JPH03236393A - シリコーン変性フェノール化合物とその製法及びエポキシ誘導体 - Google Patents
シリコーン変性フェノール化合物とその製法及びエポキシ誘導体Info
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- JPH03236393A JPH03236393A JP2954090A JP2954090A JPH03236393A JP H03236393 A JPH03236393 A JP H03236393A JP 2954090 A JP2954090 A JP 2954090A JP 2954090 A JP2954090 A JP 2954090A JP H03236393 A JPH03236393 A JP H03236393A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、新規な多官能型シリコーン変性フェノール化
合物、それらの製造方法及びそれらから誘導される新規
な多官能型シリコーン変性エポキシ樹脂に関するもので
ある。
合物、それらの製造方法及びそれらから誘導される新規
な多官能型シリコーン変性エポキシ樹脂に関するもので
ある。
本発明で台底されたフェノール化合物は、シリコーンの
耐熱性、耐寒性、可撓性などの特性を有する合成樹脂の
原料として用いることができる。
耐熱性、耐寒性、可撓性などの特性を有する合成樹脂の
原料として用いることができる。
本発明で台底したエポキシ樹脂は多官能であることから
、２官能型に比べて機械的強度が高く強靭になり、耐熱
性等が向上した硬化物を与えることが予想される。また
、シリコーン含量も増えることから、より高度にシリコ
ーンの性質が発現するものと考えられる。
、２官能型に比べて機械的強度が高く強靭になり、耐熱
性等が向上した硬化物を与えることが予想される。また
、シリコーン含量も増えることから、より高度にシリコ
ーンの性質が発現するものと考えられる。
現在量も多く合成樹脂に使われているビスフェノール化
合物は、ビスフェノールＡである。ビスフェノールＡか
らは、多種の合成樹脂が台底されているが、より高度の
性質を求める上で、近年、２官能型だけではなくそれ以
上の多官能型が注目されている。たとえば、グリシシル
アミン型の４官能性エポキシ樹脂は、高性能材料として
の期待が大きい、そのため、これを含めた種々の多官能
型合成樹脂モノマーの開発が進められている。
合物は、ビスフェノールＡである。ビスフェノールＡか
らは、多種の合成樹脂が台底されているが、より高度の
性質を求める上で、近年、２官能型だけではなくそれ以
上の多官能型が注目されている。たとえば、グリシシル
アミン型の４官能性エポキシ樹脂は、高性能材料として
の期待が大きい、そのため、これを含めた種々の多官能
型合成樹脂モノマーの開発が進められている。
本発明者等は、特願昭６３−２６９３３６号及び特願平
１−２３７３２号において、１．３−ビス（ｐ−ヒドロ
キシフェニル） −１，１，３，３−テトラメチルジシ
ロキサンの合成方法及びそれとエピクロルヒドリンとの
反応によるエポキシ樹脂への誘導について開示した。こ
の方法では２官能型の生成物のみを与えるが、それ以上
の多官能型シリコーン変性エポキシ樹脂の台底には３官
能以上の多官能型シリコーン変性フェノール化合物が必
要である。また、特願昭６３−２６９３３６号で述べら
れたようなピラニル化合物を保ｒｔｉｓとして用いた場
合、シリコーン変性フェノール化合物の単離精製の際、
保護基の除去に若干不便な点があり、それを改善する方
法が要望されている。
１−２３７３２号において、１．３−ビス（ｐ−ヒドロ
キシフェニル） −１，１，３，３−テトラメチルジシ
ロキサンの合成方法及びそれとエピクロルヒドリンとの
反応によるエポキシ樹脂への誘導について開示した。こ
の方法では２官能型の生成物のみを与えるが、それ以上
の多官能型シリコーン変性エポキシ樹脂の台底には３官
能以上の多官能型シリコーン変性フェノール化合物が必
要である。また、特願昭６３−２６９３３６号で述べら
