JPH0322532B2 - - Google Patents
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- JPH0322532B2 JPH0322532B2 JP10699786A JP10699786A JPH0322532B2 JP H0322532 B2 JPH0322532 B2 JP H0322532B2 JP 10699786 A JP10699786 A JP 10699786A JP 10699786 A JP10699786 A JP 10699786A JP H0322532 B2 JPH0322532 B2 JP H0322532B2
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- JP
- Japan
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- fluidized bed
- temperature
- freeboard
- ash
- combustion method
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- Fluidized-Bed Combustion And Resonant Combustion (AREA)
- Crucibles And Fluidized-Bed Furnaces (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、流動層で固体燃料を燃焼して蒸気を
取り出すようにした流動層燃焼ボイラにおける新
規な燃焼方法、詳しくは、流動層から飛散した未
燃石炭を含むダストを回収して、流動層に戻すよ
うにした、いわゆる循環型流動層ボイラにおい
て、燃料比の高い石炭、たとえば無煙炭あるいは
燃焼性の悪いオイルコークスでも、高い燃焼効率
が得られる燃焼方法に関するものである。
取り出すようにした流動層燃焼ボイラにおける新
規な燃焼方法、詳しくは、流動層から飛散した未
燃石炭を含むダストを回収して、流動層に戻すよ
うにした、いわゆる循環型流動層ボイラにおい
て、燃料比の高い石炭、たとえば無煙炭あるいは
燃焼性の悪いオイルコークスでも、高い燃焼効率
が得られる燃焼方法に関するものである。
循環型流動層ボイラは、次の2つの方式に分類
される。第1の方式は、流動層の本体下部に濃厚
な粒子層が存在しない型式で、ガス流速として7
〜8m/sが採用され、一般的に高速循環流動層
方式と呼ばれている。第2の方式は、流動層本体
下部に、明確な濃厚粒子層を有する、いわゆるベ
ツド(流動層)が存在するバブリング型流動層方
式である。両者は、装置高さ方向の粒子濃度分布
に明確な相違があり、第3図に粒子濃度分布を示
した。
される。第1の方式は、流動層の本体下部に濃厚
な粒子層が存在しない型式で、ガス流速として7
〜8m/sが採用され、一般的に高速循環流動層
方式と呼ばれている。第2の方式は、流動層本体
下部に、明確な濃厚粒子層を有する、いわゆるベ
ツド(流動層)が存在するバブリング型流動層方
式である。両者は、装置高さ方向の粒子濃度分布
に明確な相違があり、第3図に粒子濃度分布を示
した。
第3図は、空気分散板からの高さと粒子濃度の
関係を示したもので、図中のa曲線は、高速循環
流動層方式の粒子濃度を示したもので、装置の上
部に行くに従つて、ほぼ直線的に粒子濃度が減少
する。一方、図中のb曲線は、バブリング型流動
層方式について示したもので、装置下部では高速
循環流動層方式よりも粒子濃度の高い1〜2m高
さのほぼ均一粒子濃度域が存在し、いわゆるベツ
ドが存在する。このベツドを過ぎると、急激に粒
子濃度が減少していく。
関係を示したもので、図中のa曲線は、高速循環
流動層方式の粒子濃度を示したもので、装置の上
部に行くに従つて、ほぼ直線的に粒子濃度が減少
する。一方、図中のb曲線は、バブリング型流動
層方式について示したもので、装置下部では高速
循環流動層方式よりも粒子濃度の高い1〜2m高
さのほぼ均一粒子濃度域が存在し、いわゆるベツ
ドが存在する。このベツドを過ぎると、急激に粒
子濃度が減少していく。
流動層に固体燃料、たとえば石炭を供給する
と、燃焼の過程で微細化され、灰または未燃焼石
炭(チヤー)はガス流に伴われて流動層から飛散
し、後部伝熱面に入り冷却される。
と、燃焼の過程で微細化され、灰または未燃焼石
炭(チヤー)はガス流に伴われて流動層から飛散
し、後部伝熱面に入り冷却される。
