JPH03243399A - 転写箔用剥離性基材シート及びそれを用いた転写箔 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 ３、発明の詳細な説明 本発明は、基材シートと転写層との剥離強度が適性値を
有する転写箔用剥離性基材シート及びそれを用いた転写
箔に関する。

〔従来の技術〕

基材シート上に模様状又は全面ベタ状の離型層を形成し
、この上に転写層を設けた構成の転写箔としては、基材
シートと離型層とが少なくとも転写時に剥離しない程度
の密着性、印刷等の転写層形成工程や転写工程での熱の
印加による離型層と転写層との剥離不良の防止、及び特
に離型層に艶消し剤を添加して艶消し転写層を転写する
構成の転写箔の場合には転写工程での圧力による艷消し
剤の埋没による艶消し効果の不良の防止の点からは、比
較的架橋密度の高い３次元架橋硬化性樹脂を使用するの
が最も好ましく、又多用される。

又離型層を艶消しとする為には、可視光線を乱反射させ
る関係上粒径が、大体５００ｎｍ〜１１００００ｎ　（
０，５〜１０ＩＩｍ）の炭酸カルシウム等の艶消し剤を
添加する事が行われていた。

これら従来技術として例えば特開昭６２−１８２９８号
、特開昭６２−４４４９１号公報記載の発明が挙げられ
る。

〔発明の解決しようとする課題］ この様な転写箔に於いては望ましい転写層と離型層との
剥離強度として、転写時には確実且つ容易に剥離するが
、転写箔の製造工程及び保管、運搬時には剥離脱落しな
い程度の適性な値が要求される。この適性な値としては
通常６〜２４ｇ／ｃｍの範囲である。

ところが上記従来知られている転写箔は、前記密着性の
向上、印刷や転写工程での熱の印加による転写層の剥離
不良の防止、及び転写工程での圧力による艶消し剤の埋
没による艶消し効果の不良の防止の条件を満たす比較的
架橋密度の高い３次元架橋硬化性樹脂を選定すると、い
ずれも必然的に剥離強度６ｇ／ｃｍ未満となり剥離が軽
過ぎる為、印刷等転写箔の製造工程及び保管、運搬時に
剥離層が離型層から剥離脱落し易いという問題がある。

又前記の様な艶消し剤を添加しても意外な事に投錨硬化
による剥離強度の増加は殆ど見出されない。

本発明の課題は上記問題点を解決し、離型層と転写層と
が転写時には確実、容易に剥離し且つ転写箔の製造工程
及び保管、運搬時には剥離脱落しない程度の適性な剥離
強度と、離型層と基材シートとが少なくとも転写時に剥
離しない程度の密着性と、転写箔製造工程での熱による
離型層と転写層との剥離不良の防止と、特に離型層中に
艶消し剤を有する場合は転写時の熱、圧による艶消し効
果の低下の防止との３乃至４つの長所を同時にそなえた
転写箔及びその転写箔に用いる剥離性基材シートを提供
することにある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は、 ｒ　（１）基材ソート上に、単体での剥離層との剥離強
度６ｇ／ｃｍ未満の３次元架橋硬化性樹脂と粒径が５ｎ
ｍ以上５０ｎｍ以下の粒状シリカを含有する離型層を形
成した事を特徴とする転写箔用剥離性基材シート。

（２）基材シート上に、離型層、少なくとも剥ＭＮを有
する転写層を、この順に有する転写箔に於いて、該離型
層が単体での剥離層との剥離強度６ｇ／ｃｍ未満の３次
元架橋硬化性樹脂と粒径が５ｎｍ以上５０ｎｍ以下の粒
状シリカを含有する事を特徴とする転写箔 （３）基材シートと離型層との光沢が異なり、且っ該離
型層が部分的模様状である事を特徴とする請求項（１）
記載の転写箔用剥離性基材シート。

（４）基材シートと離型層との光沢が異なり、且っ該離
型層が部分的模様状である事を特徴とする請求項（２）
記載の転写箔。

（５）該離型層が単体での剥離層との剥離強度６ｇ／ｃ
ｍ未満の３次元架橋硬化性樹脂と粒径が５ｎｍ以上５０
ｎｍ以下の粒状シリカと粒径が５００ｎｍ以上の艶消し
剤を含有する事を特徴とする請求項（１）及び（３）記
載の転写箔用剥離性基材シート。

