JPH0323948B2 - - Google Patents

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JPH0323948B2
JPH0323948B2 JP58225651A JP22565183A JPH0323948B2 JP H0323948 B2 JPH0323948 B2 JP H0323948B2 JP 58225651 A JP58225651 A JP 58225651A JP 22565183 A JP22565183 A JP 22565183A JP H0323948 B2 JPH0323948 B2 JP H0323948B2
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JP
Japan
Prior art keywords
pattern
pixels
preprocessing
black
unevenness
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
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JP58225651A
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Japanese (ja)
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JPS60117380A (en
Inventor
Giichi Kakigi
Moritoshi Ando
Akifumi Muto
Kazuo Yagi
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Fujitsu Ltd
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Fujitsu Ltd
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 (1)発明の技術分野 本発明はパターン処理方法、特に光学的にパタ
ーンを検知し検査を行う装置におけるパターンの
処理方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (1) Technical Field of the Invention The present invention relates to a pattern processing method, and particularly to a pattern processing method in an apparatus that optically detects and inspects a pattern.

(2)技術の背景 例えばマイクロコンピユータなどに用いられる
印刷基板に形成された回路のパターン検査装置、
特にパターンを自動的に検査する装置が開発され
ている。パターンの自動的検査のためには最初に
パターンを光学的に読み取り、その結果を電気的
信号に変換し、この電気的信号を他の電気回路で
観察して欠陥の有無を検査する。そしてそのとき
に検査に先だち前処理が行われる。本発明はこの
前処理の方法に関するものである。
(2) Technical background For example, a pattern inspection device for circuits formed on printed circuit boards used in microcomputers, etc.
In particular, devices have been developed to automatically inspect patterns. For automatic pattern inspection, the pattern is first read optically, the result is converted into an electrical signal, and this electrical signal is observed by another electrical circuit to inspect for defects. At that time, preprocessing is performed prior to the inspection. The present invention relates to a method for this pretreatment.

(3)従来技術の問題点 パターン検査装置においては、欠陥検出回路の
誤動作を防止するために、検知したパターンに対
して必ず前処理が行われる。最初に読み取つたパ
ターンそのものにはノイズが含まれていたりエツ
ジに凹凸が存在するので、読み取つたパターンそ
のままでは検査がしにくいから、前処理をなして
ノイズや凹凸をなくすのである。
(3) Problems with the Prior Art In pattern inspection apparatuses, preprocessing is always performed on detected patterns in order to prevent malfunctions of defect detection circuits. Since the first read pattern itself contains noise and has uneven edges, it is difficult to inspect the read pattern as it is, so preprocessing is performed to eliminate noise and unevenness.

パターンは可視的には黒と白で表され、黒は細
く短い棒状に現われ、黒と白は電気的には“1”
と“0”に対応する。特にパターンの境界付近
(エツジともいう)にはパターンに凹凸部分が発
生し易いのでその凹凸をなくしたい。そうしない
とパターンは欠陥ありと検知されることになるか
らである。
The pattern is visually represented by black and white, with black appearing as a thin and short bar, and black and white electrically representing "1".
and “0”. Especially near the boundaries of the pattern (also called edges), the pattern tends to have uneven parts, so it is desirable to eliminate the uneven parts. Otherwise, the pattern will be detected as defective.

第1図に1つのパターンが示されている。図示
のパターンは前記した黒棒と白によつて構成され
ているのであるが、図には黒棒の代りに模式的に
砂地を付して示す。前記のエツジにおける凹凸は
その一部を縁部1に誇張して示したが、同じよう
な凹凸は他の縁部にも存在する。第1図に示すパ
ターンにおいて、縁部1の凹凸は欠陥の不存在に
もかかわらず欠陥として現れた部分であるが、図
に2と3で示す部分は現実にパターン間隔不良、
断線欠陥が存在する。
One pattern is shown in FIG. The illustrated pattern is composed of the above-mentioned black bars and white, but the figure schematically shows a sandy background instead of the black bars. Although some of the unevenness on the edge is shown exaggerated on edge 1, similar unevenness also exists on other edges. In the pattern shown in Fig. 1, the unevenness on the edge 1 appears as a defect despite the absence of a defect, but the parts indicated by 2 and 3 in the figure are actually due to poor pattern spacing.
A disconnection defect exists.

第1図のパターンを従来技術に従つて前処理す
ると第2図に示されるパターンが得られる。縁部
1の凹凸がなくなつたのはよいとしても、パター
ン間隔不良部分はパターンがつながつてしまい、
また断線部分もつながつてしまう。この前処理に
より微小な欠陥は除去されるが、第2図のパター
ンを検査をしたとしても正確な検出ができないこ
とになる。
Pre-processing the pattern of FIG. 1 according to the prior art results in the pattern shown in FIG. Although it is good that the unevenness of the edge 1 is gone, the patterns are connected in the areas where the pattern spacing is poor.
Also, the disconnected parts will be connected. This preprocessing removes minute defects, but even if the pattern shown in FIG. 2 is inspected, accurate detection will not be possible.

