JPH03237033A - ガラス吸着装置 - Google Patents
ガラス吸着装置Info
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- JPH03237033A JPH03237033A JP3469590A JP3469590A JPH03237033A JP H03237033 A JPH03237033 A JP H03237033A JP 3469590 A JP3469590 A JP 3469590A JP 3469590 A JP3469590 A JP 3469590A JP H03237033 A JPH03237033 A JP H03237033A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B35/00—Transporting of glass products during their manufacture, e.g. hot glass lenses, prisms
- C03B35/005—Transporting hot solid glass products other than sheets or rods, e.g. lenses, prisms, by suction or floatation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、加熱されたガラスを吸着するガラス吸着装置
に関する。
に関する。
［従来の技術］
例えば、加熱により溶融したガラスを抑圧成形して光学
素子を製造する場合には、加熱されたガラスを吸着する
ガラス吸着装置が用いられている。 従来、ガラス吸着
装置としては、例えば特開平↓−１８３４２６号公報に
開示されるように、加熱されたガラスと接触する先端部
をＴｉＮ等により被覆したものが知られている。
素子を製造する場合には、加熱されたガラスを吸着する
ガラス吸着装置が用いられている。 従来、ガラス吸着
装置としては、例えば特開平↓−１８３４２６号公報に
開示されるように、加熱されたガラスと接触する先端部
をＴｉＮ等により被覆したものが知られている。
これは、ＴｉＮ等の被覆によりガラスの融着を防止する
ものである。
ものである。
［発明が解決しようとする課題］
しかし、上記従来のガラス吸着装置では、ガラスの表面
温度が５００℃までのものしか使用できなかった。なぜ
ならば、ガラスの表面温度が５００℃を越えると、ガラ
ス吸着装置の先端部に形成した被膜の酸化が急激に進行
してしまい、被膜の剥離や再結晶化による表面の荒れ等
を生じるからである。表面の荒れ等を生じると、ガラス
とガラス吸着装置先端部との接触面積が増大して結合力
が強くなり、結果としてガラスの融着が発生してしまう
。そして、ガラスの融着が起きると、加工プロセスその
ものが停止したり、それ以後のガラスに融着の痕跡を転
写してしまい、外観不良になるという問題がある。
温度が５００℃までのものしか使用できなかった。なぜ
ならば、ガラスの表面温度が５００℃を越えると、ガラ
ス吸着装置の先端部に形成した被膜の酸化が急激に進行
してしまい、被膜の剥離や再結晶化による表面の荒れ等
を生じるからである。表面の荒れ等を生じると、ガラス
とガラス吸着装置先端部との接触面積が増大して結合力
が強くなり、結果としてガラスの融着が発生してしまう
。そして、ガラスの融着が起きると、加工プロセスその
ものが停止したり、それ以後のガラスに融着の痕跡を転
写してしまい、外観不良になるという問題がある。
本発明は、かかる従来の問題点に鑑みてなされたもので
、５００ ’Ｃ以上の高温に加熱されたガラスを吸着す
る場合であっても先端部にガラスの融着を生じないガラ
ス吸着装置を提供することを目的とする。
、５００ ’Ｃ以上の高温に加熱されたガラスを吸着す
る場合であっても先端部にガラスの融着を生じないガラ
ス吸着装置を提供することを目的とする。