れたようなピラニル化合物を保ｒｔｉｓとして用いた場
合、シリコーン変性フェノール化合物の単離精製の際、
保護基の除去に若干不便な点があり、それを改善する方
法が要望されている。
〔発明が解決しようとする課ｌ！！］
本発明は、従来の方法で得られる式（ＩＶ）で示される
シラノール誘導体を用いて、置換ハロゲン化シラン化合
物を有機アミン化合物の存在下で反応させ、続いて保護
基をはずすことにより、従来の方法では得られなかった
多官能型シリコーン変性フェノール化合物を得るととも
に、その製造方法およびそれより誘導された多官能型シ
リコーン変性エポキシ樹脂を提供するものである。
シラノール誘導体を用いて、置換ハロゲン化シラン化合
物を有機アミン化合物の存在下で反応させ、続いて保護
基をはずすことにより、従来の方法では得られなかった
多官能型シリコーン変性フェノール化合物を得るととも
に、その製造方法およびそれより誘導された多官能型シ
リコーン変性エポキシ樹脂を提供するものである。
さらに、保護基としては従来法で使用していたものに加
えてアリル基も使用でき、従来の場合よりも有効である
ことを合わせて示すものである。
えてアリル基も使用でき、従来の場合よりも有効である
ことを合わせて示すものである。
本発明は、下記（１） 、 （ＩＩ） 、 （ＤＩ）で
示される多官能型シリコーン変性フェノール化合物とそ
れらの製造方法、及び下記（Ｖ） 、 （ＶＩ） 、
（■）で示される多官能型シリコーン変性エポキシ樹脂
及びに関するものである。
示される多官能型シリコーン変性フェノール化合物とそ
れらの製造方法、及び下記（Ｖ） 、 （ＶＩ） 、
（■）で示される多官能型シリコーン変性エポキシ樹脂
及びに関するものである。
（１）
（ｌり
（ＩＩＩ）
（Ｖ）
て合成された式（ＩＶ）のシラノール化合物を原料に用
い、置換ハロゲン化シラン化合物と反応してシロキサン
化合物とし、その後に脱保護反応することにまり台底を
行なうことを基本とするものである。
い、置換ハロゲン化シラン化合物と反応してシロキサン
化合物とし、その後に脱保護反応することにまり台底を
行なうことを基本とするものである。
（Ｖｌ ）
（ＶＩ ！ ）
〔式（１）、 （ＩＩ）、 （ＤＩ）、 （Ｖ） 、
（Ｖｌ）及び（■）中、Ｒ１，Ｒｔ及びＲ８は、水素、
フェニル基、メチル基、ＣｈＣＨｚＣＦＩｇ−基及びビ
ニル基であり、相互に同一であっても異なってもよい０
ｍは、３または４である。Ｐは、１以上の整数である。
（Ｖｌ）及び（■）中、Ｒ１，Ｒｔ及びＲ８は、水素、
フェニル基、メチル基、ＣｈＣＨｚＣＦＩｇ−基及びビ
ニル基であり、相互に同一であっても異なってもよい０
ｍは、３または４である。Ｐは、１以上の整数である。
）式（Ｉ） 、 （ＩＩ） 、 （Ｉ［［） 、 （Ｖ
） 、 （ＶＴ）及び（■）で示される化合物の製造に
は、特願昭６３−２６９３３６号において本発明者らが
示した方法によつ（ＩＶ〉 （Ｒ，は、アリル基、アルキルエーテル化合物およびピ
ラニル化合物である。） ます式（１）、（ＩＩ）及び（Ｉ［［）で示される化合
物の合成方法について各々詳細に説明する。
） 、 （ＶＴ）及び（■）で示される化合物の製造に
は、特願昭６３−２６９３３６号において本発明者らが
示した方法によつ（ＩＶ〉 （Ｒ，は、アリル基、アルキルエーテル化合物およびピ
ラニル化合物である。） ます式（１）、（ＩＩ）及び（Ｉ［［）で示される化合
物の合成方法について各々詳細に説明する。
式（１）の化合物の合或は以下の反応式に従う。
×：ハロゲン
（ｆ）−（Ａ）
（１−Ａ）の反応は、冷却装置、撹拌装置と滴下装置の
ついた反応容器に、置換ハロゲン化シラン化合物と有機
アミン化合物を仕込み、所定量の式（ＩＶ）のシラノー
ル化合物を滴下した。置換ハロゲン化シラン化合物とし
ては、様々なものを用いることができ、特に限定される
ものではない。
ついた反応容器に、置換ハロゲン化シラン化合物と有機
アミン化合物を仕込み、所定量の式（ＩＶ）のシラノー
ル化合物を滴下した。置換ハロゲン化シラン化合物とし
ては、様々なものを用いることができ、特に限定される
ものではない。
有機アミン化合物は、塩酸捕捉剤として働き、第１級ア
