JPH03232741A - 高透明性シリカーチタニアガラス粒子及びその製造方法 - Google Patents

高透明性シリカーチタニアガラス粒子及びその製造方法

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JPH03232741A
JPH03232741A JP2807790A JP2807790A JPH03232741A JP H03232741 A JPH03232741 A JP H03232741A JP 2807790 A JP2807790 A JP 2807790A JP 2807790 A JP2807790 A JP 2807790A JP H03232741 A JPH03232741 A JP H03232741A
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孝明 清水
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、LEDなどの光機能デバイス封止用モールデ
ィングコンパウンドの充填剤等として好適に使用される
透明性の高いシリカ−チタニアガラス粒子及びその製造
方法に関する。
〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕現在、
LED、LD、COD、 フォトダイオード、フォトカ
プラーのような光機能デバイスは、主としてセラミック
パッケージや透明プラスチックで封止されているが、こ
れらのデバイス用の新規な封止材料として、充填剤をエ
ポキシ樹脂に充填させたエポキシモールディングコンパ
ウンドが要望されている。
かかる充填剤としては、光透過率が高いことが必要であ
るばかりでなく、光散乱による透過率の低下を防ぐため
、屈折率が高く、エポキシ樹脂の屈折率と同等程度であ
ることが必要で、このように高光透過率と高屈折率とを
兼ね備えた充填剤を透明エポキシ樹脂に配合することに
より、透明性に優れたエポキシモールディングコンパウ
ンドを得ることが可能である。
しかしながら、従来かかる高光透過率と高屈折率とを兼
ね備えた充填剤は提案されておらず、このためこのよう
な充填剤の開発が要望されている。
一方、従来よりシリコンアルコキシドとチタンアルコキ
シドとを適当な有機溶媒の存在下で加水分解、重縮合反
応させてTiO2−5iO□ゾルを得、ゲル化させた後
に乾燥、焼結を行なう、いわゆるゾルゲル法によりTi
O2−SiO□ガラスを製造することが知られている。
かかるゾルゲル法により得られるTiO□−5iO□ガ
ラスは、高屈折率で熱膨張係数が小さいという特徴があ
り、またアルカリ金属、アルカリ土類金属、塩素イオン
のような不純物を含有しないため、種々の用途分野への
利用が期待されている。
しかし、Ti1t  Si0gガラスの製造方法におい
て、高Ti0zfi度で、しかも可視〜近赤外域におい
て透明度の十分に高いTiO2−5i02粒子を製造す
る方法は従来知られていない。また従来技術では、Ti
O□−5iO2粒子の透明性を高めるという試みも提案
されていない。
これに対し、本発明者らは、特願昭63−272643
号において、400na+から1300nmの波長域に
吸収がなく無色透明であり、しかも高Tie、で屈折率
(n、)が1.53以上の丁10□−5iO□ガラスの
製造方法を提案した。−シかじ、この製法により得られ
るTi0z  5iftガラスも、外観は無色透明であ
るにもかかわらず、これを粉砕し、後述のような測定方
法で直線透過率を測定した場合、その透過率値が低いと
いう問題があり、このようにして得られるTiO2−5
iO□粒子は上述した光機能デバイス封土用モールディ
ングコンパウンドの充填剤には使用し難いものである。
本発明は上記事情に鑑みなされたもので、光透過率が高
いと共に屈折率が高く、光機能デバイス用エポキシモー