［課題を解決するための手段］
上記目的を達成するために、本発明は、加熱されたガラ
スと接触する先端部をα型の酸化アルミニウム（α−１
２０３膜７被覆してガラス吸着装置を構成した。
スと接触する先端部をα型の酸化アルミニウム（α−１
２０３膜７被覆してガラス吸着装置を構成した。
［作 用］
ｉ ２０３は多くの結晶形態を有する物質であり、中で
もα−Ａ、＋２２０ｇが最も良好な熱的安定性を有する
。約１２００℃程度までの高温では、全く変化せず、再
結晶化は起きない。したがって、上記構成のガラス吸着
装置において、ガラスの接触面積は不変であり、その増
大による結合、すなわちガラスの融着は生じない。また
、α−Ａβ２０３は、Ａβ２０３の中で最も比表面積の
小さい形態であり、最表面へのＨ２０の吸着がない。し
たがって、水を吸収して表面にＯＨ基を生成したガラス
との水素結合を生ぜず、結果的にガラスの融着は防止さ
れる。
もα−Ａ、＋２２０ｇが最も良好な熱的安定性を有する
。約１２００℃程度までの高温では、全く変化せず、再
結晶化は起きない。したがって、上記構成のガラス吸着
装置において、ガラスの接触面積は不変であり、その増
大による結合、すなわちガラスの融着は生じない。また
、α−Ａβ２０３は、Ａβ２０３の中で最も比表面積の
小さい形態であり、最表面へのＨ２０の吸着がない。し
たがって、水を吸収して表面にＯＨ基を生成したガラス
との水素結合を生ぜず、結果的にガラスの融着は防止さ
れる。
［実 施 例コ
（第１実施例）
第１図は、本実施例のガラス吸着装置の要部を示すもの
で、吸着部１の先端には、吸着しようとするガラス素材
２の径よりも小径の円筒状の吸着口３が形成されている
。吸着部１はＳｉＣ焼結体を母材としており、その吸着
口３の先端部はＲＩＩＩＩＩＭ Ｏ，０６ＬＬｍ以下に
鏡面加工されている。
で、吸着部１の先端には、吸着しようとするガラス素材
２の径よりも小径の円筒状の吸着口３が形成されている
。吸着部１はＳｉＣ焼結体を母材としており、その吸着
口３の先端部はＲＩＩＩＩＩＭ Ｏ，０６ＬＬｍ以下に
鏡面加工されている。
また、この吸着口３の先端部には、膜厚０．５ＬＬｍの
α−Ａ［２０３膜４が被覆されている。
α−Ａ［２０３膜４が被覆されている。
α−ＡＪ２２０３膜４を形成するには、ＳｉＣ焼結体か
らなる吸着部１の母材をイオンブレーティング装置に配
置し、その母材を約１０００℃に加熱すると同時に、０
□のプラズマ中でＡＪ２を蒸発させて、母材上に（Ｚ−
Ａｇａ０３膜４を形成させる。
らなる吸着部１の母材をイオンブレーティング装置に配
置し、その母材を約１０００℃に加熱すると同時に、０
□のプラズマ中でＡＪ２を蒸発させて、母材上に（Ｚ−
Ａｇａ０３膜４を形成させる。
上記構成の本実施例のガラス吸着装置を用いて約６００
℃に加熱、軟化したガラスを吸着したところ、１０．０
００回使用してもα−１２０３膜４の表面は何ら変化せ
ず、結果としてガラスの融着も発生しなかった。
℃に加熱、軟化したガラスを吸着したところ、１０．０
００回使用してもα−１２０３膜４の表面は何ら変化せ
ず、結果としてガラスの融着も発生しなかった。
（第２実施例）
第２図は、本実施例のガラス吸着装置の先端部て、約８
００℃に加熱、軟化したガラスを吸着したところ、１０
，０００回使用してもα−１２０３膜７の表面は何ら変
化せず、結果としてガラスの融着も発生しなかった。
００℃に加熱、軟化したガラスを吸着したところ、１０
，０００回使用してもα−１２０３膜７の表面は何ら変
化せず、結果としてガラスの融着も発生しなかった。
本実施例においては、／ＩＮ膜６が中間層として存在し
、また熱酸化でα−ＡＪ２２０３膜７を形成しているた
めに、Ａ［Ｎ膜６とα−Ａ［２０，膜７との間に明確な
境界がなく、非常に大きな付着力を有している。従って
、８００℃という高温に接触するヒートショクに対して
も剥離等を生じない。
、また熱酸化でα−ＡＪ２２０３膜７を形成しているた
