JPH03213745A - 精密除振台 - Google Patents
精密除振台Info
- Publication number
- JPH03213745A JPH03213745A JP904090A JP904090A JPH03213745A JP H03213745 A JPH03213745 A JP H03213745A JP 904090 A JP904090 A JP 904090A JP 904090 A JP904090 A JP 904090A JP H03213745 A JPH03213745 A JP H03213745A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- surface plate
- surface table
- precision
- actuator
- actuators
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims abstract description 39
- 238000002955 isolation Methods 0.000 claims description 21
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 2
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Vibration Prevention Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は精密除振台に係り、特に定盤の傾斜および上下
方向の微小な調整も容易な精密除振台に関する。
方向の微小な調整も容易な精密除振台に関する。
[従来の技術]
半導体製造装置、同検査装置、電子顕微鏡、各種分析機
器、光学測定機器等の精密機器は除振台上に搭載して使
用されている。第6図に示すように、床90上に設置さ
れた除振台は、精密機器が搭載される定盤40と、定盤
40の下面に接触して取り付けられた感知レバー61を
有する自動圧力調整器60と、自動圧力調整器60の弁
(図示せず)により制御され定盤40の下面に接触して
設けられている空気ばね50と、空気ばね50に対し空
気を供給する付加タンク51と、フレーム80とで構成
されている。自動圧力調整弁については、本出願人によ
り既に提案されている(実開昭56−148715号)
。
器、光学測定機器等の精密機器は除振台上に搭載して使
用されている。第6図に示すように、床90上に設置さ
れた除振台は、精密機器が搭載される定盤40と、定盤
40の下面に接触して取り付けられた感知レバー61を
有する自動圧力調整器60と、自動圧力調整器60の弁
(図示せず)により制御され定盤40の下面に接触して
設けられている空気ばね50と、空気ばね50に対し空
気を供給する付加タンク51と、フレーム80とで構成
されている。自動圧力調整弁については、本出願人によ
り既に提案されている(実開昭56−148715号)
。
定盤40の振動が感知レバー61に伝達されると、感知
レバー61の上下動に応じて自動圧力調整器60の弁が
開閉し、空気ばね50に付加タンク51から空気が供給
されるか、または、空気ばね50から空気が放出されて
、上下動した定盤40の復元が計られる。
レバー61の上下動に応じて自動圧力調整器60の弁が
開閉し、空気ばね50に付加タンク51から空気が供給
されるか、または、空気ばね50から空気が放出されて
、上下動した定盤40の復元が計られる。
[発明が解決すべき課題]
ところで従来の除振台に使用されている自動圧力調整器
60は応答が遅いため、短時間にほぼ元の位置にもどる
という高速復元は望めず、また、ハンティング防止のた
め不感帯が大きく、復元精度も悪かった(第5図)。こ
のため、搭載される精密機器の高性能、高精度化に伴い
、除振台自体の機能向上が要求されていた。
60は応答が遅いため、短時間にほぼ元の位置にもどる
という高速復元は望めず、また、ハンティング防止のた
め不感帯が大きく、復元精度も悪かった(第5図)。こ
のため、搭載される精密機器の高性能、高精度化に伴い
、除振台自体の機能向上が要求されていた。
[発明の目的]
本発明は上記の点を解決するためになされたもので、機
器が搭載された定盤の傾斜及び上下方向のレベル変動を
、速かに、かつ、高精度に復元可能な精密除振台を提供
することを目的とする。
器が搭載された定盤の傾斜及び上下方向のレベル変動を
、速かに、かつ、高精度に復元可能な精密除振台を提供
することを目的とする。
[課題を解決するための手段]
上記の目的を達成するために、本発明による精密除振台
は、空気ばねと、空気ばねに支持される第1の定盤と、
第1の定盤の変位に応じて空気ばねを駆動させる自動圧
力調整器を有し、第1の定盤の上に設けられ除振対称物
を載置する第2の定盤と、第2の定盤の位置を検出する
非接触変位センサと、第1の定盤と第2の定盤の間に設
置され非接触変位センサが検出した位置信号に基つき第
2の定盤の変位を制御するアクチュエータと、アクチュ
エータを駆動制御する制御部とを備えた構造で、ある。
は、空気ばねと、空気ばねに支持される第1の定盤と、
第1の定盤の変位に応じて空気ばねを駆動させる自動圧