ルディングの充填剤として好適に使用することができる
シリカ−チタニアガラス粒子及びその製造方法を提供す
ることを目的とする。
〔課題を解決するための手段及び作用〕本発明者らは上
記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、シリコン
アルコキシドとチタンアルコキシドとを加水分解し重縮
合して得られるシリカ−チタニアゾルをゲル化した後、
乾燥し、次いでこの乾燥ゲルを所定粒度に粉砕し、得ら
れた粉砕物を1050〜1250℃の温度範囲で焼結ガ
ラス化した場合、得られるシリカ−チタニアガラス粒子
は、下記Aの方法で測定を行なった場合の1■光路長の
直線透過率が900n■〜600n−の波長範囲で70
%以上と、これまでになく透明性が優れており、光機能
デバイス封止用エポキシモールディングの充填剤として
好適であることを知見した。
A 下記の一般式(1)で示されるビスフェノール型エ
ポキシ樹脂又は下記の一般式(2)で示されるノボラッ
ク型エポキシ樹脂とフェニルグリシジルエーテルとを混
合し、シリカ−チタニアガラス粒子との屈折率差が±0
.002以内になる溶液を調製する。この溶液と平均粒
径が5〜30μmに粉砕されたシリカ−チタニアガラス
粒子とを重量比で1:1に混合し、その混合物について
1ms+の光路長で 直線透過率を測定する。
(但し、 nは0−10の整数である。
) (但し、nは0〜10の整数である。)即ち、従来ゾル
ゲル法でシリカ−チタニアガラス粒子を得る場合、シリ
コンアルコキシドとチタンアルコキシドとを加水分解し
て得られたシリカチタニアゾルをゲル化した後、熟成、
乾燥し、次いで焼結してシリカ−チタニアガラスを得、
更にこのシリカ−チタニアガラスを粉砕する方法が採用
されているが、かかる方法では上述したようにたとえガ
ラスが透明であっても粉砕品は透明性が悪くなってしま
うものであった。
しかし、本発明者らは、製造順序を変更し、まず乾燥し
たゲルを焼結ガラス化する前に粉砕し、次いでこの粉砕
物を特定の温度範囲、即ち1050〜1250″Cで焼
結することにより、意外にもこれまでになく高光透過性
で、特に可視から近赤外域における光透過率が優れると
共に、Ti0z含有量を変化させて屈折率をエポキシ樹
脂と容易に等しくすることができ、このため光機能デバ
イス封止用エポキシモールディングの充填剤として最適
であるシリカ−チタニアガラス粒子が得られることを見
い出し、本発明をなすに至ったものである。
なお、本発明において、焼結ガラス化後に粉砕してTj
02  SiO□粒子を製造する方法とは異なり、乾燥
ゲルを粉砕した後に焼結ガラス化する方法によって光透
過率が飛躍的に向上したシリカ−チタニアガラス粒子が
得られる理由としては下記の点が推定される。即ち、焼
結ガラス化後に粉砕したシリカ−チタニアガラス粒子は
、粉砕衝撃により表面あるいは内部にクランクや歪みを
形成し、粒子に光を入射した場合には、これら変質部で
の屈折率差により光の散乱現象が起こり、その結果とし
てえられる。これに対し、乾燥ゲル体を粉砕した後で加
熱処理して焼結ガラス化を行う方法は、■乾燥ゲル体は
焼結ガラス体よりも脆性が低いため、粉砕により発生す
る応力が小さい、■粉砕後に加熱処理をすることで前記
の応力が緩和されるという2つの理由により、変質部の
ほとんどないシリカ−チタニアガラス粒子を得ることが
できるため、高い透過率値を示すものと考えられる。
従って、本発明は、上述した試験方法Aによる1m光路
長の直線透過率が900nmから600r++sの波長
範囲で70%以上である高透明性シリカ−チタニアガラ
ス粒子、及び、シリコンアルコキシドとチタンアルコキ
シドとを加水分解し重縮合して得られるシリカ−チタニ
アゾルをゲル化した後、乾燥し、次いでこの乾燥ゲルを
所定粒度に粉砕し、得られた粉砕物を1050〜125
0″Cの温度範囲で焼結ガラス化して、上記高透明性シ
