱、（８）は排
出量ｍ整用のニードルバルブ、（９）はカップ、叫は回
転用モータ、συはレジスト排液である。
次に動作について説明する。ポンプ（２）によって吸い
出されたレジストはフィルタ（８）によって濾過てれて
、レジストノズル（４）より半導体ウェハ（６）に滴下
でれる。半導体ウェハ（６）は回転用モータ（ｌｌｌｅ
Ｋより回転され、半導体ウェハ（６）表面に均一にレジ
ストが塗布される。レジスト中に発生した気泡はフィル
タ（８）上部に溜シ、レジストと共に排出管（６）を辿
りレジスト排液箱（７）に排出される。排出するレジス
ト排液ａυの量はニードルバルブ（８）によって調整さ
れる。
出されたレジストはフィルタ（８）によって濾過てれて
、レジストノズル（４）より半導体ウェハ（６）に滴下
でれる。半導体ウェハ（６）は回転用モータ（ｌｌｌｅ
Ｋより回転され、半導体ウェハ（６）表面に均一にレジ
ストが塗布される。レジスト中に発生した気泡はフィル
タ（８）上部に溜シ、レジストと共に排出管（６）を辿
りレジスト排液箱（７）に排出される。排出するレジス
ト排液ａυの量はニードルバルブ（８）によって調整さ
れる。
従来のレジスト装置は以上のように構成されていたので
排出管の先端がレジスト排液箱内にあるため、レジスト
の排出量及び状態を定期的に確認することが困難であり
、必要以上の量を排出してレジストを無駄に消費したり
、逆に排出されずに、気泡が溜まり、レジスト内に異物
が発生し塗布膜厚が均一にならないという問題点があっ
た。
排出管の先端がレジスト排液箱内にあるため、レジスト
の排出量及び状態を定期的に確認することが困難であり
、必要以上の量を排出してレジストを無駄に消費したり
、逆に排出されずに、気泡が溜まり、レジスト内に異物
が発生し塗布膜厚が均一にならないという問題点があっ
た。
この発明は上記のような問題点を解消する丸めになされ
たもので、排出されるレジストの量及び状態を定期的に
確認することを容易にすることができるレジスト塗布装
置を得ることを目的とする。
たもので、排出されるレジストの量及び状態を定期的に
確認することを容易にすることができるレジスト塗布装
置を得ることを目的とする。
この発明に係るレジスト塗布装置は、ニードルバルブと
レジスト排液箱の間の排出管の途中に、排出管より直径
が大きく、排出管との接続部から５ｍ程度の長さの内管
を有し透明な外管を持つ透明管を備えたものである。
レジスト排液箱の間の排出管の途中に、排出管より直径
が大きく、排出管との接続部から５ｍ程度の長さの内管
を有し透明な外管を持つ透明管を備えたものである。
この発明における透明管は、レジスト内管より涙滴状に
滴下し、外管が透明であるために排出されるレジストの
量及び状態を容易に確実に確認することを可能とする。
滴下し、外管が透明であるために排出されるレジストの
量及び状態を容易に確実に確認することを可能とする。
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第１
図はレジスト塗布装置の断面図である。
図はレジスト塗布装置の断面図である。
固接おいて、（１）〜συは第２図の従来例に示したも
のと同等であるので説明を省略する。（Ｉ２はニードル
バルブ（８）とレジスト排液箱（γ）との間に取りつけ
られた透明管である。
のと同等であるので説明を省略する。（Ｉ２はニードル
バルブ（８）とレジスト排液箱（γ）との間に取りつけ
られた透明管である。
第２図は第１図に示す透明管（ｌｚの断面図でα３は透
明な外管、（１４は内管で、排出管（６）に接続されて
いる。σ９は涙滴状に滴下するレジスト滴である。
明な外管、（１４は内管で、排出管（６）に接続されて
いる。σ９は涙滴状に滴下するレジスト滴である。
次に動作について説明する。半導体ウェハ（５）にレジ
ストを滴下するためにポンプ（２）ｔ−動作きせるとレ
ジストノズル（４）からレジストを吐出する毎にフィル
タ（８）に溜った気泡と共にレジストがニードルバルブ
（８）を通過して内管■の先端よりレジスト滴（１９と
して滴下する。この量及び滴下状態は外管（１３１を通
して容易に目視で確認することが出来る。
ストを滴下するためにポンプ（２）ｔ−動作きせるとレ
ジストノズル（４）からレジストを吐出する毎にフィル
タ（８）に溜った気泡と共にレジストがニードルバルブ
（８）を通過して内管■の先端よりレジスト滴（１９と
して滴下する。この量及び滴下状態は外管（１３１を通
して容易に目視で確認することが出来る。
