JPH03232718A - プラズマ反応を用いたアンモニア合成装置 - Google Patents
プラズマ反応を用いたアンモニア合成装置Info
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- JPH03232718A JPH03232718A JP2673090A JP2673090A JPH03232718A JP H03232718 A JPH03232718 A JP H03232718A JP 2673090 A JP2673090 A JP 2673090A JP 2673090 A JP2673090 A JP 2673090A JP H03232718 A JPH03232718 A JP H03232718A
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Landscapes
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、プラズマ反応を用いたアンモニア合成装置に
関する。
関する。
従来、この種のプラズマ反応を用いたアンモニア合成装
置は、ガス供給機構部と、プラズマ反応機構部と、それ
らに付属する真空系形成用の真空ポンプ群とから構成さ
れており、プラズマ反応ガスとして水素ガスと窒素ガス
を用いてアンモニアの合成を行なっていた。
置は、ガス供給機構部と、プラズマ反応機構部と、それ
らに付属する真空系形成用の真空ポンプ群とから構成さ
れており、プラズマ反応ガスとして水素ガスと窒素ガス
を用いてアンモニアの合成を行なっていた。
上述した従来のプラズマ反応によるアンモニア合成装置
は、プラズマ反応ガスとして水素ガスと窒素ガスを用い
ており、アンモニア合成過程において反応に関与しない
水素ガスを多量に排出しているという欠点がある。
は、プラズマ反応ガスとして水素ガスと窒素ガスを用い
ており、アンモニア合成過程において反応に関与しない
水素ガスを多量に排出しているという欠点がある。
本発明のプラズマ反応を用いたアンモニア合成装置は、
装置内に過酸化水素水を張った層がプラズマ反応部の下
流に設けられており、窒素プラズマと過酸化水素水と・
の界面反応によりアンモニアが合成される。
装置内に過酸化水素水を張った層がプラズマ反応部の下
流に設けられており、窒素プラズマと過酸化水素水と・
の界面反応によりアンモニアが合成される。
次に、本発明について図面を参照して説明する。第１図
は本発明のプラズマ反応を用いたアンモニア合成装置の
一実施例の構成図である。プラズマ反応を用いたアンモ
ニア合成装置は、Ｎ２ガスボンベ１とニードルバルブ２
とガスラインフィルタ３とマスフローコントローラ４よ
りなるガス供給部２０と、反応炉５と誘導コイル６と過
酸化水素水槽７と圧力計８と電力計９と高周波発振器１
０とからなる反応部３０と、ストップバルブ１１と真空
ポンプ１２と液体窒素トラップ１３よりなる排気部４０
の三部から構成されている。反応に際し、反応系内を５
０Ｔｏｒｒ前後まで液体窒素トラップ１３を通して真空
ポンプ１２により排気し、反応ガスとしての窒素ガスを
ガスボンベ１よリマスフローコントローラ４を通し、所
定の流量にてプラズマ反応部３０の反応炉５へ導入する
。
は本発明のプラズマ反応を用いたアンモニア合成装置の
一実施例の構成図である。プラズマ反応を用いたアンモ
ニア合成装置は、Ｎ２ガスボンベ１とニードルバルブ２
とガスラインフィルタ３とマスフローコントローラ４よ
りなるガス供給部２０と、反応炉５と誘導コイル６と過
酸化水素水槽７と圧力計８と電力計９と高周波発振器１
０とからなる反応部３０と、ストップバルブ１１と真空
ポンプ１２と液体窒素トラップ１３よりなる排気部４０
の三部から構成されている。反応に際し、反応系内を５
０Ｔｏｒｒ前後まで液体窒素トラップ１３を通して真空
ポンプ１２により排気し、反応ガスとしての窒素ガスを
ガスボンベ１よリマスフローコントローラ４を通し、所
定の流量にてプラズマ反応部３０の反応炉５へ導入する
。
ガス圧力は、圧力計８にて所定の圧力に設定する。電力
は周波数１３．５６ＭＨｚ、出力２００Ｗの高周波発振
器１０より誘導結合方式により移送する０反応炉５内の
放電によって生成された窒素プラズマ中の窒素分子イオ
ンによるプラズマ反応アフターグロ一部下端に張られた
過酸化水素水槽７へのスパッタリングによりアンモニア
合成の水素源である水素が供給され、下記の反応が進行
し、アンモニアが合成される。
は周波数１３．５６ＭＨｚ、出力２００Ｗの高周波発振
器１０より誘導結合方式により移送する０反応炉５内の
放電によって生成された窒素プラズマ中の窒素分子イオ
ンによるプラズマ反応アフターグロ一部下端に張られた
過酸化水素水槽７へのスパッタリングによりアンモニア
合成の水素源である水素が供給され、下記の反応が進行