（６）該離型層が単体での剥離層との剥離強度６　ｇ／
　ｃｍ未滴の３次元架橋硬化性樹脂と粒径が５ｎｍ以上
５０ｎｍ以下の粒状シリカと粒径が５００ｎｍ以上の艶
消し剤を含有する事を特徴とする請求項（２）及び（４
）記載の転写箔。」である。

以下本発明を図面に基づき説明する。

第１図は本発明の態様のうち離型層が部分的な模様状に
形成されている剥離性基材シートの縦断面図、第２図は
本発明の態様のうち離型層が部分的な模様状に形成され
ている転写箔の縦断面図、第３図は本発明の態様のうち
離型層が全面へ夕状に形成されている転写箔の縦断面図
である。

基材ソート１としては通常転写紙に用いる物が使用でき
る。材料としては例えば、 ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレ
ート、ポリエチレンテレフタレート／イソフタレート共
重合体等のポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン樹脂、
ポリフン化ビニル、ポリフン化ビニリデン、ポリ４７ノ
化エチレン、エチレン−４７フ化工チレン共重合体、等
のポリフッ化エチレン系樹脂、ナイロン６、ナイロン６
．６等のポリアミド、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル／酢
酸ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、エ
チレン／ビニルアルコール共重合体、ポリビニルアルコ
ールビニロン等のビニル重合体、三酢酸セルロース、セ
ロファン等のセルロース系樹脂、ポリメタアクリル酸メ
チル、ポリメタアクリル酸エチル、ポリアクリル酸エチ
ル、ポリアクリル酸フチル、等のアクリル系樹脂、ポリ
スチレン、ポリカーボネート、ボリアリレート、ポリイ
ミド等の合成樹脂シート、又は上質紙、薄葉紙、グラシ
ン紙、硫酸紙等の紙、金属箔等の単層体或いはこれら２
層以上の積層体が挙げられる。

これらの中から離型層との密着性、転写工程で要求され
る可撓性、耐熱性等各種性能、また該基材シートと剥離
層が直接接する部分を有する場合は剥離層との剥離強度
が６〜２４　ｇ／ｃｍになる欅な物を選定する。又基材
シート１の厚みは１２〜２００μｍ望ましくは１６〜５
０μｍである。

又必要に応して、基材シー）１の離型層２を形成する面
に、離型層２との密着を向上する為にコロナ放電処理等
の公知の易接着処理を施しても良い。或いは離型層２を
部分的に設け、これを射出成形同時転写に使用する場合
には、基材シートの延展部による基材シートと剥離層と
の直接接触部での剥離不良、亀裂、白化の発生防止の為
、アクリル樹脂系等公知の離型層を、離型層２の形成に
先立って設けても良い。但し離型Ｎ２を部分的に設ける
場合は基材シート１又は該公知の離型層と剥離層３１と
の接着力が６〜２４　ｇ　／　ｃ　ｍになる様な物を選
定する。

離型層２は、第１図、第２図の様に部分的模様状に設け
ても良く、又第３図の様に全面へ夕状に設けても良い。

特に離型層２を部分的模様状に設けるのは、転写層に光
沢（即ち艷）の異なる複数の領域からなる模様状艶差を
賦形する事が目的である。

よって此の場合は、離型層２と基材シートｌとの光沢を
視認可能な程度に異なる様にする。具体的には、基材シ
ートｌが高光沢の時は離型剤層に艶消し剤を添加し、基
材シート１が低光沢（艶消し）の時は離型剤層には艷消
し剤を添加高光沢とする。又全面均−な転写適性を出す
為、転写層３と離型層２及び転写層３と基材シート１と
の剥離強度は少なくとも路間−で且つ各々６〜２４　ｇ
　／　１ｎｃｈの範囲になる様後述の方法で調整する。

なお、此処で離型層とは転写後も基材側に残留し、転写
層との剥離を容易ならしめる層を、また剥離層とは転写
後は被転写体側へ転移し、転写層の表面保護層となる層
をいう。剥離は離型層と剥離層との間で行われる。

