JPH03240739A - フルオロアルキル基含有芳香族誘導体の製造方法 - Google Patents
フルオロアルキル基含有芳香族誘導体の製造方法Info
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、フルオロアルキル基含有芳香族誘導体の製造
方法に関し、特に工業的に有効なフルオロアルキル基含
有芳香族誘導体の製造方法に関する。
方法に関し、特に工業的に有効なフルオロアルキル基含
有芳香族誘導体の製造方法に関する。
〈従来の技術〉
有機化合物中にフルオロアルキル基が導入された化合物
は、生理活性作用、撥水撥油作用、さらには耐薬品性等
の有用な性質を示すため近年注目されている。前記フル
オロアルキル基が導入された化合物、特に芳香族化合物
にフルオロアルキル基が導入された化合物の製造方法に
ついては1例えば、過酸化フルオロアルカノイルと、芳
香族化合物とを反応させることにより、過酸化物に由来
するフルオロアルキル基を芳香族化合物に収率良く導入
する方法が提案されている(特開昭60−178829
号公報)。
は、生理活性作用、撥水撥油作用、さらには耐薬品性等
の有用な性質を示すため近年注目されている。前記フル
オロアルキル基が導入された化合物、特に芳香族化合物
にフルオロアルキル基が導入された化合物の製造方法に
ついては1例えば、過酸化フルオロアルカノイルと、芳
香族化合物とを反応させることにより、過酸化物に由来
するフルオロアルキル基を芳香族化合物に収率良く導入
する方法が提案されている(特開昭60−178829
号公報)。
しかしながら上記の方法は、フルオロアルキル化剤とし
て過酸化物を使用するため、その取扱い方法に問題があ
る。
て過酸化物を使用するため、その取扱い方法に問題があ
る。
〈発明が解決しようとする課題〉
本発明の目的は、安全に、且つ高収率にてフルオロアル
キル基含有芳香族誘導体を得ることができる。工業的に
も優れたフルオロアルキル基含有芳香族誘導体の製造方
法を提供することにある・〈課題を解決するための手段
〉 本発明によれば、芳香族化合物のベンゼン環又はナフタ
レン環に、フルオロアルキル基を導入するにあたり1M
芳香族化合物と、下記一般式(I)%式%(I) (式中nは1〜20の整数を示す)で表わされるフルオ
ロアルカンスルホニルクロリドとを、金属触媒の存在下
において反応させることを特徴とするフルオロアルキル
基含有芳香族誘導体の製造方法が提供される。
キル基含有芳香族誘導体を得ることができる。工業的に
も優れたフルオロアルキル基含有芳香族誘導体の製造方
法を提供することにある・〈課題を解決するための手段
〉 本発明によれば、芳香族化合物のベンゼン環又はナフタ
レン環に、フルオロアルキル基を導入するにあたり1M
芳香族化合物と、下記一般式(I)%式%(I) (式中nは1〜20の整数を示す)で表わされるフルオ
ロアルカンスルホニルクロリドとを、金属触媒の存在下
において反応させることを特徴とするフルオロアルキル
基含有芳香族誘導体の製造方法が提供される。
以下本発明を更に詳細に説明する。
本発明のフルオロアルキル基含有芳香族誘導体の製造方
法では、芳香族化合物と、特定のフルオロアルカンスル
ホニルクロリドとを、金属触媒の存在下において反応さ
せることを特徴とする。
法では、芳香族化合物と、特定のフルオロアルカンスル
ホニルクロリドとを、金属触媒の存在下において反応さ
せることを特徴とする。
本発明において、フルオロアルキル基が導入される芳香
族化合物としては、ベンゼン、1−置換ベンゼン、2−
置換ベンゼン、3−置換ベンゼン、4−置換ベンゼン、
ナフタレン、1−置換ナフタレン、2−I!置換ナフタ
レン3−置換ナフタレン。