上記の現象は、従来の方法においては次のよう
にして前処理をしていたからである。第3図を参
照すると、A,B,Cで示す各部分はそれぞれセ
ンサーを表し、砂地を付したAとBのセンサーは
黒1、またはCのセンサーの各々は白0に対応す
るとする。従来の方法では、A=B=1のときに
はC=1とし、第4図に示す如く前処理しすべて
を黒1にし、かかる操作を4方向について行つて
いたのである。その結果、前述した如くにエツジ
の凹凸は除去されたがその他の微小欠陥までも除
去されていたのである。
The above phenomenon is caused by the following pretreatment in the conventional method. Referring to FIG. 3, each part indicated by A, B, and C represents a sensor, and the sanded sensors A and B correspond to black 1, or each of the sensors C corresponds to white 0. In the conventional method, when A=B=1, C=1, preprocessing is performed to make all black 1 as shown in FIG. 4, and this operation is performed in four directions. As a result, as mentioned above, the unevenness of the edges was removed, but other minute defects were also removed.

(4)発明の目的 本発明は上記従来の問題に鑑み、光学的にパタ
ーンを検知し検査を行う装置における検査信頼度
の高いパターン前処理の方法を提供することを目
的とする。
(4) Purpose of the Invention In view of the above-mentioned conventional problems, an object of the present invention is to provide a pattern preprocessing method with high inspection reliability in an apparatus that optically detects and inspects a pattern.

(5)発明の構成 そしてこの目的は本発明によれば、光学的にパ
ターンを検知し検査を行う際の2値パターンの前
処理において、隣接する画素の値が“0”と
“1”であり、さらにその“1”の値の画素より
所定画素数離れ、かつ同一ライン上に位置する画
素の値が“1”のとき、それら2個の画素“1”
にはさまれた複数個の画素の値を“1”とするこ
とを特徴とするパターン処理方法を提供すること
によつて達成される。
(5) Structure of the Invention According to the present invention, in preprocessing of a binary pattern when optically detecting and inspecting a pattern, the values of adjacent pixels are "0" and "1". , and furthermore, when the value of a pixel located a predetermined number of pixels away from the pixel with the value of "1" and located on the same line is "1", those two pixels are "1"
This is achieved by providing a pattern processing method characterized in that the values of a plurality of pixels sandwiched between pixels are set to "1".

(6)発明の実施例 以下本発明実施例を図面によつて詳説する。(6) Examples of the invention Embodiments of the present invention will be explained in detail below with reference to the drawings.

本発明者は、パターンのエツジの凹凸をそのま
まにしておくと良いパターンであつても検査で不
良と判定されるかもしれないので、それを防止す
るために前処理でエツジ付近の凹凸のみを除去す
るのであるが、しかしエツジ部以外のその他の欠
陥は微小欠陥であつてもそのままにしておかなけ
ればならぬことを認識し、第5図と第6図に示さ
れる原理を考えた。すなわち、第5図においてセ
ンサーAとCの各々は白0、センターBとDは黒
1を表すとする。なお図において黒は砂地を付し
て表す。そして、センサーA=0、かつ、B=D
=1ならばC=1とするのである。その結果は第
6図に示され、本発明においてはかかるセンサー
を8方向に設ける。
In order to prevent this, the inventor removed only the unevenness near the edges in pre-processing, since if the unevenness of the pattern edges is left as is, even if the pattern is good, it may be judged as defective during inspection. However, recognizing that defects other than the edge portion must be left as they are even if they are minute defects, we devised the principle shown in FIGS. 5 and 6. That is, in FIG. 5, sensors A and C each represent white 0, and centers B and D represent black 1. In the figure, black is represented by a sandy background. And sensor A=0 and B=D
If =1, then C=1. The results are shown in FIG. 6, and in the present invention, such sensors are provided in eight directions.

第7図は上記した動作を実現させるための回路
を示し、図において、11はインバータ、12は
ANDゲート、13はORゲートをそれぞれ示す。
FIG. 7 shows a circuit for realizing the above operation. In the figure, 11 is an inverter, 12 is an inverter, and 12 is an inverter.
13 represents an AND gate, and 13 represents an OR gate.

上記の動作をパターンの境界付近を例に第8図
を参照して説明すると、パターンのエツジである
縁部1の外方に符号4で示す黒が現れエツジに空
域が発生した、いいかえるとこの部分に凹凸がで
きたとする。そこに第5図を当ててみると、Bの
外方のAは白であり、上記したところによつてB
からDまでは第6図の場合の如く黒でつなげられ
パターンの境界付近の凹凸はなくなる。
To explain the above operation with reference to FIG. 8, taking the area near the pattern boundary as an example, a black mark 4 appears outside edge 1, which is the edge of the pattern, and an empty space is generated at the edge. Suppose that there is an unevenness in the part. Applying Figure 5 to this, we find that A outside B is white, and as described above, B
to D are connected in black as in the case of FIG. 6, and there are no irregularities near the boundaries of the pattern.

