JPH03218996A - ニオブ酸リチウム単結晶の製造方法 - Google Patents

ニオブ酸リチウム単結晶の製造方法

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JPH03218996A
JPH03218996A JP1370290A JP1370290A JPH03218996A JP H03218996 A JPH03218996 A JP H03218996A JP 1370290 A JP1370290 A JP 1370290A JP 1370290 A JP1370290 A JP 1370290A JP H03218996 A JPH03218996 A JP H03218996A
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JP
Japan
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single crystal
lithium niobate
annealing
niobate single
pool
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JP1370290A
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Tetsuo Suzuki
徹郎 鈴木
Hitoshi Takeda
均 武田
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Sumitomo Metal Mining Co Ltd
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Sumitomo Metal Mining Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は弾性表面波フィルターに用いるニオブ酸リチウ
ム単結晶の改良された製造方法に関する。
[従来の技術] 弾付表面波フィルター用としてニオブ酸リチウムの大型
単結晶が使用されている。ニオブ酸リチウム羊結晶は通
常、炭酸リチウムと五酸化ニオビウムとをコングルエン
ト組成比に混合し、高温焼成して得られた二才ブ酸リチ
ウムを原料とする。
この原料を高周波誘導加熱炉内で白金ルッポ中で溶融し
、引き上げて大型結晶(プールと称す)となす。これを
一亘冷却した後、別の抵抗加熱炉で1000℃以上に数
10時間、保持し、アニーリングを行い、更に単一分域
化処理を行う.単一分域化処理としては、プールをニオ
ブ酸リチウムの焼結したセラミック板を電極としてリー
ド線を配し、抵抗加熱炉にてキュリー温度以上に加熱し
ながら直流電圧を印加してその後冷却しキュリー温度を
通過させ分極化させるのである。
しかし、上記したように、プールをアニーリングし、更
に単一分域化処理を行うと、アニーリング時ではプール
を乗せるニオブ酸リチウムのセラミック板との界面で、
単一分域化処理ではプールのへき開面でそれぞれクラッ
クが生じやすく、品質においても生産性においても極め
て不都合であるという問題点があった。
[,発明が解決しようとする課題] 本発明の目的は上記の問題点を解消し、プールのアニー
リング時および単一分域化処理時でのクラックの発生を
防止することができるニオブ酸リチウム単結晶の製造方
法を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明は上記目的を達成するために、引上げ法で得られ
たニオブ酸リチウム単結晶(プール)をニオブ酸リチウ
ム単結晶粉砕品が敷き詰められた皿の上に設置し該プー
ルを単一分域化処理ならびにアニーリングを行う点に特
徴がある。
[イ乍用] 本発明方法で用いることのできるニオブ駿リチウム単結
晶粉砕品は、単結晶であればそれの製法はどのようなも
のでもよいが、質的に該プールと同等のものが好ましい
。従って引上げ法で得られたものが望ましく、不良品や
切断後の残品でも差し支えない。粉砕方法としては該単
結晶をスライサー等で0.5〜1mmの厚さのウエハー
状としたものを、水洗及び有機溶媒等で洗浄したのち、
乳鉢、ボールミル等により5mm以下、望ましくは3〜
51四方の粒状物となせば好適である。
該粉砕品の大きさは必ずしも同等にする必要はなく、3
〜5mmが望ましく、形状はどのようなものでも差し支
えないが、ペレット状が望ましい。
該皿としては高温と酸化に耐えられる材質が良く、特に
白金が好適である。該皿の上に該粉砕品を敷き詰めるに
当り、最密充填し、間隙なく詰めることが重要である。
該粉砕品の敷き詰めた厚さは1cII1以下が望ましく
、その幅はこの上に設置するプールの底面よりも大であ
ればよい。該皿上の該粉砕品を敷き詰めた上にプールを
設置するに当り、該プールを垂直に立てればよく、アニ
ーリングにおいては、このままの形態で炉中にて処理す
ればよい。また、プールの上部と該皿下部にリード線を
付け電流を流すことにより電気炉中で加熱し単一分域化
処理をすることができる。
[実施例−1] 引き上げ法で得られた二才ブ酸リチウム単結晶を内周刃
型スライサーで0。5腸lI〜IIIIII+の厚さの
ウェハーに切断し、表面汚れを水およびエタノールで洗
浄したのち、アルミナ乳鉢で31IIII1〜5mm四
方のペレット状とした。次に白金板で10cmX10c
mの皿を作成し、この中にペレットをlcmの厚さに敷
き詰めた。この皿を耐火レンガに載せ、リード線を皿と
耐火レンガの間にはさんで配線した。ベレットの上に8
0mmφX15C)ma+のブールを垂直に立て、プー
ルの上部にセラミック板をのせ、リード線が付いた白金
板を、このセラミック板の上にのせた。こうして電気炉
内へ設置し電流を流しながら1190℃で1時間保持し
たのち冷却しキュリー温度を通過させて単一分域化処理
を行った。この結果、クラックの発生は全く認められな
かった。
[実施例−2] リード線を配線しない以外は実施例−1と全く同様の白
金皿、ペレット、プールからなるサンプルを抵抗加熱炉
で約1200℃、2日間のアニールを行った。
この結果、クラックの発生は全く認められなかった。
[発明の効果] 本発明方法を行うことにより、引き上げ法で得られたプ
ールをクラツク発生を起すことなくアニールおよび単一
分域化処理を行うことができる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 引上げ法で得られたニオブ酸リチウム単結晶をニオブ酸
    リチウム単結晶粉砕品が敷き詰められた皿の上に設置し
    該ニオブ酸リチウム単結晶の単一分域化処理ならびにア
    ニーリングを行うことを特徴とするニオブ酸リチウム単
    結晶の製造方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0615005A3 (en) * 1993-03-09 1994-11-23 Nihon Kessho Kogaku Co Ltd Crystalline lithium niobate disc, process for its preparation and method for its evaluation.
CN1324167C (zh) * 2003-04-08 2007-07-04 住友金属矿山株式会社 钽酸锂基片及其制备方法
CN116200828A (zh) * 2023-05-06 2023-06-02 天通控股股份有限公司 一种大尺寸铌酸锂晶体的制备方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59227799A (ja) * 1983-06-07 1984-12-21 Fujitsu Ltd 酸化物単結晶のアニ−ル方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59227799A (ja) * 1983-06-07 1984-12-21 Fujitsu Ltd 酸化物単結晶のアニ−ル方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0615005A3 (en) * 1993-03-09 1994-11-23 Nihon Kessho Kogaku Co Ltd Crystalline lithium niobate disc, process for its preparation and method for its evaluation.
US5437761A (en) * 1993-03-09 1995-08-01 Nihon Kessho Kogaku Co., Ltd. Lithium niobate crystal wafer, process for the preparation of the same, and method for the evaluation thereof
CN1324167C (zh) * 2003-04-08 2007-07-04 住友金属矿山株式会社 钽酸锂基片及其制备方法
CN116200828A (zh) * 2023-05-06 2023-06-02 天通控股股份有限公司 一种大尺寸铌酸锂晶体的制备方法

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