族化合物としては、ベンゼン、1−置換ベンゼン、2−
置換ベンゼン、3−置換ベンゼン、4−置換ベンゼン、
ナフタレン、1−置換ナフタレン、2−I!置換ナフタ
レン3−置換ナフタレン。
4−置換ナフタレン等を挙げることができる。該1−置
換ベンゼン、2−置換ベンゼン、3−置換ベンゼン、4
−!換ベンゼンとしては例えば、クロロベンゼン、フル
オロベンゼン、ブロモベンゼン、トルエン、エチルベン
ゼン、ブチルベンゼン、アニソール、エトキシベンゼン
、エトキシカルボニルベンゼン、メトキシカルボニルベ
ンゼン、ニトロベンゼン、安息香酸、フェノール、アセ
トアニリド、ベンズアルデヒド、キシレン、ジメトキシ
ベンゼン、ジェトキシカルボニルベンゼン、ジアセチル
アミノベンゼン、フタル酸、トリメチルベンゼン、テト
ラメチルベンゼン等を好ましく挙げることができる。ま
た該l−置換ナフタレン、2−1換ナフタレン、3−N
換ナフタレン、4−置換ナフタレンとしては例えば、ク
ロロナフタレン、ブロモナフタレン、フルオロナフタレ
ン、ナフタレンカルボン酸、ナフタレンジカルボン酸。
換ベンゼン、2−置換ベンゼン、3−置換ベンゼン、4
−!換ベンゼンとしては例えば、クロロベンゼン、フル
オロベンゼン、ブロモベンゼン、トルエン、エチルベン
ゼン、ブチルベンゼン、アニソール、エトキシベンゼン
、エトキシカルボニルベンゼン、メトキシカルボニルベ
ンゼン、ニトロベンゼン、安息香酸、フェノール、アセ
トアニリド、ベンズアルデヒド、キシレン、ジメトキシ
ベンゼン、ジェトキシカルボニルベンゼン、ジアセチル
アミノベンゼン、フタル酸、トリメチルベンゼン、テト
ラメチルベンゼン等を好ましく挙げることができる。ま
た該l−置換ナフタレン、2−1換ナフタレン、3−N
換ナフタレン、4−置換ナフタレンとしては例えば、ク
ロロナフタレン、ブロモナフタレン、フルオロナフタレ
ン、ナフタレンカルボン酸、ナフタレンジカルボン酸。
ナフタレンテトラカルボン酸、メチルナフタレン、ジメ
チルナフタレン、トリメチルナフタレン、テトラメチル
ナフタレン等を好ましく挙げることができる。
チルナフタレン、トリメチルナフタレン、テトラメチル
ナフタレン等を好ましく挙げることができる。
本発明において、前記芳香族化合物と反応させるフルオ
ロアルカンスルホニルクロリドは、下記一般式(I)で
表わすことができ、 F (CF、) n502CQ −・−(I)式中
nは1〜20の整数を示す。nが20を超える場合には
、反応させる際に、溶媒又は前記芳香族化合物に溶解せ
ず、反応が進行しないので使用できない、前記一般式(
I)で表わされるフルオロアルカンスルホニルクロリド
中のフルオロアルキル基は、CF3、F (CF、)
!、F(cpz)3、F (CF2) 、、F (CF
、)、、F (CF、)、、F(CF2)7、F (C
F、)、、F (CF、) !、F (CF2)□。、
F (CF、) 1□、F (c F 2 ) 、−1
F (CF2)□3+ F (CF2) 14、F(c
F2) 、s、F (CF、)□5、F (c F2
) 1v、F (CF、) 、1、F (CF、) x
s、F (CF、) 2゜である。
ロアルカンスルホニルクロリドは、下記一般式(I)で
表わすことができ、 F (CF、) n502CQ −・−(I)式中
nは1〜20の整数を示す。nが20を超える場合には
、反応させる際に、溶媒又は前記芳香族化合物に溶解せ
ず、反応が進行しないので使用できない、前記一般式(
I)で表わされるフルオロアルカンスルホニルクロリド
中のフルオロアルキル基は、CF3、F (CF、)
!、F(cpz)3、F (CF2) 、、F (CF
、)、、F (CF、)、、F(CF2)7、F (C
F、)、、F (CF、) !、F (CF2)□。、