次に断線部分3を第9図を参照して設明する。
断線部分に第5図を当てると、Aが白でないの
で、BからDまでは黒でつながらなくなり、断線
部分は白すなわち断線そのものとして残る。
Next, the disconnected portion 3 will be defined with reference to FIG.
If we apply Fig. 5 to the broken line, since A is not white, there will be no connection from B to D in black, and the broken line will remain white, that is, the broken line itself.

このようにして第1図に示すパターンを前処理
した結果は概略的に第10図に示される。第5図
と第6図に示されるセンサーを8方向に配置し前
処理をすると第1図の縁部分1の入江状に入り込
んだ部分(この部分は誤つて欠陥と検知されるお
それがある部分である。)は第8図を参照して説
明したとおりに前処理されて埋め込まれ、当該部
分が欠陥と検知されることが防止される。なお、
前記した入江状部分以外の凹部は部分的に埋め込
まれた凹部として残るがそれはパターン検査に影
響するものではない。一方、パターン間隔不良お
よび断線はあるがまゝに保たれて検査されること
になる。
The result of preprocessing the pattern shown in FIG. 1 in this way is schematically shown in FIG. If the sensors shown in Figures 5 and 6 are arranged in eight directions and preprocessed, the part that has entered the edge part 1 in Figure 1 in a cove shape (this part may be mistakenly detected as a defect). ) is preprocessed and embedded as described with reference to FIG. 8, thereby preventing the portion in question from being detected as a defect. In addition,
The recesses other than the above-mentioned cove-shaped portions remain as partially filled recesses, but this does not affect pattern inspection. On the other hand, pattern spacing defects and wire breaks are maintained as they are and inspected.

なお、上記した実施例の論理の1と0を入れか
えても微小パターン除去処理は可能であるので、
本発明の適用範囲は上記の場合に限定されるもの
でない。
Note that the minute pattern removal process is possible even if the logic 1 and 0 in the above embodiment are replaced.
The scope of application of the present invention is not limited to the above cases.

(7)発明の効果 以上詳細に説明した如く本発明によれば、微小
な欠陥を除去することなくパターンの境界付近の
凹凸のみを除去することができるので、パターン
検査の信頼性向上に効果大である。
(7) Effects of the Invention As explained in detail above, according to the present invention, it is possible to remove only the unevenness near the pattern boundary without removing minute defects, which is highly effective in improving the reliability of pattern inspection. It is.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はパターンを示す図、第2図は第1図の
パターンを従来方法により前処理した結果を示す
図、第3図と第4図は従来のパターン前処理の原
理を示す図、第5図と第6図は本発明のパターン
前処理の原理を示す図、第7図は本発明の方法を
実施するための回路を示す図、第8図と第9図は
本発明の方法の実施例を示す図、第10図は第1
図のパターンを本発明により前処理した結果を示
す図である。 1……縁部分(境界付近)、2……パターン間
隔不良部分、3……パターン断線部分、4……黒
パターン、11……インバータ、12……AND
ゲート、13……ORゲート。
FIG. 1 is a diagram showing a pattern, FIG. 2 is a diagram showing the result of preprocessing the pattern in FIG. 1 by a conventional method, FIGS. 3 and 4 are diagrams showing the principle of conventional pattern preprocessing, 5 and 6 are diagrams showing the principle of pattern preprocessing of the present invention, Figure 7 is a diagram showing a circuit for implementing the method of the present invention, and Figures 8 and 9 are diagrams showing the method of the present invention. A diagram showing an example, FIG. 10 is the first
It is a figure which shows the result of preprocessing the pattern of a figure by this invention. 1...Edge part (near the boundary), 2...Poor pattern interval part, 3...Pattern disconnection part, 4...Black pattern, 11...Inverter, 12...AND
Gate, 13...OR gate.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 光学的にパターンを検知し検査を行う際の2
値パターンの前処理において、隣接する画素の値
が“0”と“1”であり、さらにその“1”の値
の画素より所定画素数離れ、かつ同一ライン上に
位置する画素の値が“1”のとき、それら2個の
画素“1”にはさまれた複数個の画素の値を
“1”とすることを特徴とするパターン処理方法。
1. 2. When performing optical pattern detection and inspection.
In the value pattern preprocessing, the values of adjacent pixels are "0" and "1", and the value of a pixel located a predetermined number of pixels away from the pixel with the value "1" and located on the same line is "1", the pattern processing method is characterized in that when the value of the pixels is "1", the values of a plurality of pixels sandwiched between the two pixels "1" are set to "1".
JP58225651A 1983-11-30 1983-11-30 Pattern processing method Granted JPS60117380A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58225651A JPS60117380A (en) 1983-11-30 1983-11-30 Pattern processing method

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JPS60117380A JPS60117380A (en) 1985-06-24
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4898886A (en) * 1972-03-29 1973-12-14
JPS52140278A (en) * 1976-05-19 1977-11-22 Hitachi Ltd Position detector
JPS55124872A (en) * 1979-03-20 1980-09-26 Hitachi Ltd Noise pattern erase circuit for binary video signal

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