JPH0321473Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0321473Y2 JPH0321473Y2 JP1983126996U JP12699683U JPH0321473Y2 JP H0321473 Y2 JPH0321473 Y2 JP H0321473Y2 JP 1983126996 U JP1983126996 U JP 1983126996U JP 12699683 U JP12699683 U JP 12699683U JP H0321473 Y2 JPH0321473 Y2 JP H0321473Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- port
- lever
- cleaning
- socket
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は、注射薬のアンプル内等の空気など微
量のガスを採取するためのガスサンプラーに関す
る。
量のガスを採取するためのガスサンプラーに関す
る。
アンプル内の空気など微量の被検出ガス(サン
プリングガス)を採取し、たとえば残存酸素を測
定するために、吸気および/または排気のための
ポート(孔)が設けられたボデイと、該ボデイ内
に回転方向に摺動自在に嵌め込まれポートを選択
的に連通させるコツクとからなるコツク式のガス
サンプラーが用いられている。しかるに従来のガ
スサンプラーでは、ガスサンプラー流通路内に存
在する空気の排気がなされていなかつたためにこ
の空気の影響によりサンプリングガスの残存酸素
の測定値が若干高くなるなど測定が不正確になつ
ていた。またサンプリングガスが多量の場合はガ
スサンプラー内にサンプリングガスを流し空気を
排除することで正確な測定ができるが、サンプリ
ングガスが微量の場合にはサンプリングガスによ
るガスサンプラー内の洗浄は不可能である。
プリングガス)を採取し、たとえば残存酸素を測
定するために、吸気および/または排気のための
ポート(孔)が設けられたボデイと、該ボデイ内
に回転方向に摺動自在に嵌め込まれポートを選択
的に連通させるコツクとからなるコツク式のガス
サンプラーが用いられている。しかるに従来のガ
スサンプラーでは、ガスサンプラー流通路内に存
在する空気の排気がなされていなかつたためにこ
の空気の影響によりサンプリングガスの残存酸素
の測定値が若干高くなるなど測定が不正確になつ
ていた。またサンプリングガスが多量の場合はガ
スサンプラー内にサンプリングガスを流し空気を
排除することで正確な測定ができるが、サンプリ
ングガスが微量の場合にはサンプリングガスによ
るガスサンプラー内の洗浄は不可能である。
本考案の目的は、ガスサンプラー内を窒素ガス
など成分を特定した洗浄用ガスで洗浄することに
より、アンプル等に入つた微量のガスの内、特定
ガスの濃度を、ガスサンプラー内の空気の影響を
受けずにガス測定器で測定できるガスサンプラー
を提供することにある。
など成分を特定した洗浄用ガスで洗浄することに
より、アンプル等に入つた微量のガスの内、特定
ガスの濃度を、ガスサンプラー内の空気の影響を
受けずにガス測定器で測定できるガスサンプラー
を提供することにある。
本考案のガスサンプラーは、空所と、サンプル
ガスの流通路、洗浄用ガスの供給源、吸引ポン
プ、ガス測定器とを連通する第1〜第4のポート
を順に形成したボデイと、回転および軸方向に変
位自在に前記空所に嵌め込まれるとともに、洗浄
用ガスを前記吸引ポンプで吸引する第1の設定位
置の時前記第2のポートと第3のポートとを連通
し、吸引した洗浄用ガスでガス測定器および被採
ガスの流通路を洗浄する第2の設定位置の時前記
第1、第2、第3の各ポートを連通し、サンプル
ガスを吸引する第3の設定位置の時前記第1のポ
ートと第3のポートを連通し、サンプルガスをガ
ス測定器に送り込む第4の設定位置の時前記第3
のポートと第4のポートを連通するポートを形成
したコツクと、前記コツクを第2の設定位置から
第3の設定位置にする際、前記コツクを軸方向に
変位させるレバーとを具備してなる。
ガスの流通路、洗浄用ガスの供給源、吸引ポン
プ、ガス測定器とを連通する第1〜第4のポート
を順に形成したボデイと、回転および軸方向に変
位自在に前記空所に嵌め込まれるとともに、洗浄
