JPH03237369A - テストヘッド構造 - Google Patents

テストヘッド構造

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JPH03237369A
JPH03237369A JP2034883A JP3488390A JPH03237369A JP H03237369 A JPH03237369 A JP H03237369A JP 2034883 A JP2034883 A JP 2034883A JP 3488390 A JP3488390 A JP 3488390A JP H03237369 A JPH03237369 A JP H03237369A
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test head
insulating film
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hole
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Shu Mochizuki
周 望月
Takanori Miyoshi
孝典 三好
Kazuo Ouchi
一男 大内
Masakazu Sugimoto
正和 杉本
Mikio Aizawa
相沢 幹雄
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Nitto Denko Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は基板などの導通検査を行なうためのテストヘッ
ド構造に関する。
〈従来の技術〉 近年、半導体ウェハの製造技術の発展がめざましく、そ
れに伴いIC配線の微細パターン化が急ピッチに進み、
このような微細パターンのICを搭載する基板も年々増
加している。
通常、このような基板は銅張積層板やガラス基板、セラ
ミック基板からなり、導通検査は従来、専用のテスター
などの治具を用いて行なっていた。
〈発明が解決しようとする課題〉 しかし、配線パターンが微細化しているので、検査時の
位置合わせが困難であると共に、位置合わせ時にパター
ンを傷つける恐れもある。さらに、配線パターンの複雑
化、多機能化によって、検査も多様化しており、従来の
検査用治具では検査できない場合も生じるようになって
きている。
く課題を解決するための手段〉 そこで、本発明者らは上記従来の検査用治具が有する上
記課題を解決し、検査時の位置合わせが容易で、かつ配
線パターンを傷つけることがなく、被検体である配線パ
ターンへの繰り返し打点検査やヒートサイクルによって
も導通不良を起こさないテストヘッドを提供すべく鋭意
検討を重ね、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明はリードを有する絶縁性フィルムのリード
当接領域内もしくはB9に域とその近傍領域に、少なく
とも1個の貫通孔がフィルムの厚み方向に設けられてお
り、かつリード当接領域内に設けられた貫通孔には金属
物質による導通路が形成されていると共に、導通路を形
成した貫通孔においてリード当接面と反対面の絶縁性フ
ィルム表面開口部にはバンブ状の金属突出物が形成され
ていることを特徴とする導通検査用のテストへ、ド構造
に関するものである。
さらに、このテストヘッド構造における金属突出動形成
面に保護樹脂層を形成することによって、導通検査の際
の被検体の損傷が著しく減少するものである。
以下、本発明を図面を用いて説明する。
第1図は本発明の構造を有するテストヘッドを導通検査
すべき基板に接触させて検査を行なっている状態を示す
一実例の断面図である。第1因においてテストヘッドへ
の構造は、リードIを片面に有する絶縁性フィルム2の
リード当接領域内およびその近傍領域に複数の貫通孔3
が設けられており、リード1当接領域内に形成された貫
通孔3にのみ金属物質4が充填されて導通路が形成され
、バンブ状の金属突出物7が形成されている。検査に際
しては、例えば上記テストヘッドのリード側に接着剤8
を介して支持体9を固着し、テストヘッドAのバンブ状
金属突出物7を被検査基板5上のランド部のような配線
パターン6(または半導体素子上のアルミニウム電極な
ど)に接触させることで導通検査を行なうことができる
。
第1図において絶縁性フィルム2は電気絶縁特性を有す
るフィルムであればその素材に制限はなく、ポリエステ
ル系樹脂、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリスチ
レン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、
ポリイミド系樹脂、ABS樹脂、ポリカーボネート樹脂
、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂など熱硬化性樹脂や
熱可塑性樹脂を問わず使用できる。これらのうち、耐熱
性や機械的強度の点からはポリイミド系樹脂を用いるこ
とが好ましい。
上記絶縁性フィルム2の片面に形成されるり−ド1は、
例えば金、銀、銅、鉄、ニッケル、コバルトなどの各種
金属、またはこれらを主成分とする各種合金などの導電
性材料によって形成される。
形成方法としては、スパッタリング、各種蒸着、各種メ
ンキなどの各種方法が採用できる。このようなリードl
は後述する導通路によって被検体のランド部や半導体素
子上の電極と電気的に接続され、所定の機能を被検体が
有するか否かを検査できるように、所望の線状パターン
にて配線されている。
上記絶縁性フィルム2に設ける貫通孔3は、リード1と
基板5上の配線パターン6との電気的接続を果たすため
に重要であり、絶縁性フィルム2のリード1当接領域内
もしくは該領域とその近傍領域にリード10幅よりも小
さな孔間ピッチにて、少なくとも1個の微細な貫通孔が
フィルム2の厚み方向に設けられている。貫通孔3は機
械加工やレーデ−加工、光加工、化学エンチングなどの
方法を用い、任意の孔径や孔間ピッチにて設けることが
でき、例えば精度よく設けるためにはエキシマレーザ−
の照射による穿孔加工を行なうことが好ましい。また、
貫通孔3の孔径は、隣り合う貫通孔同士が繋がらない程
度にまで大きくし、さらに孔間ピッチもできるだけ小さ
くしてリード1に接する貫通孔3の数を増やすことが、
該貫通孔3に形成する金属物質4の電気抵抗を小さくす
る上で好ましいものである。
上記のようにして設けた貫通TL3のうち、リード1当
接領域内の貫通孔には、金属物質4によって導通路が形