リカ−チタニアガラス粒子を得ることを特徴とする高透
明性シリカ−チタニアガラス粒子の製造方法□を提供す
る。
以下、本発明について更に詳しく説明する。
本発明の高透明性シリカ−チタニアガラス粒子の製造方
法は、シリカ−チタニアガラス粒子の着色を防止して確
実な高透明性を得るため、先に本発明者らが提案した特
願昭63−272643号記載の方法に準じて行なうこ
とが望ましい。
即ち、まず出発原料として、St (OCH3) 4、
Si (OCJs) aなどのようなシリコンアルコキ
シドとTi (OCJt) a、Ti (OC,HJ、
などのようなチタンアルコキシドとを用いる。
この場合、Tie、をSingとTi1tとの合計に対
して10〜18モル%となるような量でシリコンアルコ
キシドとチタンアルコキシドとを用いることが好ましい
。TiO□の含有量が10モル%に達しないと得られる
シリカ−チタニアガラス粒子の屈折率がエポキシ樹脂の
充填剤として好ましいとされる1、53以上とすること
ができない場合があり、−方18モル%を超えると、こ
のようなシリカ−チタニアガラス粒子の屈折率に等しい
透明なエポキシ樹脂を得るのが困難となる場合がある。
これらの原料からゾル、ゲルを得る方法としては、上記
シリコンアルコキシドとチタンアルコキシドとを稀釈用
の溶媒としてのメタノール、エタノール、プロパツール
などのようなアルコールに溶解し、これに水を加えて加
水分解させてシリカ−チタニアゾルを作ったのち、この
ゾルをゲル化用の容器に移し、密閉状態にしてから恒温
乾燥器中に静置させてゲル化させる方法が好適に採用さ
れる。この場合、このゲル化温度およびゲル化後の熟成
温度については、これを60°Cよ−り低くするとアル
コキシドの加水分解が不完全なものとなる場合があり、
後記する焼結工程で着色の原因となる3価のTiイオン
が発生し易くなるので、このゲル化および熟成の温度は
60℃以上とすることが好ましい。なお、熟成は、この
加水分解を完全なものとする点から1時間以上、好まし
くは5時間以上とすることがよい。
次に、上記ゲル化、熟成の終了した湿式ゲルの乾燥方法
としては特に制限されないが、例えばゲルを熟成するこ
とに用いた密閉容器の蓋を取り、そのまま恒温乾燥器中
に放置して乾燥し、乾燥ゲルを得る方法を採用すること
ができる。
本発明においては、このようにして得られた乾燥ゲルを
そのまま焼結するのではなく、粉砕した後に焼結するも
のである。
ここで、粉砕方法は特に制限されず、また粒径も適宜選
定され、用途に応じた適当な粉砕方法、粒径を採用し得
るが、光機能デバイス封止用エポキシモールディング用
の充填剤とする場合は、平均粒径が1〜100μm、特
に5〜30μmとすることが好ましい。
次に、粉砕した乾燥ゲルを焼結ガラス化するが、本発明
においてはこの焼結温度を1050〜1250°Cの範
囲で行なうものである。焼結温度が1050°C未満で
は粒子が完全に均一に緻密化せず、従ってこのシリカ−
チタニアガラス粒子の透過率を測定した場合、粒子内部
に入射した光は、シリカ−チタニアガラス構成粒子とそ
の構成粒子間隙の空孔との間の屈折率差により散乱され
るため、その結果として低い透過率値しか得ることがで
きない。また、焼結温度が1250℃よりも高い温度で
は、TiO□の結晶相の1つであるアナターゼ(Ana
tase )相の析出が起こるため、この温度範囲でも
同様に光透過性に優れるシリカ−チタニアガラス粒子は
得られない。
なお、この焼結方法は、上記温度範囲内であればよく、
特に制限されないが、電気炉等の一定温度に保つ焼結炉
を使用し、炉中に空気、酸素ガスまたは酸素と空気との
混合ガスを送入して炉内を酸化性雰囲気とすることが着
色の原因どなる3価のTiイオン発生を防止する上で好
ましい、また、所定の温度に達するまでの昇温速度は通
常10〜500°C/時とすることが好ましい。なお、
焼結時間は上記温度範囲で通常1・0〜300分である