めに、Ａ［Ｎ膜６とα−Ａ［２０，膜７との間に明確な
境界がなく、非常に大きな付着力を有している。従って
、８００℃という高温に接触するヒートショクに対して
も剥離等を生じない。
（第３実施例）
第３図は、本実施例のガラス吸着装置の先端部を示すも
ので、第１実施例と同様な吸着部はＷＣを母材としてお
り、その吸着口８の先端部には、ＣｒｘＣ２膜９が形成
されている。また、このＣｒ３Ｃ２膜９の上には、膜厚
０．５ｕｍのα−ＡＩ２２０．膜１０が最表層として被
覆されている。 ＣｒａＣｚ膜９およびａ −Ａ（２２
０３膜１０を形成するには、まずＷＣからなる吸着部の
母材をイオンビームスパッタ装置に配置する。母材は予
めているために、Ａ［Ｎ膜６とα−Ａ［２０３月莫７と
の間に明確な境界がなく、非常に大きな付着力を有して
いる。従って、８００℃という高温に接触するヒートシ
ョクに対しても剥離等を生じない。
ので、第１実施例と同様な吸着部はＷＣを母材としてお
り、その吸着口８の先端部には、ＣｒｘＣ２膜９が形成
されている。また、このＣｒ３Ｃ２膜９の上には、膜厚
０．５ｕｍのα−ＡＩ２２０．膜１０が最表層として被
覆されている。 ＣｒａＣｚ膜９およびａ −Ａ（２２
０３膜１０を形成するには、まずＷＣからなる吸着部の
母材をイオンビームスパッタ装置に配置する。母材は予
めているために、Ａ［Ｎ膜６とα−Ａ［２０３月莫７と
の間に明確な境界がなく、非常に大きな付着力を有して
いる。従って、８００℃という高温に接触するヒートシ
ョクに対しても剥離等を生じない。
（第３実施例）
第３図は、本実施例のガラス吸着装置の先端部を示ずも
ので、第１実施例と同様な吸着部はＷＣを母材としてお
り、その吸着口８の先端部には、Ｃｒ５Ｃ２膜９が形成
されている。また、このＣｒ５Ｃｚ膜９の上には、膜厚
０．５μｍのα−Ａ、ｆ２２０３膜１０が最表層として
被覆されている。 Ｃｒ３Ｃ２膜９およびａ−ＡＩ２２
０３膜１０を形成するには、まずＷＣからなる吸着部の
母材をイオンビームスパッタ装置に配置する。母材は予
め６００℃に加熱しておく。そして、Ｃｒをターゲット
とし、ＡｒとＣＨ４とを１：４の割合で混合したガスを
イオンガンに導入してイオンビームを取り出し、スパッ
タする。加速電圧は９００Ｖ、全圧は１×１Ｏ−３Ｔｏ
ｒｒである。これにより、Ｃｒ３Ｃ２膜９が形成される
。次に、ＡＩ２をターゲットとし、Ａｒと０２とを１＝
５の割合で混合したガスをイオンガンに導入してイオン
ビームを取り出し、スパッタする。加速電圧は９００Ｖ
、全圧はｌ Ｘ １０−３Ｔｏｒｒである。これにより
、α−Ａβ２０３膜１０が形成される。
ので、第１実施例と同様な吸着部はＷＣを母材としてお
り、その吸着口８の先端部には、Ｃｒ５Ｃ２膜９が形成
されている。また、このＣｒ５Ｃｚ膜９の上には、膜厚
０．５μｍのα−Ａ、ｆ２２０３膜１０が最表層として
被覆されている。 Ｃｒ３Ｃ２膜９およびａ−ＡＩ２２
０３膜１０を形成するには、まずＷＣからなる吸着部の
母材をイオンビームスパッタ装置に配置する。母材は予
め６００℃に加熱しておく。そして、Ｃｒをターゲット
とし、ＡｒとＣＨ４とを１：４の割合で混合したガスを
イオンガンに導入してイオンビームを取り出し、スパッ
タする。加速電圧は９００Ｖ、全圧は１×１Ｏ−３Ｔｏ
ｒｒである。これにより、Ｃｒ３Ｃ２膜９が形成される
。次に、ＡＩ２をターゲットとし、Ａｒと０２とを１＝
５の割合で混合したガスをイオンガンに導入してイオン
ビームを取り出し、スパッタする。加速電圧は９００Ｖ
、全圧はｌ Ｘ １０−３Ｔｏｒｒである。これにより
、α−Ａβ２０３膜１０が形成される。
イオンビームスパッタの場合には、イオンビムを母料の
方にも入射させることにより、６００℃という通常のス
パッタ法ではα−Ａ［２０３の生じない母材の温度でも
、局所的高温状態が実現してα−１２０３膜部成される
。
方にも入射させることにより、６００℃という通常のス
パッタ法ではα−Ａ［２０３の生じない母材の温度でも