離型層２の材質としては、単体での剥離層との剥離強度
が６　ｇ　／　ｃ　ｍ以下の３次元架橋硬化性樹脂のバ
インダーと粒径が５ｎｍ以上５０ｎｍ以下の粒状充填剤
を少なくとも含有する組成物を硬化させて形成する。

此処で該３次元架橋硬化性樹脂としては電離放射線硬化
性樹脂又は熱硬化性樹脂が用いられる。

電離放射線硬化性樹脂としては、分子中に重合性不飽和
結合又は、エポキシ基を有するプレポリマー　オリゴマ
ー、及び／又は単量体を適宜混合した組成物を用いる。

前記プレポリマー　オリゴマーの例としては、不飽和ジ
カルボン酸と多価アルコールの縮合物等の不飽和ポリエ
ステル類、ポリエステルメタクリレート、ポリエーテル
メタクリレート、ポリオールメタクリレート、メラミン
メタクリレート等のメタクリレート類、ポリエステルア
クリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレ
ート、ポリエーテルアクリレート、ポリオールアクリレ
ート、メラミンアクリレート等のアクリレート類等があ
る。

前記単量体の例としては、スチレン、α−メチルスチレ
ン等のスチレン系単量体、アクリル酸メチル、アクリル
酸−２−エチルヘキシル、アクリル酸メトキシエチル、
アクリル酸ブトキシエチル、アクリル酸ブチル、アクリ
ル酸メトキシブチル、アクリル酸フェニル等のアクリル
酸エステル類、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチ
ル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸メトキシエチ
ル、メタクリル酸エトキシメチル、メタクリル酸フェニ
ル、メタクリル酸ラウリル等のメタクリル酸エステル類
、アクリル酸−２〜（Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノ）エチル
、メタクリル酸−２−（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ）エチ
ル、アクリル酸−２−（Ｎ、Ｎ−ジベンジルアミノ）エ
チル、メタクリル酸（Ｎ、　Ｎジメチルアミノ）メチル
、アクリル酸−２−（Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノ）プロピ
ル等の不飽和酸の置換アミノアルコールエステル類、ア
クリルアミド、メタクリルアミド等の不飽和カルボン酸
アミド、エチレングリコールジアクリレート、プロピレ
ングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコール
ジアクリレート、１゜６−ヘキサンジオールジアクリレ
ート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチ
レングリコールシアクリート等の化合物、ジプロピレン
グリコールジアクリレート、エチレングリコールアクリ
レート、プロピレングリコールジメタクリレート、ジエ
チレングリコールジメタクリレート等の多官能性化合物
、及び／又は、分子中に２個以上のチオール基を有する
ポリチオール化合物、例えば、トリメチロールプロパン
トリチオグリコレート、トリメチロールプロパントリチ
オプロピレート、ペンタエリスリトールテトラチオグリ
コール等がある。

以上の化合物を必要に応し１種もしくは２種以上ｌ昆合
して用いるが、樹脂＆１１底物に通常の塗工適性を付与
するために、前記プレポリマー又はオリゴマーを５重量
％以上、前記単量体及び／又はポリチオールを９５重量
％以下とすることが好ましい。

単量体の選定に際しては、硬化物の可撓性が要求される
場合は塗工適性上また前記転写箔としての要求性能上支
障の無い範囲で単量体の量を少なめにしたり、■官能又
は２官能アクリレ一ト単量体を用い比較的低架橋密度の
構造とする。又、硬化物の耐熱性、硬度、耐溶剤性等を
要求される場合には塗工通性環上支障の無い範囲で単量
体の量を多めにしたり、３官能以上のアクリレート系単
量体を用い高架橋密度の構造とするのが好ましい。１．
２官能単量体と３官能以上の単量体を混合し塗工適性と
硬化物の物性とを調整することも出来る。

以上の様な１官能アクリレ一ト系単量体としては、２−
ヒドロキシアクリレート、２−へキシルアクリレート、
フェノキシエチルアクリレート等が挙げられる。

２官能アクリレ一ト系単量体としては、エチレングリコ
ールジアクリレート、１．６−ヘキサンジオールジアク
リレート等が、３官能以上のアクリレート系単量体とし
てはトリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタ
エリスリトールへキサアクリレート、ジペンタエリスリ
トールへキサアクリレート等が挙げられる。

