JPH03215523A - 光学機器用素材 - Google Patents

光学機器用素材

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JPH03215523A
JPH03215523A JP2008330A JP833090A JPH03215523A JP H03215523 A JPH03215523 A JP H03215523A JP 2008330 A JP2008330 A JP 2008330A JP 833090 A JP833090 A JP 833090A JP H03215523 A JPH03215523 A JP H03215523A
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JP
Japan
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group
optical
hydroxyphenyl
formulas
bis
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Pending
Application number
JP2008330A
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English (en)
Inventor
Mikiya Hayashi
幹也 林
Kazuyoshi Shigematsu
重松 一吉
Fusashi Togawa
戸川 総史
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Idemitsu Kosan Co Ltd
Original Assignee
Idemitsu Kosan Co Ltd
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Publication date
Application filed by Idemitsu Kosan Co Ltd filed Critical Idemitsu Kosan Co Ltd
Priority to JP2008330A priority Critical patent/JPH03215523A/ja
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  • Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
  • Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光学機器用素材に関し、詳しくは、光学的歪
みが小さ《、複屈折が著しく少ないなどの光学的特性に
優れ、しかも耐熱性、耐湿性、耐衝撃性、成形性(溶融
成形時の流動性等)等にも優れており、例えば、光ディ
スク基板、光ファイバー、光学レンズ等の光学材料の素
材として好適に利用することができるポリカーボネート
樹脂系の光学機器用素材に関する. 〔従来の技術〕 光ディスク、光ファイバー、光学レンズ等の光学機器用
素子などの光学用途に用いる成形物は、透明であると共
に光学的歪みが小さいことが必要である. 特に、ディジタル信号を利用する光ディスクにおいては
、光学的歪みは、成形品において位相差20nm以下で
あることが要求される。また、光ビームを基板の記録膜
に絞り込むために光ビームは基板に斜めに入射・進行す
ることになり、この斜め入射光が大きな位相差を示し、
情報の書き込み、読み取り時にエラーを発生する原因と
なる。
従来の光ディスク等の高分子光学材料には、ポリカーポ
ネート樹脂、アクリル樹脂(PMMA等)、ボリスチレ
ン樹脂などが使用されている。
しかし、これらのうち、PMMA等のアクリル樹脂は光
学的特性に優れているが、耐熱性、耐湿性、耐衝撃性等
に問題があり、また、ねじれを生じたり、成形時の寸法
安定性が悪いという問題点がある.一方、ボリカーボネ
ート樹脂は、上記のPMMA等のアクリル樹脂の欠点を
カバーしているものの、従来のポリカーボネート樹脂に
は、光学的歪みが大きく、これに起因して複屈折が大き
くなり、読み取り感度が低下したり、エラーが発生しや
すいなどの問題点がある. そこで、ボリカーボネートの製造の際に、トリスフェノ
ール類を分岐剤として用いて重合することにより光学的
歪みの改善を試みようとする方法が提案されている(例
えば、特開昭60−215019号公報).シかしなが
ら、この方法では使用する分岐剤の種類が適当でないな
どの点から、分岐剤の使用量が少ないと光学的歪みの改
