JPH03219448A - 光磁気ディスク及びディスクカートリッジ - Google Patents
光磁気ディスク及びディスクカートリッジInfo
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- JPH03219448A JPH03219448A JP2013835A JP1383590A JPH03219448A JP H03219448 A JPH03219448 A JP H03219448A JP 2013835 A JP2013835 A JP 2013835A JP 1383590 A JP1383590 A JP 1383590A JP H03219448 A JPH03219448 A JP H03219448A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magneto
- magnetic head
- disk
- protective film
- curable resin
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はオーバーライド可能な磁界変調方式の光磁気デ
ィスクおよびディスクカートリッジに関するものである
。
ィスクおよびディスクカートリッジに関するものである
。
従来の技術
近蝦 光磁気ディスクは高密度記録メディアとして注目
され 一部商品化されている。
され 一部商品化されている。
光磁気ディスクは半導体レーザなどの光を用いて記録再
生を行う記録メディアである。
生を行う記録メディアである。
垂直磁化膜である光磁気記録膜(TbFeCo、DyF
eCoなどの希土類−遷移金属非晶質合金)にレーザ光
を照射して局所加熱すると、この領域の光磁気記録層の
保磁力が減少する。この時、外部磁化を印加して磁化の
向きを変え 情報の書き込へ 消去を行う。
eCoなどの希土類−遷移金属非晶質合金)にレーザ光
を照射して局所加熱すると、この領域の光磁気記録層の
保磁力が減少する。この時、外部磁化を印加して磁化の
向きを変え 情報の書き込へ 消去を行う。
情報の再生(友 カー効果やファラデー効果などの磁気
光学効果を利用する。
光学効果を利用する。
磁界変調方式はレーザ光の強度を固定し 外部印加磁界
の向きを変調する方式である。変調した外部印加磁界を
発生する手段として、例えば磁気ディスク装置に用いら
れている浮動型磁気ヘッドがある(例えば特開昭63−
229643号公報)。
の向きを変調する方式である。変調した外部印加磁界を
発生する手段として、例えば磁気ディスク装置に用いら
れている浮動型磁気ヘッドがある(例えば特開昭63−
229643号公報)。
磁気ヘッドのコイルに流す電流を変調し 外部印加磁界
の変調を行うことができる。
の変調を行うことができる。
しかしなか淑 レーザ光により局部的に加熱された光磁
気記録層の磁化を反転する為に必要な磁界は 磁気ヘッ
ドの近傍にのみ発生しており、磁気ヘッドと光磁気記録
層の距離はできる限り近づける必要がある。
気記録層の磁化を反転する為に必要な磁界は 磁気ヘッ
ドの近傍にのみ発生しており、磁気ヘッドと光磁気記録
層の距離はできる限り近づける必要がある。
浮動型磁気ヘッド(戴 気体潤滑作用を利用して低浮上
(例えば数μm以下)できるものであり、その構成を簡
素にするためにコンタクト、スタート、ストップ(以下
C8Sと略す)方式が必須である。
(例えば数μm以下)できるものであり、その構成を簡
素にするためにコンタクト、スタート、ストップ(以下
C8Sと略す)方式が必須である。
光磁気ディスクにおいてC8S方式を行うためにζよ
1、光磁気ディスク静止時番二 ディスク面と磁気ヘ
ッドスライダ−面が吸着しないこと、2、光磁気ディス
クの回転始動及び停止時の磁気ヘッド接触走行装置 磁
気ヘッドが光磁気ディスクの光磁気記録層を破壊しない
こと、 3、磁気ヘッドの浮上を妨げる塵が磁気ヘッドのスライ
ダー面に付着しないこと、 が必要である。
ッドスライダ−面が吸着しないこと、2、光磁気ディス
クの回転始動及び停止時の磁気ヘッド接触走行装置 磁
気ヘッドが光磁気ディスクの光磁気記録層を破壊しない
こと、 3、磁気ヘッドの浮上を妨げる塵が磁気ヘッドのスライ
ダー面に付着しないこと、 が必要である。
上述した条件を満たすため番へ 基板出番へ 第1保
護膜、 光磁気記録層及び第2保護膜を順次形成し 第
2保護膜上顛 熱硬化性樹脂にアルミナ粉及び熱可塑性