このようにして得られるシリカ−チタニアガラス粒子は
、シリカ−チタニア粒子との屈折率差が±0.002以
内に調製された下記の一般式(1)で示されるビスフェ
ノール型エポキシ樹脂又は下記の一般式(2)で示され
るノボラック型エポキシ樹脂とフェニルグリシジルエー
テルの混合物と、平均粒径が5〜30μmに粉砕された
当該シリカ−チタニア粒子とを重量比で1=1に混合し
、その混合物について1閣光路長で直線透過率を測定し
た場合、900n−から600nmの波長範囲での直線
透過率が70%以上と、これまでになく透明性が優れて
いるので、透明なエポキシ樹脂と本発明のシリカ−チタ
ニアガラス粒子とでモールディングコンパウンドを形成
すれば、1閣厚で光透過率が70%以上と高透明なモー
ルディングコンパウンドが確実に得られるものである。
(但し、 nはO〜10の整数である。
) (但し、nは0〜10の整数である。)〔発明の効果〕 以上説明したように、本発明の高透明性シリカチタニア
ガラス粒子は光透過性が非常に高く、しかも高屈折率で
あるので、光機能デバイス封止用モールディングコンパ
ウンド、特にエポキシ樹脂用の充填剤として好適なもの
であり、また、本発明の高透明性シリカ−チタニアガラ
ス粒子の製造方法によれば、かかる優れた高透明性シリ
カ−チタニアガラス粒子を確実に製造することができる
以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体的に示すが
、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。
〔実施例1] 正珪酸エチル(多摩化学工業型) 2083.3 gと
エタノール(和光純薬、特級) 672.6 gとの溶
液に30℃で0.2規定塩酸水溶液180I11を添加
し、1時間攪拌した。そこにチタンテトライソプロポキ
シド(和光純薬、−級)505.7gを徐々に添加した
のち、さらに1時間攪拌した。その後、純水668.1
 gを添加し、さらに10分間攪拌した。得られたTi
O2−5iO□ゾルをポリプロピレン製容器に入れ、9
0°Cで密閉したところ、ゾルは約30分後にゲル化し
た。ゲルをそのまま90’C密閉下で12時間熟成した
。その後、容器の蓋を除き、70°Cの乾燥器で4日間
乾燥して乾燥ゲル体を得た。
この乾燥ゲル体のうち250gを容置21のアルミナ製
ボールミルで1時間粉砕した。この粉砕後の乾燥ゲル体
を箱型電気炉に入れ、乾燥空気1.4rrr/hの条件
で1100℃まで13時間で昇温し、30分間、 11
00°Cに保持し、平均粒径23.9 p mのTi(
h−5ing粒子焼結ガラスを得た。
このTiO□−5iO□焼結ガラスの屈折率(n、)を
液浸法により測定したところ、1.561であった。
〔実施例2〕 実施例1で得られた乾燥ゲル体のうち250gを容12
1のアルミナ製ボールミルで4時間粉砕した。この粉砕
後の乾燥ゲル体を箱型電気炉に入れ、乾燥空気1.4r
rf/hの条件で1100℃まで13時間で昇温し、3
0分間、 1100℃に保持し、平均粒径10.8μm
のTiO2SiO2粒子を得た。
〔比較例1〕 実施例1と同様の方法で得られた乾燥ゲル体を粉砕する
ことなくそのまま箱型電気炉に入れ、乾燥空気1.4イ
/hの条件で1100℃まで13時間で昇温し、30分
間、 1100°Cに保持し、無色透明なTi0z  
5iOz焼結ガラス740gを得た。
このTi0l−SiO□焼結ガラスのうち250gを容
量21のアルミナ製ボールミルで2時間粉砕し、平均粒
径19.0μmのTiO□−5ing粒子を得た。
〔比較例2〕 実施例1で得られた乾燥ゲル体の内250gを容量2i
のアルミナ製ボールミルで1時間粉砕した。
この粉砕後の乾燥ゲル体を箱型電気炉に入れ、乾燥空気
1.4rrr/hの条件で1000°Cまで13時間で
昇温し、30分間、 1000℃に保持し、平均粒径2