善効果は小さく、その改善効果を十分にすべく分岐剤の
使用量を増加させると、その使用量の増加につれて樹脂
の強度や耐熱性等の特性が低下してしまうという問題点
があった. 〔発明が解決しようとする課題〕 本発明は、前記事情を鑑みてなされたものである. 本発明の目的は、成形品の光学的歪みが十分に小さく、
複屈折が著しく少ないなどの光学的特性に優れ、しかも
耐熱性、耐湿性、耐衝撃性、成形性(t8融成形時の流
動性等)等にも優れるなどの利点を有する特定構造のポ
リカーポネート樹脂からなる光学機器用素材を提供する
ことにある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明者らは、前記の問題点を解決すべく鋭意研究を重
ねた結果、特定の2価フェノールとホスゲン等の炭酸エ
ステル形成性化合物との重合に際して分岐剤として特定
の反応性基を有する多官能性有機化合物を用いて得られ
る特定構造のポリカーボネート樹脂からなる光学機器用
素材が前記目的を十分に満足することを見出し、その知
見に基づいて本発明を完成するに至った. すなわち、本発明は、次の一般式 l?R を示し、 R′及びRtは、 各々独立に、 水素原子又は 炭素数1〜6のアルキル基を示す。〕 で表される2価フェノールに、炭酸エステル形成性化合
物と、カルポキシ基又は加水分解によりカルボキシ基と
なる反応性基を含有する3官能以上の多官能性有機化合
物を反応させて得られる分岐化ポリカーボネート樹脂か
らなる光学機器用素材を提供するものである. 前記一般式(I)中の『又はR2は、炭素数1〜6のア
ルキル基であってもよいが、このアルキル基としては、
例えば、メチル基、エチル基、プロビル基、イソプロビ
ル基、プチル基、イソブチル基、1一メチルプロピル基
、tert−ブチル基、ベンチル基、イソペンチル基、
1−メチルプチル基、1−エチルブロピル基、シクロペ
ンチル基、ヘキシル基、イソヘキシル基、1−メチルベ
ンチル基、1−エチルブチル基、ネオヘキシル基、シク
ロヘキシル基、メチルシクロペンチル基、シクロペンチ
ルメチル基などを挙げることができる.また、前記RI
とatは、水素原子であってもよい.前記RlとR!は
それぞれ、前記の中でも特に水素原子又はメチル基が好
ましい。
なお、R1とRtは、互いに同一であってもよ《、ある
いは相違していてもよい。
前記一般式(1)中のXは、前記の特定の基でCHI f あるが、特に好ましいのは、一〇一である。
1 CHff 前記一般式(1)で表される2価フェノールの具体例と
しては、例えば、2.2−ビス(4−ヒドロキシフユニ
ル)プロパン〔すなわち、ビスフェノールA)、2.2
−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフエニル)プロパ
ン〔すなわち、ビスフェノールC)、2.2−ビス(3
−エチル−4一ヒドロキシフエニル)プロパン、2.2
−ビス(3−プロビル−4−ヒドロキシフェニル)プロ
パン、2.2−ビス(3−プチル〜4−ヒドロキシフェ
ニル)プロパン、2.2−ビス(3−ベンチルー4−ヒ
ドロキシフェニル)プロパン、2.2−ビス(3−へキ
シル−4〜ヒドロキシフェニル)プロパン、2.2−ビ
ス(3−シクロヘキシルー4−ヒドロキシフエニル)ブ
ロバン、2−(4〜ヒドロヰシフエニル)−2− (3
−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1
−ビス(4−ヒドロキシフエニル)−1−フェニルエタ
ン、1.1−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフエニ
ル)−1−フエニルエタン、ビス(4ーヒドロキシフェ
ニル)ジフェニルメタン、ビス(3−メチル−4−ヒド
ロキシフェニル)ジフエニルメタン、1.1−ビス(4
−ヒドロキジフェニル)シクロヘキサン、1.1−ビス
(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサ
ンなどを挙げることができる。
これらの中でも、2.2−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパン、2,2−ビス(3−メチル−4−ヒドロ
キシフェニル)プロパン、1,1一ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)−1−フェニルエタン、1.1−ビス(3
−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエ
タン、ビス(4−ヒドロキシフエニル)ジフェニルメタ