F (CF、) 1□、F (c F 2 ) 、−1
F (CF2)□3+ F (CF2) 14、F(c
F2) 、s、F (CF、)□5、F (c F2
) 1v、F (CF、) 、1、F (CF、) x
s、F (CF、) 2゜である。
本発明の製造方法に用いる金属触媒としては、例えば酸
化第一銅、シアン化第二銅、硫酸銅、酢酸第二銅、硫化
銅、塩化第二銅、塩化第一銅、臭化第一銅、臭化第二銅
、ヨウ化銅、塩化第一鉄、塩化第二鉄、鉄ペンタカルボ
ニル、硫酸鉄、モリブデンヘキサカルボニル、クロムヘ
キサカルボニル、塩化クロム、ジクロロトリストリフェ
ニルホスフィンルテニウム、ジクロロテトラキストリフ
ェニルホスフィンルテニウム、クロロトリストリフェニ
ルホスフィンロジウム、ペンタカルボニルルテニウム、
ドデカカルボニル三ルテニウム、トリカルボニル(η4
−シクロオクタテトラエン)ルテニウム、ジカルボニル
ビス(η−アリル)ルテニウム、ブロモカルボニル(η
−アリル)ルテニウム、テトラクロロヘキサカルボニル
ルテニウム、ジクロロトリカルボニルルテニウム、テト
ラカルボニルビス(η−シクロペンタジェニル)ルテニ
ウム、ショートジカルボニルルテニウム、ビス(η−シ
クロペンタジェニル)ルテニウム、(η−シクロペンタ
ジェニル)(η−アセチルシクロペンタジェニル)ルテ
ニウム、(η−シクロペンタジェニル)(η−メチルシ
クロペンタジェニル)ルテニウム、クロロヒドリドトリ
ス(トリフェニルホスフィン)ルテニウム、ジヒドリド
(二窒素)トリス(トリフェニルフォスフイン)ルテニ
ウム(■)、テトラヒドリドトリス(トリフェニルフォ
スフイン)ルテニウム、ヒドリドテトラキス(トリフェ
ニルホスフィン)ルテニウム。
化第一銅、シアン化第二銅、硫酸銅、酢酸第二銅、硫化
銅、塩化第二銅、塩化第一銅、臭化第一銅、臭化第二銅
、ヨウ化銅、塩化第一鉄、塩化第二鉄、鉄ペンタカルボ
ニル、硫酸鉄、モリブデンヘキサカルボニル、クロムヘ
キサカルボニル、塩化クロム、ジクロロトリストリフェ
ニルホスフィンルテニウム、ジクロロテトラキストリフ
ェニルホスフィンルテニウム、クロロトリストリフェニ
ルホスフィンロジウム、ペンタカルボニルルテニウム、
ドデカカルボニル三ルテニウム、トリカルボニル(η4
−シクロオクタテトラエン)ルテニウム、ジカルボニル
ビス(η−アリル)ルテニウム、ブロモカルボニル(η
−アリル)ルテニウム、テトラクロロヘキサカルボニル
ルテニウム、ジクロロトリカルボニルルテニウム、テト
ラカルボニルビス(η−シクロペンタジェニル)ルテニ
ウム、ショートジカルボニルルテニウム、ビス(η−シ
クロペンタジェニル)ルテニウム、(η−シクロペンタ
ジェニル)(η−アセチルシクロペンタジェニル)ルテ
ニウム、(η−シクロペンタジェニル)(η−メチルシ
クロペンタジェニル)ルテニウム、クロロヒドリドトリ
ス(トリフェニルホスフィン)ルテニウム、ジヒドリド
(二窒素)トリス(トリフェニルフォスフイン)ルテニ
ウム(■)、テトラヒドリドトリス(トリフェニルフォ
スフイン)ルテニウム、ヒドリドテトラキス(トリフェ
ニルホスフィン)ルテニウム。
テトラカルボニルビス(シクロペンタジェニル)ルテニ
ウム、ヨードジカルボニル(η−シクロペンタジェニル
)ルテニウム、ジカルボニル(メチル)(η−シクロペ
ンタジェニル)ルテニウム、クロロジカルボニル(η−
シクロペンタジェニル)ルテニウム、テトラカルボニル
ビス(シクロペンタジェニル)ルテニウム、塩化ルテニ
ウム、トランス−[クロロヒドリドビス(I,2−ビス
ジエチルホスフィノエタン)ルテニウム(If) ]
、ジクロロ(I,5−シクロオクタジエン)ルテニウム
等を好ましく挙げることができる。