特に紫外線で硬化硬化させる場合には前記電離放射線硬
化性樹脂組成物に光重合開始剤として、アセトフェノン
類、ヘンシフエノン類、ミヒラーヘンゾイルヘンゾエー
ト、α−アξロキシムエステル、テトラメチルメウラム
モノサルファイド、チオキサントン類、及び／又は光増
感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ
ーｎ−ブチルホスフィン等を混合して用いることもでき
る。

尚、此処で電離放射線とは電磁波又は荷電粒子線のうち
分子を重合、架橋し得るエネルギー量子を有するものを
意味し、通常紫外線、電子線が用いられる。

紫外線源としては超高圧水銀燈、高圧水銀燈低圧水銀燈
、カーボンアーク、ブラックライトランプ、メタルハラ
イドランプ等の光源を用いる。

電子線源としてはコックロフトワルトン型、ハンプグラ
フ型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、或いは直線型
、ダイナごトロン型、高周波型等の各種電子線加速器を
用い。１００〜１０００ｋｅＶ好ましくは１００〜３０
０　ｋ　ｅ　Ｖのエネルギーを持つ電子を照射する。

熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジ
アリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂
、不飽和ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エ
ポキシ樹脂、アミノアルキンド樹脂、メラくン／尿素共
縮合樹脂ポリシロキサン樹脂等の珪素樹脂、等がありこ
れらに必要に応して、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、
重合促進剤、溶剤、粘度調整剤、等を添加する。

硬化剤として通常、イソシアネートが不飽和ポリエステ
ル系樹脂、ポリウレタン系樹脂に、アミンがエポキシ樹
脂に、メチルエチルケトンパーオキサイド、等の過酸化
物、アゾビスイソブチロニトリル等のラジカル開始剤が
不飽和ポリエステル系樹脂に良く使用される。

イソシアネートとしては、２価以上の脂肪族又は芳香族
イソシアネートを使用出来るが、熱変色防止、耐候性の
点から脂肪族イソシアネートが望ましい。具体例として
は、トリレンジイソソア不一ト、キシレンジイソシアネ
ート、４４−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキ
サメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート
等が挙げられる。

これらの中で本発明の課題を達成する上で最も好ましい
樹脂は、剥離層３１の樹脂系としてアクリル酸、メタア
クリル酸、アクリル酸誘導体、メタアクリル酸誘導体、
の単独重合体又は共重合体、或いはそれらと塩化ゴムと
の混合物を用いた場合には、メチロール化アクリルアミ
ド基を有するアミノアルキンド樹脂である。具体的には
ポリエステル樹脂、好ましくは網状化ポリエステルのグ
リプタル樹脂等のアルキド樹脂を主材として構成され、
必要に応してアルコキシメチルメラミン等の変性メラミ
ンを混合してなる物である。中でもメチロール化アクリ
ルアミド基を有するアルキド樹脂に、少なくとも２個以
上のメチロール基、アルコキシメチル基、水ａ基又はカ
ルボキシル基を有する低分子化合物を混合したものが、
硬化後の基材シートとの密着性や剥離層との剥離性が良
好となる。

其他好ましい樹脂としては熱硬化型アクリル系樹脂の中
で官能基として少なくとも、カルボキシル基、エポキシ
基、アミド基、メチロール化アクリルアミド基、メトキ
シメチルアクリルアミド基、ブトキシメチルアクリルア
旦ド基或いは脂肪族２重結合を有する官能基のうちの１
種以上を有する自己架橋性の物がある。特に易硬化性の
点から、メトキシメチルアクリルアミド基、ブトキシメ
チルアクリルアミド基を１分子中に平均４個有するメチ
ルメタクリレートスチレン−ヒドロキシアクリレート共
重合体が最適であるこれらの樹脂材料は単独で使用して
も或いは上記官能基を有するポリマーと混合して使用し
ても良い。混合の場合は上記官能基を有するポリマーの
他に水酸基を有するアクリル樹脂を使用することが可能
である。更に必要に応じて上記樹脂材質に、ジエポキシ
ド、メラミン樹脂、尿素樹脂及びこれらの変性した物を
混合しても、或いは上記官能基を２以上有する低分子化
合物を混合使用しても良い。