樹脂を配合し かつ膜内に潤滑剤を含浸した混合樹脂組
成物を設けた光磁気ディスクが提案されている。 (例
えば特開昭61229643号公報) 以下、図面を参照しなかぺ 上述した従来の光磁気ディ
スクの一例について説明する。
護膜、 光磁気記録層及び第2保護膜を順次形成し 第
2保護膜上顛 熱硬化性樹脂にアルミナ粉及び熱可塑性
樹脂を配合し かつ膜内に潤滑剤を含浸した混合樹脂組
成物を設けた光磁気ディスクが提案されている。 (例
えば特開昭61229643号公報) 以下、図面を参照しなかぺ 上述した従来の光磁気ディ
スクの一例について説明する。
第6図は従来の光磁気ディスクの構成を示す断面図であ
も 第6図において、 11はガラス基板、12はプリ
グループパターンを持つ紫外線硬化性樹脂膜(通常厚さ
10〜100μm)、 13はZnSまたはSiNで構
成される第1保護膜(通常厚さ60〜150nm)、
]4はTbFeCo光磁気記録膜(通常厚さ20〜15
0nm)、 15はZnSまたはSiNで構成される第
2保護膜(通常厚さ60〜l 50 nm)、 16は
アルミナ詠ポリビニルメチルエーテル樹脂 熱硬化性エ
ポキシ樹脂で構成される混合樹脂組成物を塗布したクラ
ッシュ防止膜(厚さ1μm)、 17はフッ化カーボン
系オイ、+L、19はスライダー、 20はスライダー
19の一端に設置される磁気ヘッド、 21は対物レン
、(22はレーザ光 23はディスク回転駆動装置であ
る。
も 第6図において、 11はガラス基板、12はプリ
グループパターンを持つ紫外線硬化性樹脂膜(通常厚さ
10〜100μm)、 13はZnSまたはSiNで構
成される第1保護膜(通常厚さ60〜150nm)、
]4はTbFeCo光磁気記録膜(通常厚さ20〜15
0nm)、 15はZnSまたはSiNで構成される第
2保護膜(通常厚さ60〜l 50 nm)、 16は
アルミナ詠ポリビニルメチルエーテル樹脂 熱硬化性エ
ポキシ樹脂で構成される混合樹脂組成物を塗布したクラ
ッシュ防止膜(厚さ1μm)、 17はフッ化カーボン
系オイ、+L、19はスライダー、 20はスライダー
19の一端に設置される磁気ヘッド、 21は対物レン
、(22はレーザ光 23はディスク回転駆動装置であ
る。
以上のように構成された従来の光磁気ディスクについて
、以下第6図を参照しながらその動作について説明する
。
、以下第6図を参照しながらその動作について説明する
。
ディスク回転駆動装置23が静止時(よ スライダー1
9は光磁気ディスクのクラッシュ防止膜16にフッ化カ
ーボン系オイル17を介して接触している。
9は光磁気ディスクのクラッシュ防止膜16にフッ化カ
ーボン系オイル17を介して接触している。
ディスク回転駆動装置23が駆動するとスライダー19
はフッ化カーボン系オイル17上を滑走する。ディスク
回転駆動装置23の回転速度が上昇し スライダー19
とクラッシュ防止膜16の相対速度が概略1m/s以上
に達すると、スライダー19及び磁気ヘッド20はフッ
化カーボン系オイル17から浮上する。
はフッ化カーボン系オイル17上を滑走する。ディスク
回転駆動装置23の回転速度が上昇し スライダー19
とクラッシュ防止膜16の相対速度が概略1m/s以上
に達すると、スライダー19及び磁気ヘッド20はフッ
化カーボン系オイル17から浮上する。
磁気ヘッド20が浮上後、磁気ヘッド20と対物レンズ
21及びレーザ光22はアクセス駆動系(図示せず)に
より、ディスク上の任意の位置に移動し レーザ光22
で光磁気記録膜14を局所的に加熱し 磁気ヘッド20
のヘッドコイル(図示せず)に変調電流を流すことによ
り、光磁気記録膜14に情報を書き込む。
21及びレーザ光22はアクセス駆動系(図示せず)に
より、ディスク上の任意の位置に移動し レーザ光22
で光磁気記録膜14を局所的に加熱し 磁気ヘッド20
のヘッドコイル(図示せず)に変調電流を流すことによ
り、光磁気記録膜14に情報を書き込む。
光磁気ディスクへの情報の記録再生が終了しディスク回
転駆動装置23を停止する場合、スライダー19及び磁
気ヘッド20は浮上走行から滑走走行に移り、フッ化カ
ーボン系オイル17を潤滑剤として接触走行し クラッ
シュ防止膜16上に静止する。
転駆動装置23を停止する場合、スライダー19及び磁
気ヘッド20は浮上走行から滑走走行に移り、フッ化カ
ーボン系オイル17を潤滑剤として接触走行し クラッ
シュ防止膜16上に静止する。
発明が解決しようとする課題