ウム、ヨードジカルボニル(η−シクロペンタジェニル
)ルテニウム、ジカルボニル(メチル)(η−シクロペ
ンタジェニル)ルテニウム、クロロジカルボニル(η−
シクロペンタジェニル)ルテニウム、テトラカルボニル
ビス(シクロペンタジェニル)ルテニウム、塩化ルテニ
ウム、トランス−[クロロヒドリドビス(I,2−ビス
ジエチルホスフィノエタン)ルテニウム(If) ]
、ジクロロ(I,5−シクロオクタジエン)ルテニウム
等を好ましく挙げることができる。
本発明の製造方法において、前記芳香族化合物は反応基
質以外に反応溶媒としても利用することができる。また
芳香族化合物のベンゼン環又はナフタレン環に、フルオ
ロアルキル基を効率よく、導入させるには、前記フルオ
ロアルカンスルホニルクロニドに対する金属触媒の仕込
みモル比を調整すれば良い、前記仕込みモル比は、1:
O,OO1〜0.50が好ましい。前記モル比が0.0
01未満では、生成するフルオロアルキル基含有芳香族
誘導体の収率が低下するので好ましくなく、0.5を超
えると副生成物が精製しやすくなり、工業的に有効でな
いので好ましくない0本発明の製造方法では、前記芳香
族化合物とフルオロアルカンスルホニルクロリドとを、
金属触媒存在下において反応させる。この際の反応温度
は0〜250℃、好ましくは20〜200℃の範囲であ
ることが望ましい。前記反応温度が0℃未満では反応時
間が長くなり、また250℃を超えると反応時の圧力が
高くなって1反応操作が困難となるので好ましくない、
更に反応時間は通常30分〜50時間の範囲で行なうこ
とができるが、実用的には1時間から24時間の範囲に
なるように条件を設定することが好ましい。
質以外に反応溶媒としても利用することができる。また
芳香族化合物のベンゼン環又はナフタレン環に、フルオ
ロアルキル基を効率よく、導入させるには、前記フルオ
ロアルカンスルホニルクロニドに対する金属触媒の仕込
みモル比を調整すれば良い、前記仕込みモル比は、1:
O,OO1〜0.50が好ましい。前記モル比が0.0
01未満では、生成するフルオロアルキル基含有芳香族
誘導体の収率が低下するので好ましくなく、0.5を超
えると副生成物が精製しやすくなり、工業的に有効でな
いので好ましくない0本発明の製造方法では、前記芳香
族化合物とフルオロアルカンスルホニルクロリドとを、
金属触媒存在下において反応させる。この際の反応温度
は0〜250℃、好ましくは20〜200℃の範囲であ
ることが望ましい。前記反応温度が0℃未満では反応時
間が長くなり、また250℃を超えると反応時の圧力が
高くなって1反応操作が困難となるので好ましくない、
更に反応時間は通常30分〜50時間の範囲で行なうこ
とができるが、実用的には1時間から24時間の範囲に
なるように条件を設定することが好ましい。
本発明の製造方法により得られる反応生成物は、カラム
クロマトグラフィー等の公知の方法により精製すること
ができる。
クロマトグラフィー等の公知の方法により精製すること
ができる。
本発明の製造方法により得られるフルオロアルキル基含
有芳香族誘導体は、ベンゼン環又はナフタレン環に、フ
ルオロアルキル基が導入されておれば、特に限定される
ものではないが1例えば、1.4−ジメトキシ−2−ペ
ルフルオロヘキシルベンゼン、2−ペルフルオロヘキシ
ル−1,4−ジメチルベンゼン、ペルフルオロへキシル
アニソール、ペルフルオロヘキシルトルエン、ペルフル
オロヘキシルベンゼン、ペルフルオロへキシルテトラメ
チルベンゼン、α−ペルフルオロへキシルナフタレン、
1,4−ジメトキシ−2−トリフルオロメチルベンゼン
、1,4−ジメトキシ−2−ペルフルオロノニルベンゼ
ン等を挙げることができる。
有芳香族誘導体は、ベンゼン環又はナフタレン環に、フ