ン、ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)ジフ
ェニルメタン、I,1−ビス(4−ヒドロキシフユニル
)シクロヘキサン、1,1−ビス(3−メチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)シクロヘキサンなどが好ましく、特
に、2.2−ビス(4−ヒドロキシフエニル)プロパン
、2,2−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル
)ブロバンなどが好ましい。
なお、本発明の光学機器用素材に使用する前記分岐化ボ
リカーボネート樹脂を製造(合成)するに際して、前記
一般式(1)で表される2価フェノールは、1種単独で
使用してもよいし、必要に応じて、2種以上を併用して
もよい。
前記炭酸エステル形成性化合物としては、ホスゲン等の
ジハロゲン化力ルボニル、クロロホルメート等のハロホ
ルメート、ジアルキルカーボネート等の炭酸エステルな
どの公知のポリカーポネートの製造に用いられるものな
どを挙げることができる.これらの中でも、特に好まし
いのはホスゲンである. なお、本発明の光学機器用素材に使用する前記分岐化ボ
リカーボネート樹脂を製造(合成)するに際して、これ
ら各種の炭酸エステル形成性化合物は、1種単独で使用
してもよいし、必要に応じて、2種以上を併用してもよ
い。
前記多官能性有機化合物は、カルポキシ基又は加水分解
によりカルボキシ基となる反応性基を含有するが、この
反応性基としては、例えば、クロロホルミル基(−CO
CI)等のハロホルミル基(1官能性基) 、−CO−
0−CO− (2官能性基でカルボキシ基2個に相当)
などを挙げることができる.これらの中でも、特に、ク
ロロホルミル基などが好ましい. また、前記多官能性有機化合物は、3官能以上の多官能
性有機化合物である.なお、この3官能以上の多官能性
有機化合物は、ポリカーボネート分子を分岐化するため
のものであり、それゆえ3官能以上とするのである。し
たがって、ここでいう3官能以上とは、この分岐構造を
与えるべ《反応する反応性官能基を3個以上(ただし、
2官能性基は2個として数える。以下同様)有するとい
う意味である。
ここで、重要な点のひとつば、前記3官能以上の多官能
性有機化合物中の反応性官能基の少なくとも1個、好ま
しくは3個以上が、前記力ルボギシ基又は加水分解によ
りカルボキシ基となる反応性基である点である。すなわ
ち、本発明の光学機器用素材が、前記の特定の反応性官
能基(カルボキシ基又はクロロホルミル基、−co−o
−co基等の前記反応性基、特に好ましくはクロロホル
ミル基)を有する多官能性有機化合物を分岐化剤として
用いることによって得られる分岐化ポリカーボネー1−
樹脂からなるという点に注目すべきである。
因に、他の反応性官能基であるフェノール性水酸基のみ
を有する他の3官能以上の多官能性化合物(例えば、ト
リスフェノールなど)のみを分岐化剤として用いた場合
には、前述のような問題点が生じるのである. こういった特定の反応性官能基を有する分岐化剤である
前記多官能性有機化合物としては、例えば、芳香族系も
の、脂肪族のもの、脂環式系のものなど各種のものが使
用可能であるが、中でも、前記特定の反応性官能基が3
個以上ベンゼン環等の芳香族環に直接結合したものが好
ましい。
この好ましい芳香族系多官能性有機化合物の具体例とし
ては、例えば、1,2.4−ベンゼントリカルボン酸〔
すなわち、トリメリット酸〕、無水トリメリット酸、1
,3.5−ベンゼントリカルボン酸〔すなわち、トリメ
シット酸)、1,2.4,5−ベンゼンテトラカルボン
酸〔すなわち、ピロメリット酸]、無水ビロメリット酸
、■.2,4−トリ(クロロホルミル)ベンゼン〔すな
わち、トリメリット酸トリクロリド〕、1.3.5−ト
リ (クロロホルミル)ベンゼン〔すなわち、トリメシ
ット酸トリクロリド〕、1,2,4.5−テトラ(クロ
ロホルミル)ベンゼン〔すなわち、ビロメリット酸テト
ラクロリドL 3.5.3’5′−テトラ(クロロホル
ミル)ビフ7エニル、3,4.3’,5’一テトラ(ク
ロロホルミル)ビフェニルなどを挙げることができる.
これらの中でも、特に、トリメシット酸トリクロリドな
どが好ましい。
なお、本発明の光学機器用素材に使用する前記分岐化ボ
リカーポネート樹脂を製造(合成)するに際して、分岐
化剤として使用する前記各種の多官能性有機化合物は、
1種単独で使用してもよいし、必要に応じて、2種以上
を併用してもよい。
本発明の光学機器用素材に使用する前記分岐化ポリカー
ボネート樹脂は、前記一般式(1)で表される2価フェ