ミン、第２級アミン、第３級アミンであるが、第１級ア
ミン、第２級アミンは、窒素に結合した水素が反応する
恐れがあるので、第３級アミンが好ましい、第３級アミ
ンはトリメチルアミン。
ミン、第２級アミン、第３級アミンであるが、第１級ア
ミン、第２級アミンは、窒素に結合した水素が反応する
恐れがあるので、第３級アミンが好ましい、第３級アミ
ンはトリメチルアミン。
トリエチルア逅ン、トリブチルアミン等を用いることが
できるが、特に限定されない。
できるが、特に限定されない。
滴下終了後、所定温度まで加熱し所定の時間反応させた
０反応部度としては、０°Ｃから１２０°Ｃの範囲で行
うことができ、反応温度により反応時間が異なってくる
。１００°Ｃの場合、２から８時間程度が適当である。
０反応部度としては、０°Ｃから１２０°Ｃの範囲で行
うことができ、反応温度により反応時間が異なってくる
。１００°Ｃの場合、２から８時間程度が適当である。
反応終了後、反応溶液を氷水に投入し溶液を酸で中和し
た。中和後、有機相を分離し水で洗浄した。溶媒を揮発
させ残さを精製することにより、目的物を得ることがで
きる。式（ＩＶ）のシラノール化合物と置換ハロゲン化
合物の仕込比を調節することにより、モノシラノール又
はジシラノールも単離することができる。中和に用いる
酸は特に限定されないが、本発明において、実験には主
にｌ規定塩酸水溶液を用いた。残さの精製については、
必ずしも必要ではないが、シリカゲルカラムを用いて行
うことができる。
た。中和後、有機相を分離し水で洗浄した。溶媒を揮発
させ残さを精製することにより、目的物を得ることがで
きる。式（ＩＶ）のシラノール化合物と置換ハロゲン化
合物の仕込比を調節することにより、モノシラノール又
はジシラノールも単離することができる。中和に用いる
酸は特に限定されないが、本発明において、実験には主
にｌ規定塩酸水溶液を用いた。残さの精製については、
必ずしも必要ではないが、シリカゲルカラムを用いて行
うことができる。
（Ｉ−Ｂ）の反応は、鉱酸、有ｌ！酸、金属錯体触媒な
どを用いて行なうことができる。
どを用いて行なうことができる。
金属錯体触媒を用いるのは、主にアリル基を脱保護する
場合である。窒素置換装置９滴下装置のついた反応容器
に、（１−Ａ）で合成した化合物及び触媒、助触媒を所
定の割合で仕込み、これに活性水素化合物を滴下する。
場合である。窒素置換装置９滴下装置のついた反応容器
に、（１−Ａ）で合成した化合物及び触媒、助触媒を所
定の割合で仕込み、これに活性水素化合物を滴下する。
これを所定の温度まで加熱し反応を行う。反応終了後、
氷水に投入し酸で中和する。その後、溶媒による抽出と
水による洗浄を行い、さらに溶媒を揮発させて目的物を
得る。反応温度は室温から１２０°Ｃ程度であり、添加
する活性水素化合物の沸点が低い場合は、オートクレー
ブを用いる必要がある。中和に用いる酸は特に限定され
ないが、本発明において、実験には主に１規定塩酸水溶
液を用いた。触媒は、パラジウム、白金、ニッケルなど
の金属錯体触媒である０例えば、ＰｄＣ１ｚ、 ＰｄＣ
Ｉｚ（ＰＰｔ＋３）ｚ、 Ｐｄ（ＰＰｈ３）４゜Ｐｄ（
ＯＣＯＣＨｓ）ｚ、 ＰｔＣ１！（ＰＰｈ３）２． Ｐ
ｔ（ＰＰｈ３）４などが挙げられる（ＰＰｈｓはトリフ
ェニルホスフィンを示り。
氷水に投入し酸で中和する。その後、溶媒による抽出と
水による洗浄を行い、さらに溶媒を揮発させて目的物を
得る。反応温度は室温から１２０°Ｃ程度であり、添加
する活性水素化合物の沸点が低い場合は、オートクレー
ブを用いる必要がある。中和に用いる酸は特に限定され
ないが、本発明において、実験には主に１規定塩酸水溶
液を用いた。触媒は、パラジウム、白金、ニッケルなど
の金属錯体触媒である０例えば、ＰｄＣ１ｚ、 ＰｄＣ
Ｉｚ（ＰＰｔ＋３）ｚ、 Ｐｄ（ＰＰｈ３）４゜Ｐｄ（
ＯＣＯＣＨｓ）ｚ、 ＰｔＣ１！（ＰＰｈ３）２． Ｐ
ｔ（ＰＰｈ３）４などが挙げられる（ＰＰｈｓはトリフ
ェニルホスフィンを示り。
助触媒は触媒の能力を高める働きをするもので、たとえ
ば、Ｐｈ０Ｎａ、ＰＰｈａなどが挙げられる。助触媒は