しかしながら上記のような構成で+1css試験を繰り
返すとクラッシュ防止膜16上のフッ化カーボン系オイ
ル17に大気中を浮遊する塵がイ」着し この塵がスラ
イダー19及び磁気ヘッド20に再付着し 磁気ヘッド
20の浮上走行が妨げられ 光磁気記録膜14への印加
磁界の強度が不安定になり、情報の書き込みが完全に行
われず、再生信号エラーが増加するという課題 さら番
へ高温状態のC8Sで(よ クラッシュ防止膜16と磁
気ヘッド20との吸着L 非定常的ながら発生するとい
う課題を有していた 本発明は上記課題に鑑へ スライダー19及び磁気ヘッ
ド20への塵付着がなく、磁気ヘッド20の光磁気ディ
スクへの吸着もなし\ 磁気ヘッドの安定浮上が実現で
きる光磁気ディスクを提供するものである。
返すとクラッシュ防止膜16上のフッ化カーボン系オイ
ル17に大気中を浮遊する塵がイ」着し この塵がスラ
イダー19及び磁気ヘッド20に再付着し 磁気ヘッド
20の浮上走行が妨げられ 光磁気記録膜14への印加
磁界の強度が不安定になり、情報の書き込みが完全に行
われず、再生信号エラーが増加するという課題 さら番
へ高温状態のC8Sで(よ クラッシュ防止膜16と磁
気ヘッド20との吸着L 非定常的ながら発生するとい
う課題を有していた 本発明は上記課題に鑑へ スライダー19及び磁気ヘッ
ド20への塵付着がなく、磁気ヘッド20の光磁気ディ
スクへの吸着もなし\ 磁気ヘッドの安定浮上が実現で
きる光磁気ディスクを提供するものである。
課題を解決するための手段
上記課題を解決するために本発明の光磁気ディスク(よ
基板上に第1保護膜、 光磁気記録膜及び第2保護膜
を順次形成し 第2保護膜上に研磨剤と潤滑剤を混合し
た混合紫外線硬化性樹脂を形成し 光磁気ディスクの磁
気ヘッド設置側のディスク面に略平行なディスクカート
リッジ内壁鳳 導電性を有する不織布で構成されたライ
ナーを備えたディスクカートリッジを設けた構成である
。
基板上に第1保護膜、 光磁気記録膜及び第2保護膜
を順次形成し 第2保護膜上に研磨剤と潤滑剤を混合し
た混合紫外線硬化性樹脂を形成し 光磁気ディスクの磁
気ヘッド設置側のディスク面に略平行なディスクカート
リッジ内壁鳳 導電性を有する不織布で構成されたライ
ナーを備えたディスクカートリッジを設けた構成である
。
作用
本発明は上記した構成によって、混合紫外線硬化性樹脂
中に含まれる潤滑剤により、混合紫外線硬化性樹脂表面
と磁気ヘッド、スライダーの動摩擦係数を低減して、磁
気ヘッドの混合紫外線硬化性樹脂上の滑走を滑らかにし
ている。
中に含まれる潤滑剤により、混合紫外線硬化性樹脂表面
と磁気ヘッド、スライダーの動摩擦係数を低減して、磁
気ヘッドの混合紫外線硬化性樹脂上の滑走を滑らかにし
ている。
さらに導電性を備えた不織布で構成したライナーを混合
紫外線硬化性樹脂に接して配置することにより、混合紫
外線硬化性樹脂の帯電を防止して、混合紫外線硬化性樹
脂上への塵の静電吸着を低減し 混合紫外線硬化性樹脂
に含まれる研磨剤及びライナーにより、スライダー、磁
気ヘッド及び混合紫外線硬化性樹脂表面に付着した塵を
清浄する効果をもたせることにより、安定した磁気ヘッ
ド浮上が達成可能な光磁気ディスク及びディスクカート
リッジを提供できも 実施例 以下、本発明の一実施例の光磁気ディスク及びディスク
カートリッジについて、図面を参照しながら説明する。
紫外線硬化性樹脂に接して配置することにより、混合紫
外線硬化性樹脂の帯電を防止して、混合紫外線硬化性樹
脂上への塵の静電吸着を低減し 混合紫外線硬化性樹脂
に含まれる研磨剤及びライナーにより、スライダー、磁
気ヘッド及び混合紫外線硬化性樹脂表面に付着した塵を
清浄する効果をもたせることにより、安定した磁気ヘッ
ド浮上が達成可能な光磁気ディスク及びディスクカート
リッジを提供できも 実施例 以下、本発明の一実施例の光磁気ディスク及びディスク
カートリッジについて、図面を参照しながら説明する。
第1図(上 本発明の一実施例における光磁気ディスク
及びディスクカートリッジの概略構成を示す断面図であ
る。第1図に於いて、 lはポリカーボネート等の基板
13はZn5S Zn5e−8i02あるいはSiN
で構成される第1保護膜(厚さ80nm)、 14はT
bFeCo光磁気記録膜(厚さ10100n、 15は
ZnS1 Zn5e・5102あるいはSiNで構成さ
れる第2保護膜(厚さ80nm)、 3は研磨剤として
粒径0.7μmのアルミナ微粒子(10重量%)、潤滑
