JPH03215628A - 高周波焼入方法および装置 - Google Patents
高周波焼入方法および装置Info
- Publication number
- JPH03215628A JPH03215628A JP2011176A JP1117690A JPH03215628A JP H03215628 A JPH03215628 A JP H03215628A JP 2011176 A JP2011176 A JP 2011176A JP 1117690 A JP1117690 A JP 1117690A JP H03215628 A JPH03215628 A JP H03215628A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- workpiece
- center pin
- elongation
- circumferential surface
- heating coil
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/25—Process efficiency
Landscapes
- Heat Treatment Of Articles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は長尺状のワークの複数の被焼入周面に対する高
周波焼入方法および装置に関する。
周波焼入方法および装置に関する。
く従来の技術〉
以下、図面を参照して従来の技術を説明する。
第３図は従来の高周波焼入方法と装置の説明図であって
、長尺状のワーク１０の一端は固定センターピン２１で
、また、他端は可動センターピン２２で支持されている
。ワーク１０は、前記両センターピンの先端を結ぶ直線
を共通な軸２３とし、一体形成された円柱部１１、１２
、１３を有している。これら円柱部のそれぞれの周面１
１ａ 、１２ａ 、１３ａの所定位置に所定幅の硬化層
を形成するために、ワークＩＯを、軸２３を中心として
図示しない駆動装置によつて回転しながら、周面１１ａ
， １２ａ 、１３ａにそれぞれ接近して配設した鞍
型（割り型でもよい）の高周波加熱コイルＣ以下単に加
熱コイルと記す）３１、３２、３３に高周波電流を通電
してこれら周面に誘導電流を発生させて加熱後、図示し
ない冷却液ジャケントからこれら周面に冷却液を噴射し
て周面１１ａ ， １２ａ ， １３ａに硬化層を形成
する。
、長尺状のワーク１０の一端は固定センターピン２１で
、また、他端は可動センターピン２２で支持されている
。ワーク１０は、前記両センターピンの先端を結ぶ直線
を共通な軸２３とし、一体形成された円柱部１１、１２
、１３を有している。これら円柱部のそれぞれの周面１
１ａ 、１２ａ 、１３ａの所定位置に所定幅の硬化層
を形成するために、ワークＩＯを、軸２３を中心として
図示しない駆動装置によつて回転しながら、周面１１ａ
， １２ａ 、１３ａにそれぞれ接近して配設した鞍
型（割り型でもよい）の高周波加熱コイルＣ以下単に加
熱コイルと記す）３１、３２、３３に高周波電流を通電
してこれら周面に誘導電流を発生させて加熱後、図示し
ない冷却液ジャケントからこれら周面に冷却液を噴射し
て周面１１ａ ， １２ａ ， １３ａに硬化層を形成
する。
〈発明が解決しようとする課題〉
しかしながら、上記のような高周波焼入を行うと、以下
に述べる問題がある。即ち、誘導電流によってワーク１
０の円柱部１１、ｌ２、Ｉ３が加熱されて膨張し、ワー
ク１０は全体として可動センターピン２２の方向（第３
図で矢印Ａの方向）に伸びる。従って、周面１１ａ 、
１２ａ 、１３ａもそれぞれ矢印Ａの方向に伸びるが、
一方加熱コイル３１、３２、３３の位置は固定されてい
るので、周面１１ａ 、１２ａ 、１３ａの実際に加熱
される部分は、少しずつ所定の位置から矢印Ａと反対の
方向にずれていることになる。
に述べる問題がある。即ち、誘導電流によってワーク１