、必ず必要というわけではなく、場合によっては用いな
くても反応がスムーズに進行する。活性水素化合物は特
に限定されないが、たとえば、ジエチルアミン、ブチル
アごン、アニリンなどのアミン化合物、メタノール、エ
タノールなどのアルコール化合物、フェノール類、活性
水素を持つカルボニル化合物などが挙げられる。
ば、Ｐｈ０Ｎａ、ＰＰｈａなどが挙げられる。助触媒は
、必ず必要というわけではなく、場合によっては用いな
くても反応がスムーズに進行する。活性水素化合物は特
に限定されないが、たとえば、ジエチルアミン、ブチル
アごン、アニリンなどのアミン化合物、メタノール、エ
タノールなどのアルコール化合物、フェノール類、活性
水素を持つカルボニル化合物などが挙げられる。
（１−Ｂ）の反応において鉱酸または有機酸を用いるの
は、主にピラニル化合物やアルキルエーテル化合物を脱
保護する場合である。三角フラスコに、（１−Ａ）の反
応で合成した化合物とアルコールを仕込み、これに酸を
加える。所定の時間、所定の温度で撹拌後、反応溶液を
溶媒に溶解し、水で洗浄して酸を除く。その後溶媒を揮
発させて目的物を得る。
は、主にピラニル化合物やアルキルエーテル化合物を脱
保護する場合である。三角フラスコに、（１−Ａ）の反
応で合成した化合物とアルコールを仕込み、これに酸を
加える。所定の時間、所定の温度で撹拌後、反応溶液を
溶媒に溶解し、水で洗浄して酸を除く。その後溶媒を揮
発させて目的物を得る。
式（ＩＩ）の合成は、以下の反応式に従った。
Ｘ：ハロゲン
式（ＩＩ−Ａ）は、置換ハロゲン化シラン化合物に対し
て（ＩＶ）のシラノール化合物を、生成物がモノシラノ
ールとなるような比率で仕込んで反応する。それ以外は
（Ｉ−Ａ）の合成に準じて行なった。
て（ＩＶ）のシラノール化合物を、生成物がモノシラノ
ールとなるような比率で仕込んで反応する。それ以外は
（Ｉ−Ａ）の合成に準じて行なった。
弐（Ｉｔ−Ｂ）は、式（Ｉｔ−Ａ）で得た化合物を酸に
より縮合し次いで脱保護する２段法と、酸によって縮合
と脱保護を同時に行なう１段法の２種類の方法で行なう
ことができる。
より縮合し次いで脱保護する２段法と、酸によって縮合
と脱保護を同時に行なう１段法の２種類の方法で行なう
ことができる。
２段法は保護基がアリル基の場合であり、アルコール溶
液中で酸により縮合した後、金属錯体触媒による方法に
従って脱保護を行ない目的物を得る。１段法は保護基が
ピラニル化合物又はアルキルエーテル化合物の場合であ
り、アルコール溶液中で縮合と脱保護を同時に行なうこ
とにより目的物を得る。 各々の方法は、以前に示した
特願昭６３−２６９３３６号や本発明における金属錯体
触媒法に準する。
液中で酸により縮合した後、金属錯体触媒による方法に
従って脱保護を行ない目的物を得る。１段法は保護基が
ピラニル化合物又はアルキルエーテル化合物の場合であ
り、アルコール溶液中で縮合と脱保護を同時に行なうこ
とにより目的物を得る。 各々の方法は、以前に示した
特願昭６３−２６９３３６号や本発明における金属錯体
触媒法に準する。
式（ＩＩＩ）におけるＰ−１の化合物の合成は、以下の
反応式に従った。
反応式に従った。
下の反応式に従った。
弐（Ｉ［［−Ａ）は、２置換ハロゲン化シラン化合物に
対して２等量仕込んだ以外は、式（１−Ａ）の方法に準
じて行なった０式（Ｉ［［−Ｂ）の脱保護反応は、鉱酸
、有機酸又は金属錯体触媒による方法でおこないｐ−１
の目的物を得る。
対して２等量仕込んだ以外は、式（１−Ａ）の方法に準
じて行なった０式（Ｉ［［−Ｂ）の脱保護反応は、鉱酸
、有機酸又は金属錯体触媒による方法でおこないｐ−１
の目的物を得る。
式（ｍ）におけるｐ−２の化合物の合成は、以式（Ｉ［
Ｉ−Ｃ）は、２置換ハロゲン化シラン化合物に対して、
生成物がモノシラノールとなるようニ仕込み、式（１−
Ａ）の方法に準じて行なった。
Ｉ−Ｃ）は、２置換ハロゲン化シラン化合物に対して、
生成物がモノシラノールとなるようニ仕込み、式（１−
Ａ）の方法に準じて行なった。
式（ＩＩＩ−Ｃ）で得た化合物を、式（１−Ｄ）に従っ
て酸により縮合し、脱保護することにより目的物を得た