上記の従来の流動層は、熱回収のために層内に
伝熱管を設けるのが一般的である。
伝熱管を設けるのが一般的である。
しかし流動層内部に伝熱管を有する流動層は、
伝熱管の腐食、エロージヨンによる減肉、負
荷が下がると層温度が下がり、とくに炉内脱硫を
する場合には、負荷の範囲は100〜70%程度と狭
い、などの欠点がある。
伝熱管の腐食、エロージヨンによる減肉、負
荷が下がると層温度が下がり、とくに炉内脱硫を
する場合には、負荷の範囲は100〜70%程度と狭
い、などの欠点がある。
また流動層の温度は、水冷壁構造としても、一
般炭を燃焼さすと、通常の燃焼状態においては約
1500℃以上になる。流動層温度は石炭の灰の融点
から制限され、1100℃内外が操作限界温度とな
り、さらに炉内脱硫をCaCO3で実施する場合に
は、脱硫に最適温度があることから、常圧流動層
においては、800〜900℃に制御する必要がある。
般炭を燃焼さすと、通常の燃焼状態においては約
1500℃以上になる。流動層温度は石炭の灰の融点
から制限され、1100℃内外が操作限界温度とな
り、さらに炉内脱硫をCaCO3で実施する場合に
は、脱硫に最適温度があることから、常圧流動層
においては、800〜900℃に制御する必要がある。
本発明は上記の点に鑑みなされたもので、収熱
後の500℃以下の中温灰(炉内脱硫を実施する場
合は、飛散した脱硫剤も含まれる)を流動層に戻
すことにより、流動層温度を所定の温度に保つこ
とができ、またフリーボードを積極的に反応領域
として使用することにより、フリーボード温度を
高温に保ち、必要な反応時間を確保して、燃焼反
応、脱硫反応およびNOx低減反応を促進するよ
うにして、燃料比の高い石炭、たとえば無煙炭、
燃焼性の悪いオイルコークスでも、高い燃焼効率
で燃焼することができる方法の提供を目的とする
ものである。
後の500℃以下の中温灰(炉内脱硫を実施する場
合は、飛散した脱硫剤も含まれる)を流動層に戻
すことにより、流動層温度を所定の温度に保つこ
とができ、またフリーボードを積極的に反応領域
として使用することにより、フリーボード温度を
高温に保ち、必要な反応時間を確保して、燃焼反
応、脱硫反応およびNOx低減反応を促進するよ
うにして、燃料比の高い石炭、たとえば無煙炭、
燃焼性の悪いオイルコークスでも、高い燃焼効率
で燃焼することができる方法の提供を目的とする
ものである。
本発明の流動層燃焼方法は、流動層で固体燃料
を燃焼する方法において、流動層内部に伝熱管を
設けずに、フリーボード出口ガス温度を流動層温
度〜1000℃にし、フリーボードの平均ガス滞留時
間を2秒以上とし、フリーボード出口ガスを後部
伝熱部に導いて後部伝熱部出口ガス温度が500℃
以下となるように収熱した後、集じん器に導いて
集じんし、収熱後の500℃以下の中温灰の大部分
を流動層の上側または上部に循環し、中温灰の残
部を系外に排出し、流動層温度を中温灰の循環量
または中温灰の排出量で制御することを特徴とし
ている。
を燃焼する方法において、流動層内部に伝熱管を
設けずに、フリーボード出口ガス温度を流動層温
度〜1000℃にし、フリーボードの平均ガス滞留時
間を2秒以上とし、フリーボード出口ガスを後部
伝熱部に導いて後部伝熱部出口ガス温度が500℃
以下となるように収熱した後、集じん器に導いて
集じんし、収熱後の500℃以下の中温灰の大部分
を流動層の上側または上部に循環し、中温灰の残
部を系外に排出し、流動層温度を中温灰の循環量
または中温灰の排出量で制御することを特徴とし
ている。
第2図は本発明の方法を実施する装置を簡略化
して示したものである。第2図において、1は流
動層燃焼炉本体、2は後部伝熱部、3は集じん器
で、供給された石炭中の灰、脱硫剤の内、後部伝
熱部2および集じん器3で捕集される粒径のもの
は系内を循環し、循環量は集じん器の性能によ
る。循環量が不足する場合には、さらに後流の空
気予熱器捕集灰、場合によつては最終集じん器捕
集灰も循環する必要がある。空気予熱器捕集灰ま
たは/および最終集じん器捕集灰の量をW3で示
している。いずれにしても、保有される循環粒子
量(保有循環粒子量)によつて、必然的に循環量
W1が定まる。保有循環粒子量の増減は、循環系
統から循環粒子を系外排出する排出量を変えるこ
とによつて達成できる。今、流動層温度が低い場
合、系外抜出し量を増加させると、保有循環粒子
量が減少して循環粒子量が減少し、流動温度が上
昇する。逆に流動層温度が高い場合には、系外排
出量を減少さすか、空気予熱器捕集灰または/お
よび最終集じん器捕集灰を供給することによつて
