JPH03220229A - 樹脂組成物 - Google Patents

樹脂組成物

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JPH03220229A
JPH03220229A JP30887790A JP30887790A JPH03220229A JP H03220229 A JPH03220229 A JP H03220229A JP 30887790 A JP30887790 A JP 30887790A JP 30887790 A JP30887790 A JP 30887790A JP H03220229 A JPH03220229 A JP H03220229A
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賢 太田
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は高集精度IC封止用樹脂組成物に適する超低応
力、高強度、低粘度のエポキシ樹脂組成物に関するもの
である。
〔従来技術〕
エポキシ樹脂は耐熱性、電気特性、機械強度や接着性に
優れた樹脂であり、塗料、接着剤、電子部品封止用樹脂
、積層板用樹脂やその信子方面にわたって広く用いられ
ている樹脂である。
例えばIC,LSI、トランジスター、ダイオードなと
の半導体素子や電子回路等の樹脂封止には特性、コスト
の両面からエポキシ樹脂組成物か一般に用いられている
しかし近年ICサイズの増大、パッケージサイズの小型
化・薄・自他により、■温度サイクルによるパッケージ
クラックの増大、■表面実装時の半田熱衝撃によるパッ
ケージクラックの増大か生しやすくなり、これらを改善
する効果的な手法が強く求められている。
これらを改善するため、(D低弾性率化、■低熱膨張係
数化、■高衝撃強度化、■低吸水率化が検討されている
(D低弾性率化については、シリコーン変性エポキシ樹
脂化合物を利用する方法(特開昭61−73725号公
報、特開昭62−174222号公報)か効果かあると
言われているか、単に低弾性化するたけては強度も低下
するため半田耐熱性か低下し、良好な半導体封止用樹脂
組成物は得られなかった。
■低熱膨張係数化については、樹脂組成物中のノリ力充
填材量を増加させることが効果的といわれるか、充填材
量増加にともなう樹脂組成物の粘度の上昇が問題となり
、成形性の著しい低下をクリアする必要かあった。
■高衝撃強度化については、ビフェニル型エポキシ樹脂
や3官能エポキシ樹脂の使用(特開昭61−16862
0号公報)が効果あるといわれているが、いずれも成形
性、特にウスバリ特性や金型汚れ性の低下がみられる。
■低吸水率化については、シリコーン変性樹脂の使用や
充填材量の増加が効果あるといわれているが、いずれも
上記に示す欠点があり、実用化にまでは至っていない。
〔発明か解決しようとする課題〕
本IIS明の目的とするところは成形性、流動性、電気
特性および他の諸特性を劣化させることなく耐熱衝撃性
、半田耐熱性に非常に優れた樹脂組成物を提供すること
にある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明者らはこれらの問題を解決するために鋭意研究を
進め、つぎの組成をもつ組成物を見出した。衝撃強度向
上、低粘度化に効果を有する下記式(1)で示されるナ
フタレン型エポキシ化合物と、式(II)で示される、
ビフェニル型エポキシ化合物 またはこれらの化合物とエポキシ樹脂との混合物と、低
弾性率化、低吸水率化に効果を有するシリコーン変性フ
ェノール樹脂硬化剤(下記式(I[)、(IV)で示さ
れるノリコーン化合物とフェノール樹脂との反応物) を組み合わせ、さらに全樹脂組成物中の無機充填材の含
有量を70〜90重量%とじ、硬化促進剤を必須成分と
することにより、低弾性、低熱膨張係数、高強度、低吸
水率の極めてバランスのとれた優れた半導体封止用樹脂
組成物かえられることを見出して本願発明を完成するに
至ったものである。
〔作  用〕
本発明において用いられる式〔I〕で示される構造のナ
フタレン型エポキシ樹脂や、式(II)で示されるビフ
ェニル型エポキシ樹脂は成形温度(165〜185°C
)において数センチボイズという低粘度を存するために
樹脂組成物の粘度を著しく低下させることか可能のため
、樹脂組成物中の充填材含有量を通常量より大幅にアッ
プさせることか出来る。
そしてこれらの平面構造を有するエポキン化合物は分子
同志のバッキングか良好のために樹脂組成物の衝撃強度
を向上させ、耐熱衝撃性、半田耐湿性、半田後の耐湿性
等に優れるという特徴を有している。
しかしながら、これらの樹脂を30重量%以上含むエポ
キシ樹脂は、他の樹脂との反応性、相溶性が悪く、しか
も粘度が低いために成形性、特にウスバリ特性、金型汚
れ性か低下するという問題を有していた。
しかし、この問題は後述するシリコーン変性フェノール
樹脂との組み合わせてクリアすることか可能である。
式〔I〕で示されるナフタレン型エポキシ化合物とCI
I)で示されるビフェニル型エポキシ化合物は、他のエ
ポキシ樹脂と混合して用いても良いか、総量か総エボキ
ソ樹脂量中の30重量%以北とすることか必要である。
30重量%未満の場合は低粘度、低吸水、高衝撃強度の
いずれも得られず、半田耐熱性や流動性の悪い樹脂組成
物となる。
式〔I〕で示されるナフタレン型エポキシ樹脂と、式(
IIIで示されるビフェニル型エポキシ樹脂とは重量比
で10/90〜90/ 10の割合内で併用する。
ナフタレン型エポキシ化合物は反応性が高く、しかも強
度向上に効果有るため半田耐熱性は良くなるが、耐熱衝
撃性は十分でない。また液状のために取扱いか困難であ
・る。
一方、ビフェニル型エポキシ化合物は半田耐熱性と耐熱
衝撃性にすぐれ、結晶性のために取扱いに不便さはない
か、多少反応性か低い傾向にある。
両者を併用して使用することにより、お互いの欠点をお
ぎなう樹脂組成物を得ることができる。
本発明で(B)成分として用いるシリコーン変性フェノ
ール樹脂の原料としてのフェノール樹脂はフェノールノ
ボラック樹脂、クレゾールノホラソタ樹脂及びこれらの
変性樹脂等か挙げられ、これらは1#@又は2種以上混
合して用いることも出来る。
これらのフェノール樹脂の中でも、水酸基当量か80〜
+50、軟化点か60〜120℃でありNa’、CI−
等のイオン性不純物を出来る限り除いたものか好ましい
また、本発明のシリコーン変性フェノール樹脂の一方の
原料として用いられるオルガノポリシロキサンは、上述
のフェノール樹脂と反応し得る官能基を有するもので、
官能基としては、たとえばカルボキシル基、シクロヘキ
シル型エポキシ基、グリシジル型エポキシ基、活性水素
等が挙げられる。
分子構造は下記式(III)、(IV)で示される才。
ルガノポリシロキサンてあり R・低級アルキレン N (/+m+n+2)か10未満の時は、低弾性率性
、高強度性が低下し、しかもフェノールノボラック樹脂
と、の反応性基(式(III)、(IV)のA基〉が1
分子中に1つも存在しないオルガノポリシロキサンが副
生成物として存在する可能性が大きくなるためにシリコ
ーン変性フェノール樹脂硬化剤の合成が困難となり、メ
リットか少ない。
また、Nか200より大きい場合、フェノールノボラッ
ク樹脂との混和性が低下し、十分に合成反応か進まない
ために、樹脂からシリコーンオイルがブリードし、成形
性を大きく損なう。
さらに、式(It)、(I)のすルガノポリノロキサン
において、m / Nはθ〜0.1か望ましく、0.1
を越えるとシロキサン鎖の熱運動か抑制され、ノロキサ
ン成分のTgか高温側にシフトするためにより高温域か
らてないと低応力効果か生じず、樹脂組成物の耐熱衝撃
性か低下する。
また、0.1を越えるとオルガノポリシロキサン合成の
コストが高くなってしまう。
m/NはO,1以下ならばとのような値であっても良い
か、0.05程度が望ましい。
シロキサンのTgの高温へのシフトもなく、しかも側鎖
官能基の存在のためフェノールノボラック樹脂との相溶
性が向上し、ノリコーン変性フェノール樹脂の合成が容
易となるためである。
そして5≦N/n≦50であることが望ましい。
N/nが50より大きければオルガノポリシロキサンと
フェノール樹脂との反応性か悪いため、未反応のすルガ
ノポリシロキサンのブリードがあり、成形性が低下する
。5より小さければ、合成反応時にゲル化を起こし、満
足出来るノリコーン変性フェノール樹脂か得られない。
ノリコーン変性フェノール樹脂中のノリコーン成分の含
有lは原料フェノール樹脂100重量部に対して10〜
50重量部となる範囲のものか好適に用いられる。
シリコーン成分が10重量部未満の場合は耐熱衝撃性が
不十分てあり、50重量部を越えれば反応率が低下し、
未反応のすルガノポリシロキサンかブリードし成形性か
低下する。
尚、本発明においてシリコーン変性フェノール樹脂硬化
剤は単独もしくは従来からあるフェノール系樹脂硬化剤
と混合して用いても良いか、これらの混合系においては
ランダム共重合シリコーン変性フェノール樹脂は硬化剤
系の内30重量%以上用いることか好ましく、30重量
%未満となると耐熱衝撃性が低下する。
総エポキシ成分と総フェノール成分は当量比でエポキシ
基/フェノール性水酸基か70/100〜I OO/7
0の範囲か好適である。当量比か70/100未満もし
くは+ 00/70より大きいとTgの低下、熱時硬度
の低下、耐湿性の低下等か生し、半導体封止用樹脂組成
物として不適となってしまう。
なお、通常のエボキン樹脂−フエノール樹脂系組成物に
上記ナフタレン型エポキシ化合物およびビフェニル型エ
ポキシ化合物を配合すればウスバリ特性が低下するが、
本発明のようにエポキシ樹脂−シリコーン変性フェノー
ル樹脂系組成物にナフタレン型エポキシ化合物およびビ
フェニル型エポキシ化合物を配合すれば、低分子のエポ
キシ化合物はシリコーン変性による高重合度成分とも反
応するため、ブリードしに((なり、ウスバリ特性は低
下しない。 本発明で用いられる(C)成分としての無
機充填材としては結晶性シリカ、溶融シリカ、アルミナ
、炭酸カルシウム、タルク、マイカ、ガラス繊維等が挙
げられ、これらは1種又は2種以上混合して使用される
。これらの中で特に結晶性シリカまたは溶融シリカが好
適に用いられる。
いずれの場合も、無機充填材の量は総樹脂組成物中の7
0〜90重fiLo4を占めることか必要である。70
重量06未満の場合は、熱膨張係数が増大し、低応力効
果か十分てないために耐熱衝撃性が低下し、また吸水率
か上昇することにより半田耐熱性か低下し、さらに低粘
度になりすぎるためウスバリが発生し成形性が低下する
90重量06より大きい場合は高粘度になりすぎ成形で
きなくなる。
また、本発明に使用される硬化促進剤はエポキシ基とフ
ェノール性水酸基との反応を促進するものであれば良く
、一般に封止用材料に使用されているものを広く使用す
ることができ、例えばBDMA等の第3級アミン類、イ
ミダゾール類、l、8−ジアザビシクロ〔5,4,0〕
ウンデセン−7、トリフェニルホスフィン等の有機リン
化合物等が単独もしくは2種以上混合して用いられる。
その他必要に応じてワックス類等の離型剤、ヘキサブロ
ムベンゼン、デカブロムビフェニルエーテル、三酸化ア
ンチモン等の難燃剤、カーボンプラック、ベンガラ等の
着色網、ンランカソブリング剤その地熱可塑性樹脂等を
適宜添加配合することかてきる。
本発明の半導体封止用エポキシ樹脂組成物を製造するに
は一般的な方法としては、所定の配合比の原料をミキサ
ー等によって十分に混合した後、更にロールやニーダ−
等により溶融混線処理し、次いて冷却固化させて適当な
大きさに粉砕することにより容易に製造することが出来
る。
〔実施例〕
フェノールノボラック樹脂(軟化点105℃、OH当量
105)とオルガノポリシロキサンとを溶媒中で触媒存
在下で反応させ、第−表に示すンリコーン変性フェノー
ル樹脂(イ〜チ)を得た。
実施例1 ナフタレン型エポキシ化合物    50重量部ビフェ
ニル型エポキシ化合物A   501量部臭素化ビスフ
ェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量370、軟化
点65℃、臭素含有率37%)           
  lO重量部シリコーン変性フフェノールノボラック
樹脂イ)70重量部 破砕状溶融ンリカ        800重量部三酸化
アンチモン         10重量部シランカップ
リング剤        2重量部トリフェニルホスフ
・イン       2重量部カーボンブラック   
       3重量部カルナバワックス      
    3重量部を常温で十分に混合し、更に95〜1
00℃で2軸ロールにより混練し、冷却後粉砕して成形
材料とし、これをタブレット化して半導体封止用エポキ
シ樹脂組成物を得た。
この材料をトランスファー成形機(成形条件:金型温度
175℃、硬化時間2分)を用いて成形し、得られた成
形品を175℃、8時間で後硬化し評価した。結果を第
2表に示す。
実施例2〜4 実施例1と同様にして第1表に示す組成物の半導体封止
用エポキシ樹脂組成物を得た。
この半導体封止用エポキシ樹脂組成物の評価結果を第2
表に示す。
比較例1〜11 実施例1と同様にして第1表に示す組成物の半導体封止
用エボキン樹脂組成物を得た。
この半導体封止用エポキシ樹脂組成物の評価結果を第2
表に示す。
※l 下記式(V〕て示されるオルがノポリシロキサン ※3 下記式〔■〕で示されるオルガノポリシロキサン ※4 下記式〔■〕で示されるオルガノポリシロ※2 
下記式(VI)で示されるオルガノポリシロ※5 下記
式(IX)で示されるオルガノポリシロキサン キサン ※6 下記式 () で示されるオルガノポリノロ ※9 下記式 %式%) て示されるビフェニル型工 牛サン ポキシ化合物A (エポキシ当量1 85) ※10 下記式B (XIV) て示されるビフェニル型 ※7 下記式〔X!〕 で示されるオルガノボリノ エホキシ化合物 (エポキシ当量1 55) ロキサン ※11 下記式 に示すエポキシ樹脂 西。
※8 下記式 ([) で示すナフタレン型エポキ シ化合物(エポキシ当量1 51) ※12 下記式 () に示すフェノール樹脂 評価方法 スパイラルフロー EMMI−1−66に準したスパイラルフロー測定用金
型を用い、試料を20g、成形温度175℃、成形圧カ
フ、 OM P a、成形時間2分て成型した時の成形
品の長さ。
ウスバリ長さ 得られた16pDIP成形品のベントバリの長さ。
曲げ強度、弾性率 テンシロン曲げ強さ測定機、スパン100mm、負荷速
度10111I/min 、室温における測定値。
熱膨張係数 熱膨張係数測定機、サンプルサイズ15×3×4閣、2
5℃時の熱膨張係数。
Tg(ガラス転移温度) 熱膨張係数測定機、サンプルサイズ15×34m 耐熱衝撃試験 成形品(チップサイズ36閣2 パッケージ厚2.(l
oa)20個の温度サイクルのテスト(+150〜−1
96℃)にかけ、+000サイクルのテストを行いクラ
ックの発生した個数を示す。
半田耐熱性試験 成形品(チップサイズ36閣2 パッケージ厚2.0m
+)20個について85°C185%RHの水蒸気下で
72時間処理後、240″CのIRリフロー処理を行い
、クラックの発生した個数を示す。
〔発明の効果〕
本発明のナフタレン型エポキシ化合物及びビフェニル型
エポキシ化合物、シリコーン変性フェノール樹脂硬化刑
、無機充填剤および硬化促進剤を必須成分とする半導体
封止用樹脂組成物は耐熱衝撃性に極めて優れ、低粘度で
あり、このため金線変形性および充填性に優れ、さらに
成形加工性(樹脂パリ)や半田耐熱性にも優れ、極めて
バランスのとれた樹脂組成物であるため高集積度IC封
止用樹脂組成物として非常に信頼性の高いものである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)(A)下記式〔 I 〕で示されるナフタレン型の
    エポキシ化合物と下記式〔II〕で示されるビフェニル型
    エポキシ化合物を重量比で10/90〜90/10の割
    合で混合した混合物を総エポキシ量に対し30〜100
    重量%含有するエポキシ樹脂。 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔II〕 (R:H又はCH_3) (B)下記式〔III〕および下記式〔IV〕の内の少なく
    とも1種以上のシリコーン化合物とフェノールノボラッ
    ク樹脂とを反応させて得られるシリコーン変性フェノー
    ルノボラック樹脂硬化剤を総硬化剤量に対して30〜1
    00重量%含有する硬化剤。 ▲数式、化学式、表等があります▼〔III〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔IV〕 R_1:▲数式、化学式、表等があります▼、−C_2
    H_4−▲数式、化学式、表等があります▼、C_2H
    _5R_2:▲数式、化学式、表等があります▼、−C
    _2H_4−▲数式、化学式、表等があります▼、C_
    2H_5、CH_3A:−R−COOH、−R−▲数式
    、化学式、表等があります▼、−R−▲数式、化学式、
    表等があります▼、HR:低級アルキレン ここで10≦N:l+m+n+2≦200 0≦m/N≦0.1、5≦N/n≦50 (C)総樹脂組成物量に対し70〜90重量%を占める
    無機充填材。 (D)硬化促進剤 を必須成分とする半導体封止用の樹脂組成物。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0496929A (ja) * 1990-08-14 1992-03-30 Shin Etsu Chem Co Ltd エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
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