。 各々の方法は、以前に示した特願昭６３−２６９３
３６号や本発明において既に説明した金属錯体触媒法に
準じた。
て酸により縮合し、脱保護することにより目的物を得た
。 各々の方法は、以前に示した特願昭６３−２６９３
３６号や本発明において既に説明した金属錯体触媒法に
準じた。
式（ＩＩＩ）におけるｐ≧３の化合物の合成は、以下の
反応式に従った。
反応式に従った。
（ｌ×）
（Ｉ Ｉ Ｉ ）−（Ｅ）
（ＩＩＩ）−（Ｆ）
特願昭６３−２６９３３６号において本発明者らが合成
した（ＩＸ）のシロキサン化合物中間体を用いて、ジメ
チルシロキサン環状４量体（Ｄ４）を開環挿入重合させ
、その重合体の末端部分を脱保護反応して目的物を得た
。開環挿入重合は、触媒を用いて無溶媒状態で行なった
。重合触媒として、ヒドロキシアンモニウム塩類、水酸
化カリウムや水酸化ナトリウムのような強塩基性化合物
を用いることができ、特に限定されない。必要であれば
クラウンエーテル類のような助触媒を用いることも可能
である。
した（ＩＸ）のシロキサン化合物中間体を用いて、ジメ
チルシロキサン環状４量体（Ｄ４）を開環挿入重合させ
、その重合体の末端部分を脱保護反応して目的物を得た
。開環挿入重合は、触媒を用いて無溶媒状態で行なった
。重合触媒として、ヒドロキシアンモニウム塩類、水酸
化カリウムや水酸化ナトリウムのような強塩基性化合物
を用いることができ、特に限定されない。必要であれば
クラウンエーテル類のような助触媒を用いることも可能
である。
次に、（Ｖ）、 （ＶＴ）及び（■）で示されるエポ
キシ樹脂の合成法について説明する。この反応は、以下
の式（■）に示すフェノールとエピクロルヒドリンの反
応と同様に行なう。多官能型シリコーン変性フェノール
化合物（Ｉ）、 （ＩＩ）及び（ＤＩ）とエピクロル
ヒドリンをアルカリ存在下で反応して目的物を得る。詳
細は特願平１−２３７３２号において本発明者らが示し
た２官能型シリコーン変性エポキシ樹脂の合成方法に示
したとおりであり、それに準じて行なう。
キシ樹脂の合成法について説明する。この反応は、以下
の式（■）に示すフェノールとエピクロルヒドリンの反
応と同様に行なう。多官能型シリコーン変性フェノール
化合物（Ｉ）、 （ＩＩ）及び（ＤＩ）とエピクロル
ヒドリンをアルカリ存在下で反応して目的物を得る。詳
細は特願平１−２３７３２号において本発明者らが示し
た２官能型シリコーン変性エポキシ樹脂の合成方法に示
したとおりであり、それに準じて行なう。
規定塩酸水溶液で中和した。有機相を分離し水で洗浄し
た。溶媒を揮発させ精製して目的物を４１．８ ｇ得た
。
た。溶媒を揮発させ精製して目的物を４１．８ ｇ得た
。
構造は、ＮＭＲ及びＩＲで確認した。
実施例２
〔実施例〕
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれ
らの実施例に限定されるものではない。
らの実施例に限定されるものではない。
実施例１
３００−の三つロフラスコに、フェニルトリクロロシラ
ン１０．５８ｇ、 ）リエチルアミン１５．１５ｇ。
ン１０．５８ｇ、 ）リエチルアミン１５．１５ｇ。
）レ
トリエン１０（１＋ｄを取った。これに、１００ｒｄの
トルエンに溶解したｐ−ピラニルオキシフエニルジメチ
ルシラノール３７．８ ｇを室温で滴下した。
トルエンに溶解したｐ−ピラニルオキシフエニルジメチ
ルシラノール３７．８ ｇを室温で滴下した。
滴下終了後、約１００℃に加熱し６時間反応した０反応
終了後、反応混合液を氷水に投入し１ｐ−ピラニルオキ
シフエニルジメチルシラノールの代りに、ｐ−アリルオ
キシフエニルジメチルシラノール３１．２ ｇを用いて
実施例１と同様に反応を行い、目的物を３６．１ｇ得た
。
終了後、反応混合液を氷水に投入し１ｐ−ピラニルオキ
シフエニルジメチルシラノールの代りに、ｐ−アリルオ
キシフエニルジメチルシラノール３１．２ ｇを用いて
実施例１と同様に反応を行い、目的物を３６．１ｇ得た
。
構造は、ＮＭＲ及びＩＲで確認した。
実施例３
１００ｄの三つロフラスコにテトラクロロシラン８．５
ｇ、 トリエチルアミン２０．２ ｇ 、 ）ルエ