温度を低下さすことができる。W2は抜出し量を
示している。
して示したものである。第2図において、1は流
動層燃焼炉本体、2は後部伝熱部、3は集じん器
で、供給された石炭中の灰、脱硫剤の内、後部伝
熱部2および集じん器3で捕集される粒径のもの
は系内を循環し、循環量は集じん器の性能によ
る。循環量が不足する場合には、さらに後流の空
気予熱器捕集灰、場合によつては最終集じん器捕
集灰も循環する必要がある。空気予熱器捕集灰ま
たは/および最終集じん器捕集灰の量をW3で示
している。いずれにしても、保有される循環粒子
量(保有循環粒子量)によつて、必然的に循環量
W1が定まる。保有循環粒子量の増減は、循環系
統から循環粒子を系外排出する排出量を変えるこ
とによつて達成できる。今、流動層温度が低い場
合、系外抜出し量を増加させると、保有循環粒子
量が減少して循環粒子量が減少し、流動温度が上
昇する。逆に流動層温度が高い場合には、系外排
出量を減少さすか、空気予熱器捕集灰または/お
よび最終集じん器捕集灰を供給することによつて
温度を低下さすことができる。W2は抜出し量を
示している。
流動層を有する、いわゆるバブリング型の流動
層燃焼炉においては、流動層内で大部分燃焼する
が、若干のチヤーが飛散するため、フリーボード
での燃焼条件が重要である。第4図はその概要を
示したもので、チヤーはフリーボード温度が高く
なる程少なくなるが、NOx、SO2は1000℃を越
えると増加する傾向にある。また1000℃を越える
と、石炭燃焼の場合は、灰の融点に近くなり、フ
リーボードに灰、脱硫剤のコーチング(付着)が
発生するため、1000℃以下に制限する必要があ
る。したがつて、フリーボード温度は、流動層温
度〜1000℃、好適には850〜950℃が良いことがわ
かる。
層燃焼炉においては、流動層内で大部分燃焼する
が、若干のチヤーが飛散するため、フリーボード
での燃焼条件が重要である。第4図はその概要を
示したもので、チヤーはフリーボード温度が高く
なる程少なくなるが、NOx、SO2は1000℃を越
えると増加する傾向にある。また1000℃を越える
と、石炭燃焼の場合は、灰の融点に近くなり、フ
リーボードに灰、脱硫剤のコーチング(付着)が
発生するため、1000℃以下に制限する必要があ
る。したがつて、フリーボード温度は、流動層温
度〜1000℃、好適には850〜950℃が良いことがわ
かる。
水冷壁構造で温度が低下する場合には、断熱材
で水冷壁のカバーを行う。また耐火断熱構造の場
合で1000℃を越える場合には、伝面を設置する必
要がある。
で水冷壁のカバーを行う。また耐火断熱構造の場
合で1000℃を越える場合には、伝面を設置する必
要がある。
本発明の方法においては、フリーボードでの平
均ガス滞留時間は2秒以上、好適には2.5〜3.5秒
に限定される。2秒未満の場合は、未燃分が燃焼
しないので燃焼効率が悪く、一方、3.5秒を越え
る場合は、燃焼効率は良くなるが、装置が高くな
つて設備費が嵩むことになるからである。
均ガス滞留時間は2秒以上、好適には2.5〜3.5秒
に限定される。2秒未満の場合は、未燃分が燃焼
しないので燃焼効率が悪く、一方、3.5秒を越え
る場合は、燃焼効率は良くなるが、装置が高くな
つて設備費が嵩むことになるからである。
流動層に戻す冷却された灰の量は、流動層設定
温度と灰の温度から定まり、循環比Rを、 循環比R=流動層に戻す灰量(Kg/h)/流動層に供
給する石炭量(Kg/h) と定義すると、循環比と層温度との関係は第5図
に示すようになる。Trは灰の温度を示している。
温度と灰の温度から定まり、循環比Rを、 循環比R=流動層に戻す灰量(Kg/h)/流動層に供
給する石炭量(Kg/h) と定義すると、循環比と層温度との関係は第5図
に示すようになる。Trは灰の温度を示している。
今、流動層温度を850℃にしたい場合は、灰の
温度が100℃の場合は循環比=14、灰の温度が400
℃の場合は循環比=21となることが示されてい
る。
温度が100℃の場合は循環比=14、灰の温度が400
℃の場合は循環比=21となることが示されてい
る。
このように、飛散した灰を流動層に戻す手段を
用いた流動層の温度コントロール方法を用いる
と、ボイラ負荷が低下した場合でも温度コントロ
ールが可能であり、低負荷においても安定した層
温度に設定することができる。
用いた流動層の温度コントロール方法を用いる
と、ボイラ負荷が低下した場合でも温度コントロ
ールが可能であり、低負荷においても安定した層
温度に設定することができる。
本発明の方法における中温灰とは、500℃以下、