ルオロアルキル基が導入されておれば、特に限定される
ものではないが1例えば、1.4−ジメトキシ−2−ペ
ルフルオロヘキシルベンゼン、2−ペルフルオロヘキシ
ル−1,4−ジメチルベンゼン、ペルフルオロへキシル
アニソール、ペルフルオロヘキシルトルエン、ペルフル
オロヘキシルベンゼン、ペルフルオロへキシルテトラメ
チルベンゼン、α−ペルフルオロへキシルナフタレン、
1,4−ジメトキシ−2−トリフルオロメチルベンゼン
、1,4−ジメトキシ−2−ペルフルオロノニルベンゼ
ン等を挙げることができる。
〈発明の効果〉
本発明の製造方法では、特定のフルオロアルカンスルホ
ニルクロリドを、金属触媒の存在下1反応させるので、
フルオロアルキル基含有芳香族化合物を、高収率でかつ
容易に、しかも特殊な装置を使用せずに、工業的にも有
効に製造することができる。また本発明の製造法により
得られるフルオロアルキル基含有芳香族化合物は、医薬
、農薬等の原料として、更には撥水撥油剤等に利用する
ことができる。
ニルクロリドを、金属触媒の存在下1反応させるので、
フルオロアルキル基含有芳香族化合物を、高収率でかつ
容易に、しかも特殊な装置を使用せずに、工業的にも有
効に製造することができる。また本発明の製造法により
得られるフルオロアルキル基含有芳香族化合物は、医薬
、農薬等の原料として、更には撥水撥油剤等に利用する
ことができる。
〈実施例〉
以下、本発明を実施例及び比較例により更に詳細に説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
去m
1.4−ジメトキシベンゼン4mQ、ペルフルオロヘキ
サンスルホニルクロリド2mmall(0,837g)
及びジクロロトリストリフェニルホスフィンルテニウム
0.02mmoQ(0,019g)を加え、脱気封管を
行なった。
サンスルホニルクロリド2mmall(0,837g)
及びジクロロトリストリフェニルホスフィンルテニウム
0.02mmoQ(0,019g)を加え、脱気封管を
行なった。
次いで120℃、24時間反応を行ない、カラムクロマ
トグラフィーで金属触媒を除き、ゲルパーミエイション
クロマトグラフィーにて精製を行なった。その結果、1
,4−ジメトキシ−2−ペルフルオロヘキシルベンゼン
が収率81%で得られた。得られた生成物について、以
下に示すスペクトルデーターを測定した。その結果を以
下に示す。
トグラフィーで金属触媒を除き、ゲルパーミエイション
クロマトグラフィーにて精製を行なった。その結果、1
,4−ジメトキシ−2−ペルフルオロヘキシルベンゼン
が収率81%で得られた。得られた生成物について、以
下に示すスペクトルデーターを測定した。その結果を以
下に示す。
IR(neat) (ell−1)1510,1470
,1430,1280,1240゜1200.1140
,1050; ” H−NMR(CDCQ 3 )δ3.76(3H,
s) 、3.79(3H,s)。
,1430,1280,1240゜1200.1140
,1050; ” H−NMR(CDCQ 3 )δ3.76(3H,
s) 、3.79(3H,s)。
6.87−7.27(3H,m);
”C−NMR(CDC氾3)δ56.0,56.8.1
14.5(t、J=8.6)1z) 、118.9,1
52.9,153.5;MS、m/e 456(M”)
、441,187,139,123,109゜HRMS
、 M”実測値456.0454.理論値C14C1
4H,02456,0395 去1044 1.4−ジメトキシベンゼンを、1,4−ジメチルベン
ゼンに代えた以外は実施例1に従って反応を行なったと
ころ、2−ペルフルオロへキシル−1,4−ジメチルベ
ンゼンが72%の収率で得られた。得られた生成物につ