、局所的高温状態が実現してα−１２０３膜部成される
。
上記構成の本実施例のガラス吸着装置を用いて約９００
℃に加熱、軟化したガラスを吸着したところ、１．０．
０００回使用してもα−Ａ［２０３膜１０の表面は何ら
変化せず、結果としてガラスの融着も発生しなかった。
℃に加熱、軟化したガラスを吸着したところ、１．０．
０００回使用してもα−Ａ［２０３膜１０の表面は何ら
変化せず、結果としてガラスの融着も発生しなかった。
本実施例においては、Ｃｒ、Ｃ＝膜９が中間層として存
在し、母材のＷＣとα−Ａｆｆ２０ａ膜１０とを強固に
密着させており、更にＣｒｓ Ｃ２膜９が良好な耐熱性
を有しているために、ヒートショックによる剥離等が発
生しない。
在し、母材のＷＣとα−Ａｆｆ２０ａ膜１０とを強固に
密着させており、更にＣｒｓ Ｃ２膜９が良好な耐熱性
を有しているために、ヒートショックによる剥離等が発
生しない。
なお、以上の各実施例においては、吸着部の形状を第１
図に示すようなものとしたが、本発明はかかる実施例に
限定されるものではなく、加熱されたガラスと接触する
先端部を有するどのような形状の吸着部についても適用
できる。また、第２および第３実施例においては、中間
層を設けることにより、母材とα−Ａ、Ｇ！２０３膜７
，１０との付着力を強化した例を示したが、中間層とし
て用いる物質は、使用温度範囲で良好な耐熱性を有し、
かつ付着力を強化するものであれば、上記実施例に限定
されるものではない。さらに、α−Ａ４□０３膜４，７
．］、０の膜厚は、０１〜１μｍが好ましい。
図に示すようなものとしたが、本発明はかかる実施例に
限定されるものではなく、加熱されたガラスと接触する
先端部を有するどのような形状の吸着部についても適用
できる。また、第２および第３実施例においては、中間
層を設けることにより、母材とα−Ａ、Ｇ！２０３膜７
，１０との付着力を強化した例を示したが、中間層とし
て用いる物質は、使用温度範囲で良好な耐熱性を有し、
かつ付着力を強化するものであれば、上記実施例に限定
されるものではない。さらに、α−Ａ４□０３膜４，７
．］、０の膜厚は、０１〜１μｍが好ましい。
［発明の効果］
以上のように、本発明のガラス吸着装置によれば、加熱
されたガラスと接触する先端部をα−Ａｊ２２０．で被
覆したので、５００℃以上に加熱、軟化されたガラスを
吸着しても長期間ガラスの融着が発生ぜず、安定して外
観不良のない光学素子を製造することができる。
されたガラスと接触する先端部をα−Ａｊ２２０．で被
覆したので、５００℃以上に加熱、軟化されたガラスを
吸着しても長期間ガラスの融着が発生ぜず、安定して外
観不良のない光学素子を製造することができる。
第１図は本発明のガラス吸着装置の第１実施例を示す要
部縦断面図、第２図および第３図はそれぞれ本発明の第
２および第３実施例における吸着部先端を示す縦断面図
である。 １・・・吸着部 ２・・・ガラス素材 ３．５．８・・・吸着口 ４、７．１０・・・α−１２０３膜 ６・・・Ａｌ２Ｎ膜 ７− Ｃｒｓ Ｃ２膜
部縦断面図、第２図および第３図はそれぞれ本発明の第
２および第３実施例における吸着部先端を示す縦断面図
である。 １・・・吸着部 ２・・・ガラス素材 ３．５．８・・・吸着口 ４、７．１０・・・α−１２０３膜 ６・・・Ａｌ２Ｎ膜 ７− Ｃｒｓ Ｃ２膜
Claims (1)
- （１）加熱されたガラスと接触する先端部をα型の酸化
アルミニウムで被覆したことを特徴とするガラス吸着装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3469590A JPH03237033A (ja) | 1990-02-15 | 1990-02-15 | ガラス吸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3469590A JPH03237033A (ja) | 1990-02-15 | 1990-02-15 | ガラス吸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03237033A true JPH03237033A (ja) | 1991-10-22 |