好適には400〜300℃の灰を指称する。前述の高速
循環流動層ボイラでは、900℃前後の高温灰を循
環しており、この点において差異を有している。
好適には400〜300℃の灰を指称する。前述の高速
循環流動層ボイラでは、900℃前後の高温灰を循
環しており、この点において差異を有している。
本発明の方法において、上記のように限定する
のは、灰温度が300℃未満の場合は、ベツト温度
を所定の温度にするのに、循環量が少なくて性能
が低下し、一方、灰温度が500℃を越える場合は、
ベツド温度を所定の温度にするのに、循環量が多
すぎて性能が良くなるが、循環動力費が増え、か
つ伝面の損傷が激しくなるなどの不利な点が生じ
るからである。
のは、灰温度が300℃未満の場合は、ベツト温度
を所定の温度にするのに、循環量が少なくて性能
が低下し、一方、灰温度が500℃を越える場合は、
ベツド温度を所定の温度にするのに、循環量が多
すぎて性能が良くなるが、循環動力費が増え、か
つ伝面の損傷が激しくなるなどの不利な点が生じ
るからである。
以下、第1図を参照して、本発明の好適な実施
例を例示的に説明する。ただしこの実施例におい
て、とくに特定的な記載がないかぎりは、本発明
の範囲を限定するものではなく、単なる説明例に
すぎない。流動層4の内部に伝熱管を設けずに、
フリーボード5の平均ガス滞留時間を2秒以上、
好適には2.5〜3.5秒として、フリーボード5の出
口ガス温度を流動層温度〜1000℃、好適には850
〜950℃とする。フリーボード5の出口ガスを後
部伝熱部2に導いて、後部伝熱部出口ガス温度が
500℃以下、好適には400〜300℃となるように、
蒸気を発生させた後、このガスを集じん器3に導
いて集じんし、後部伝熱部2および集じん器3で
捕集された500℃以下、好適には400〜300℃の中
温灰の大部分を循環ライン6により流動層4の上
側または上部へ循環し、中温灰の残部を排出ライ
ン7により系外に排出し、流動層温度を中温灰の
循環量または中温灰の排出量で制御する。8は空
気分散板9は風箱、10は1次空気供給管、11
は2次空気供給管、12はダンパー、13は排出
機である。
例を例示的に説明する。ただしこの実施例におい
て、とくに特定的な記載がないかぎりは、本発明
の範囲を限定するものではなく、単なる説明例に
すぎない。流動層4の内部に伝熱管を設けずに、
フリーボード5の平均ガス滞留時間を2秒以上、
好適には2.5〜3.5秒として、フリーボード5の出
口ガス温度を流動層温度〜1000℃、好適には850
〜950℃とする。フリーボード5の出口ガスを後
部伝熱部2に導いて、後部伝熱部出口ガス温度が
500℃以下、好適には400〜300℃となるように、
蒸気を発生させた後、このガスを集じん器3に導
いて集じんし、後部伝熱部2および集じん器3で
捕集された500℃以下、好適には400〜300℃の中
温灰の大部分を循環ライン6により流動層4の上
側または上部へ循環し、中温灰の残部を排出ライ
ン7により系外に排出し、流動層温度を中温灰の
循環量または中温灰の排出量で制御する。8は空
気分散板9は風箱、10は1次空気供給管、11
は2次空気供給管、12はダンパー、13は排出
機である。
流動層燃焼炉本体1が耐火断熱材構造である場
合には、100%負荷の循環比とほぼ同等の循環比
で流動層温度は所定の温度に保持できる。水冷壁
構造の場合には、水冷壁による収熱割合が若干増
加するため、若干循環比を少なくすることで所定
の流動層温度に設定することができる。
合には、100%負荷の循環比とほぼ同等の循環比
で流動層温度は所定の温度に保持できる。水冷壁
構造の場合には、水冷壁による収熱割合が若干増
加するため、若干循環比を少なくすることで所定
の流動層温度に設定することができる。
また少なくとも静止層高よりも高い位置から給
炭し、かつ給炭位置よりも高い位置から2次空気
を供給するようにするのが好適である。
炭し、かつ給炭位置よりも高い位置から2次空気
を供給するようにするのが好適である。
循環灰の戻す位置をフリーボード5の下部で静
止層高より高い位置とフリーボード5の中央部な
ど複数にすることによつて、全体の温度を所定の
温度にすることができる。
止層高より高い位置とフリーボード5の中央部な
ど複数にすることによつて、全体の温度を所定の
温度にすることができる。
また2段燃焼、炉内脱硫を行う場合も適用され
ることは勿論である。
ることは勿論である。
前記の集じん器3の下流に第2の後部伝熱部1
4を設け、ここでさらに蒸気を発生させた後、空