レジスト滴（１５１の量は目視で確認しながらニードル
バルブ（８）を開閉することで調整を行ない、最適な量
、状態を維持することが可能となる。
バルブ（８）を開閉することで調整を行ない、最適な量
、状態を維持することが可能となる。
なお、上記実施例では透明管α２をレジスト排液箱（γ
）のすぐ上に取りつけた例を示したが、ニードルバルブ
（８）とレジスト排液箱（γ）の間で、かつレジスト排
液箱（γ）よシ高い位置であれば、どの場所でも良く、
装置の前面部等の常時確認が容易な場所に設置しても良
い。
）のすぐ上に取りつけた例を示したが、ニードルバルブ
（８）とレジスト排液箱（γ）の間で、かつレジスト排
液箱（γ）よシ高い位置であれば、どの場所でも良く、
装置の前面部等の常時確認が容易な場所に設置しても良
い。
またレジスト排液αυをレジスト排液箱（γ）に捨てて
しまう例を示したが、レジスト供給容器（１）に戻す場
合でも上記実施例と同様の効果を奏する。
しまう例を示したが、レジスト供給容器（１）に戻す場
合でも上記実施例と同様の効果を奏する。
以上のようにこの発明によれば、気泡を含んだレジスト
を排出する途中に涙滴状に滴下する構造にした透明管を
備えたので、レジスト排液の量を正確に確認、調整する
ことが可能となり、レジストの節減及び塗布膜厚の不均
一性の防止が得られる効果がある。
を排出する途中に涙滴状に滴下する構造にした透明管を
備えたので、レジスト排液の量を正確に確認、調整する
ことが可能となり、レジストの節減及び塗布膜厚の不均
一性の防止が得られる効果がある。
第１図はこの発明の一実施例によるレジスト塗布装置を
示す断面図、第２図は第１図に示す透明管の断面図、第
３図は従来のレジスト塗布装置を示す断面図である。 図ににおいて、（１）はレジスト供給容器、（２）はポ
ンプ、（８）はフィルタ、（４）はレジストノズル、（
５）は半導体ウニへ、（６）は排出管、（７）はレジス
ト排液管、（８）はニードルバルブ、（９）はカップ、
αＱは回転用モータ、συはレジスト排液、任ｚは透明
管、αＪは外管、口４は内管、 （１５１はレジスト滴
である。 なお、図中、同一符号は同一 又は相当部分を示す。 代 第２図
示す断面図、第２図は第１図に示す透明管の断面図、第
３図は従来のレジスト塗布装置を示す断面図である。 図ににおいて、（１）はレジスト供給容器、（２）はポ
ンプ、（８）はフィルタ、（４）はレジストノズル、（
５）は半導体ウニへ、（６）は排出管、（７）はレジス
ト排液管、（８）はニードルバルブ、（９）はカップ、
αＱは回転用モータ、συはレジスト排液、任ｚは透明
管、αＪは外管、口４は内管、 （１５１はレジスト滴
である。 なお、図中、同一符号は同一 又は相当部分を示す。 代 第２図
Claims (1)
- レジスト内に発生する気泡を除くためにレジストの一部
を排出する機構を有するレジスト塗布装置において、排
出したレジストの量及び排出状態を目視可能とする治具
を備えたことを特徴とするレジスト塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009372A JPH03212929A (ja) | 1990-01-17 | 1990-01-17 | レジスト塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009372A JPH03212929A (ja) | 1990-01-17 | 1990-01-17 | レジスト塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03212929A true JPH03212929A (ja) | 1991-09-18 |
Family
ID=11718639
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009372A Pending JPH03212929A (ja) | 1990-01-17 | 1990-01-17 | レジスト塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03212929A (ja) |
-
1990
- 1990-01-17 JP JP2009372A patent/JPH03212929A/ja active Pending
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