剤としてオレイルオレートとステアリン酸nブヂルの混
合剤(10重量%)を混入した混合紫外線硬化性樹脂(
厚さ5μm)、 19はMnZnフェライトで構成され
たスライダス 20はスライダー19の一端に取り付け
られたMnZnフェライトで構成された磁気ヘッド、
21は対物レンズ、 22はレーザ光 23はディスク
回転駆動装置 24はディスクカートリッジ、 25は
炭素繊維を組込んだレーヨンで構成されるライナー、
26はライナー25とディスクドライブ装置のアースを
電気的に接続する導体である。
及びディスクカートリッジの概略構成を示す断面図であ
る。第1図に於いて、 lはポリカーボネート等の基板
13はZn5S Zn5e−8i02あるいはSiN
で構成される第1保護膜(厚さ80nm)、 14はT
bFeCo光磁気記録膜(厚さ10100n、 15は
ZnS1 Zn5e・5102あるいはSiNで構成さ
れる第2保護膜(厚さ80nm)、 3は研磨剤として
粒径0.7μmのアルミナ微粒子(10重量%)、潤滑
剤としてオレイルオレートとステアリン酸nブヂルの混
合剤(10重量%)を混入した混合紫外線硬化性樹脂(
厚さ5μm)、 19はMnZnフェライトで構成され
たスライダス 20はスライダー19の一端に取り付け
られたMnZnフェライトで構成された磁気ヘッド、
21は対物レンズ、 22はレーザ光 23はディスク
回転駆動装置 24はディスクカートリッジ、 25は
炭素繊維を組込んだレーヨンで構成されるライナー、
26はライナー25とディスクドライブ装置のアースを
電気的に接続する導体である。
以上のように構成された本発明の一実施例による光磁気
ディスクについて、以下第1図を用いてその動作を説明
すも ディスク回転駆動装置23の静止隊 スライダー19は
光磁気ディスクの混合紫外線硬化性樹脂3に接触してい
る。
ディスクについて、以下第1図を用いてその動作を説明
すも ディスク回転駆動装置23の静止隊 スライダー19は
光磁気ディスクの混合紫外線硬化性樹脂3に接触してい
る。
混合紫外線硬化性樹脂3に含有している潤滑剤が混合紫
外線硬化性樹脂3の表面ににじみ出し、混合紫外線硬化
性樹脂3とスライダー19の動摩擦係数は0.2〜0.
4となる。ディスク回転駆動装置23が駆動するとスラ
イダー19は混合紫外線硬化性樹脂3上を滑らかに滑走
する。ディスク回転駆動装置23の回転速度が上昇し
スライダー19と混合紫外線硬化性樹脂3の相対速度が
概略1m/s以上に達すると、スライダー19及9− 1〇− び磁気ヘッド20は混合紫外線硬化性樹脂3から浮上す
る。
外線硬化性樹脂3の表面ににじみ出し、混合紫外線硬化
性樹脂3とスライダー19の動摩擦係数は0.2〜0.
4となる。ディスク回転駆動装置23が駆動するとスラ
イダー19は混合紫外線硬化性樹脂3上を滑らかに滑走
する。ディスク回転駆動装置23の回転速度が上昇し
スライダー19と混合紫外線硬化性樹脂3の相対速度が
概略1m/s以上に達すると、スライダー19及9− 1〇− び磁気ヘッド20は混合紫外線硬化性樹脂3から浮上す
る。
また ライナー25はディスクの静止隊 回転時とも混
合紫外線硬化性樹脂3に接触している。
合紫外線硬化性樹脂3に接触している。
磁気ヘッド20が浮上後、磁気ヘッド20と対物レンズ
21及びレーザ光22はアクセス駆動系(図示せず)に
より、ディスク上の任意の位置に移動し レーザ光22
で光磁気記録膜14を局所的に加熱し 磁気ヘッド20
のヘッドコイル(図示せず)に変調電流を流すことによ
り、光磁気記録膜14に情報を書き込払 光磁気ディスクへの情報の記録再生が終了しディスク回
転駆動装置23を停止した場合、スライダー19および
磁気ヘッド20は浮上走行から滑走走行に移り、混合紫
外線硬化性樹脂3上に静止すも 光磁気記録膜14の記録再生特性の経時変化を第2図に
描く。第2図は30℃80%RH多塵環境下で、 1回
/15分の割合でCS S、 記録再生を繰り返した
場合の経過時間に対する再生信号工1− ラーの変化を示したものである。第2図に於いて、Aは
従来の構成による光磁気ディスクの再生信号エラーの変
(L Bは本実施例に於ける構成による光磁気ディス
クの再生信号エラーの変化である。
21及びレーザ光22はアクセス駆動系(図示せず)に
より、ディスク上の任意の位置に移動し レーザ光22
で光磁気記録膜14を局所的に加熱し 磁気ヘッド20
のヘッドコイル(図示せず)に変調電流を流すことによ
り、光磁気記録膜14に情報を書き込払 光磁気ディスクへの情報の記録再生が終了しディスク回