用ガスを前記吸引ポンプで吸引する第1の設定位
置の時前記第2のポートと第3のポートとを連通
し、吸引した洗浄用ガスでガス測定器および被採
ガスの流通路を洗浄する第2の設定位置の時前記
第1、第2、第3の各ポートを連通し、サンプル
ガスを吸引する第3の設定位置の時前記第1のポ
ートと第3のポートを連通し、サンプルガスをガ
ス測定器に送り込む第4の設定位置の時前記第3
のポートと第4のポートを連通するポートを形成
したコツクと、前記コツクを第2の設定位置から
第3の設定位置にする際、前記コツクを軸方向に
変位させるレバーとを具備してなる。
つぎに本考案にかかるガスサンプラーを図に示
す実施例に基づき説明する。
す実施例に基づき説明する。
1はガスサンプラーであり、ガスサンプラーの
ボデイ2と、該ボデイ2内に回転方向に摺動自在
に嵌め込まれたコツク3とから構成される。
ボデイ2と、該ボデイ2内に回転方向に摺動自在
に嵌め込まれたコツク3とから構成される。
ガスサンプラーのボデイ2は、第1,2,3図
に示す如くボデイ2に回転方向に摺動自在に嵌め
込まれた中央部31Cに形成されたAのポート3
2A、Bのポート32B、Cのポート32Cおよ
びDのポート32Dを備えた嵌入部31Aと、突
出した突出部31Bからなるコツク3を有し、前
記ポート32A〜32Dより円周方向へポート3
2A〜32Dに連通するサンプリングガスを吸排
するための第1のポート21A、洗浄用ガスを吸
入するための第2のポート21B、ポンプへ連結
される第3のポート21Cおよび酸素センサ24
に通じる第4のポート21Dを有し、第1のポー
ト21Aおよび第2のポート21Bは後記するサ
ンプリンガス注入針51および洗浄用ガス注入針
61と連通し、前記第1のポート21A、第2の
ポート21B、第3のポート21C、および第4
のポート21Dの先端にはボデイ2と一体に形成
された凹状のサンプリングガス注入具室22A、
洗浄用ガス注入具室22B、ポンプのシリンダ室
22C、センサねじ穴22Dを有し、該サンプリ
ングガス注入具室22A、洗浄用ガス注入具室2
2Bおよびセンサねじ穴22Dは内周面にシリン
ダ室22Cは外周面にそれぞれねじ23A,23
B,23D,23Cを形成している。さらに前記
コツク3の突出部31Bを支持する第2,3,
4,5,6図に示す固着部材32と、第7,8図
に示す如くレバー摺動溝41A、突出側のレバー
支持部43A、コツク側のレバー支持部43Bを
有する摺動溝41Bおよび突出側のレバー支持部
43C、コツク側のレバー突出部43Dを有する
摺動溝41Cを有するレバーガイド帯42を外嵌
した前記固着部材32より突出したコツク3を選
択的に設定するレバー47と、コツク3外周から
発し、コツクの先端より円周方向に突出しコツク
3を回転させるアーム48を備え、レバー47お
よびアーム48を操作することによつて前記コツ
ク3のAのポート32A,Bのポート32B,C
のポート32CおよびDのポート32Dを選択的
に前記第1のポート21A、第2のポート21
B、第3のポート21C、第4のポート21Dに
連通させた切替装置4とからなる。
に示す如くボデイ2に回転方向に摺動自在に嵌め
込まれた中央部31Cに形成されたAのポート3
2A、Bのポート32B、Cのポート32Cおよ
びDのポート32Dを備えた嵌入部31Aと、突
出した突出部31Bからなるコツク3を有し、前
記ポート32A〜32Dより円周方向へポート3
2A〜32Dに連通するサンプリングガスを吸排
するための第1のポート21A、洗浄用ガスを吸
入するための第2のポート21B、ポンプへ連結
される第3のポート21Cおよび酸素センサ24
に通じる第4のポート21Dを有し、第1のポー
ト21Aおよび第2のポート21Bは後記するサ
ンプリンガス注入針51および洗浄用ガス注入針
61と連通し、前記第1のポート21A、第2の
ポート21B、第3のポート21C、および第4
のポート21Dの先端にはボデイ2と一体に形成
された凹状のサンプリングガス注入具室22A、
洗浄用ガス注入具室22B、ポンプのシリンダ室
22C、センサねじ穴22Dを有し、該サンプリ
ングガス注入具室22A、洗浄用ガス注入具室2
2Bおよびセンサねじ穴22Dは内周面にシリン
ダ室22Cは外周面にそれぞれねじ23A,23
B,23D,23Cを形成している。さらに前記
コツク3の突出部31Bを支持する第2,3,