０の円柱部１１、ｌ２、Ｉ３が加熱されて膨張し、ワー
ク１０は全体として可動センターピン２２の方向（第３
図で矢印Ａの方向）に伸びる。従って、周面１１ａ 、
１２ａ 、１３ａもそれぞれ矢印Ａの方向に伸びるが、
一方加熱コイル３１、３２、３３の位置は固定されてい
るので、周面１１ａ 、１２ａ 、１３ａの実際に加熱
される部分は、少しずつ所定の位置から矢印Ａと反対の
方向にずれていることになる。
それ故、形成された硬化層も所定の位置から矢印Ａと反
対の方向へずれてしまう。
対の方向へずれてしまう。
本発明は上記事情に鑑みて創案されたものであって、長
尺状のワークの複数の被焼入周面をそれぞれの周面に対
して設けた加熱コイルで加熱するに当たり、ワークが膨
張しても、複数の被焼入周面のそれぞれの所定の位置を
同時に焼入することができる高周波焼入方法および装置
を提供することを目的としている。
尺状のワークの複数の被焼入周面をそれぞれの周面に対
して設けた加熱コイルで加熱するに当たり、ワークが膨
張しても、複数の被焼入周面のそれぞれの所定の位置を
同時に焼入することができる高周波焼入方法および装置
を提供することを目的としている。
〈課題を解決するための手段〉
上記問題を解決するために、請求項１の高周波焼入方法
は、一端が固定センターピンで他端が可動センターピン
で支持されており前記両センターピンの先端を結ぶ線を
共通の軸とする複数の円柱部を有するワークの円柱部の
それぞれの周面を、それぞれの周面に対して設けた高周
波加熱コイルで同時に加熱する高周波焼入方法において
、前記軸方向へのワークの伸びに対応して、前記各高周
波加熱コイルを可動センターピンの方向へ所定距離移動
させて周面を加熱後、周面に冷却液を噴射する。
は、一端が固定センターピンで他端が可動センターピン
で支持されており前記両センターピンの先端を結ぶ線を
共通の軸とする複数の円柱部を有するワークの円柱部の
それぞれの周面を、それぞれの周面に対して設けた高周
波加熱コイルで同時に加熱する高周波焼入方法において
、前記軸方向へのワークの伸びに対応して、前記各高周
波加熱コイルを可動センターピンの方向へ所定距離移動
させて周面を加熱後、周面に冷却液を噴射する。
また、請求項２の高周波焼入装置は、一端が固定センタ
ーピンで他端が可動センターピンで支持されており前記
両センターピンの先端を結ぶ線を共通の軸とする複数の
円柱部を有するワークの円柱部のそれぞれの周面を、そ
れぞれの周面に対して設けた高周波加熱コイルで同時に
加熱する高周波焼入装置において、ワークの伸び検出手
段と、この検出手段が検出したワークの伸びに対応して
高周波加熱コイルを可動センターピンの方向へそれぞれ
所定距離移動させる手段とを具備している。
ーピンで他端が可動センターピンで支持されており前記
両センターピンの先端を結ぶ線を共通の軸とする複数の
円柱部を有するワークの円柱部のそれぞれの周面を、そ
れぞれの周面に対して設けた高周波加熱コイルで同時に
加熱する高周波焼入装置において、ワークの伸び検出手
段と、この検出手段が検出したワークの伸びに対応して
高周波加熱コイルを可動センターピンの方向へそれぞれ
所定距離移動させる手段とを具備している。
〈作用〉
高周波加熱コイルによって各周面の加熱を開始後、前記
軸方向へのワークの伸びに対応して、各高周波加熱コイ
ルを可動センターピンの方向へ所定距離移動させて周面
を加熱後、周面に冷却液を噴射する。
軸方向へのワークの伸びに対応して、各高周波加熱コイ
ルを可動センターピンの方向へ所定距離移動させて周面
を加熱後、周面に冷却液を噴射する。
〈実施例〉
以下、図面を参照して本発明の一実施例を説明する。第
１図および第２図は本発明の一実施例を説明するための
図面であって、第１図はワークの断面図と高周波焼入装
置の概略構成図、第２図は加熱コイルの移動装置の説明
図である。
１図および第２図は本発明の一実施例を説明するための
図面であって、第１図はワークの断面図と高周波焼入装
