JPH0442737B2 - - Google Patents
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- JPH0442737B2 JPH0442737B2 JP58018929A JP1892983A JPH0442737B2 JP H0442737 B2 JPH0442737 B2 JP H0442737B2 JP 58018929 A JP58018929 A JP 58018929A JP 1892983 A JP1892983 A JP 1892983A JP H0442737 B2 JPH0442737 B2 JP H0442737B2
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、光ビームを用いて光学的に情報を記
録又は再生することが可能な光学的記録媒体に関
するものである。
録又は再生することが可能な光学的記録媒体に関
するものである。
従来、光学的記録媒体の構成として、ガラス基
板上の複数層から成る反射防止膜を形成し、更に
その上に記録層を設けた例が知られている。しか
しながら、基板としてプラスチツク等を用いた場
合、或いはガラス基板と反射防止膜との間に樹脂
から成る断熱層等を設けた場合には、クラツクを
生じる為に複数層の反射防止を形成することがで
きず、もつぱら単層の反射防止膜が用いられ、十
分な反射防止効果が得られない欠点があつた。
板上の複数層から成る反射防止膜を形成し、更に
その上に記録層を設けた例が知られている。しか
しながら、基板としてプラスチツク等を用いた場
合、或いはガラス基板と反射防止膜との間に樹脂
から成る断熱層等を設けた場合には、クラツクを
生じる為に複数層の反射防止を形成することがで
きず、もつぱら単層の反射防止膜が用いられ、十
分な反射防止効果が得られない欠点があつた。
本発明は、樹脂基板又は基板と反射防止膜の間
に樹脂層を用いる場合に上記欠点を除去し、効率
の高い記録、再生が可能な光学的記録媒体を提供
することを目的とする。
に樹脂層を用いる場合に上記欠点を除去し、効率
の高い記録、再生が可能な光学的記録媒体を提供
することを目的とする。
本発明は樹脂基板上に内部応力が相反する膜の
複数層から構成される反射防止膜および記録層が
順次設けられて成る光学的記録媒体および基板上
に樹脂層、内部応力が相反する膜の複数層から構
成される反射防止膜および記録層が順次設けられ
て成る光学的記録媒体によつて上記目的を達する
ものである。
複数層から構成される反射防止膜および記録層が
順次設けられて成る光学的記録媒体および基板上
に樹脂層、内部応力が相反する膜の複数層から構
成される反射防止膜および記録層が順次設けられ
て成る光学的記録媒体によつて上記目的を達する
ものである。
本発明において基板として用いられる樹脂とし
てはポリ（メタ）アクリレート類、ポリカーボネ
ートなどを挙げることができる。またガラス基板
上に有機断熱層等を形成する樹脂としてはシリコ
ーン系、エポキシ系、ウレタン系、ポリ（メタ）
アクリレート系を挙げることができる。
てはポリ（メタ）アクリレート類、ポリカーボネ
ートなどを挙げることができる。またガラス基板
上に有機断熱層等を形成する樹脂としてはシリコ
ーン系、エポキシ系、ウレタン系、ポリ（メタ）
アクリレート系を挙げることができる。
本発明において、上記反射防止膜は、例えば次
のようにして構成される。すなわち、高屈折率膜
として圧縮応力を有するZnS膜を用い、低屈折率
膜として引張り応力を有するMgF2膜またはNa3
ＡF6膜などを用いて反射防止膜を構成する。
これらの各膜は２層以上用いることも、もちろん
可能である。別の例では、低屈折率膜として圧縮
応力を有するSiO2膜を用い、高屈折率膜として
引張り応力を有するTiO2膜またはZrO2膜などを
用いて反射防止膜を構成することもできる。さら
に別の例では、高屈折率膜としてPbF2（圧縮応
力）膜を用い、低屈折率膜としてCaF2（引張り応
力）を用いる。
のようにして構成される。すなわち、高屈折率膜
として圧縮応力を有するZnS膜を用い、低屈折率