ノールに、ホスゲン等の炭酸エステル形成性化合物と前
記多官能性有機化合物を反応させることにより得ること
ができるものである。
使用する前記分岐化ポリカーボネート樹脂の平均分子量
は、目的に応じて適宜選定すればよいのであるが、一般
的には、粘度平均分子量(M,)が、通常、12.00
0〜20,000程度の範囲内にあるもの、特に14,
000〜17.000の範囲内にあるものが好適に使用
される。
この粘度平均分子量が、あまり低すぎると成形体がもろ
くなり、一方、あまり高すぎると成形が困難となったり
、溶融成形の際の樹脂の流動性が十分に得られず、その
ため成形体が光学的に不均質となり、複屈折が大きくな
ることがある.前記分岐化ポリカーボネート樹脂を製造
(合成)するに際して分岐化削として使用する前記多官
能性有機化合物の割合としては、使用する2価フェノー
ルに対して、通常、0. 1−1 0モル%程度、好ま
しくは、1〜5モル%の範囲とするのが適当である. この割合が0.1モル%未満では、得られる樹脂の分岐
度が不十分となり、十分な光学的特性の改善効果が得ら
れないことがあり、一方、あまり大きすぎると好ましく
ない高分子量体が生成したり、樹脂の強度が低下するこ
とがある。
なお、本発明の光学機器用素材に使用する前記分岐化ポ
リカーボネート樹脂の製造(合成)に際して、必要に応
じて本発明の目的に支障のない範囲で、上記以外の他の
2価フェノール等の七ノマー成分、あるいは前記特定の
多官能性有機化合物以外の他の分岐化剤などの各種の成
分を適宜併用することもできる. 本発明の光学機2S用素材に使用する前記分岐化ポリカ
ーボネート樹脂は、−ヒ記の特定の2価フェノールに、
炭酸エステル形成性化合物と前記の特定の分岐化剤(多
官能性有機化合物)を反応させることにより得られるこ
とができるものであれば、その製造方法としては特に制
限はなく、公知のポリカーボネートの製造の用いられる
重合方法等の各種の方法によって製造することができる
この分岐化ポリカーボ不一ト樹脂を製造するに際して、
特に好適に採用することができる方法としては、例えば
、以下に示す方法などを挙げることができる。
分岐化ポリカーボネート樹脂の製造方法の例ビスフェノ
ールA1ビスフェノールC等の前記一般式(+)で表さ
れる2価フェノール成分を酸受容体及び適当な溶媒の存
在下で、十分に攪拌しながらホスゲン等の前記炭酸エス
テル形成性化合物と反応させ、末端にクロロホルメート
の反応性基を有するオリゴマーを得る。この際、ホスゲ
ン等のガス状の炭酸エステル形成性化合物は、通常、反
応系に吹き込みつつ供給される。
使用に供する前記酸受容体としては、通常のポリカーボ
ネートの重合に使用される各種の無機又は有機系のアル
カリ化合物が使用可能であるが、通常は、例えば、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム等が好適に使用すること
ができる.なお、これらは、水溶液等の溶液として添加
することができる。
前記溶媒としても、通常のポリカーボネートの重合に使
用される溶媒が使用可能であり、具体的には例えば、塩
化メチレン等のハロゲン化炭化水素溶媒が好適に使用さ
れる。
前記酸受容体の使用割合は、使用する2価フェノール1
当量(1モルは2当量に相当する。)当たり、通常、1
当量以上、好ましくは1.2〜3. Q当量程度の範囲
内とするのが適当である。
この際の反応温度としては、通常、10〜50゜C、好
ましくは、20〜40゜C程度とするのが適当である。
なお、この時点では、得られるオリゴマーの重合度が、
通常、1〜10程度、好ましくは1〜5程度の範囲内と
なるように反応時間等の反応条件を選定するのが望まし
い。
次に、反応混合物から水層を除去し、該オリゴマーを含
有する有機層を得て、これに前記所定量のトリメシント
酸トリクロリド等の前記多官能性有機化合物及び適当な
末端停止剤を適量、さらには必要に応じて適当な溶媒を
添加し、攪拌下で、再び所定の2価フェノール(例えば
、上記で用いたものと同じもの)と所定の酸受容体(例
えば、上記で用いたものと同じもの)の所定の割合(通
常、前記と同様の割合)の混合物を所定量添加し、適当
な触媒の存在下で反応を完結させる。
使用に供する前記末端停止剤としては、通常のポリカー
ボネートの重合に使用される末端停止剤が使用可能であ
り、具体的には例えば、p−te『L−プチルフェノー
ル等の1価のフェノール類などを挙げることができる。
使用に供する前記触媒としては、通常のポリカーボネー
トの重合に使用される触媒が使用可能であり、具体的に
は例えば、トリエチルアミン等のアミン類などが好適に
使用される, この際の反応温度としては、通常、10〜50゜C、好