転駆動装置23を停止した場合、スライダー19および
磁気ヘッド20は浮上走行から滑走走行に移り、混合紫
外線硬化性樹脂3上に静止すも 光磁気記録膜14の記録再生特性の経時変化を第2図に
描く。第2図は30℃80%RH多塵環境下で、 1回
/15分の割合でCS S、 記録再生を繰り返した
場合の経過時間に対する再生信号工1− ラーの変化を示したものである。第2図に於いて、Aは
従来の構成による光磁気ディスクの再生信号エラーの変
(L Bは本実施例に於ける構成による光磁気ディス
クの再生信号エラーの変化である。
第2図から明らかなように従来例にみられるエラー増加
は認められなl、% これはライナー25に組込まれている炭素繊維を通じて
混合紫外線硬化性樹脂3が除電されたことにより、混合
紫外線硬化性樹脂3上への塵の静電吸着が低減され 混
合紫外線硬化性樹脂3に含まれる研磨剤によりスライダ
ー19及び磁気ヘッド20に付着した塵が清浄され こ
の清浄された塵はライナー25にトラップされ スライ
ダー19、磁気ヘッド20及び混合紫外線硬化性樹脂3
上への再付着防止が図られているた八 磁気へ・ソド2
0は安定した浮上走行を行うことができるようになり、
磁気ヘッド20による光磁気記録膜14への磁界印加が
安定するためである。
は認められなl、% これはライナー25に組込まれている炭素繊維を通じて
混合紫外線硬化性樹脂3が除電されたことにより、混合
紫外線硬化性樹脂3上への塵の静電吸着が低減され 混
合紫外線硬化性樹脂3に含まれる研磨剤によりスライダ
ー19及び磁気ヘッド20に付着した塵が清浄され こ
の清浄された塵はライナー25にトラップされ スライ
ダー19、磁気ヘッド20及び混合紫外線硬化性樹脂3
上への再付着防止が図られているた八 磁気へ・ソド2
0は安定した浮上走行を行うことができるようになり、
磁気ヘッド20による光磁気記録膜14への磁界印加が
安定するためである。
混合紫外線硬化性樹脂3に含まれる研磨ml 潤滑剤
の再生信号エラーの増加防止効果を詳細に調2− べた 30℃80%RH多塵環境下で、 1回/15分の割合
でC8S、記録再生を10000時間繰り返した後の再
生信号エラーの変化を、 (紫外線硬化性樹脂)P[(研磨剤)X(潤滑剤)Y]
1−P、で示した各組成に対して表したものを第3図
〜第5図に示す。
の再生信号エラーの増加防止効果を詳細に調2− べた 30℃80%RH多塵環境下で、 1回/15分の割合
でC8S、記録再生を10000時間繰り返した後の再
生信号エラーの変化を、 (紫外線硬化性樹脂)P[(研磨剤)X(潤滑剤)Y]
1−P、で示した各組成に対して表したものを第3図
〜第5図に示す。
第3図に於いて、縦軸は再生信号エラー、横軸は紫外線
硬化性樹脂3の組成比P、第4図に於いて、縦軸は再生
信号エラー、横軸は研磨剤の組成比X、第5図に於いて
、縦軸は再生信号エラー、横軸は潤滑剤の組成比Yであ
る。
硬化性樹脂3の組成比P、第4図に於いて、縦軸は再生
信号エラー、横軸は研磨剤の組成比X、第5図に於いて
、縦軸は再生信号エラー、横軸は潤滑剤の組成比Yであ
る。
欠番! 第3図〜第5図のエラー増加の様子を説明す
る。
る。
第3図に於いて、組成比Pが0.6以下でエラー増加が
みられるの(よ 混合紫外線硬化性樹脂3と第2保護膜
15の接着性及び混合紫外線硬化性樹脂の硬化度が低下
し 混合紫外線硬化性樹脂3が剥離するためである。挿
板 混合紫外線硬化性樹脂3の剥離部分にスライダー1
9が接触すると、第2保護膜15ヘスライダー19が接
触する。第2保護膜15は耐クラツシユ性が弱い薄膜で
あり、スライダー19の僅かな接触により第2保護膜1
5は剥離し保護機能が低下する。このため光磁気記録膜
14の保磁力が低下したためである。
みられるの(よ 混合紫外線硬化性樹脂3と第2保護膜
15の接着性及び混合紫外線硬化性樹脂の硬化度が低下
し 混合紫外線硬化性樹脂3が剥離するためである。挿
板 混合紫外線硬化性樹脂3の剥離部分にスライダー1
9が接触すると、第2保護膜15ヘスライダー19が接
触する。第2保護膜15は耐クラツシユ性が弱い薄膜で
あり、スライダー19の僅かな接触により第2保護膜1
5は剥離し保護機能が低下する。このため光磁気記録膜
14の保磁力が低下したためである。
また 組成比Pが0.9以上でエラー増加がみられるの
(戴 潤滑性及び研磨性の不足により、混合紫外線硬化
性樹脂3がスライダー19の接触により削り取られ こ