気予熱器15で燃焼用空気を予熱し、その後、最
終集じん器16で集じんするように構成する場合
もある。この場合、第2の後部伝熱部14、空気
予熱器15、最終集じん器16の捕集灰の大部分
を流動層4内に循環し、残りを系外に排出するよ
うにする。17は空気フアンである。
4を設け、ここでさらに蒸気を発生させた後、空
気予熱器15で燃焼用空気を予熱し、その後、最
終集じん器16で集じんするように構成する場合
もある。この場合、第2の後部伝熱部14、空気
予熱器15、最終集じん器16の捕集灰の大部分
を流動層4内に循環し、残りを系外に排出するよ
うにする。17は空気フアンである。
またフリーボード5が水冷璧構造で、フリーボ
ード出口ガス温度が層温度よりも低下するとき
は、フリーボード5を断熱材で内張りして、フリ
ーボード出口ガス温度が流動層温度〜1000℃にな
るようにし、一方、フリーボード5が耐火断熱材
構造で、1000℃を越える場合には、フリーボード
に伝熱管を配して、フリーボード出口ガス温度が
流動層温度〜1000℃になるようにする。
ード出口ガス温度が層温度よりも低下するとき
は、フリーボード5を断熱材で内張りして、フリ
ーボード出口ガス温度が流動層温度〜1000℃にな
るようにし、一方、フリーボード5が耐火断熱材
構造で、1000℃を越える場合には、フリーボード
に伝熱管を配して、フリーボード出口ガス温度が
流動層温度〜1000℃になるようにする。
本発明は上記のように構成されているので、つ
ぎのような効果を有している。
ぎのような効果を有している。
(1) 後部伝熱部の出口ガスを500℃以下に冷却す
るので、ガスの体積が小さくなり、後流の集じ
ん器が小型となり、さらに集じん効率を上げる
ことができる。また後燃焼しないので、クリン
カートラブルやコーチングトラブルが生じなく
なり、長期間の連続運転を継続することができ
る。さらに集じん器を耐火、断熱構造とする必
要はなく、鋼板製のものが使用できるので、コ
ストの低減を図ることができる。
るので、ガスの体積が小さくなり、後流の集じ
ん器が小型となり、さらに集じん効率を上げる
ことができる。また後燃焼しないので、クリン
カートラブルやコーチングトラブルが生じなく
なり、長期間の連続運転を継続することができ
る。さらに集じん器を耐火、断熱構造とする必
要はなく、鋼板製のものが使用できるので、コ
ストの低減を図ることができる。
(2) 上込め方式の給炭方法は、燃焼効率の低下、
NOx、SO2の増加となるため、従来方式では
採用に制限があつたが、本発明の方法では、上
込め方式を採用しても、チヤー、脱硫剤を含む
灰を循環することと、フリーボードの温度を高
く保つことによつて、NOx、SO2を低下させ
ることができ、十分性能が確保できる。また循
環灰も背圧の少ない流動層の上側または上部へ
戻すので、十分性能が確保できるし、エメルギ
ーロスも少なくなる。
NOx、SO2の増加となるため、従来方式では
採用に制限があつたが、本発明の方法では、上
込め方式を採用しても、チヤー、脱硫剤を含む
灰を循環することと、フリーボードの温度を高
く保つことによつて、NOx、SO2を低下させ
ることができ、十分性能が確保できる。また循
環灰も背圧の少ない流動層の上側または上部へ
戻すので、十分性能が確保できるし、エメルギ
ーロスも少なくなる。
第1図は本発明の流動層燃焼方法を実施する装
置の一例を示すフローシート、第2図は本発明の
方法を実施する装置を簡略化して示したフローシ
ート、第3図は高速循環流動層方式およびバブリ
ング型流動層方式の粒子濃度と空気分散板からの
高さとの関係を示すグラフ、第4図はフリーボー
ド温度と、チヤー、NOx、SO2濃度との関係を
示すグラフ、第5図は灰温度を変化させた場合の
循環比と層温度との関係を示すグラフである。 1……流動層燃焼炉本体、2……後部伝熱部、
3……集じん器、4……流動層、5……フリーボ
ード、6……循環ライン、7……排出ライン、8
……空気分散板、9……風箱、10……1次空気
供給管、11……2次空気供給管、12……ダン
パー、13……排出機、14……第2の後部伝熱
部、15……空気予熱器、16……最終集じん
器、17……空気フアン。
置の一例を示すフローシート、第2図は本発明の
方法を実施する装置を簡略化して示したフローシ
ート、第3図は高速循環流動層方式およびバブリ
ング型流動層方式の粒子濃度と空気分散板からの
高さとの関係を示すグラフ、第4図はフリーボー
ド温度と、チヤー、NOx、SO2濃度との関係を
示すグラフ、第5図は灰温度を変化させた場合の