力調整器を有し、第1の定盤の上に設けられ除振対称物
を載置する第2の定盤と、第2の定盤の位置を検出する
非接触変位センサと、第1の定盤と第2の定盤の間に設
置され非接触変位センサが検出した位置信号に基つき第
2の定盤の変位を制御するアクチュエータと、アクチュ
エータを駆動制御する制御部とを備えた構造で、ある。
[実施例]
以下、本発明による精密除振台の好ましい実施例を図面
を用いて詳述する。
を用いて詳述する。
第1図に示すように、本発明による精密除振台は、第1
の定盤4の上に設けられ除振対称物を載置する第2の定
盤4Aと、第2の定盤4Aの位置を検出する非接触変位
センサ1と、第1の定盤4と第2の定盤4Aの間に設置
され非接触変位センサ1が検出した位置信号に基づき第
2の定盤4Aの変位を制御するアクチュエータ2と、ア
クチュエータ2を駆動制御する制御部3とを備え、かつ
、第1の定盤4の下面に接触して取り付けられた感知レ
バー61を有する自動圧力調整器6と、自動圧力調整器
6の弁(図示せず)により制御され第1の定盤4の下面
に接触して設けられている空気ばね5と、空気ばね5に
対し空気を供給する付加タンク51と、フレーム8とを
有し、付加タンク51の下部が床9上に設置されている
。
の定盤4の上に設けられ除振対称物を載置する第2の定
盤4Aと、第2の定盤4Aの位置を検出する非接触変位
センサ1と、第1の定盤4と第2の定盤4Aの間に設置
され非接触変位センサ1が検出した位置信号に基づき第
2の定盤4Aの変位を制御するアクチュエータ2と、ア
クチュエータ2を駆動制御する制御部3とを備え、かつ
、第1の定盤4の下面に接触して取り付けられた感知レ
バー61を有する自動圧力調整器6と、自動圧力調整器
6の弁(図示せず)により制御され第1の定盤4の下面
に接触して設けられている空気ばね5と、空気ばね5に
対し空気を供給する付加タンク51と、フレーム8とを
有し、付加タンク51の下部が床9上に設置されている
。
第2の定盤4Aの位置を検出する非接触変位センサ1は
、フレーム8に設けられたブラッケット7に取り付けら
れる。除振対称物が載置される第2の定盤4Aは、第1
の定盤4の上に設けられたアクチュエータ2により支持
されている。制御部3は、第1の定盤4の上、または、
別所に設けられる。
、フレーム8に設けられたブラッケット7に取り付けら
れる。除振対称物が載置される第2の定盤4Aは、第1
の定盤4の上に設けられたアクチュエータ2により支持
されている。制御部3は、第1の定盤4の上、または、
別所に設けられる。
本発明の特徴である非接触変位センサ1、アクチュエー
タ2および制御部3から成る制御機構部分の基本構成は
、第2図に示すように、例えば、非接触変位センサ1が
4個、アクチュエータ2が4個、工ないし複数個の制御
部3(第2図には図示せず)であるが、それぞれの数に
は特別制限はない。
タ2および制御部3から成る制御機構部分の基本構成は
、第2図に示すように、例えば、非接触変位センサ1が
4個、アクチュエータ2が4個、工ないし複数個の制御
部3(第2図には図示せず)であるが、それぞれの数に
は特別制限はない。
非接触変位センサ1が検出した第2の定盤4Aの位置信
号は、制御部3に伝達され、制御部3はアクチュエータ
2を駆動制御する。第2の定盤4Aの変位とは逆方向に
駆動するアクチュエータ2の働きで、第2の定盤4Aは
素速く一定状態に復元される(第3図)。
号は、制御部3に伝達され、制御部3はアクチュエータ
2を駆動制御する。第2の定盤4Aの変位とは逆方向に
駆動するアクチュエータ2の働きで、第2の定盤4Aは
素速く一定状態に復元される(第3図)。
本発明による精密除振台においては、第1の定盤4の大
きな振動は、従来と同様に制御される。
きな振動は、従来と同様に制御される。
即ち、第1の定盤4の振動が感知レバー61に伝達され
ると、感知レバー61の上下動に応じて自動圧力調整器
6の弁が開閉し、空気ばね5に付加タンク51から空気
が供給されるか、または、空気ばね5から空気が放出さ
れて、上下動した第1の定盤4の復元が計られる。一方
、搭載される精密機器にとって影響の大きい微小変位お
よび第1の定盤4の振動による第2の定盤4Aの振動の
復元は、非接触変位センサ1が検出した位置信号に基づ
き制御部3にコントロールされているアクチュエータ2
の駆動により、能動的に第2の定盤4Aに対してなされ
る。
ると、感知レバー61の上下動に応じて自動圧力調整器
6の弁が開閉し、空気ばね5に付加タンク51から空気
が供給されるか、または、空気ばね5から空気が放出さ
れて、上下動した第1の定盤4の復元が計られる。一方
、搭載される精密機器にとって影響の大きい微小変位お
よび第1の定盤4の振動による第2の定盤4Aの振動の
復元は、非接触変位センサ1が検出した位置信号に基づ
き制御部3にコントロールされているアクチュエータ2
の駆動により、能動的に第2の定盤4Aに対してなされ
る。
非接触変位センサ1は、第2の定盤4Aに接触すること
なく、床9と第2の定盤4Aの相対変位を検出するもの
で、光学的(L E D)変位センサ、空気変動式変位
センサ、レーザ変位センサ、超音波式変位センサ、渦電
流式変位センサ等、公知の変位センサが好適に用いられ
る。設置位置はブラッケト7上とは限定されず、第2の