4,5,6図に示す固着部材32と、第7,8図
に示す如くレバー摺動溝41A、突出側のレバー
支持部43A、コツク側のレバー支持部43Bを
有する摺動溝41Bおよび突出側のレバー支持部
43C、コツク側のレバー突出部43Dを有する
摺動溝41Cを有するレバーガイド帯42を外嵌
した前記固着部材32より突出したコツク3を選
択的に設定するレバー47と、コツク3外周から
発し、コツクの先端より円周方向に突出しコツク
3を回転させるアーム48を備え、レバー47お
よびアーム48を操作することによつて前記コツ
ク3のAのポート32A,Bのポート32B,C
のポート32CおよびDのポート32Dを選択的
に前記第1のポート21A、第2のポート21
B、第3のポート21C、第4のポート21Dに
連通させた切替装置4とからなる。
サンプリングガス注入具5は、第1,2,6図
に示す如く底部より貫通され突出したサンプリン
グガス注入針51を有し、該注入針51の先端
は、サンプリングガス吸入時アンプル59内の空
気滞留部59Aと連結された径の小さいサンプリ
ングガスパイプ52と連通しており、前記注入針
51を有する環状の部材53と、該部材53を支
持留めする支持リング54と、前記部材53の先
端側53Aに嵌着されている蓋材55と、これら
を包含し、大径部56A先端より前記注入針51
が突出し、小径部56B外周には前記ねじ23A
と螺合するねじ57を形成しているサンプリング
ガス注入具蓋58からなる。
に示す如く底部より貫通され突出したサンプリン
グガス注入針51を有し、該注入針51の先端
は、サンプリングガス吸入時アンプル59内の空
気滞留部59Aと連結された径の小さいサンプリ
ングガスパイプ52と連通しており、前記注入針
51を有する環状の部材53と、該部材53を支
持留めする支持リング54と、前記部材53の先
端側53Aに嵌着されている蓋材55と、これら
を包含し、大径部56A先端より前記注入針51
が突出し、小径部56B外周には前記ねじ23A
と螺合するねじ57を形成しているサンプリング
ガス注入具蓋58からなる。
窒素ガス等の洗浄用ガス注入具6は、第1,2
図に示す如く中心に洗浄ガス用注入針61を有
し、該注入針61の先端は、ガスボンベ69から
の洗浄用ガスパイプ62と連通しており、前記注
入針61を有する環状の部材63と、該部材63
を支持留めする支持リング64と、前記部材63
の先端側63Aに嵌着されている蓋材65と、こ
れらを包含し、大径部66A先端より前記注入針
61が突出し、小径部66B外周には前記ねじ2
3Bと螺合するねじ67を形成している洗浄用ガ
ス注入具蓋68からなる。
図に示す如く中心に洗浄ガス用注入針61を有
し、該注入針61の先端は、ガスボンベ69から
の洗浄用ガスパイプ62と連通しており、前記注
入針61を有する環状の部材63と、該部材63
を支持留めする支持リング64と、前記部材63
の先端側63Aに嵌着されている蓋材65と、こ
れらを包含し、大径部66A先端より前記注入針
61が突出し、小径部66B外周には前記ねじ2
3Bと螺合するねじ67を形成している洗浄用ガ
ス注入具蓋68からなる。
ポンプ7は第1,2図に示す如くピストン71
とシリンダ部72とからなり、シリンダ部72は
ピストン側端72Aにピストン71に貫通された
蓋73を有し他方は前記センサねじ穴22Dに嵌
合されシリンダ壁74より外方に突出し外周端7
4Aからシリンダ壁74方向に連結されたシリン
ダ壁のガイド75は内周部76に前記ねじ23C
と螺合するねじ76Aを形成している。
とシリンダ部72とからなり、シリンダ部72は
ピストン側端72Aにピストン71に貫通された
蓋73を有し他方は前記センサねじ穴22Dに嵌
合されシリンダ壁74より外方に突出し外周端7
4Aからシリンダ壁74方向に連結されたシリン
ダ壁のガイド75は内周部76に前記ねじ23C
と螺合するねじ76Aを形成している。
本実施例の作用を説明する。
イ 第8図の前記レバー47摺動溝41Bに第9
図に示す固着部の溝46Aの固着部側44Aお
よびレバーガイド帯42の突出側のレバー支持
部43Aにレバー47が位置すると第10図に
示す如く第2のポート21Bと第3のポート2
1Cが連通し、この時に第1図に示すピストン
71を図示右方向に引張るとシリンダ室22C
にガスボンベ69から洗浄用ガスパイプ62を