置の概略構成図、第２図は加熱コイルの移動装置の説明
図である。
本実施例によって焼入されるワークとしては、従来の技
術で説明したワークと同様の構造と被焼入周面を有する
ワーク１０を取り挙げた．第３図で説明したのと同様に
、ワーク１０の被焼入周面である周面１１ａ ， １２
ａ 、１３ａには、それぞれ、鞍型の加熱コイル３１、
３２、３３が接近して配設されている。
術で説明したワークと同様の構造と被焼入周面を有する
ワーク１０を取り挙げた．第３図で説明したのと同様に
、ワーク１０の被焼入周面である周面１１ａ ， １２
ａ 、１３ａには、それぞれ、鞍型の加熱コイル３１、
３２、３３が接近して配設されている。
なお、加熱コイル３１、３２、３３は割り型のコイルで
もよい。そして、ワーク１０の全長の伸びの検出手段と
して、可動センターピン２２の変位を検出する差動変圧
器４４が設けられている。但し、差動変圧器４４にこだ
わるものではなく、静電容量式或いは渦電流式ギャップ
デテクタ等を用いてもよい。差動変圧器４４は信号線４
５を介して加熱コイル位置制御装置４Ｇに接続されてい
る。
もよい。そして、ワーク１０の全長の伸びの検出手段と
して、可動センターピン２２の変位を検出する差動変圧
器４４が設けられている。但し、差動変圧器４４にこだ
わるものではなく、静電容量式或いは渦電流式ギャップ
デテクタ等を用いてもよい。差動変圧器４４は信号線４
５を介して加熱コイル位置制御装置４Ｇに接続されてい
る。
加熱コイル３１、３２、３３にはそれぞれ加熱コイル移
動装置４１、４２、４３が取り付けられている。加熱コ
イル移動装置４１は、第２図に示すように、加熱コイル
３ｌに連結されたラック４１ａと、ラック４１ａを第１
図の矢印Ａの方向および矢印Ａと反対方向に駆動するピ
ニオン４ｌｂと、ピニオン４ｌｂの軸４１Ｃと、軸４１
ｃを回転駆動するビニオン駆動装置４１ｄとを備えてお
り、ピニオン駆動装置４１ｄは信号線４１ｅを介して加
熱コイル位置制御装置４６に接続されている。加熱コイ
ル移動装置４２、４３も加熱コイル移動装置４１と同様
の構成であり、且つ、加熱コイル移動装置４２および４
３の図示しないピニオン駆動装置もそれぞれ信号線４２
ｅおよび４３ｅを介して加熱コイル位置制御装置４６に
接続されている。
動装置４１、４２、４３が取り付けられている。加熱コ
イル移動装置４１は、第２図に示すように、加熱コイル
３ｌに連結されたラック４１ａと、ラック４１ａを第１
図の矢印Ａの方向および矢印Ａと反対方向に駆動するピ
ニオン４ｌｂと、ピニオン４ｌｂの軸４１Ｃと、軸４１
ｃを回転駆動するビニオン駆動装置４１ｄとを備えてお
り、ピニオン駆動装置４１ｄは信号線４１ｅを介して加
熱コイル位置制御装置４６に接続されている。加熱コイ
ル移動装置４２、４３も加熱コイル移動装置４１と同様
の構成であり、且つ、加熱コイル移動装置４２および４
３の図示しないピニオン駆動装置もそれぞれ信号線４２
ｅおよび４３ｅを介して加熱コイル位置制御装置４６に
接続されている。
なお、加熱コイル位置制御装置４６は、差動変圧器４４
が検出したワーク１０の伸びから、加熱コイル３１、３
２、３３を移動すべき距離を計算し、且つ、加熱コイル
移動装置４１、４２、４３にそれぞれ加熱コイル３１、
３２、３３の移動距離を指令するためのコンピュータ等
が設けられている。また、第１図に示したｌはワーク１
０の加熱前の全長であり、２１、ｌ２、Ｌはそれぞれワ
ーク１０の固定センターピン２１側の端部と、周面１１
ａ 、１２ａ 、１３ａに形成しようとする硬化層の軸
２３方向における中心との間の加熱前の距離である。
が検出したワーク１０の伸びから、加熱コイル３１、３
２、３３を移動すべき距離を計算し、且つ、加熱コイル
移動装置４１、４２、４３にそれぞれ加熱コイル３１、
３２、３３の移動距離を指令するためのコンピュータ等
が設けられている。また、第１図に示したｌはワーク１
０の加熱前の全長であり、２１、ｌ２、Ｌはそれぞれワ