いて、以下に示すスペクトルデーターを測定した。その
結果を以下に示す。
14.5(t、J=8.6)1z) 、118.9,1
52.9,153.5;MS、m/e 456(M”)
、441,187,139,123,109゜HRMS
、 M”実測値456.0454.理論値C14C1
4H,02456,0395 去1044 1.4−ジメトキシベンゼンを、1,4−ジメチルベン
ゼンに代えた以外は実施例1に従って反応を行なったと
ころ、2−ペルフルオロへキシル−1,4−ジメチルベ
ンゼンが72%の収率で得られた。得られた生成物につ
いて、以下に示すスペクトルデーターを測定した。その
結果を以下に示す。
IR(neat) (ai−’)2930,1500,
1360,1300,1240゜1200.1140; ” H−NMR(CDCQ 3)64.25−4.60
(6H,m)、7.00−7.42(3H,m); ”C−NMR(CDCm 、)619.9(t、J=2
.4Hz)、20.8゜129.1(t、に8.6Hz
)、132.7゜135.2(t、、C2,4Hz)、
135.8;MS、ra/e 424(M”)、405
,186,155,105゜)IRMs 、 M+実測
値424.0531.理論値C14H,F□3424.
0496 矢JJL走 1.4−ジメトキシベンゼンを、アニソールに代えた以
外は実施例1に従って反応を行なったところ、ペルフル
オロへキシルアニソールが66%の収率で得られた。得
られた生成物について、以下に示すスペクトルデーター
を測定した。その結果を以下に示す。
1360,1300,1240゜1200.1140; ” H−NMR(CDCQ 3)64.25−4.60
(6H,m)、7.00−7.42(3H,m); ”C−NMR(CDCm 、)619.9(t、J=2
.4Hz)、20.8゜129.1(t、に8.6Hz
)、132.7゜135.2(t、、C2,4Hz)、
135.8;MS、ra/e 424(M”)、405
,186,155,105゜)IRMs 、 M+実測
値424.0531.理論値C14H,F□3424.
0496 矢JJL走 1.4−ジメトキシベンゼンを、アニソールに代えた以
外は実施例1に従って反応を行なったところ、ペルフル
オロへキシルアニソールが66%の収率で得られた。得
られた生成物について、以下に示すスペクトルデーター
を測定した。その結果を以下に示す。
(0−ペルフルオロへキシルアニソール)IR(nea
t) (as−” )1600.1500.1470.
1240.1200゜1140; ”H−NMR(CDCJ23)δ3.82(3B、s)
、6.80−7.20(2H,m) 。
t) (as−” )1600.1500.1470.
1240.1200゜1140; ”H−NMR(CDCJ23)δ3.82(3B、s)
、6.80−7.20(2H,m) 。
7.27−7.67(2H,m);
” ’ C−NMR(CDCQ 3)δ56.0,11
2.7,120.4,129.3(t、J=8.5Hz
)、133.6,158.8;MS、m/e 424(
M+)、426(M”)、157,127,109.6
9;14RMS 、 M”実測値426.0285.理
論値C13H,F工30426.0289 (m−及びp−ペルフルオロへキシルアニソール)IR
(neat)(cm−1)1620,1520,130
0,1240,1200゜1150; ” H−NMR(CDCQ 1 )δ3.80(3H,
s)、6.80−7.60(4H,ra) −13C−
NMR(CDCQ a)δ55.5,112.6(t、
Jニア、3Hz)114.1,117.8,119.2
(t、J=7.3Hz)、128.5(t、J=7.3