0、7 p mのTTiol−5in粒子を得た。
〔比較例3〕 実施例1で得られた乾燥ゲル体の内250gを容量2f
のアルミナ製ボールミルで1時間粉砕した。
この粉砕後の乾燥ゲル体を箱型電気炉に入れ、乾燥空気
1.4rrr/hの条件で1300℃まで13時間で昇
温し、30分間、 1300℃に保持し、平均粒径24
.3μmのTi(h  5ift粒子を得た。
各Ti0g  Si0g粒子の光透過率の結果を第1表
に示す。また、図面に各粒子の光透過率スペクトルの結
果を示す。
なお、平均粒径、屈折率、並びに光透過率の測定方法は
下記の通りである。
−〇′  ゛ 試料の分散媒としてヘキサメタリン酸ソーダの0.2重
量%の水溶液を使用し、品性製遠心沈降式粒度分布測定
、装置5A−CP3Lにて測定した。
凰玩圭q夾足方抜 アタゴ社製アツベ屈折計3Tにて測定した。
′ の゛ 平均粒径5〜30μのTiO□−5iO□粒子を、Ti
O2の含有量から計算される屈折率に±0.002の範
囲になるように混合比を調整したエピコート828(油
化シェルエポキシ社製エポキシ樹脂)とフェニルグリシ
ジルエーテルとの混合液(屈折率n。
=1.5612)に、重量比で1=1になるように混合
する。十分に粒子を分散させた後、目視で泡が観察され
なくなるまで減圧脱気を行う。この混合物を1mの光路
長を有するセルに入れ、分光光度計を用いて900nm
から40 On−の波長範囲で透過率スペクトルを測定
する。この場合、レファランスはブランクである。
以上の結果から、乾燥ゲル体を焼結ガラス化した後に粉
砕した場合(比較例1)は透明性が悪く、またゲルの乾
燥後に粉砕し、次いで焼結ガラス化したものでも、焼結
温度が本発明の範囲外(比較例2.3)では、透明性が
非常に悪いものであった。
これに対し、ゲルを乾燥した後に粉砕を行なってから焼
結ガラス化し、この際焼結温度を1050〜1250°
Cの範囲内で行なった実施例1,2のSiO□−Ti0
1粒子は、光透過率がいずれも70%を超えているもの
であった。
【図面の簡単な説明】
図面は、実施例、比較例で得られたシリカ−チタニアガ
ラス粒子の光透過率のスペクトルを示すチャートである

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、下記直線透過率測定方法Aによる900nm〜60
    0nmの波長範囲での直線透過率が70%以上である高
    透明性シリカ−チタニアガラス粒子。 A 下記の一般式(1)で示されるビスフェノール型エ
    ポキシ樹脂又は下記の一般式(2)で示されるノボラッ
    ク型エポキシ樹脂とフェニルグリシジルエーテルとを混
    合し、シリカ−チタニアガラス粒子との屈折率差が±0
    .002以内になる溶液を調製する。この溶液と平均粒
    径が5〜30μmに粉砕されたシリカ−チタニアガラス
    粒子とを重量比で1:1に混合し、その混合物について
    1mmの光路長で直線透過率を測定する。 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(1) (但し、nは0〜10の整数である。) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(2) (但し、nは0〜10の整数である。) 2、シリコンアルコキシドとチタンアルコキシドとを加
    水分解し重縮合して得られるシリカ−チタニアゾルをゲ
    ル化した後、乾燥し、次いでこの乾燥ゲルを所定粒度に
    粉砕し、得られた粉砕物を1050〜1250℃の温度
    範囲で焼結ガラス化して、請求項1記載の高透明性シリ
    カ−チタニアガラス粒子を得ることを特徴とする高透明
    性シリカ−チタニアガラス粒子の製造方法。
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