の切削性塵がスライダー19に付着し スライダー19
の不規則振動が生よ磁気ヘッド20の浮上位置が不規則
に変化し光磁気記録膜14上の磁界強度が不安定となる
ためであも 第4図に於いて、組成比Xが0.05以下でエラー増加
がみられるの(よ 研磨性不足による磁気ヘッド20の
浮上安定性欠如によるものである。
(戴 潤滑性及び研磨性の不足により、混合紫外線硬化
性樹脂3がスライダー19の接触により削り取られ こ
の切削性塵がスライダー19に付着し スライダー19
の不規則振動が生よ磁気ヘッド20の浮上位置が不規則
に変化し光磁気記録膜14上の磁界強度が不安定となる
ためであも 第4図に於いて、組成比Xが0.05以下でエラー増加
がみられるの(よ 研磨性不足による磁気ヘッド20の
浮上安定性欠如によるものである。
また 組成比Xが0.95以上でエラー増加がみられる
の(よ 研磨性の過剰による磁気ヘッド20の形状変化
(磁気ヘッド20の摩耗)に伴う浮上安定性欠如による
ものである。
の(よ 研磨性の過剰による磁気ヘッド20の形状変化
(磁気ヘッド20の摩耗)に伴う浮上安定性欠如による
ものである。
一13=
4−
第5図に於いて、組成比Yが0.05以下で測定データ
が欠落しているのは 潤滑性の不足による磁気ヘッド2
0と混合紫外線硬化性樹脂3の吸着により、測定が不可
能であったためである。また 組成比Yが0.95以上
でエラー増加がみられるの(よ 多量の潤滑剤がスライ
ダー19及びライナー25に付着し スライダーの19
の浮上時に不規則振動が生じ磁気ヘッド20の浮上高さ
が不規則に変化したためである。そしてこの場合に(よ
混合紫外線硬化性樹脂3と磁気ヘッド20の吸着が非
定常的ではあるが発生する。
が欠落しているのは 潤滑性の不足による磁気ヘッド2
0と混合紫外線硬化性樹脂3の吸着により、測定が不可
能であったためである。また 組成比Yが0.95以上
でエラー増加がみられるの(よ 多量の潤滑剤がスライ
ダー19及びライナー25に付着し スライダーの19
の浮上時に不規則振動が生じ磁気ヘッド20の浮上高さ
が不規則に変化したためである。そしてこの場合に(よ
混合紫外線硬化性樹脂3と磁気ヘッド20の吸着が非
定常的ではあるが発生する。
以上のように本実施例によれば 基板1上に第1保護膜
13、光磁気記録層14及び第2保護膜15を順次形成
し 第2保護膜15上に研磨剤としてアルミナ微粒子、
潤滑剤としてオレイルオレートとステアリン酸nブチル
の混合剤を混入した混合紫外線硬化性樹脂3を形成し
光磁気ディスクの磁気ヘッド設置側のディスク面に略平
行なディスクカートリッジ内壁?へ 炭素繊維を組み込
んだ不織布で構成されたライナーを備えたディスクカー
トリッジを設(す、第2保護膜15上設ける混合紫外線
硬化性樹脂の組成範囲を (紫外線硬化性樹脂)P[(研磨剤)X(潤滑剤)Y]
1−Pで示した 0、6≦P≦0.9、0.05≦X≦0.95.0、0
5≦Y≦0.95、 の重量比範囲にすることにより、安定した記録バイアス
磁界が実現できる光磁気ディスク及びディスクカートリ
ッジを提供することができる。
13、光磁気記録層14及び第2保護膜15を順次形成
し 第2保護膜15上に研磨剤としてアルミナ微粒子、
潤滑剤としてオレイルオレートとステアリン酸nブチル
の混合剤を混入した混合紫外線硬化性樹脂3を形成し
光磁気ディスクの磁気ヘッド設置側のディスク面に略平
行なディスクカートリッジ内壁?へ 炭素繊維を組み込
んだ不織布で構成されたライナーを備えたディスクカー
トリッジを設(す、第2保護膜15上設ける混合紫外線
硬化性樹脂の組成範囲を (紫外線硬化性樹脂)P[(研磨剤)X(潤滑剤)Y]
1−Pで示した 0、6≦P≦0.9、0.05≦X≦0.95.0、0
5≦Y≦0.95、 の重量比範囲にすることにより、安定した記録バイアス
磁界が実現できる光磁気ディスク及びディスクカートリ
ッジを提供することができる。
な叙 本実施例で(友 混合紫外線硬化性樹脂3に混入
する研磨剤としてアルミナ微粒子を用いた力丈 この研
磨剤はZrO2や5i02の微粒子としてもより〜 この場合、スライダー19の材質がMnZnフェライト
あるいはセラミックスより低硬度のガラスを用いた場合
で耘 スライダー19の表面を傷つけることがないとい
う特徴を有する。
する研磨剤としてアルミナ微粒子を用いた力丈 この研
磨剤はZrO2や5i02の微粒子としてもより〜 この場合、スライダー19の材質がMnZnフェライト
あるいはセラミックスより低硬度のガラスを用いた場合