通つて洗浄用ガスである窒素ガスが入り込む。
図に示す固着部の溝46Aの固着部側44Aお
よびレバーガイド帯42の突出側のレバー支持
部43Aにレバー47が位置すると第10図に
示す如く第2のポート21Bと第3のポート2
1Cが連通し、この時に第1図に示すピストン
71を図示右方向に引張るとシリンダ室22C
にガスボンベ69から洗浄用ガスパイプ62を
通つて洗浄用ガスである窒素ガスが入り込む。
ロ つぎに第8図に示す如くアーム48によつて
コツク3を回転させるとレバー47はコツク側
のレバー支持部43Bの位置に移動する。第1
1図に示す如く第3のポート21Cと第1のポ
ート21Aおよび第4のポート21Dとが連通
し、この時、ピストン71を押すと、サンプリ
ングガス流通路内は洗浄用ガスによつて洗浄さ
れ、サンプリングガス流通路内の酸素濃度がほ
ぼ0%となる。
コツク3を回転させるとレバー47はコツク側
のレバー支持部43Bの位置に移動する。第1
1図に示す如く第3のポート21Cと第1のポ
ート21Aおよび第4のポート21Dとが連通
し、この時、ピストン71を押すと、サンプリ
ングガス流通路内は洗浄用ガスによつて洗浄さ
れ、サンプリングガス流通路内の酸素濃度がほ
ぼ0%となる。
ハ つぎにレバー47を第9,12図に示す如く
固着部側44Aより突出部側44Bに移動さ
せ、アーム48によつてコツク3を回転させる
レバー47は溝41Cの第8図に示すコツク側
のレバー支持部43Cに位置するとコツク3
は、第13図の如く第1のポート21Aと第3
のポート21Cとを連通させる。このときにア
ンプル59内のサンプリングガスである空気滞
留部59Aにサンプリングガスパイプ52を差
し込みピストン71を引つ張り、第3のポート
21C内にアンプル59内の空気を滞留させ
る。
固着部側44Aより突出部側44Bに移動さ
せ、アーム48によつてコツク3を回転させる
レバー47は溝41Cの第8図に示すコツク側
のレバー支持部43Cに位置するとコツク3
は、第13図の如く第1のポート21Aと第3
のポート21Cとを連通させる。このときにア
ンプル59内のサンプリングガスである空気滞
留部59Aにサンプリングガスパイプ52を差
し込みピストン71を引つ張り、第3のポート
21C内にアンプル59内の空気を滞留させ
る。
ニ つぎにアーム48によつてコツク3を回転さ
せてレバー47を第8図に示す如く突出部側の
レバー支持部43Dに位置させると、第14図
に示す如くコツク3は第3のポート21Cと第
4のポート21Dのみを連通させセンサねじ穴
22Dに空気を入れて酸素センサ24によつて
酸素濃度を測定する。
せてレバー47を第8図に示す如く突出部側の
レバー支持部43Dに位置させると、第14図
に示す如くコツク3は第3のポート21Cと第
4のポート21Dのみを連通させセンサねじ穴
22Dに空気を入れて酸素センサ24によつて
酸素濃度を測定する。
本考案は、以下の作用効果を奏する。
(ア) ガスサンプラー内を全て洗浄用ガスで洗浄で
きるので、アンプル等に入つた微量のガスの
内、特定ガスの濃度を、ガスサンプラー内の空
気の影響を受けずにガス測定器で測定できる。
きるので、アンプル等に入つた微量のガスの
内、特定ガスの濃度を、ガスサンプラー内の空
気の影響を受けずにガス測定器で測定できる。
(イ) コツクを第2の設定位置から第3の設定位置
にする際、コツクをレバーにより軸方向に変位
させているので、所定のポート以外が連通する
ことは無い。また、コツクは一つで済む。
にする際、コツクをレバーにより軸方向に変位
させているので、所定のポート以外が連通する
ことは無い。また、コツクは一つで済む。
(ウ) 第2の設定位置から第3の設定位置にする
際、コツクをレバーで軸方向に変位させる構成
であるので、操作の誤りを起こさずに、洗浄用
ガスによる流通路の洗浄からサンプルガスの測
定に移行できる。
際、コツクをレバーで軸方向に変位させる構成
であるので、操作の誤りを起こさずに、洗浄用
ガスによる流通路の洗浄からサンプルガスの測
定に移行できる。
第1図は本考案にかかるガスサンプラーの正面
断面図、第2図は本考案にかかるガスサンプラー
の底面図、第3図は本考案にかかるガスサンプラ
ーの左側面断面図、第4図は本考案にかかるガス
サンプラーの正面図、第5図は本考案にかかるガ
スサンプラー第3図における溝部断面図、第6図
は本考案にかかるガスサンプラーの第3図におけ