ン１００ｄを取った。これに、１００ｍのトルエンに溶
解したｐ−アリルオキシフエニルジメチルシラノール４
１．６ ｇを室温で滴下した。
ｇ、 トリエチルアミン２０．２ ｇ 、 ）ルエ
ン１００ｄを取った。これに、１００ｍのトルエンに溶
解したｐ−アリルオキシフエニルジメチルシラノール４
１．６ ｇを室温で滴下した。
滴下終了後、約１００°Ｃに加熱し、６時間反応した。
反応終了後、反応混合液を氷水に投入し１規定塩酸水溶
液で中和した。有機相を分離し水で洗浄した。溶媒を揮
発させ精製して目的物を４１．０ｇ得た。
液で中和した。有機相を分離し水で洗浄した。溶媒を揮
発させ精製して目的物を４１．０ｇ得た。
構造は、ＮＭＲ及びＩＲで確認した。
実施例４
（１）トリス（（ｐ−ピラニルオキシフェニル）ジメチ
ルシリルオキン］フェニルシランを用いた場合。
ルシリルオキン］フェニルシランを用いた場合。
２００−の三角フラスコに、トリス（（ｐ−ピラニルオ
キシフェニル）ジメチルシリルオキシフフェニルシラン
１５．０ｇ、エタノール１５０ｄ。
キシフェニル）ジメチルシリルオキシフフェニルシラン
１５．０ｇ、エタノール１５０ｄ。
Ｐ−トルエンスルホン酸０．０６ｇを取り、室温で４時
間反応した。反応終了後、エチルエーテルを加え食塩水
で洗浄した。その後、溶媒を揮発させ目的物を１１．１
ｇ得た。
間反応した。反応終了後、エチルエーテルを加え食塩水
で洗浄した。その後、溶媒を揮発させ目的物を１１．１
ｇ得た。
（２）トリス（（ｐ−アリルオキシフェニル）ジメチル
シリルオキシフフェニルシランを用いた場合。
シリルオキシフフェニルシランを用いた場合。
１００ ａｆの三つロフラスコに、トリス〔（Ｐ−アリ
ルオキシフェニル）ジメチルシリルオキシフフェニルシ
ラン１０．０ ｇ 、 ＰｄＣｌ１ ［ＰＰｔ＋ｓｌ
ｔ Ｏ，０５８ｇ及びナトリウムフェノキシド０．０２
４ ｇ’ｃ取った。
ルオキシフェニル）ジメチルシリルオキシフフェニルシ
ラン１０．０ ｇ 、 ＰｄＣｌ１ ［ＰＰｔ＋ｓｌ
ｔ Ｏ，０５８ｇ及びナトリウムフェノキシド０．０２
４ ｇ’ｃ取った。
これにジエチルアミン１２．１ ｇを室温で滴下した。
滴下終了後、窒素下で８５°Ｃ１２時間反応した。反応
終了後、反応混合液を氷水に投入し、溶液を１規定塩酸
水溶液で中和した。エチルエーテルで有機相を抽出し水
洗した。その後、溶媒を揮発させ目的物を９．４５ｇ得
た。
終了後、反応混合液を氷水に投入し、溶液を１規定塩酸
水溶液で中和した。エチルエーテルで有機相を抽出し水
洗した。その後、溶媒を揮発させ目的物を９．４５ｇ得
た。
両方法で得られた化合物は、それぞれＮＭＲ及びＩＲで
測定した結果、同一化合物であり、目的とする構造であ
ることを確認した。
測定した結果、同一化合物であり、目的とする構造であ
ることを確認した。
実施例５
３００ ｍの四つロフラスコにトリス（（ｐ−ヒドロキ
シフェニル）ジメチルシリルオキシ〕フヱニルシラン５
．０ｇ＋ エピクロルヒドリン１５０ｇを取り、８０
°Ｃで還流するように調整した。これに水酸化ナトリウ
ム１．０９ ｇを同量の水に溶解したものをゆっくり滴
下した。
シフェニル）ジメチルシリルオキシ〕フヱニルシラン５
．０ｇ＋ エピクロルヒドリン１５０ｇを取り、８０
°Ｃで還流するように調整した。これに水酸化ナトリウ
ム１．０９ ｇを同量の水に溶解したものをゆっくり滴
下した。
滴下終了後、脱水還流しながら１時間反応した。反応終
了後、エピクロルヒドリンを十分に除去し、トルエンに
溶解した。これを水で十分に洗浄した後、トルエンを除
去して目的物を５゜５９ｇ得た。
了後、エピクロルヒドリンを十分に除去し、トルエンに
溶解した。これを水で十分に洗浄した後、トルエンを除
去して目的物を５゜５９ｇ得た。
構造はＮＭＲ及びＩＲでｉ認し、ＧＰＣにより分子量を
確認した。エポキシ当量は２８０ｅｑｕｉｖ／ｇ（理論
値２５８ｅｑｕｉｖ ／ ｇ ）であった。
確認した。エポキシ当量は２８０ｅｑｕｉｖ／ｇ（理論
値２５８ｅｑｕｉｖ ／ ｇ ）であった。
実施例６
たＰ−ピラニルオキシフエニルジメチルシラノール２５
．２ｇをＯ′Ｃで滴下した。
．２ｇをＯ′Ｃで滴下した。