ましくは、20〜40”C程度とするのが適当である。
反応時間は、通常、0,1〜2時間程度とすれば十分で
ある。
以上のようにして前記分岐化ポリカーボネート樹脂を好
適に合成することができる。
反応終了後の後処理は、常法にしたがって行うことがで
きる。例えば、上記で得た反応混合物から、水層を分離
除去し、目的とするボリマーを含有する有機層を得て、
これを、例えば、アルカリ、酸、水の順で適宜洗浄し、
塩類や触媒等の不純物を除去し、しかる後、例えば、メ
タノール等の貧溶媒を用いて、ポリマーを再沈澱等によ
り、分離・回収すればよい. このようにして、所望の分岐化ポリカーボネート樹脂を
、所望の純度の各種の単独重合体あるいは共重合体、さ
らにはこれらの混合物として取得することができる. 以上のようにして、本発明の光学機器用素材に使用する
前記分岐化ポリカーボネート樹脂を簡単な工程で効率よ
く製造することができる。
本発明の光学機器用素材は、以上のようにして得た分岐
化ポリカーボネート樹脂をはじめとする各種の方法によ
って製造した前記分岐化ポリカーボネート樹脂を、所望
の形状に成形することにより得ることができる。
成形方法としては、目的に応じて各種のものが適用され
るが、例えば光ディスク基板の場合には、通常、溶融射
出成形法が好適に使用することができる。
その際の成形温度(樹脂の溶融温度)は、通常、240
〜340゜C、好ましくは、280〜320゜C程度の
範囲とするのが適当である.この成形温度が低すぎると
、樹脂又は樹脂組成物の溶融が不十分となり、流動性が
低下し、その結果、成形品に光学的歪みが生じることが
あり、また、樹脂(又は樹脂組成物)の金型等への充填
が不完全となり、転写性に問題が生じることもある.一
方、温度があまり高すぎると樹脂の分解により着色した
り、シルバーの発生の問題が生じることがある.金型温
度としては、通常、60〜140゜C程度、好ましくは
80〜120゜C程度の範囲とするのが適当である。
この温度があまり低すぎると、成形品の残留応力によっ
て複屈折が生じやすくなる.一方、あまり高すぎると、
成形品が変形することがある.なお、本発明の光学機器
用素材は、前記各種の分岐化ポリカーボネート樹脂を、
通常、一種単独を用いれば十分であるが、必要に応じて
、2種以上のものをポリマーブレンドして併用すること
もできる. また、本発明の光学機器用素材の製造、成形加工に際し
て、前記分岐化ポリカーボネート樹脂には、必要に応じ
て本発明の目的に支障のない範囲で、例えば、紫外線吸
収剤、酸化防止剤、熱安定化剤、耐候久性向上荊、帯電
防止剤、防曇剤、離型剤、可塑性剤等の各種の添加剤や
他のボリマー成分を使用目的等に合わせて適宜含有させ
ることもできる。
本発明の光学機器用素材は、光学的歪みが小さく、複屈
折が著しく少ないなどの光学的特性に優れ、しかも耐熱
性、耐湿性、耐衝撃性、成形性(溶融成形時の流動性等
)等にも優れているので、例えば、光ディスク基板、光
ファイバー、光学レンズ等の各種の光学材料の素材とし
て好適に利用することができる. 〔実施例〕 以下に、本発明を実施例及び比較例によって、更に具体
的に説明するが、本発明はこれらによって制限されるも
のではない. なお、以下の実施例及び比較例における、それぞれの樹
脂及びその成形品試料の物性の評価は、次のようにして
行った. (評価方法) ガラス転移温度(T.): DSCにより常法に従って測定した。
粘度平均分子量(Mv): 塩化メチレンを溶媒とする0. 5 g / aの濃度
の溶液の20゜Cで測定した値を、ビスフェノールAを
原料とするポリカーボネート換算して求めた.複屈折: それぞれの樹脂を住友重機社製のミニマント成形機によ
り、厚さ1.2am、3. 5 X 3. 5 m角の
平板に成形し、この成形体試料について、ペレック型コ
ンペンセイターの付いた偏光顕微鏡により測定した。
溶融時の光弾性定数(C.): それぞれの樹脂を東洋精機社製のキャビログラフで溶融
紡糸して巻き取り、その際、糸にかかる応力を横軸にと
り、その糸の複屈折を縦軸にとったときの直線の傾きを
もって溶融時の光弾性定数(C.)とした。
このC.の値が、小さい程光学的特性に優れることを示
す。
主としてこれらの評価結果をもって、樹脂の物性及びそ
の光学機器用素材としての成形品試料の光学的特性の指
標とした。
実施例1〜4 ビスフェノールA〔すなわち、2,2−ビス(4−ヒド
ロキジフェニル)プロパン)228gを1.5NのN 
a O H水溶液1.52に溶解し、この溶液に塩化メ
チレン650dを加えた後、l5゜Cで激しく撹拌しな
がらホスゲンガスを1,300d/分の供給速度で吹き