Family
ID=12421507
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3469590A Pending JPH03237033A (ja) | 1990-02-15 | 1990-02-15 | ガラス吸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03237033A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20030090255A (ko) * | 2002-05-22 | 2003-11-28 | 주식회사 하이켐텍 | 고화성 흡착패드 |
| CN108478094A (zh) * | 2018-05-28 | 2018-09-04 | 珠海格力电器股份有限公司 | 擦玻璃机器人及其加热控制系统和方法 |
| WO2020136078A1 (de) * | 2018-12-28 | 2020-07-02 | Füller Glastechnologie Vertriebs-Gmbh | Vorrichtung zum halten eines glas-vorformlings |
-
1990
- 1990-02-15 JP JP3469590A patent/JPH03237033A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20030090255A (ko) * | 2002-05-22 | 2003-11-28 | 주식회사 하이켐텍 | 고화성 흡착패드 |
| CN108478094A (zh) * | 2018-05-28 | 2018-09-04 | 珠海格力电器股份有限公司 | 擦玻璃机器人及其加热控制系统和方法 |
| CN108478094B (zh) * | 2018-05-28 | 2023-09-08 | 珠海格力电器股份有限公司 | 擦玻璃机器人及其加热控制系统和方法 |
| WO2020136078A1 (de) * | 2018-12-28 | 2020-07-02 | Füller Glastechnologie Vertriebs-Gmbh | Vorrichtung zum halten eines glas-vorformlings |
| CN113272259A (zh) * | 2018-12-28 | 2021-08-17 | 富勒玻璃技术销售有限公司 | 用于保持玻璃预成型件的设备 |
| JP2022515647A (ja) * | 2018-12-28 | 2022-02-21 | フュラー グラーステクノロジー フェルトリーブス－ゲーエムベーハー | ガラスプリフォームを保持するための装置 |
| US20220055938A1 (en) * | 2018-12-28 | 2022-02-24 | Füller Glastechnologie Vertriebs-Gmbh | Device for holding a glass preform |
| EP3902775B1 (de) * | 2018-12-28 | 2023-02-08 | Füller Glastechnologie Vertriebs-Gmbh | Vorrichtung zum halten eines glas-vorformlings |
| CN113272259B (zh) * | 2018-12-28 | 2023-10-10 | 富勒玻璃技术销售有限公司 | 用于保持玻璃预成型件的设备 |
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