滴下終了後、室温にもどし２時間反応した。
反応終了後、反応溶液を氷水に投入しｌ規定塩酸水溶液
で中和した。エチルエーテルで抽出後水で洗浄し、溶媒
を揮発させて目的物を２７．５ｇ得た。
で中和した。エチルエーテルで抽出後水で洗浄し、溶媒
を揮発させて目的物を２７．５ｇ得た。
構造はＮＭＲ及びＩＲで確認した。
実施例７
合成反応は、実施例４（１）に準して行ない目的物を得
た。
た。
構造はＮＭＲ及びＩＲで確認した。
実施例８
戒。
２００ ｍの２ツロフラスコにジメチルジクロロラン６
．４５ｇ、）ジエチルアミン１１．１１ ｇとＴＨＦ５
０ａｆをとり、これに５０ｄのＴＨＦに溶解しビス〔（
ｐ−ピラニルオキシフェニル）ジメチルシリルオキシ〕
フェニルシラノール、イソプロパツールを三角フラスコ
に仕込み、全量の５％の塩酸を加え、４時間室温で反応
させた。
．４５ｇ、）ジエチルアミン１１．１１ ｇとＴＨＦ５
０ａｆをとり、これに５０ｄのＴＨＦに溶解しビス〔（
ｐ−ピラニルオキシフェニル）ジメチルシリルオキシ〕
フェニルシラノール、イソプロパツールを三角フラスコ
に仕込み、全量の５％の塩酸を加え、４時間室温で反応
させた。
反応終了後、溶媒に溶解し、水洗後溶媒を揮発させて目
的物を得た。
的物を得た。
構造はＮＭＲ及びＴＲで確認した。
本発明の多官能型シリコーン変性フェノール化合物は新
規な化合物である。更に２官能型シリコ一ン変性フエノ
ール化合物の製法において以前に採用した酸縮合法では
得られなかった多官能型シリコーン変性フェノール化合
物の製造法を新規に開発した。これらフェノール化合物
を原料に用いてエポキシ化を行うことにより、新規な多
官能型シリコーン変性エポキシ樹脂を得ることができた
。
規な化合物である。更に２官能型シリコ一ン変性フエノ
ール化合物の製法において以前に採用した酸縮合法では
得られなかった多官能型シリコーン変性フェノール化合
物の製造法を新規に開発した。これらフェノール化合物
を原料に用いてエポキシ化を行うことにより、新規な多
官能型シリコーン変性エポキシ樹脂を得ることができた
。
以上の化合物は、その他の合成樹脂の原料となることは
もちろんのこと、シリコーンを含む反応性改質剤、フォ
トレジストなど特殊な用途への展開も可能である。
もちろんのこと、シリコーンを含む反応性改質剤、フォ
トレジストなど特殊な用途への展開も可能である。
手続補正書（自発）
平底２午 ３月２３日
Claims (7)
- （１）式（ I ）で示される多官能型シリコーン変性フ
ェノール化合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （Ｒ＿１は、水素、フェニル基、メチル基、ＣＦ＿３Ｃ
Ｈ＿２ＣＨ＿２−基及びビニル基である。ｍは、３また
は４である。） - （２）式（II）で示される多官能型シリコーン変性フェ
ノール化合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （Ｒ＿１は、水素、フェニル基、メチル基、ＣＦ＿３Ｃ
Ｈ＿２ＣＨ＿２−基及びビニル基である。） - （３）式（III）で示されるシリコーン変性フェノール
化合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼（III） （Ｒ＿２及びＲ＿３は、水素、フェニル基、メチル基、
ＣＦ＿３ＣＨ＿２ＣＨ＿２−基及びビニル基であり、相
互に同一であっても異なってもよい。ｐは、１以上の整
数である。） - （４）式（IV）のシラノール化合物と置換ハロゲン化シ
ラン化合物を原料としてシロキサン結合を作り、脱保護
反応を行なうことを特徴とする請求項１、２又は３記載
の多官能型シリコーン変性フェノール化合物の製造方法
。 ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） （Ｒ＿４は、アリル基、アルキルエーテル化合物および
ピラニル化合物である） - （５）式（Ｖ）で示される多官能型シリコーン変性エポ
キシ樹脂。 ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） （Ｒ＿１は、水素、フェニル基、メチル基、ＣＦ＿３Ｃ