膜として引張り応力を有するMgF2膜またはNa3
ＡF6膜などを用いて反射防止膜を構成する。
これらの各膜は２層以上用いることも、もちろん
可能である。別の例では、低屈折率膜として圧縮
応力を有するSiO2膜を用い、高屈折率膜として
引張り応力を有するTiO2膜またはZrO2膜などを
用いて反射防止膜を構成することもできる。さら
に別の例では、高屈折率膜としてPbF2（圧縮応
力）膜を用い、低屈折率膜としてCaF2（引張り応
力）を用いる。
本発明の光学的記録媒体において、反射防止膜
の基板側から第１層目にSiO膜を設けることもで
きる。
の基板側から第１層目にSiO膜を設けることもで
きる。
SiO膜は、有機樹脂に対して、密着性、耐溶剤
性、表面強度においてすぐれ反射防止膜の成膜性
（クラツク、ハガレ等に関係）をより向上させる。
性、表面強度においてすぐれ反射防止膜の成膜性
（クラツク、ハガレ等に関係）をより向上させる。
本発明の光学的記録媒体の構成を示す模式図で
ある第１図を参照して本発明の一実施態様を説明
する。ガラス基板１ａ上に有機樹脂からなる断熱
層２を形成し、反射防止層として圧縮応力を有す
る膜３ａ、引張り応力を有する膜３ｂおよび圧縮
応力を有する膜３ｃを真空蒸着法により形成し、
さらに記録層４、保護膜５を設け、接着層６を介
してガラス基板１ｂと貼り合せて光学的記録媒体
とする。反射防止膜は、反射防止層３ａおよび３
ｃを高屈折率膜、３ｂを低屈折率膜として形成さ
れる。また、３ａおよび３ｃを引張り応力を有す
る膜を用い、３ｂを圧縮応力を有する膜にして反
射防止膜を形成することもできる。
ある第１図を参照して本発明の一実施態様を説明
する。ガラス基板１ａ上に有機樹脂からなる断熱
層２を形成し、反射防止層として圧縮応力を有す
る膜３ａ、引張り応力を有する膜３ｂおよび圧縮
応力を有する膜３ｃを真空蒸着法により形成し、
さらに記録層４、保護膜５を設け、接着層６を介
してガラス基板１ｂと貼り合せて光学的記録媒体
とする。反射防止膜は、反射防止層３ａおよび３
ｃを高屈折率膜、３ｂを低屈折率膜として形成さ
れる。また、３ａおよび３ｃを引張り応力を有す
る膜を用い、３ｂを圧縮応力を有する膜にして反
射防止膜を形成することもできる。
本発明においては、反射防止膜を内部応力が相
反する膜の複数層により構成することによつて、
樹脂基板または基板上の樹脂層を下地として反射
防止膜を形成する場合の膜のクラツクが防止され
る。また、基板上に塗布された樹脂を下地とする
場合、反射防止膜自体の内部応力が小さくなるよ
うに形成されるので、樹脂の密着性、分光透過率
特性、表面硬度、断熱性などの他に、成膜作業性
をも重視して樹脂層を選択することができ、選択
の自由度が増すという利点がある。
反する膜の複数層により構成することによつて、
樹脂基板または基板上の樹脂層を下地として反射
防止膜を形成する場合の膜のクラツクが防止され
る。また、基板上に塗布された樹脂を下地とする
場合、反射防止膜自体の内部応力が小さくなるよ
うに形成されるので、樹脂の密着性、分光透過率
特性、表面硬度、断熱性などの他に、成膜作業性
をも重視して樹脂層を選択することができ、選択
の自由度が増すという利点がある。
以下に実施例を示して本発明を具体的に説明す
る。
る。
実施例 １
第１図に示した構造の光学的記録媒体を、反射
防止層３ａおよび３ｃにZnS膜を高屈折率膜とし
て用い、MgF2膜を低屈折率膜として用いて製作
した（記録波長800nmの1/4λ膜厚）。なお、断熱
層２、記録層４および保護膜５としては、それぞ
れポリアクリレート系樹脂GdTbFeCo4元系非晶
質合金膜およびSiO膜を用いた。このようにして
得られた光学的記録媒体は、反射防止膜にクラツ
クを生じなかつた。
防止層３ａおよび３ｃにZnS膜を高屈折率膜とし
て用い、MgF2膜を低屈折率膜として用いて製作
した（記録波長800nmの1/4λ膜厚）。なお、断熱
層２、記録層４および保護膜５としては、それぞ
れポリアクリレート系樹脂GdTbFeCo4元系非晶
質合金膜およびSiO膜を用いた。このようにして