上記アミノアルキッド樹脂、熱硬化型アクリル系樹脂よ
りなる離型層は、５０〜１５０°Ｃの温度にて架橋硬化
させる事ができる。又酸触媒の使用により硬化反応を促
進し約３０〜１２０°Ｃの比較的低温下で架橋硬化が可
能である。これら酸触媒としてはパラトルエンスルホン
酸、塩酸等の強酸が好ましい。

艶消し材としては、可視光線を乱反射させる関係上粒径
が大体５００ｎｍ　〜１００１００００ｎ、５〜１０μ
ｍ）、より好ましくは１０００〜７０００ｎｍ（１〜７
μｍ）の粒状固体を用いる。材料としてはシリカが好ま
しいが、その他、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、水酸
化アルミニウム等の無機化合物、ポリエチレン等の有機
化合物を１〜２５重量％、より好ましくは５〜２０重量
％添加する。

離型層２に添加する粒径が５ｎｍ以上５０ｎｍ以下の粒
状充填剤としては、本発明の課題達成上シリカが最も好
ましいが、その他炭酸カルシウム、硫酸バリウム、水酸
化アルミニウム等公知の物質が使用できる。

本発明に於ける粒状充填剤添加の目的は、離型層表面の
光沢を変えずに基材シートと剥離層との剥離強度のみを
増大させ、６〜２４ｇ／ｃｍの範囲とする為であるが、
剥離層との剥離強度に寄与するのは専ら粒状充填剤添加
の粒径でありこれが、５〜５０ｎｍ更に好ましくは１０
〜３０ｎｍの物を適量添加する事により、３次元架橋硬
化性樹脂よりなる離型層の該剥離強度を樹脂本来の６ｇ
／ｃｍ未満から６〜２４ｇ／ｃｍに調節する事が可能と
なる。

粒状充填剤の添加量は、使用する３次元架橋硬化性樹脂
のバインダーと剥離層のバインダーとの組合せ、粒状充
填剤の粒径によって適宜加減するが、特に３次元架橋硬
化性樹脂として前記アミノアルキッド樹脂、粒状充填剤
として前記粒径のシリカを使用した場合は樹脂に対して
０．２〜１０重量％、更に好ましくは０．５〜５重量％
が最適である。一般に添加量を増やすと剥離強度は大き
くなる。

基材シート１上に離型層２を形成する事により第１図の
如き本発明の剥離性基材シートを得る。更に離型層２上
に転写層３を形成する事により本発明の転写箔を得る。

此処で転写層３は第２図の通り離型層２に近い方から、
剥離層３２、装飾層３２、接着剤層３３からなる。この
うち全面均一安定した剥離性を得る事、又転写後の転写
層表面強度を得る事のの為剥＃層３２が必須となる。他
層は必要に応し適宜設ける。

剥離層３２は公知の各種樹脂の中から選定したバインダ
ーを主成分とする。選定に当たっては離型層との剥離強
度が６〜２４ｇ／ｃｍとなり、且つ転写層表面の転写後
の耐摩耗性等の物性、意匠外観等を考慮する。

使用する樹脂は、熱可塑性樹脂としては、エチルセルロ
ース、硝酸セルロース、酢酸セルロース、エチルヒドロ
キシセルロース、セルロースアセテートプロピオネート
等のセルロース誘導体、ポリスチレン、ポリα−メチル
スチレン等のスチレン樹脂又はスチレン共重合体、ポリ
メタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチルポリアク
リル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル等のアクリル樹脂
、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル／酢酸
ビニル共重合体、ポリビニルブチラール等のビニル重合
体、ロジン、ロジン変性マレイン酸樹脂、ロジン変性フ
ェノール樹脂、重合ロジン等のロジンエステル樹脂、ク
マロン樹脂、ビニルトルエン樹脂、ポリアミド樹脂等の
単独重合体又は共重合体が挙げられる。

その地熱硬化性樹脂及び電離放射線硬化性樹脂としては
、前記離型層のバインダー樹脂で列挙した物等が挙げら
れる。

又膜厚も所望の物性等により選定するが、通常０．１〜
１０μｍである。

装飾層３２としては絵柄模様層、金属薄膜層等が用いら
れる。

絵柄模様としては、木目、石目、布目等の天熱動を模写
したもの、図形、記号、文字、罫線、全面べた等から適
宜選択し、インキも公知の物を適宜選定し印刷法等によ
り形成する。