Hz) 。
2.7,120.4,129.3(t、J=8.5Hz
)、133.6,158.8;MS、m/e 424(
M+)、426(M”)、157,127,109.6
9;14RMS 、 M”実測値426.0285.理
論値C13H,F工30426.0289 (m−及びp−ペルフルオロへキシルアニソール)IR
(neat)(cm−1)1620,1520,130
0,1240,1200゜1150; ” H−NMR(CDCQ 1 )δ3.80(3H,
s)、6.80−7.60(4H,ra) −13C−
NMR(CDCQ a)δ55.5,112.6(t、
Jニア、3Hz)114.1,117.8,119.2
(t、J=7.3Hz)、128.5(t、J=7.3
Hz) 。
129.9,159.9,162.5;MS、ta/e
424(M”)、426(N”)、157,127,
109,69;HRMS、M”実測値426.0318
.理論値C,,H,F工、0426.0289 去104( 1,4−ジメトキシベンゼンを、トルエンに代えた以外
は実施例1に従って反応を行なったところ、ペルフルオ
ロヘキシルトルエンが63%の収率で得られた。得られ
た生成物について、以下に示すスペクトルデーターを測
定した。その結果を以下に示す。
424(M”)、426(N”)、157,127,
109,69;HRMS、M”実測値426.0318
.理論値C,,H,F工、0426.0289 去104( 1,4−ジメトキシベンゼンを、トルエンに代えた以外
は実施例1に従って反応を行なったところ、ペルフルオ
ロヘキシルトルエンが63%の収率で得られた。得られ
た生成物について、以下に示すスペクトルデーターを測
定した。その結果を以下に示す。
(0−ペルフルオロヘキシルトルエン)IR(neat
)(am−’)1295,1230,1190,114
0;1H−NMR(CDCQ 3)δ2.48(3H,
t、J=3.0)lz)、7.03−7.70(4H,
m); ’ 3C−NMRCCDCQ 、 )δ20.4,12
6.0,128.5(t、J=8.5Hz)、131.
8,132.6;MStva/e 424 (M”)−
410(M”) −141,91:HRMS 、 M+
実測値410.0323.理論値C□、H,F工。
)(am−’)1295,1230,1190,114
0;1H−NMR(CDCQ 3)δ2.48(3H,
t、J=3.0)lz)、7.03−7.70(4H,
m); ’ 3C−NMRCCDCQ 、 )δ20.4,12
6.0,128.5(t、J=8.5Hz)、131.
8,132.6;MStva/e 424 (M”)−
410(M”) −141,91:HRMS 、 M+
実測値410.0323.理論値C□、H,F工。
410.0340
(m−及びp−ペルフルオロヘキシルトルエン)IR(
neat)(cn−’)1360,1290,1240
,1200,1150;1H−NMR(CDCQ 、
)δ2.30(3H,s)、7.10−7.60(4H
,m);” 3C−NNR(CDCR3)δ21.4,
124.1(t、J=7.4Hz)。
neat)(cn−’)1360,1290,1240
,1200,1150;1H−NMR(CDCQ 、
)δ2.30(3H,s)、7.10−7.60(4H
,m);” 3C−NNR(CDCR3)δ21.4,
124.1(t、J=7.4Hz)。
126.8(t、J:6.1Hz)、127.4(t、
J=6.1Hz);12g、6,129.4゜132.
7,138.7; MS、m/e 424(M”) 410(M+)、14
1.91;HRMS、M+実測値410.0272.理
論値C□、H,F、 。
J=6.1Hz);12g、6,129.4゜132.