得られた光学的記録媒体は、反射防止膜にクラツ
クを生じなかつた。
比較のために、反射防止層３ａおよび３ｃに
は、高屈折率膜としてZrO2膜を用い、３ｂには
低屈折率膜としてMgF2膜を用いて反射防止膜を
構成した場合、記録波長800nmの1/4λ膜厚にお
いては膜全面にクラツクが生じた。なお、有機断
熱層２がなく、反射防止膜を直接ガラス基体１ａ
上に上記のようにZrO2膜とMgF2膜とで形成した
場合にはクラツクが生じなかつた。
は、高屈折率膜としてZrO2膜を用い、３ｂには
低屈折率膜としてMgF2膜を用いて反射防止膜を
構成した場合、記録波長800nmの1/4λ膜厚にお
いては膜全面にクラツクが生じた。なお、有機断
熱層２がなく、反射防止膜を直接ガラス基体１ａ
上に上記のようにZrO2膜とMgF2膜とで形成した
場合にはクラツクが生じなかつた。
この結果から、内部応力が相反するZnS膜と
MgF2膜との組み合せの場合には反射防止膜にク
ラツクを生じないのに対して、ZrO2膜とMgF2膜
との組み合せでは、両者とも引張り応力を有する
ため、クラツクが生じるものと考えられる。
MgF2膜との組み合せの場合には反射防止膜にク
ラツクを生じないのに対して、ZrO2膜とMgF2膜
との組み合せでは、両者とも引張り応力を有する
ため、クラツクが生じるものと考えられる。
実施例 ２
実施例１と同様にして、反射防止層３ａおよび
３ｃに引張り応力を有する高屈折率のTiO2膜を
用い、３ｂに圧縮応力を有する低屈折率のSiO2
膜を用いて光学的記録媒体を作製した。反射防止
膜にクラツクは生じなかつた。
３ｃに引張り応力を有する高屈折率のTiO2膜を
用い、３ｂに圧縮応力を有する低屈折率のSiO2
膜を用いて光学的記録媒体を作製した。反射防止
膜にクラツクは生じなかつた。
比較のために、反射防止層３ａおよび３ｃとし
てTiO2膜を用い、３ｂとしてMgF2膜を用い反射
防止層を構成したところ、膜全面にクラツクを生
じた。これはTiO2膜およびMgF2膜が、ともに引
張り応力を有しているためと考えられる。
てTiO2膜を用い、３ｂとしてMgF2膜を用い反射
防止層を構成したところ、膜全面にクラツクを生
じた。これはTiO2膜およびMgF2膜が、ともに引
張り応力を有しているためと考えられる。
前述の実施例ではガラス基板上に樹脂から成る
断熱層を設け、その上に反射防止膜を形成する例
を示したが、本発明は同様に樹脂基板上に直接反
射防止膜を形成する場合にも有効である。又、前
記例では記録層としてGdTbFeCo等の非晶質合
金を用いた光学的記録媒体を示したが、本発明は
これに限らず、TeOx，TeC等のカルコゲン系、
VO2等の半導体材料他、光学的に記録又は再生が
可能なものであればどのような材料でも記録層と
して用いることができる。
断熱層を設け、その上に反射防止膜を形成する例
を示したが、本発明は同様に樹脂基板上に直接反
射防止膜を形成する場合にも有効である。又、前
記例では記録層としてGdTbFeCo等の非晶質合
金を用いた光学的記録媒体を示したが、本発明は
これに限らず、TeOx，TeC等のカルコゲン系、
VO2等の半導体材料他、光学的に記録又は再生が
可能なものであればどのような材料でも記録層と
して用いることができる。
第１図は本発明の光学的記録媒体の構造を説明
するための模式図である。 １ａ，１ｂ……ガラス基板、２……有機断熱
層、３ａ，３ｂ，３ｃ……反射防止層、４……記
録磁性層、５……保護膜、６……接着層。
するための模式図である。 １ａ，１ｂ……ガラス基板、２……有機断熱
層、３ａ，３ｂ，３ｃ……反射防止層、４……記
録磁性層、５……保護膜、６……接着層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 樹脂基板上に内部応力が相反する膜の複数層
から構成される反射防止膜および記録層が順次設
けられて成る光学的記録媒体。 ２ 前記反射防止膜が、高屈折率膜として圧縮応
力を有するZnS膜を用い、低屈折率膜として引張
り応力を有するMgF2膜またはNa3ＡF6膜を用
いて構成された特許請求の範囲第１項記載の光学