循環比と層温度との関係を示すグラフである。 1……流動層燃焼炉本体、2……後部伝熱部、
3……集じん器、4……流動層、5……フリーボ
ード、6……循環ライン、7……排出ライン、8
……空気分散板、9……風箱、10……1次空気
供給管、11……2次空気供給管、12……ダン
パー、13……排出機、14……第2の後部伝熱
部、15……空気予熱器、16……最終集じん
器、17……空気フアン。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 流動層で固体燃料を燃焼する方法において、
流動層内部に伝熱管を設けずに、フリーボード出
口ガス温度を流動層温度〜1000℃にし、フリーボ
ードの平均ガス滞留時間を2秒以上とし、フリー
ボード出口ガスを後部伝熱部に導いて後部伝熱部
出口ガス温度が500℃以下となるように収熱した
後、集じん器に導いて集じんし、収熱後の500℃
以下の中温灰の大部分を流動層の上側または上部
に循環し、中温灰の残部を系外に排出し、流動層
温度を中温灰の循環量または中温灰の排出量で制
御することを特徴とする流動層燃焼方法。 2 フリーボードが水冷壁構造で、フリーボード
出口ガス温度が層温度よりも低下するときは、フ
リーボードを断熱材で内張りして、フリーボード
出口ガス温度が流動層温度〜1000℃になるように
する特許請求の範囲第1項記載の流動層燃焼方
法。 3 フリーボードが耐火断熱材構造で、1000℃を
越える場合には、フリーボードに伝熱管を配し
て、フリーボード出口ガス温度が流動層温度〜
1000℃になるようにする特許請求の範囲第1項記
載の流動層燃焼方法。 4 少なくとも静止層高よりも高い位置から給炭
し、かつ給炭位置よりも高い位置から2次空気を
供給する特許請求の範囲第1項記載の流動層燃焼
方法。 5 灰を静止層高よりも高い位置に戻す特許請求
の範囲第1項記載の流動層燃焼方法。 6 空気予熱器、最終集じん器からの灰も流動層
に戻す特許請求の範囲第1項記載の流動層燃焼方
法。 7 2段燃焼を行う特許請求の範囲第1項記載の
流動層燃焼方法。 8 炉内脱硫を行う特許請求の範囲第1項記載の
流動層燃焼方法。 9 集じん器についで第2の後部伝熱部を設けて
熱回収する特許請求の範囲第1項記載の流動層燃
焼方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10699786A JPS62261808A (ja) | 1986-05-09 | 1986-05-09 | 流動層燃焼方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10699786A JPS62261808A (ja) | 1986-05-09 | 1986-05-09 | 流動層燃焼方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62261808A JPS62261808A (ja) | 1987-11-14 |
| JPH0322532B2 true JPH0322532B2 (ja) | 1991-03-27 |
Family
ID=14447858
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10699786A Granted JPS62261808A (ja) | 1986-05-09 | 1986-05-09 | 流動層燃焼方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62261808A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH076609B2 (ja) * | 1986-07-21 | 1995-01-30 | 三菱重工業株式会社 | 循環流動床燃焼法 |
| JPH07198111A (ja) * | 1993-12-29 | 1995-08-01 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | 循環流動層ボイラにおけるコンバスタ内温度制御方式 |
-
1986
- 1986-05-09 JP JP10699786A patent/JPS62261808A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62261808A (ja) | 1987-11-14 |
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