7,138.7; MS、m/e 424(M”) 410(M+)、14
1.91;HRMS、M+実測値410.0272.理
論値C□、H,F、 。
410.0340
去114i
1.4−ジメトキシベンゼンを、ベンゼンに代えた以外
は実施例1に従って反応を行なったところ、ペルフルオ
ロヘキシルベンゼンが60%の収率で得られた。
は実施例1に従って反応を行なったところ、ペルフルオ
ロヘキシルベンゼンが60%の収率で得られた。
失凰鼻且
1.4−ジメトキシベンゼン(4mQ)を、テトラメチ
ルベンゼン(4g)に代えた以外は実施例1に従って反
応を行なったところ、ペルフルオロへキシルテトラメチ
ルベンゼンが収率78%で得られた。
ルベンゼン(4g)に代えた以外は実施例1に従って反
応を行なったところ、ペルフルオロへキシルテトラメチ
ルベンゼンが収率78%で得られた。
去104L
1.4−ジメトキシベンゼン(4d)を、ナフタレン(
4g)に代えた以外は実施例1に従って反応を行なった
ところ、α−ペルフルオロへキシルナフタレンが収率5
9%で得られた。
4g)に代えた以外は実施例1に従って反応を行なった
ところ、α−ペルフルオロへキシルナフタレンが収率5
9%で得られた。
失意且炙
ペルフルオロヘキサンスルホニルクロリドの代わりに、
トリフルオロメタンスルホニルクロリドを用いた以外は
実施例1に従って反応を行なったところ、1.4−ジメ
トキシ−2−トリフルオロメチルベンゼンが収率75%
で得られた。
トリフルオロメタンスルホニルクロリドを用いた以外は
実施例1に従って反応を行なったところ、1.4−ジメ
トキシ−2−トリフルオロメチルベンゼンが収率75%
で得られた。
失凰舊主
ペルフルオロヘキサンスルホニルクロリドの代わりにペ
ルフルオロノナンスルホニルクロリドを用いた以外は、
実施例1に従って反応を行なったところ、1.4−ジメ
トキシ−2−ペルフルオロノニルベンゼンが収率60%
で得られた。
ルフルオロノナンスルホニルクロリドを用いた以外は、
実施例1に従って反応を行なったところ、1.4−ジメ
トキシ−2−ペルフルオロノニルベンゼンが収率60%
で得られた。
皮艷鮭圭
ジクロロトリストリフェニルホスフィンルテニウムを、
ベンゾイルペルオキシドに代え1反応温度を100℃に
代えた以外は実施例1に従って反応を行なったところ目
的とする本発明のフルオロアルキル基含有芳香族化合物
は得られなかった。
ベンゾイルペルオキシドに代え1反応温度を100℃に
代えた以外は実施例1に従って反応を行なったところ目
的とする本発明のフルオロアルキル基含有芳香族化合物
は得られなかった。
以上の結果より、本発明の製造方法では、反応触媒とし
て、有機過酸化物を用いるよりも、金属触媒を用いる方
が有効であることがわかった。
て、有機過酸化物を用いるよりも、金属触媒を用いる方
が有効であることがわかった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 芳香族化合物のベンゼン環又はナフタレン環に、フルオ
ロアルキル基を導入するにあたり、該芳香族化合物と、
下記一般式( I ) F(CF_2)_nSO_2Cl・・・( I )(式中
nは1〜20の整数を示す)で表わされるフルオロアル
カンスルホニルクロリドとを、金属触媒の存在下におい
て反応させることを特徴とするフルオロアルキル基含有
芳香族誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2032419A JPH03240739A (ja) | 1990-02-15 | 1990-02-15 | フルオロアルキル基含有芳香族誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2032419A JPH03240739A (ja) | 1990-02-15 | 1990-02-15 | フルオロアルキル基含有芳香族誘導体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03240739A true JPH03240739A (ja) | 1991-10-28 |
Family
ID=12358428
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2032419A Pending JPH03240739A (ja) | 1990-02-15 | 1990-02-15 | フルオロアルキル基含有芳香族誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03240739A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008137992A (ja) * | 2006-11-06 | 2008-06-19 | Tosoh Corp | パーフルオロアルキル基を有するベンゼン類の製造方法 |
| JP2009001832A (ja) * | 2008-10-07 | 2009-01-08 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 含芳香環高分子の製造方法 |
| CN109096046A (zh) * | 2018-08-16 | 2018-12-28 | 温州大学 | 一种用苯乙烯及其衍生物与三氯烷烃合成的卤代烷烃及其制备方法 |
-
1990
- 1990-02-15 JP JP2032419A patent/JPH03240739A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008137992A (ja) * | 2006-11-06 | 2008-06-19 | Tosoh Corp | パーフルオロアルキル基を有するベンゼン類の製造方法 |
| JP2009001832A (ja) * | 2008-10-07 | 2009-01-08 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 含芳香環高分子の製造方法 |
| CN109096046A (zh) * | 2018-08-16 | 2018-12-28 | 温州大学 | 一种用苯乙烯及其衍生物与三氯烷烃合成的卤代烷烃及其制备方法 |
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