込んだ。反応系のpHが10になった時、ホスゲンの供
給を停止し、有機層を静置分離した。この有機層には、
重合度1〜5程度の末端クロロホルメート基を有するオ
リゴマーが存在することを確認した。
次に、第1表に示すそれぞれの反応条件で以下の操作を
行い、それぞれ4種の分岐化ポリカーボネート樹脂を製
造した。
すなわち、前記で得たオリゴマ−300dに、末端停止
剤としてp−tert−プチルフェノール(PTBP)
 、分岐化剤としてトリメシット酸トリクロリド〔すな
わち、1,3.5−トリ(クロロホルミル)ベンゼン〕
及び150社の塩化メチレンを加え、25゜Cで激しく
攪拌しながら、後モノマーとしてビスフェノールAを2
NのNaO日水溶液に溶解したものと、触媒としてトリ
エチルアミン( 0. 5 +*mol / 1水溶液
)1−を加えた。
間もなく、発熱が起こり反応が開始した。60分間反応
後、有機層を分離し、これをアルカリ、酸、水の順で洗
浄した後、メタノールでボリマーを析出させ、回収した
。このようにして得られたボリマーは、いずれも次式 で表される繰り返し単位を有すると共に、次式で表され
る分岐構造単位を有する分岐化ポリカーボネート樹脂で
あることをIR分析等により確認した. なお、実施例1で得たボリマー中の前記分岐構造単位の
割合は、ほぼ1モル%であった.このようにして得たそ
れぞれの樹脂から前記評価方法を示した成形体試料を作
製し、それらの物性を前記に従って評価した. 結果を第2表に示す. 実施例5〜8 実施例1〜4で、ビスフェノールAに代えてビスフェノ
ールC〔すなわち、2.2−ビス(3ーメチル−4−ヒ
ドロキシフエニル)プロパン〕を用いた以外は、それぞ
れ同様にしてボリマーを製造した。
こうして得られた、それぞれのポリマーは、次式 で表される繰り返し単位を有すると共に前記分岐構造単
位(実施例1〜4同様のもの)を有する分岐化ポリカー
ポネート樹脂であることが確認された。
こうして得られたそれぞれの樹脂について実施例1と同
様にして樹脂及びその成形体試料の各物性を測定した. 結果を第2表に示す。
比較例1 市販のボリカーボネート樹脂(リニア型ビスフェノール
Aを原料とするポリカーボネート:製造条件の要点は第
3表に示す。)について実施例1と同様にして各物性を
測定した. 結果を第2表に示す。
比較例2 実施例3において、トリメシット酸クロリドに代えて、
α,α′.α“一トリス(4−ヒドロキシフェニル)−
1.3.5−}リイソプロビルヘンゼン(トリスフェノ
ール)を使用し、第3表に示す条件を用いた以外は同様
にして行った。
結果を第2表に示す。
比較例3 実施例7において、トリメシット酸クロリドに代えて、
α.α′.α 一トリス(4−ヒドロキシフェニル)−
1.3.5−1−リイソブロビルベンゼン(トリスフェ
ノール)を使用し、第3表に示す条件を用いた以外は同
様にして行った.結果を第2表に示す. 第1表 0オリゴマーに反応させる七ノマー 第2表 〔発明の効果〕 本発明によると、特定のビスフェノール類に通常の炭酸
エステル形成性化合物と、更に分岐化剤として特定の反
応性官能基を有する特定の多官能性化合物を反応される
ことによって得ることができる特定の構造の分岐化ポリ
カーポネート樹脂を用いているので、成形品の光学的歪
みが十分に小さく、複屈折が著しく少ないなどの光学的
特性に優れ、しかも耐熱性、耐湿性、耐衝撃性等に優れ
、また、該樹脂が溶融成形時の流動性等にも優れること
から成形が容易であるなどの製造上の利点をも有する実
用上著しく有用な光学機器用素材を提供することができ
る.

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、次の一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔ただし、式( I )中のXは、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
    又は▲数式、化学式、表等があります▼ を示し、R^1及びR^2は、各々独立に、水素原子又
    は炭素数1〜6のアルキル基を示す。〕 で表される2価フェノールに、炭酸エステル形成性化合
    物と、カルボキシ基又は加水分解によりカルボキシ基と
    なる反応性基を含有する3官能以上の多官能性有機化合
    物を反応させて得られる分岐化ポリカーボネート樹脂か
    らなる光学機器用素材。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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