成される。導通路は金属物t4を電解メツキなどの手段
によって充填したり、孔壁面にチューブ状に設けたりす
ることによって形成される。
さらに、導通路が形成されている貫通孔3のリード当接
面と反対面の絶縁性フィルム2の開口部には、0.1〜
数百μmの高さでバンブ状の金属突出物7を形成させる
ことで本発明のテストヘッド構造とすることができる。
また、貫通孔内に設けられ、かつバンプ状に突出させる
金属物質は、単一の金属物質に限定されず、複数種の金
属物質を用いて多層構造とすることができる0例えば第
2図に示すように、貫通孔3のリード1例の第1層に銅
などの安価な金属物’f4aを用い、基板5と接する第
3層には接続信頼性の高い金などの金属物質4cを用い
、第1層と第3層との間に位置する第2層として、第1
層と第3層を形成する金属物質の相互反応を防止するた
めのバリアー性金属物t4bとしてニンヶルなどを用い
ることもできる。
なお、バンブ場金属突出物の形状は第1図のような形状
のほか、キノコ状(傘状)などの形状としてもよく、被
検体のレイアウトによって任意に設計することができる
。
第3図(a)〜(C)は本発明のテストヘッド構造を得
るための具体的な製造工程を示す説明図である。
第3図(a)は銅箔などの導電性材料層を絶縁性フィル
ムの片面に有する2層基材の導電性材料層をパターン化
してリード1を形成し、さらに、貫通孔3を設けたもの
であり、第3図(ロ)は上記にて得た絶縁性フィルム2
のリード1形底面(図中では下部)をマスクし、リード
1を電極として電解メツキを行ない、リード1に接して
いる貫通孔3のみに金属物t4を充填して導通路とし、
次いでこの貫通孔3の上記絶縁性フィルム2の開口部に
それぞれバンプ状の金属突出物7を形成したものである
。なお、第3図(C)は第3図(b)の部分斜視図であ
る。
第4図は第1図に示す本発明のテストヘッド構造を、ガ
ラス基板上の配線パターン6としての【TOパターンに
接続して導通試験を行なう状態を示す一実例の部分切欠
斜視図である。
また、本発明のテストヘッド構造を用いた導通検査にお
いて、被検体の損傷を防止し、かつ、バンプ状金属突出
物の保護や脱落を防止する目的で、第5図に示すように
保護樹脂層1oをバンブ状金属突出物7形威面に設ける
ことが好ましい。この際、金属突出物7は第5図に示す
ように、保護樹脂層10から充分に突出していることが
必要である。
このような保護樹脂層10は通常、5〜50μm、好ま
しくは10〜30μmの厚みで設けられ、該樹脂として
エポキシ樹脂の如き熱硬化性樹脂や、フッ素樹脂の如き
熱可塑性樹脂を問わず使用できる。なお、該樹脂層10
はバンプ状金属突出物形底面に設けてもよいし、フィル
ム状やリボン状にしたものを熱圧着して設けてもよい。
以上のようにして得られる本発明のテストヘッド構造は
、検査用のチエッカ−とリードを介して接続され、第4
図に示すようにバンプ状の金属突出物を被検査用の基板
の配線パターン面(ランド部)や半導体素子上の外部接
続用電極に押し当てることによって、導通検査を行なう
ことができる。
また、仮止め用の接着剤を用いてテストヘッドを固定す
ることによって、検査時の作業性が良好となり、また電
気的接続信頼性も向上するものである。
〈発明の効果〉 本発明のテストヘッド構造は上記構造を有するので、導
通検査において基板上の配線パターンとテストヘッドの
バンプ状金属突出物にて容易に、かつ高精度に位置合わ
せできるので、検査時に配線パターンを傷つけることが
ないものである。
また、リードの配線や貫通孔を微細化することによって
、基板上のパターンのファインピッチ化にも充分に対応
できるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の構造を有するテストヘッドを導通検査
すべき基板に接触させて検査を行なっている状態を示す
一実例の断面図、第2図は本発明の構造の貫通孔に金属
物質を多層に充填した場合の拡大断面図、第3図(a)
〜(C)は本発明の構造を得るための具体的な製造工程
を示す説明図、第4図は第1図に示す本発明のテストヘ
ッド構造を基板上の配線パターンに接続して導通試験を
行なう状態を示す一実例の部分切欠斜視図、第5図は本
発明の構造を有するテストヘッドを導通検査すべき基板
に接触させて検査を行なっている状態を示す他の実例の
断面図である。 A・・・テストヘッド、  1・・・リード、2・・・
絶縁性フィルム、3・・・貫通孔、4・・・金属勧賞、
    7・・・バンブ状金属突出物、10・・・保護
樹脂層

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)リードを有する絶縁性フィルムのリード当接領域
    内もしくは該領域とその近傍領域に、少なくとも1個の
    貫通孔がフィルムの厚み方向に設けられており、かつリ
    ード当接領域内に設けられた貫通孔には金属物質による
    導通路が形成されていると共に、導通路を形成した貫通
    孔においてリード当接面と反対面の絶縁性フィルム表面
    開口部にはバンプ状の金属突出物が形成されていること
    を特徴とする導通検査用のテストヘッド構造。
  2. (2)金属突出物形成面に保護樹脂層が形成されてなる
    請求項(1)記載のテストヘッド構造。
JP2034883A 1989-12-19 1990-02-15 テストヘッド構造 Expired - Lifetime JP2733359B2 (ja)

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JP33005189 1989-12-19
JP1-330051 1989-12-19
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0902296A1 (de) * 1997-09-11 1999-03-17 Photo Print Electronic GmbH Adapteranordnungen zum Testen von Leiterplatten
EP0902297A3 (de) * 1997-09-11 2001-11-28 Photo Print Electronic GmbH Adapteranordnungen zum Testen von Leiterplatten

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6360971U (ja) * 1986-10-08 1988-04-22

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