し、アンモニアが合成される。
Ｎ２ ＋ｅ−＋Ｎ” ２ ＋２ｅ −−−−
（ａ）Ｎ” ２ ＋Ｈ２０２＋ｅ→２ＮＨ＋０２−・・
（ｂ）ＮＨ十Ｈ−＋ＮＨ２・・・・・・（Ｃ）ＮＨ２＋
Ｈ４ＮＨ３・・・・・・（ｄ）〔発明の効果〕 以上説明したように本発明は、プラズマ反応を用いたア
ンモニア合成装置に過酸化水素水を張った槽を設けるこ
とにより、過酸化水素水を水素源とし、窒素プラズマと
の界面反応からアンモニア合成ができるという効果があ
る。
（ａ）Ｎ” ２ ＋Ｈ２０２＋ｅ→２ＮＨ＋０２−・・
（ｂ）ＮＨ十Ｈ−＋ＮＨ２・・・・・・（Ｃ）ＮＨ２＋
Ｈ４ＮＨ３・・・・・・（ｄ）〔発明の効果〕 以上説明したように本発明は、プラズマ反応を用いたア
ンモニア合成装置に過酸化水素水を張った槽を設けるこ
とにより、過酸化水素水を水素源とし、窒素プラズマと
の界面反応からアンモニア合成ができるという効果があ
る。
第１図は、本発明の一実施例のプラズマ反応を用いたア
ンモニア合成装置の構成図である。 １・・・Ｎ２ガスボンベ、２・・・ニードルバルブ、３
・・・ガスラインフィルタ、４・・・マスフローコント
ローラ、５・・・反応炉、６・・・誘導コイル、７・・
・過酸化水素水槽、８・・・圧力計、９・・・電力計、
１０・・・高周波発振器、１１・・・ストップバルブ、
１２・・・真空ポンプ、１３・・・液体窒素トラップ、
２０・・・ガス供給部、２０・・・反応部、４０・・・
排気部。
ンモニア合成装置の構成図である。 １・・・Ｎ２ガスボンベ、２・・・ニードルバルブ、３
・・・ガスラインフィルタ、４・・・マスフローコント
ローラ、５・・・反応炉、６・・・誘導コイル、７・・
・過酸化水素水槽、８・・・圧力計、９・・・電力計、
１０・・・高周波発振器、１１・・・ストップバルブ、
１２・・・真空ポンプ、１３・・・液体窒素トラップ、
２０・・・ガス供給部、２０・・・反応部、４０・・・
排気部。
Claims (1)
- ガス供給部とプラズマ反応部と排気部とを有しているプ
ラズマ反応を用いたアンモニア合成装置において、前記
プラズマ反応部と排気部との間にプラズマと界面反応を
生じる過酸化水素水槽を含むことを特徴とするプラズマ
反応を用いたアンモニア合成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2673090A JPH03232718A (ja) | 1990-02-05 | 1990-02-05 | プラズマ反応を用いたアンモニア合成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2673090A JPH03232718A (ja) | 1990-02-05 | 1990-02-05 | プラズマ反応を用いたアンモニア合成装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03232718A true JPH03232718A (ja) | 1991-10-16 |
Family
ID=12201434
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2673090A Pending JPH03232718A (ja) | 1990-02-05 | 1990-02-05 | プラズマ反応を用いたアンモニア合成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03232718A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010132469A (ja) * | 2008-12-02 | 2010-06-17 | Toyota Gakuen | 窒素化合物の製造方法及び製造装置 |
| CN117923515A (zh) * | 2022-10-24 | 2024-04-26 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种利用等离子体合成氨的制备方法 |
-
1990
- 1990-02-05 JP JP2673090A patent/JPH03232718A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010132469A (ja) * | 2008-12-02 | 2010-06-17 | Toyota Gakuen | 窒素化合物の製造方法及び製造装置 |
| CN117923515A (zh) * | 2022-10-24 | 2024-04-26 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种利用等离子体合成氨的制备方法 |
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