ーク１０の固定センターピン２１側の端部と、周面１１
ａ 、１２ａ 、１３ａに形成しようとする硬化層の軸
２３方向における中心との間の加熱前の距離である。
？に、前記のｚｌ 、１ｚ、１．ｓ、ｌがそれぞれ２０
０ 、６００ 、８５０ 、１０００ ｍｍである場合
を例にとって本実施例の動作について説明する。
０ 、６００ 、８５０ 、１０００ ｍｍである場合
を例にとって本実施例の動作について説明する。
ワーク１０を図示しない駆動装置で軸２３の周りに回転
させながら、加熱コイル３１、３２、３３に図示しない
高周波電源から高周波電流を通電すると、ワーク１０は
円柱部１ｌ、１２、１３に誘起した誘導電流によって加
熱されて可動センターピン２２の方へ伸びる。いま、加
熱開始後のある時間において差動変圧器４４の検出した
ワーク１０の伸びΔｌが１０ｍｍであるとすると、距離
ｊ！＋ 、Ｉ！．ｔ、Ｑｓの伸びΔ！！．１、Δ２■、
ΔＩ！．３が、それぞれ、距離Ｌ ，ｆ２、！３に単純
に比例するとすれば、伸びΔ１１、Δ！２、Δｉ，は、
２ 、６ 、８．５ ｍｍとなっている筈である（上記
のように伸びΔ２１、Δｊ２２、Δ！！．３が、それぞ
れ、距離ｌ１、ｉ！．２、ｌ３に単純に比例するとする
代わりに、被加熱部である円柱部１１、１２、１３の直
径差によるそれぞれの円柱部の伸びの差を予めテストを
行って得ておき、その結果を加熱コイル位置制御装置４
６にインプットして？き、この結果に基づいて加熱コイ
ル位置制御装置４６が加熱コイル移動装ｊｌ４１、４２
、４３に指令するようにすることもできる）。
させながら、加熱コイル３１、３２、３３に図示しない
高周波電源から高周波電流を通電すると、ワーク１０は
円柱部１ｌ、１２、１３に誘起した誘導電流によって加
熱されて可動センターピン２２の方へ伸びる。いま、加
熱開始後のある時間において差動変圧器４４の検出した
ワーク１０の伸びΔｌが１０ｍｍであるとすると、距離
ｊ！＋ 、Ｉ！．ｔ、Ｑｓの伸びΔ！！．１、Δ２■、
ΔＩ！．３が、それぞれ、距離Ｌ ，ｆ２、！３に単純
に比例するとすれば、伸びΔ１１、Δ！２、Δｉ，は、
２ 、６ 、８．５ ｍｍとなっている筈である（上記
のように伸びΔ２１、Δｊ２２、Δ！！．３が、それぞ
れ、距離ｌ１、ｉ！．２、ｌ３に単純に比例するとする
代わりに、被加熱部である円柱部１１、１２、１３の直
径差によるそれぞれの円柱部の伸びの差を予めテストを
行って得ておき、その結果を加熱コイル位置制御装置４
６にインプットして？き、この結果に基づいて加熱コイ
ル位置制御装置４６が加熱コイル移動装ｊｌ４１、４２
、４３に指令するようにすることもできる）。
従って、加熱コイル３１、３２、３３をそれぞれ２、６
、８．５ ｍｍずつ可動センターピン２２の方向へ移
動すれば、加熱コイル３１、３２、３３のそれぞれの中
心が、周面１１ａ 、１２ａ 、１３ａに形成しようと
する硬化層の軸２３方向における中心と一致する。即ち
、差動変圧器４４が検出したΔｌは、信号線４５によっ
て加熱コイル位置制御装置４６に送られる。加熱コイル
位置制御装置４６は、Δ２と予め記憶させられている距
離ｆ， Ｉ！．． ， ｆｆｉ■、２３とから、Δｌ１
、ΔＬ、Δ２，を算出し、この算出結果通り加熱コイル
３１、３２、３３が可動センターピン２２の方向へ移動
するようにそれぞれの加熱コイル移動装置４１、４２、
４３に指令を発する。差動変圧器４４のΔｌに関する信
号は、加熱コイル位置制御装置４６へ連続的に伝えられ
るが、加熱コイル位置制御装置４６の加熱コイル移動装
置４１、４２、４３への指令は、連続的であっても、或
いは、断続的であってもよい。
、８．５ ｍｍずつ可動センターピン２２の方向へ移
動すれば、加熱コイル３１、３２、３３のそれぞれの中
心が、周面１１ａ 、１２ａ 、１３ａに形成しようと
する硬化層の軸２３方向における中心と一致する。即ち
、差動変圧器４４が検出したΔｌは、信号線４５によっ
て加熱コイル位置制御装置４６に送られる。加熱コイル