る溝部断面図、第7図は本考案にかかるガスサン
プラーのコツクの側面図、第8図は本考案にかか
るガスサンプラーのレバーガイド帯展開図、第
9,10,11,12,13,14図は本考案に
かかるガスサンプラーの作用説明図である。 図中、1……ガスサンプラー、2……ボデイ、
3……コツク、5……サンプリングガス注入具、
6……洗浄用ガス注入具、21A……第1のポー
ト、21B……第2のポート、21C……第3の
ポート、21D……第4のポート。
断面図、第2図は本考案にかかるガスサンプラー
の底面図、第3図は本考案にかかるガスサンプラ
ーの左側面断面図、第4図は本考案にかかるガス
サンプラーの正面図、第5図は本考案にかかるガ
スサンプラー第3図における溝部断面図、第6図
は本考案にかかるガスサンプラーの第3図におけ
る溝部断面図、第7図は本考案にかかるガスサン
プラーのコツクの側面図、第8図は本考案にかか
るガスサンプラーのレバーガイド帯展開図、第
9,10,11,12,13,14図は本考案に
かかるガスサンプラーの作用説明図である。 図中、1……ガスサンプラー、2……ボデイ、
3……コツク、5……サンプリングガス注入具、
6……洗浄用ガス注入具、21A……第1のポー
ト、21B……第2のポート、21C……第3の
ポート、21D……第4のポート。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 空所と、サンプルガスの流通路、洗浄用ガスの
供給源、吸引ポンプ、ガス測定器とを連通する第
1〜第4のポートを順に形成したボデイと、 回転および軸方向に変位自在に前記空所に嵌め
込まれるとともに、洗浄用ガスを前記吸引ポンプ
で吸引する第1の設定位置の時前記第2のポート
と第3のポートとを連通し、吸引した洗浄用ガス
でガス測定器および被採ガスの流通路を洗浄する
第2の設定位置の時前記第1、第2、第3の各ポ
ートを連通し、サンプルガスを吸引する第3の設
定位置の時前記第1のポートと第3のポートを連
通し、サンプルガスをガス測定器に送り込む第4
の設定位置の時前記第3のポートと第4のポート
を連通するポートを形成したコツクと、 前記コツクを第2の設定位置から第3の設定位
置にする際、前記コツクを軸方向に変位させるレ
バーと を具備してなるガスサンプラー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12699683U JPS6035245U (ja) | 1983-08-16 | 1983-08-16 | ガスサンプラ− |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12699683U JPS6035245U (ja) | 1983-08-16 | 1983-08-16 | ガスサンプラ− |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6035245U JPS6035245U (ja) | 1985-03-11 |
| JPH0321473Y2 true JPH0321473Y2 (ja) | 1991-05-10 |
Family
ID=30288584
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12699683U Granted JPS6035245U (ja) | 1983-08-16 | 1983-08-16 | ガスサンプラ− |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6035245U (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6058740B2 (ja) * | 1977-08-18 | 1985-12-21 | 東ソー株式会社 | ポリエチレンポリアミンの製造法 |
-
1983
- 1983-08-16 JP JP12699683U patent/JPS6035245U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6035245U (ja) | 1985-03-11 |
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