的記録媒体。 ３ 前記反射防止膜が、低屈折率膜として圧縮応
力を有するSiO2膜を用い、高屈折率膜として引
張り応力を有するTiO2膜またはZrO2膜を用いて
構成された特許請求の範囲第１項記載の光学的記
録媒体。 ４ 前記反射防止膜が、該基板側から第１番目の
層としてSiO膜を用いて構成された特許請求の範
囲第１項記載の光学的記録媒体。 ５ 基板上に樹脂層、内部応力が相反する膜の複
数層から構成される反射防止膜および記録層が順
次設けられて成る光学的記録媒体。 ６ 前記反射防止膜が、高屈折率膜として圧縮応
力を有するZnS膜を用い、低屈折率膜として引張
り応力を有するMgF2膜またはNa3ＡF6膜を用
いて構成された特許請求の範囲第５項記載の光学
的記録媒体。 ７ 前記反射防止膜が、低屈折率膜として圧縮応
力を有するSiO2膜を用い、高屈折率膜として引
張り応力を有するTiO2膜またはZrO2膜を用いて
構成された特許請求の範囲第５項記載の光学的記
録媒体。 ８ 前記反射防止膜が、該基板側から第１番目の
層としてSiO膜を用いて構成された特許請求の範
囲第５項記載の光学的記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58018929A JPS59146461A (ja) | 1983-02-09 | 1983-02-09 | 光学的記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58018929A JPS59146461A (ja) | 1983-02-09 | 1983-02-09 | 光学的記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59146461A JPS59146461A (ja) | 1984-08-22 |
| JPH0442737B2 true JPH0442737B2 (ja) | 1992-07-14 |
Family
ID=11985320
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58018929A Granted JPS59146461A (ja) | 1983-02-09 | 1983-02-09 | 光学的記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59146461A (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6129435A (ja) * | 1984-07-02 | 1986-02-10 | Olympus Optical Co Ltd | 光磁気記録媒体の製造方法 |
| JPH0678032B2 (ja) * | 1985-08-06 | 1994-10-05 | 三菱化成株式会社 | 光学的記録媒体 |
| JPH0762917B2 (ja) * | 1986-01-20 | 1995-07-05 | ソニー株式会社 | 光学式記録媒体 |
| JPS62226449A (ja) * | 1986-03-27 | 1987-10-05 | Canon Inc | 光学的磁気記録媒体 |
| DE69030982T2 (de) * | 1989-04-27 | 1997-11-13 | Canon Kk | Optisches Aufzeichnungsmedium und Verfahren zu seiner Herstellung |
| JP2935769B2 (ja) * | 1992-04-02 | 1999-08-16 | 富士写真光機株式会社 | 反射防止膜の製造方法 |
-
1983
- 1983-02-09 JP JP58018929A patent/JPS59146461A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59146461A (ja) | 1984-08-22 |
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