JPH03212937A - ウエハ水洗装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明はウェハ水洗装置、特にその洗浄用の純水の溶
存酸素濃度低減に関するものである。

〔従来の技術〕

第２図は従来のウェハ水洗装置の構成を示す模式断面図
である。図において、（１）はウェハ、（２）はウェハ
（１）を入れるウェハキャリアー、（８）はウニ／Ｘキ
ャリア（２）ごと浸漬させる水洗槽、（４）は水洗槽（
８）に張られた純水である。

次に動作について説明する。従来のウェハ水洗装置は上
記のように構成され、酸等での処理を終えたウェハ（１
）がウェハキャリアー（２）ごと、純水（４）の張られ
た水洗槽（８）の中に浸漬され水洗でれる。

〔発明が解決しようとする課題〕

従来のウェハ水洗装置は以上のように構成されていたの
で、純水は大気と接しており、このため純水中の溶存酸
素濃度が高くなってしまい、ウェハがシリコンウェハの
場合、低級のシリコン酸化物がシリコン表面に付着する
等の問題点があった。

この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、純水中の溶存酸素濃度を低減式せたウェハ水
洗装置を得ることを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

この発明に係るウェハ水洗装置は、純水を張った水洗槽
を真空ポンプに接続された密閉容器内に備えたものであ
る。

〔作用〕

この発明におけるウェハ水洗装置の真空ポンプは密閉容
器内を減圧し、これによシ密閉容器内にある純水中の溶
存酸素濃度を低減する。

〔実施例〕

以下、この発明の一実施例を図について説明する。第１
図はウェハ水洗装置の構成を示す模式断面図である。図
において、（１）〜（４）は第２図の従来例に示したも
のと同等であるので説明を省略する。

（６）は水洗槽（８）をまるごと収納できる密閉容器、
（６）は真空ポンプ、（γ）は密閉容器（５）と真空ポ
ンプ（６）を接続する真空配管である。

次に動作について説明する。真空ポンプ（６）が真空配
管（γ）により接続された密閉容器（５）の中の圧力を
減じ、これにより密閉容器（５）内にある純水（４）中
の溶存酸素濃度を低減させる。

なお、上記実施例では、ウニ／％　（１）の水洗の方法
としてウェハ（１）をウェハキャリアー（２）ごと純水
（４）を張った水洗槽（８）の中に浸漬する場合につい
て説明したが、例えばウェハ（１）をベルトで移動させ
ながら純水（４）を吹き付ける方法等どんな方法でもよ
く、水洗部分を密閉容器（５）内に備え、この中を減圧
すれば、上記実施例と同様の効果を奏する。

〔発明の効果〕

以上のように、この発明によれば水洗部分を減圧するこ
とにより、純水の溶存酸素濃度を低減でき、例えば低級
酸化膜の生成を抑える等の効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明に係るウェハ水洗装置の一実施例によ
るウェハ水洗装置の構成を示す模式断面図、第２図は従
来のウェハ水洗装置の構成を示す模式断面図である。 図において、（１）はウェハ、（２）はウェハキャリア
、（８）は水洗槽、（４）は純水、（５）は密閉容器、
（６）は真空ポンプ、（γ）は真空配管である。 なお、図中、同一符号は同一　又は相当部分を示す。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. ウェハを水洗する装置において、水洗部分が真空ポンプ
   に接続された密閉容器内に備えられていることを特徴と
   するウェハ水洗装置。