で耘 スライダー19の表面を傷つけることがないとい
う特徴を有する。
さら置 本実施例で(よ 混合紫外線硬化性樹脂3の厚
みを5μmとした力(混合紫外線硬化性樹脂3の厚みを
Hlとしたとき、 1μm≦H1≦505− 6− μmの範囲であれ(戴 同様な効果を実現できる。
みを5μmとした力(混合紫外線硬化性樹脂3の厚みを
Hlとしたとき、 1μm≦H1≦505− 6− μmの範囲であれ(戴 同様な効果を実現できる。
そして、本実施例で用いたアルミナ微粒子、ZrO2微
粒子や5i02微粒子等の研磨剤の粒径(よ混合紫外線
硬化性樹脂3の厚みをHl、各微粒子の粒径をR1とし
たとき、 0.2μm≦R1≦H1 の範囲であれ(戴 同様な効果を得ることができる。
粒子や5i02微粒子等の研磨剤の粒径(よ混合紫外線
硬化性樹脂3の厚みをHl、各微粒子の粒径をR1とし
たとき、 0.2μm≦R1≦H1 の範囲であれ(戴 同様な効果を得ることができる。
また 本実施例では混合紫外線硬化性樹脂3に混入する
潤滑剤としてステアリン酸 ノルマルブチルスタレート
を用いた力丈 潤滑剤はラウリン酸、ミリスチン醜 オ
レイン酸、ステアリン酸のいずれか1つ以上の組合せと
、ノルマルブチルスタレートとの混合剤でも同様な効果
が得られる。
潤滑剤としてステアリン酸 ノルマルブチルスタレート
を用いた力丈 潤滑剤はラウリン酸、ミリスチン醜 オ
レイン酸、ステアリン酸のいずれか1つ以上の組合せと
、ノルマルブチルスタレートとの混合剤でも同様な効果
が得られる。
そして、本実施例では第2保護膜15上に混合紫外線硬
化性樹脂3を塗布した力丈 第2保護膜上に反射膜を設
(す、この反射膜上に混合紫外線硬化性樹脂3を塗布し
た構成に於いても同様の効果が得られる。
化性樹脂3を塗布した力丈 第2保護膜上に反射膜を設
(す、この反射膜上に混合紫外線硬化性樹脂3を塗布し
た構成に於いても同様の効果が得られる。
また 本実施例で(よ 光磁気記録膜14が第1保護膜
13と第2保護膜15の間に設けられている力叉 光磁
気記録膜14及び反射膜を第1保護膜13と第2保護膜
15の間に設けた構成に於いても同様な効果が得られる
。
13と第2保護膜15の間に設けられている力叉 光磁
気記録膜14及び反射膜を第1保護膜13と第2保護膜
15の間に設けた構成に於いても同様な効果が得られる
。
さらに(友 本実施例ではライナー25に組込む導電性
素材として炭素繊維を用いた力丈 これに代わり縁 ア
ルミ、飢 金などの細線を用いても同様の効果が得られ
る。
素材として炭素繊維を用いた力丈 これに代わり縁 ア
ルミ、飢 金などの細線を用いても同様の効果が得られ
る。
そして、本実施例では混合紫外線硬化性樹脂3を第2保
護膜15上に直接塗布した力(第2保護膜15と混合紫
外線硬化性樹脂3の間E、 例えば紫外線硬化性樹脂
などの中間膜を介在した場合にも本実施例と同様の効果
が得られるものである。
護膜15上に直接塗布した力(第2保護膜15と混合紫
外線硬化性樹脂3の間E、 例えば紫外線硬化性樹脂
などの中間膜を介在した場合にも本実施例と同様の効果
が得られるものである。
発明の効果
以上のように本発明は 基板上に第1保護膜、光磁気記
録層及び第2保護膜を順次形成し 第2保護膜上置 研
磨剤と潤滑剤を混入した混合紫外線硬化性樹脂を投法
第2保護膜15上へ 研磨剤と潤滑剤を混入した混合紫
外線硬化性樹脂を設(す、その組成範囲を (紫外線硬化性樹脂)P[(研磨剤)X(潤滑剤)7− Y] 1−Pで示した 0、6 ≦P≦0.9、 0. 05≦X≦0.95.
0、 05≦Y≦0.95、 の重量比範囲にし また光磁気ディスクのディスク面に
略平行なディスクカートリッジ内壁Q 磁気ヘッド設置
側へ 導電性を有する不織布で構成されたライナーを備
えたディスクカートリッジを設けることにより、混合紫
外線硬化性樹豚 スライダー、磁気ヘッドに付着した塵
が再付着することを防止し 磁気ヘッドの安定した浮上
走行を行うことができ、光磁気記録膜14への磁界印加
を確実に行え 記録再生の信頼性が高い光磁気ディスク
を提供することができる。
録層及び第2保護膜を順次形成し 第2保護膜上置 研
磨剤と潤滑剤を混入した混合紫外線硬化性樹脂を投法
第2保護膜15上へ 研磨剤と潤滑剤を混入した混合紫
外線硬化性樹脂を設(す、その組成範囲を (紫外線硬化性樹脂)P[(研磨剤)X(潤滑剤)7− Y] 1−Pで示した 0、6 ≦P≦0.9、 0. 05≦X≦0.95.