Ｈ＿２ＣＨ＿２−基及びビニル基である。ｍは、３また
は４である。） - （６）式（VI）で示される多官能型シリコーン変性エポ
キシ樹脂。 ▲数式、化学式、表等があります▼（VI） （Ｒ＿１は、水素、フェニル基、メチル基、ＣＦ＿３Ｃ
Ｈ＿２ＣＨ＿２−基及びビニル基である。） - （７）式（VII）で示されるシリコーン変性エポキシ樹
脂。 ▲数式、化学式、表等があります▼（VII） （Ｒ＿２及びＲ＿３は、水素、フェニル基、メチル基、
ＣＦ＿３ＣＨ＿２ＣＨ＿２−基及びビニル基であり、相
互に同一であっても異なってもよい。ｐは、１以上の整
数である。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2954090A JPH03236393A (ja) | 1990-02-13 | 1990-02-13 | シリコーン変性フェノール化合物とその製法及びエポキシ誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2954090A JPH03236393A (ja) | 1990-02-13 | 1990-02-13 | シリコーン変性フェノール化合物とその製法及びエポキシ誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03236393A true JPH03236393A (ja) | 1991-10-22 |
Family
ID=12278949
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2954090A Pending JPH03236393A (ja) | 1990-02-13 | 1990-02-13 | シリコーン変性フェノール化合物とその製法及びエポキシ誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03236393A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009511638A (ja) * | 2005-10-18 | 2009-03-19 | ディーシーイー アプリリス，インコーポレイテッド | ホログラフィックストレージのための、カチオン重合をサポートするシロキサン化合物を含む光重合可能な媒体 |
| JP2011063686A (ja) * | 2009-09-16 | 2011-03-31 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 光半導体素子封止用組成物 |
| WO2025031589A1 (de) * | 2023-08-10 | 2025-02-13 | Wacker Chemie Ag | Phenolterminierte siloxane |
-
1990
- 1990-02-13 JP JP2954090A patent/JPH03236393A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009511638A (ja) * | 2005-10-18 | 2009-03-19 | ディーシーイー アプリリス，インコーポレイテッド | ホログラフィックストレージのための、カチオン重合をサポートするシロキサン化合物を含む光重合可能な媒体 |
| JP2011063686A (ja) * | 2009-09-16 | 2011-03-31 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 光半導体素子封止用組成物 |
| WO2025031589A1 (de) * | 2023-08-10 | 2025-02-13 | Wacker Chemie Ag | Phenolterminierte siloxane |
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