位置制御装置４６は、Δ２と予め記憶させられている距
離ｆ， Ｉ！．． ， ｆｆｉ■、２３とから、Δｌ１
、ΔＬ、Δ２，を算出し、この算出結果通り加熱コイル
３１、３２、３３が可動センターピン２２の方向へ移動
するようにそれぞれの加熱コイル移動装置４１、４２、
４３に指令を発する。差動変圧器４４のΔｌに関する信
号は、加熱コイル位置制御装置４６へ連続的に伝えられ
るが、加熱コイル位置制御装置４６の加熱コイル移動装
置４１、４２、４３への指令は、連続的であっても、或
いは、断続的であってもよい。
このように、ワーク１０の伸びに対応して、加熱コイル
３１、３２、３３のそれぞれの中心を周面１１ａ、１２
ａ ， １３ａに形成しようとする硬化層の軸２３方向
に於ける中心にまで移動させるので、ワーク１０が膨張
しても周面１１ａ 、１２ａ 、１３ａの所定の位置に
硬化層を形成することができる。
３１、３２、３３のそれぞれの中心を周面１１ａ、１２
ａ ， １３ａに形成しようとする硬化層の軸２３方向
に於ける中心にまで移動させるので、ワーク１０が膨張
しても周面１１ａ 、１２ａ 、１３ａの所定の位置に
硬化層を形成することができる。
なお、本実施例ではワークの伸びを検出する手段を設け
たが、このような手段を設けることなく、加熱コイル位
置制御装置４６が予め記憶させられている加熱電力、加
熱時間等のデータからワークに発生する熱量を計算し、
この熱量に対応するワークの伸びを算出して加熱コイル
移動装置４１、４２、４３に指令を発するようにするこ
ともできる。
たが、このような手段を設けることなく、加熱コイル位
置制御装置４６が予め記憶させられている加熱電力、加
熱時間等のデータからワークに発生する熱量を計算し、
この熱量に対応するワークの伸びを算出して加熱コイル
移動装置４１、４２、４３に指令を発するようにするこ
ともできる。
〈発明の効果〉
以上説明したように請求項１の発明は、共通の軸を持つ
複数の円柱部を備えたワークの円柱部のそれぞれの周面
を、ワークの伸びに対応してそれぞれの周面に対して設
けた高周波加熱コイルを可動センターピンの方向へ所定
距離移動させて周面を加熱する。
複数の円柱部を備えたワークの円柱部のそれぞれの周面
を、ワークの伸びに対応してそれぞれの周面に対して設
けた高周波加熱コイルを可動センターピンの方向へ所定
距離移動させて周面を加熱する。
また、請求項２の発明は、共通の軸を持つ複数の円柱部
を備えたワークの円柱部のそれぞれの周面に対して設け
た高周波加熱コイルと、ワークの伸び検出手段と、この
検出手段が検出したワークの伸びに対応して高周波加熱
コイルを可動センターピンの方向へそれぞれ所定距離移
動させる手段とを具備している。
を備えたワークの円柱部のそれぞれの周面に対して設け
た高周波加熱コイルと、ワークの伸び検出手段と、この
検出手段が検出したワークの伸びに対応して高周波加熱
コイルを可動センターピンの方向へそれぞれ所定距離移
動させる手段とを具備している。
従って、本発明によれば、ワークが加熱されることによ
って伸びても、それぞれの周面の所定の位置に硬化層を
形成することができる。
って伸びても、それぞれの周面の所定の位置に硬化層を
形成することができる。
第１図および第２図は本発明の一実施例を説明するため
の図面であって、第１図はワークの断面図と高周波焼入
装置の概略構成図、第２図は加熱コイルの移動装置の説
明図、第３図は従来の高周波焼入方法と装置の説明図で
ある． ＩＯ・・・ワーク、１１−１３・・−円柱部、ｌｌａ、
１２ａ ， １３ａ ・・・周面、２１・・・固定セ
ンターピン、２２・・・可動センターピン、２３・・・
軸、３１〜３３・・・加熱コイル、４１〜４３・・・加
熱コイル移動装置、 ４６・ ・加熱コイル位置制御装置．
の図面であって、第１図はワークの断面図と高周波焼入
装置の概略構成図、第２図は加熱コイルの移動装置の説
明図、第３図は従来の高周波焼入方法と装置の説明図で
ある． ＩＯ・・・ワーク、１１−１３・・−円柱部、ｌｌａ、
１２ａ ， １３ａ ・・・周面、２１・・・固定セ
ンターピン、２２・・・可動センターピン、２３・・・
軸、３１〜３３・・・加熱コイル、４１〜４３・・・加
熱コイル移動装置、 ４６・ ・加熱コイル位置制御装置．
Claims (2)
- （１）一端が固定センターピンで他端が可動センターピ
ンで支持されており前記両センターピンの先端を結ぶ線
を共通の軸とする複数の円柱部を有するワークの円柱部
のそれぞれの周面を、それぞれの周面に対して設けた高
周波加熱コイルで同時に加熱する高周波焼入方法におい
て、前記軸方向へのワークの伸びに対応して、前記各高
周波加熱コイルを可動センターピンの方向へ所定距離移
動させて周面を加熱後、周面に冷却液を噴射することを
特徴とする高周波焼入方法。 - （２）一端が固定センターピンで他端が可動センターピ
ンで支持されており前記両センターピンの先端を結ぶ線
を共通の軸とする複数の円柱部を有するワークの円柱部
のそれぞれの周面を、それぞれの周面に対して設けた高
周波加熱コイルで同時に加熱する高周波焼入装置におい
て、ワークの伸び検出手段と、この検出手段が検出した
ワークの伸びに対応して高周波加熱コイルを可動センタ
ーピンの方向へそれぞれ所定距離移動させる手段とを具
備したことを特徴とする高周波焼入装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011176A JPH03215628A (ja) | 1990-01-20 | 1990-01-20 | 高周波焼入方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011176A JPH03215628A (ja) | 1990-01-20 | 1990-01-20 | 高周波焼入方法および装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03215628A true JPH03215628A (ja) | 1991-09-20 |
| JPH0520487B2 JPH0520487B2 (ja) | 1993-03-19 |
Family
ID=11770750
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011176A Granted JPH03215628A (ja) | 1990-01-20 | 1990-01-20 | 高周波焼入方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03215628A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0585841U (ja) * | 1992-04-24 | 1993-11-19 | 富士電子工業株式会社 | 高周波焼入装置 |
| JPH0625350U (ja) * | 1992-08-28 | 1994-04-05 | 富士電子工業株式会社 | シャフト焼入装置 |
-
1990
- 1990-01-20 JP JP2011176A patent/JPH03215628A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0585841U (ja) * | 1992-04-24 | 1993-11-19 | 富士電子工業株式会社 | 高周波焼入装置 |
| JPH0625350U (ja) * | 1992-08-28 | 1994-04-05 | 富士電子工業株式会社 | シャフト焼入装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0520487B2 (ja) | 1993-03-19 |
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