0、 05≦Y≦0.95、 の重量比範囲にし また光磁気ディスクのディスク面に
略平行なディスクカートリッジ内壁Q 磁気ヘッド設置
側へ 導電性を有する不織布で構成されたライナーを備
えたディスクカートリッジを設けることにより、混合紫
外線硬化性樹豚 スライダー、磁気ヘッドに付着した塵
が再付着することを防止し 磁気ヘッドの安定した浮上
走行を行うことができ、光磁気記録膜14への磁界印加
を確実に行え 記録再生の信頼性が高い光磁気ディスク
を提供することができる。
第1図(亀 本発明の一実施例における光磁気ディスク
及びディスクカートリッジの概略の構成を示す断面諷
第2図は本発明の一実施例における光磁気ディスク及び
ディスクカートリッジのC8Sを繰り返した場合へ 経
過時間に対する再生信号エラーの変化を示す匝 第3図
は30℃80%19− RH多塵環境下て 1回/15分の割合でC8S、記録
再生を1oooo時間繰り返した後の再生信号エラーの
変化を、 (紫外線硬化性樹脂)P[(研磨剤)X(潤
滑剤) Y] 1−P、で示した組成比Pに対して表し
た匝 第4図は30℃80%RH多塵環境下で、 1回
/15分の割合でC8S、記録再生を10000時間繰
り返した後の再生信号エラーの変化を組成比Xに対して
表した匝 第5図は30℃80%RH多塵環境下で、
1回/15分の割合でC8S、記録再生を10000時
間繰り返した後の再生信号エラーの変化を組成比Yに対
して表した艮 第6図は従来例における光磁気ディスク
の構成を示す断面図である。 1・・・基板、 3・・・紫外線硬化性樹脂 11・・
・ガラス基板、 12・・・紫外線硬化性樹脂WL 1
3・・・第1保護! 14・・・光磁気記録wL 1
5・・・第2保護K 16・・・クラッシュ防止lL
17・・・フッ化カーボン系オイル、 19・・・ス
ライダー、 20・・・磁気ヘッド、 21・・・対物
レン、7:、 22・・・レーザ九−(イ)− 23・・・ディスク回転駆動装置 24・・・ディスク
カートリッジ、 25・・・ライナス 26・・・連化
及びディスクカートリッジの概略の構成を示す断面諷
第2図は本発明の一実施例における光磁気ディスク及び
ディスクカートリッジのC8Sを繰り返した場合へ 経
過時間に対する再生信号エラーの変化を示す匝 第3図
は30℃80%19− RH多塵環境下て 1回/15分の割合でC8S、記録
再生を1oooo時間繰り返した後の再生信号エラーの
変化を、 (紫外線硬化性樹脂)P[(研磨剤)X(潤
滑剤) Y] 1−P、で示した組成比Pに対して表し
た匝 第4図は30℃80%RH多塵環境下で、 1回
/15分の割合でC8S、記録再生を10000時間繰
り返した後の再生信号エラーの変化を組成比Xに対して
表した匝 第5図は30℃80%RH多塵環境下で、
1回/15分の割合でC8S、記録再生を10000時
間繰り返した後の再生信号エラーの変化を組成比Yに対
して表した艮 第6図は従来例における光磁気ディスク
の構成を示す断面図である。 1・・・基板、 3・・・紫外線硬化性樹脂 11・・
・ガラス基板、 12・・・紫外線硬化性樹脂WL 1
3・・・第1保護! 14・・・光磁気記録wL 1
5・・・第2保護K 16・・・クラッシュ防止lL
17・・・フッ化カーボン系オイル、 19・・・ス
ライダー、 20・・・磁気ヘッド、 21・・・対物
レン、7:、 22・・・レーザ九−(イ)− 23・・・ディスク回転駆動装置 24・・・ディスク
カートリッジ、 25・・・ライナス 26・・・連化
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)基板上に第1保護膜、光磁気記録膜及び第2保護
膜を順次形成し、前記第2保護膜上に、研磨剤と潤滑剤
を含有した混合紫外線硬化性樹脂を備えたことを特徴と
する光磁気ディスク。 (2)混合紫外線硬化性樹脂の組成比が一般式、(紫外
線硬化性樹脂)P[(研磨剤)X(潤滑剤)Y]1−P で示される場合、 0.6≦P≦0.9、0.05≦X≦0.95、0.0
5≦Y≦0.95、 の重量比範囲にあることを特徴とする特許請求の 範囲
第1項記載の光磁気ディスク。 (3)光磁気ディスクの磁気ヘッド設置側のディスク面
に略平行なディスクカートリッジ内壁に導電性を有する
不織布で構成されたライナーを備えたことを特徴とする
ディスクカートリッジ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013835A JP2563626B2 (ja) | 1990-01-24 | 1990-01-24 | 光磁気ディスク及びディスクカートリッジ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013835A JP2563626B2 (ja) | 1990-01-24 | 1990-01-24 | 光磁気ディスク及びディスクカートリッジ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03219448A true JPH03219448A (ja) | 1991-09-26 |
| JP2563626B2 JP2563626B2 (ja) | 1996-12-11 |
Family
ID=11844334
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013835A Expired - Fee Related JP2563626B2 (ja) | 1990-01-24 | 1990-01-24 | 光磁気ディスク及びディスクカートリッジ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2563626B2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0240149A (ja) * | 1988-07-29 | 1990-02-08 | Hitachi Ltd | 光記録媒体 |
-
1990
- 1990-01-24 JP JP2013835A patent/JP2563626B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0240149A (ja) * | 1988-07-29 | 1990-02-08 | Hitachi Ltd | 光記録媒体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2563626B2 (ja) | 1996-12-11 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |