JPH0322469B2 - - Google Patents
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- JPH0322469B2 JPH0322469B2 JP2237587A JP2237587A JPH0322469B2 JP H0322469 B2 JPH0322469 B2 JP H0322469B2 JP 2237587 A JP2237587 A JP 2237587A JP 2237587 A JP2237587 A JP 2237587A JP H0322469 B2 JPH0322469 B2 JP H0322469B2
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Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
産業上の利用分野
本発明は、Ni−めつき液に関するものであり、
特にはめつき皮膜中のＰ含有率を安定化すること
を可能ならしめ、それにより耐蝕性、硬度、接触
抵抗、外観光沢等に優れた特性を持つNi−めつ
き液皮膜の生成をもたらす新規なNi−めつき液
に関する。本発明は、コネクタ、リードスイツ
チ、等に代表される電気接点の作製に有用なNi
−めつき液を提供する。 従来技術との問題点 電解ニツケル−リン合金皮膜の作製には、次の
ようなめつき液及びめつき操作条件が提案されて
いる。 NiSO4・6H2O 240g／ NiCI2・6H2O 45 〃 H3BO3 30 〃 亜リン酸 ５ 〃 電流密度 １〜5A／dm2 液温度 55〜80℃ pH ２〜4.4 これらから得られるめつき皮膜は数wt％から十
数wt％のＰを含有するNi−合金であり、一般に、
ピンホールが少なく、耐食性が良好でしかも適度
な硬さを持つ点で、工業的に広く使用されてい
る。 生成するめつき皮膜の性状は、めつき液の成分
に依存して、広範に変化し、コネクター、リード
スイツチ等の電気接点、装飾品等の用途目的に応
じて適切な、めつき液及びめつき条件を選択する
必要がある。 しかしながら、このNi−Ｐめつき液を使用し
て上記のような接点材料を作製すると、ピンホー
ル発生耐蝕性、硬度、接触抵抗、外観光沢等の点
で十分でなく、近時益々厳しくなる製品信頼性基
準を満足しないことが新たに認識されるようにな
つた。 発明の目的 本発明は、電気接点用途向けの厳しい品質要求
に答えうる、ピンホールの少ない、厚付けの可能
な、更には耐蝕性、硬度、接触抵抗、外観光沢等
の特性に優れたNi−Ｐ合金皮膜を生成しうるNi
−めつき液を開発することを目的とする。 発明の概要 従来からのNi−めつき液を使用して生成され
るNi−Ｐ合金めつき皮膜について検討を重ねた
結果、それが耐蝕性、硬度、接触抵抗、外観光沢
等において充分でない事実の根本的原因は析出皮
膜中のＰ含有率を安定化しえないことにあること
を究明するに至つた。また、ピンホールの発生が
多いのは析出皮膜の応力減少が充分でないことも
判明した。こうした考察を通して、本発明者等
は、上記のような原因を排除しうる新たなNi−
Ｐめつき液を開発するべく広範なる試行を重ね
た。その結果、 (1)水酸化ニツケルの使用 (2)アンモニア水の使用 が非常に良好なめつき皮膜を生成しうるとの知見
を得た。 斯くして、本発明は、 硫酸ニツケル 10〜450g／ 次亜燐酸ナトリウム １〜25g／ 燐酸 10〜100g／ クエン酸ナトリウム 20〜飽和ｇ／ 水酸化ナトリウム 中和量 水酸化ニツケル １〜25g／ アンモニア水 ２〜20ml／ から成るNi−Ｐめつき液を提供する。 発明の具体的説明 本発明のNi−Ｐめつき液の各成分の作用と濃
度範囲について説明する： (1) 硫酸ニツケル 硫酸ニツケルはNiの供給成分である。硫酸
ニツケルはNiの電着に必要な10g／からめつ
き液に溶解可能な限度の450g／の範囲をと
りうるが、好ましくは100〜400g／とされ
る。100g／未満では光沢不良となりやすく
なり、また400g／を超えるとピツトやクラ
ツクの発生を起こし易くなる。 (2) 次亜燐酸ナトリウム 次亜燐酸ナトリウムが25g／を超えると付
き回り及び光沢が不良となり易くなる。1g／
未満では皮膜のＰ含有率が低下し、耐蝕性が
悪くなる。 (3) 燐酸 燐酸は主たるＰ供給源である。燐酸は10g／
未満になると析出物のＰ含有率が低下し、耐
蝕性が悪化し、逆に100g／を越えると、付
き回り不良となりまた光沢が悪化する。 (4) クエン酸ナトリウム クエン酸ナトリウムは錯化剤として働く。め
つき液の安定剤として作用し、めつき液を長期
的に安定化させるためには20g／以上が必要
である。その上限は溶解可能な飽和量として決
定される。好ましい量は50〜200g／である。 (5) 水酸化ナトリウム 過剰な燐酸の中和によつて燐酸ナトリウムと
してＰ析出率の安定化をもたらす。水酸化ナト
リウムが過剰になるとpHを高くするので中和
に必要な量に制限される。 (6) 水酸化ニツケル 燐酸と反応してニツケルを溶存せしめる。溶
存ニツケルは応力の減少によつてクラツクの無
い厚付けめつきを可能とし、また析出面のピン
ホール減少とともにＰ含有量を安定的に皮膜中
に電着させるに効果的である。水酸化ニツケル
は1g／以下では効果がなく、逆に25g／よ
り高くなると溶解しなくなり、ピツト発生を誘
起しやすい。 (7) アンモニア水 Ｐの析出を安定化するのにきわめて効果的で
あり、光沢を安定して維持すると共に、硬度、
耐蝕性、接触抵抗等を所要水準に維持する。ア
ンモニア水は２ml／未満では所定の効果を発
現せず、例えば光沢等がバラツキやすくなり、
逆に20ml／を超えるとpHを高くし、逆効果
となり、光沢が悪化する。 本発明のNi−Ｐめつき液の使用条件及び使用
方法は次の通りである。 pH 1.0〜6.5好ましくは2.6〜3.2 液温度 30〜80℃好ましくは50〜60℃ 陰極電流密度
0.5〜20A／dm2好ましくは1.5〜2.0A／dm2 本発明めつき液はクラツクのない厚付けめつき
を可能とするので接点用めつきとして殊に適して
いる。 本発明により生成されるNi−Ｐめつき皮膜は、
Ｐ含有率を安定化され、また応力除去された結果
として、ピンホールやクラツクの無い、耐蝕性、
硬度、接触抵抗及び外観光沢特性に優れたもので
ある。苛酷な環境で使用用される接触部、摺動部
等を具備するコネクタ、リードスイツチ等の電気
接点の作製に有益である。 実施例 １ Ee−Ni合金製コネクタ材料を次の組成のめつ
き液及びめつき条件で電解して3μm厚のNi−Ｐ
合金皮膜を形成した：
特にはめつき皮膜中のＰ含有率を安定化すること
を可能ならしめ、それにより耐蝕性、硬度、接触
抵抗、外観光沢等に優れた特性を持つNi−めつ
き液皮膜の生成をもたらす新規なNi−めつき液
に関する。本発明は、コネクタ、リードスイツ
チ、等に代表される電気接点の作製に有用なNi
−めつき液を提供する。 従来技術との問題点 電解ニツケル−リン合金皮膜の作製には、次の
ようなめつき液及びめつき操作条件が提案されて
いる。 NiSO4・6H2O 240g／ NiCI2・6H2O 45 〃 H3BO3 30 〃 亜リン酸 ５ 〃 電流密度 １〜5A／dm2 液温度 55〜80℃ pH ２〜4.4 これらから得られるめつき皮膜は数wt％から十
数wt％のＰを含有するNi−合金であり、一般に、
ピンホールが少なく、耐食性が良好でしかも適度
な硬さを持つ点で、工業的に広く使用されてい
る。 生成するめつき皮膜の性状は、めつき液の成分
に依存して、広範に変化し、コネクター、リード
スイツチ等の電気接点、装飾品等の用途目的に応
じて適切な、めつき液及びめつき条件を選択する
必要がある。 しかしながら、このNi−Ｐめつき液を使用し
て上記のような接点材料を作製すると、ピンホー
ル発生耐蝕性、硬度、接触抵抗、外観光沢等の点
で十分でなく、近時益々厳しくなる製品信頼性基
準を満足しないことが新たに認識されるようにな
つた。 発明の目的 本発明は、電気接点用途向けの厳しい品質要求
に答えうる、ピンホールの少ない、厚付けの可能
な、更には耐蝕性、硬度、接触抵抗、外観光沢等
の特性に優れたNi−Ｐ合金皮膜を生成しうるNi
−めつき液を開発することを目的とする。 発明の概要 従来からのNi−めつき液を使用して生成され
るNi−Ｐ合金めつき皮膜について検討を重ねた
結果、それが耐蝕性、硬度、接触抵抗、外観光沢
等において充分でない事実の根本的原因は析出皮
膜中のＰ含有率を安定化しえないことにあること
を究明するに至つた。また、ピンホールの発生が
多いのは析出皮膜の応力減少が充分でないことも
判明した。こうした考察を通して、本発明者等
は、上記のような原因を排除しうる新たなNi−
Ｐめつき液を開発するべく広範なる試行を重ね
た。その結果、 (1)水酸化ニツケルの使用 (2)アンモニア水の使用 が非常に良好なめつき皮膜を生成しうるとの知見
を得た。 斯くして、本発明は、 硫酸ニツケル 10〜450g／ 次亜燐酸ナトリウム １〜25g／ 燐酸 10〜100g／ クエン酸ナトリウム 20〜飽和ｇ／ 水酸化ナトリウム 中和量 水酸化ニツケル １〜25g／ アンモニア水 ２〜20ml／ から成るNi−Ｐめつき液を提供する。 発明の具体的説明 本発明のNi−Ｐめつき液の各成分の作用と濃
度範囲について説明する： (1) 硫酸ニツケル 硫酸ニツケルはNiの供給成分である。硫酸
ニツケルはNiの電着に必要な10g／からめつ
き液に溶解可能な限度の450g／の範囲をと
りうるが、好ましくは100〜400g／とされ
る。100g／未満では光沢不良となりやすく
なり、また400g／を超えるとピツトやクラ
ツクの発生を起こし易くなる。 (2) 次亜燐酸ナトリウム 次亜燐酸ナトリウムが25g／を超えると付
き回り及び光沢が不良となり易くなる。1g／
未満では皮膜のＰ含有率が低下し、耐蝕性が
悪くなる。 (3) 燐酸 燐酸は主たるＰ供給源である。燐酸は10g／
未満になると析出物のＰ含有率が低下し、耐
蝕性が悪化し、逆に100g／を越えると、付
き回り不良となりまた光沢が悪化する。 (4) クエン酸ナトリウム クエン酸ナトリウムは錯化剤として働く。め
つき液の安定剤として作用し、めつき液を長期
的に安定化させるためには20g／以上が必要
である。その上限は溶解可能な飽和量として決
定される。好ましい量は50〜200g／である。 (5) 水酸化ナトリウム 過剰な燐酸の中和によつて燐酸ナトリウムと
してＰ析出率の安定化をもたらす。水酸化ナト
リウムが過剰になるとpHを高くするので中和
に必要な量に制限される。 (6) 水酸化ニツケル 燐酸と反応してニツケルを溶存せしめる。溶
存ニツケルは応力の減少によつてクラツクの無
い厚付けめつきを可能とし、また析出面のピン
ホール減少とともにＰ含有量を安定的に皮膜中
に電着させるに効果的である。水酸化ニツケル
は1g／以下では効果がなく、逆に25g／よ
り高くなると溶解しなくなり、ピツト発生を誘
起しやすい。 (7) アンモニア水 Ｐの析出を安定化するのにきわめて効果的で
あり、光沢を安定して維持すると共に、硬度、
耐蝕性、接触抵抗等を所要水準に維持する。ア
ンモニア水は２ml／未満では所定の効果を発
現せず、例えば光沢等がバラツキやすくなり、
逆に20ml／を超えるとpHを高くし、逆効果
となり、光沢が悪化する。 本発明のNi−Ｐめつき液の使用条件及び使用
方法は次の通りである。 pH 1.0〜6.5好ましくは2.6〜3.2 液温度 30〜80℃好ましくは50〜60℃ 陰極電流密度
0.5〜20A／dm2好ましくは1.5〜2.0A／dm2 本発明めつき液はクラツクのない厚付けめつき
を可能とするので接点用めつきとして殊に適して
いる。 本発明により生成されるNi−Ｐめつき皮膜は、
Ｐ含有率を安定化され、また応力除去された結果
として、ピンホールやクラツクの無い、耐蝕性、
硬度、接触抵抗及び外観光沢特性に優れたもので
ある。苛酷な環境で使用用される接触部、摺動部
等を具備するコネクタ、リードスイツチ等の電気
接点の作製に有益である。 実施例 １ Ee−Ni合金製コネクタ材料を次の組成のめつ
き液及びめつき条件で電解して3μm厚のNi−Ｐ
合金皮膜を形成した：
【表】
pH 2.6
液温度 55℃
電流密度 2A／dm2
めつき時間 30分
得られためつき皮膜の特性は次の通りであつ
た： Ｐ含有率 14.5wt％ 耐蝕性
濃硝酸液に24時間、室温にて浸漬しても外観の変
化はなかつた 硬度 423HV（G10g） 接触抵抗 35mΩ（10mA×10g荷重） 光沢 鏡面光沢でクラツクなし いずれも非常に良好であり、許容水準を充分に満
たしている。 実施例 ２ Fe−Ni合金製コネクタ材料を次の組成のめつ
き液及びメツキ条件で電解して1.5μ厚のNi−Ｐ
合金皮膜を形成した。
た： Ｐ含有率 14.5wt％ 耐蝕性
濃硝酸液に24時間、室温にて浸漬しても外観の変
化はなかつた 硬度 423HV（G10g） 接触抵抗 35mΩ（10mA×10g荷重） 光沢 鏡面光沢でクラツクなし いずれも非常に良好であり、許容水準を充分に満
たしている。 実施例 ２ Fe−Ni合金製コネクタ材料を次の組成のめつ
き液及びメツキ条件で電解して1.5μ厚のNi−Ｐ
合金皮膜を形成した。
【表】
【表】
pH 3.0
液温度 52℃
電流密度 1.5A／dm2
時間 22分
得られためつき皮膜の特性は次の通りであつ
た。 Ｐ含有率 15.2wt％ 耐蝕性
濃硝酸液に48時間、室温にて、浸漬しても、外観
変化なく耐蝕性に優れたものであつた。ちなみ
に、従来技術の項で説明した提示例液で得られた
めつき物は、濃硝酸液に浸漬して、15分後には、
ガス発生しながら腐蝕された。 硬度 438HV（G5g） 接触抵抗 31mΩ 光沢 鏡面光沢でクラツクなし 次に、多数のサンプルを用意して50回以上のめ
つき試験を行つたが、いずれのめつき皮膜も良好
な品質を保持した。 発明の効果 実施例に示される通り、本めつき液により生成
されるNi−Ｐめつき皮膜はコネクタ、リードス
イツチ等の電気接点用途に殊に優れ、高品質、高
信頼性の下でこれら部品の作製に寄与する。
た。 Ｐ含有率 15.2wt％ 耐蝕性
濃硝酸液に48時間、室温にて、浸漬しても、外観
変化なく耐蝕性に優れたものであつた。ちなみ
に、従来技術の項で説明した提示例液で得られた
めつき物は、濃硝酸液に浸漬して、15分後には、
ガス発生しながら腐蝕された。 硬度 438HV（G5g） 接触抵抗 31mΩ 光沢 鏡面光沢でクラツクなし 次に、多数のサンプルを用意して50回以上のめ
つき試験を行つたが、いずれのめつき皮膜も良好
な品質を保持した。 発明の効果 実施例に示される通り、本めつき液により生成
されるNi−Ｐめつき皮膜はコネクタ、リードス
イツチ等の電気接点用途に殊に優れ、高品質、高
信頼性の下でこれら部品の作製に寄与する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 硫酸ニツケル 10〜450g／ 次亜燐酸ナトリウム １〜25g／ 燐酸 10〜100g／ クエン酸ナトリウム 20〜飽和ｇ／ 水酸化ナトリウム 中和量 水酸化ニツケル １〜25g／ アンモニア水 ２〜20ml／ から成るNi−Ｐめつき液。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2237587A JPS63192889A (ja) | 1987-02-04 | 1987-02-04 | Ｎｉ−Ｐめつき液 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2237587A JPS63192889A (ja) | 1987-02-04 | 1987-02-04 | Ｎｉ−Ｐめつき液 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63192889A JPS63192889A (ja) | 1988-08-10 |
| JPH0322469B2 true JPH0322469B2 (ja) | 1991-03-26 |
Family
ID=12080891
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2237587A Granted JPS63192889A (ja) | 1987-02-04 | 1987-02-04 | Ｎｉ−Ｐめつき液 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63192889A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4519727B2 (ja) * | 2005-07-13 | 2010-08-04 | 株式会社神戸製鋼所 | 耐摩耗性チタン材 |
| CN103582722B (zh) * | 2011-06-03 | 2016-11-23 | 松下电器产业株式会社 | 电接触部件 |
| CN112064073A (zh) * | 2020-08-04 | 2020-12-11 | 深圳市生利科技有限公司 | 一种镍合金电镀液及其应用 |
-
1987
- 1987-02-04 JP JP2237587A patent/JPS63192889A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63192889A (ja) | 1988-08-10 |
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