定盤4Aと床9との相対変位を検出できる位置であれば
よい。
なく、床9と第2の定盤4Aの相対変位を検出するもの
で、光学的(L E D)変位センサ、空気変動式変位
センサ、レーザ変位センサ、超音波式変位センサ、渦電
流式変位センサ等、公知の変位センサが好適に用いられ
る。設置位置はブラッケト7上とは限定されず、第2の
定盤4Aと床9との相対変位を検出できる位置であれば
よい。
アクチュエータ2としては、高速で駆動可能な、リニア
モータ、圧電アクチュエータ、電動シリンダー、油圧シ
リンダー、超音波モータ、アモルファス磁気素子による
アクチュエータ、磁歪機能素子によるアクチュエータ等
公知のアクチュエータが好適である。
モータ、圧電アクチュエータ、電動シリンダー、油圧シ
リンダー、超音波モータ、アモルファス磁気素子による
アクチュエータ、磁歪機能素子によるアクチュエータ等
公知のアクチュエータが好適である。
本発明による精密除振台の復元特性をみると、第4図に
示すように、極く短時間に、かつ、はぼ初期状態にもど
り、第5図に示す従来の除振台の復元特性に比較して優
れた性能が確認された。
示すように、極く短時間に、かつ、はぼ初期状態にもど
り、第5図に示す従来の除振台の復元特性に比較して優
れた性能が確認された。
尚、本発明の特徴である制御機構部分、即ち、4個の非
接触変位センサ1.4個のアクチュエータ2および制御
部3を、使用されている従来の除振台の振動制御機構に
対して直列的に付加することにより、本発明による精密
除振台と同様な効果があるのは言うまでもない。
接触変位センサ1.4個のアクチュエータ2および制御
部3を、使用されている従来の除振台の振動制御機構に
対して直列的に付加することにより、本発明による精密
除振台と同様な効果があるのは言うまでもない。
[発明の効果]
以上の実施例からも明らかなように、本発明による精密
除振台は、空気ばねと、空気ばねに支持される第1の定
盤と、第1の定盤の変位に応じて空気ばねを駆動させる
自動圧力調整器を有するので大きな振動が制御され、ま
た、第1の定盤の上に設けられ除振対称物を載置する第
2の定盤と、第2の定盤の位置を検出する非接触変位セ
ンサと、第1の定盤と第2の定盤の間に設置され非接触
変位センサが検出した位置信号に基づき第2の定盤の変
位を制御するアクチュエータと、アクチュエータを駆動
制御する制御部とを備えているので、精密機器が搭載さ
れた定盤の傾斜や微小なレベル変動も、速かに、かつ、
高精度に復元可能であり、搭載される精密機器の高性能
、高精度化によく対応する。
除振台は、空気ばねと、空気ばねに支持される第1の定
盤と、第1の定盤の変位に応じて空気ばねを駆動させる
自動圧力調整器を有するので大きな振動が制御され、ま
た、第1の定盤の上に設けられ除振対称物を載置する第
2の定盤と、第2の定盤の位置を検出する非接触変位セ
ンサと、第1の定盤と第2の定盤の間に設置され非接触
変位センサが検出した位置信号に基づき第2の定盤の変
位を制御するアクチュエータと、アクチュエータを駆動
制御する制御部とを備えているので、精密機器が搭載さ
れた定盤の傾斜や微小なレベル変動も、速かに、かつ、
高精度に復元可能であり、搭載される精密機器の高性能
、高精度化によく対応する。
第1図および第2図は本発明による精密除振台の構成を
示す図、第3図はその制御方法を説明する図、第4図は
本発明による精密除振台の復元特性を示す図、第5図は
従来の除振台の復元特性を示す図、第6図は従来の除振
台の構成を示す図である。 011000.、非接触変位センサ 3311.10.アクチュエータ 0901111.制御部 001190.第1の定盤 A、、、、、、、、第2の定盤 989381.空気ばね 001191.自動圧力調整器
示す図、第3図はその制御方法を説明する図、第4図は
本発明による精密除振台の復元特性を示す図、第5図は
従来の除振台の復元特性を示す図、第6図は従来の除振
台の構成を示す図である。 011000.、非接触変位センサ 3311.10.アクチュエータ 0901111.制御部 001190.第1の定盤 A、、、、、、、、第2の定盤 989381.空気ばね 001191.自動圧力調整器
Claims (1)
- 空気ばねと、前記空気ばねに支持される第1の定盤と
、前記第1の定盤の変位に応じて前記空気ばねを駆動さ
せる自動圧力調整器を有し、前記第1の定盤の上に設け
られ除振対称物を載置する第2の定盤と、前記第2の定
盤の位置を検出する非接触変位センサと、前記第1の定
盤と前記第2の定盤の間に設置され前記非接触変位セン
サが検出した位置信号に基づき前記第2の定盤の変位を
制御するアクチュエータと、前記アクチュエータを駆動
制御する制御部とを備えたことを特徴とする精密除振台
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009040A JP3004671B2 (ja) | 1990-01-18 | 1990-01-18 | 精密除振台 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009040A JP3004671B2 (ja) | 1990-01-18 | 1990-01-18 | 精密除振台 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03213745A true JPH03213745A (ja) | 1991-09-19 |
| JP3004671B2 JP3004671B2 (ja) | 2000-01-31 |
Family
ID=11709534
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009040A Expired - Lifetime JP3004671B2 (ja) | 1990-01-18 | 1990-01-18 | 精密除振台 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3004671B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003104678A1 (en) * | 2002-06-10 | 2003-12-18 | Canadian Space Agency | Vibration control apparatus |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6227474B1 (en) | 1998-08-27 | 2001-05-08 | Kabushiki Kaisha Johshuya | Spinning reel with tension roller for preventing fishing line twist |
-
1990
- 1990-01-18 JP JP2009040A patent/JP3004671B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003104678A1 (en) * | 2002-06-10 | 2003-12-18 | Canadian Space Agency | Vibration control apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3004671B2 (ja) | 2000-01-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6036162A (en) | Vibration isolator and method of isolating vibration | |
| US5765800A (en) | Vibration damping apparatus | |
| KR100478527B1 (ko) | 방진장치 | |
| US6272763B1 (en) | Staging apparatus and method, and method for manufacturing the staging apparatus, and exposing apparatus using the staging apparatus | |
| US6604295B2 (en) | Microscopic geometry measuring device | |
| JP3273026B2 (ja) | 表面追従型測定機 | |
| US5812420A (en) | Vibration-preventive apparatus and exposure apparatus | |
| JPH06183561A (ja) | 移動ステージ装置 | |
| US6518721B2 (en) | Oscillation isolator | |
| US20030168295A1 (en) | Active vibration isolation system | |
| US5794909A (en) | Auto-adjust apparatus for a vibration isolation system | |
| CN100461365C (zh) | 高精度硅片台及其定位方法 | |
| JP4557466B2 (ja) | 接触式プローブ | |
| US6042079A (en) | Device for vibration isolation | |
| JP2000249185A (ja) | アクティブ型除振装置 | |
| JP3004671B2 (ja) | 精密除振台 | |
| JPH03213744A (ja) | 精密除振台 | |
| JP2000120765A (ja) | アクティブ型除振装置 | |
| JP4057134B2 (ja) | アクティブ型除振装置 | |
| Zhang et al. | A linear piezomotor of high stiffness and nanometer resolution | |
| JP2000170827A (ja) | アクティブ型除振装置 | |
| JPH0511856A (ja) | 除振台のフイードフオワード制御方法 | |
| JP4488269B2 (ja) | 顕微鏡用ステージおよびこれを用いた顕微鏡 | |
| JP3636337B2 (ja) | 除振装置及び露光装置 | |
| JPH0425334A (ja) | 位置決め装置 |