印刷法としては、グラビア、グラビアオフセット等の凹
版印刷、活版、フレキソ、等の凸版印刷、平版オフセン
ト等の平版印刷、シルクスクリーン等の孔版印刷、ダイ
リソ印刷、静電印刷、インキジェットプリント等が挙げ
られる。

金属薄膜層はアルごニウム、クロム、ニンヶル、銅、銀
、金等の金属の薄膜を真空草着、スパッタリング、無電
解鍍金等公知の方法で設ける。又必要に応し、公知の方
法により該金属薄膜層を部分的模様上に形成しても良い
。

接着剤層３３は、転写層を被転写体に転移、接着させる
為の層で、感熱接着剤、溶剤活性型接着剤、電離放射線
硬化性接着剤等の中から用途に応して選定する。なお、
絵柄層、剥離層等接着剤層以外の転写層自身が十分な接
着性を有する時は接着剤層を省略することもできる。

感熱接着剤は加熱によって接着性が発現するものであり
、通常熱可塑性樹脂、アイオノマー等が用いられる、樹
脂としては例えば、エチルセルロース、硝酸セルロース
、酢酸セルロースエチルヒドロキシエチルセルロース、
セルロースアセテートプロピオネート等のセルロース誘
導体、ポリスチレン、ポリα−メチルスチレン等のスチ
レン樹脂又はスチレン共重合体、ポリメタクリル酸メチ
ル、ポリメタクリル酸エチル、ポリアクリル酸エチル、
ポリアクリル酸ブチル等のアクリル樹脂、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体
エチレン／ビニルアルコール共重合体、ポリビニルブチ
ラール等のビニル重合体、ロジン、ロジン変性マレイン
酸樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、重合ロジン等のロ
ジンエステル樹脂ポリイソプレンゴム、ポリイソブチル
ゴム、スチレンブタジェンゴム、ブタジェンアクリロニ
トリルゴム等のゴム系樹脂、クマロン樹脂、ビニルトル
エン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ塩素化オレフィン等の
天然又は合成樹脂、各種アイオノマー等が挙げられる。

以上の離型層２、剥離層３１、接着剤層３３を形成する
方法としては、塗工法例えばグラビアコート、グラビア
リバースコート、グラビアオフセットコート、スピンナ
ーコート、ロールコート、リバースロールコート、ナイ
フコートキスコート、ホイラーコート、デイイブコート
、シルクスクリーンによるベタコート、ワイアーバーコ
ード、フローコート、コンマコート、かけ流しコート、
刷毛塗り、スプレーコート等を用いる。特に離型層２を
部分的模様状に形成する場合は前記公知の印刷方法を用
いる。

本発明で得られる転写箔は第２図の様に被転写体４と転
写層とを対向させ、ホットスタンプ、射出成形同時転写
等の熱転写、溶剤活性転写等公知の各種転写方法を用い
て転写印刷を行う事ができる。

〔作用］ 本発明に於いて、剥離層と離型層との剥離強度を調整で
きる理由、即ち粒径が５ｎｍ以上５Ｏｎｍ以下の粒状シ
リカを添加することにより３次元架橋硬化性樹脂よりな
る離型層の該剥離強度を樹脂本来の６ｇ／ｃｍ未満から
６〜２４ｇ／ｃｍに高められる理由は不明であるが、推
測するに粒径５００〜１１００００ｎの艶消し剤を添加
しても、該艶消し剤粒子の表面が、低剥離強度の３次元
架橋硬化性樹脂に被覆されて化学的な密着は期待できな
い上、表面積、曲率とも比較的小さく物理的な投錨効果
も殆ど期待できない。よって予想に反して艶消し剤を添
加しても期待する剥離強度の増加は得られない。

一方粒径が５ｎｍ以上５０ｎｍ以下の粒状シリカを添加
した場合は、３次元架橋硬化性樹脂の表面に低曲率の微
小突起が多数でき、表面積、表面曲率とも増大する。そ
の為投錨効果が大きく作用する。よって意外にも有効に
該剥離強度を増加させる事が可能となる。

〔効果〕

本発明は以下の効果を奏するものである。即ち、 請求項（１）記載の転写箔用剥離性基材シートはその上
に剥離層等転写層を形威した転写箔とした場合に、■基
材シートと離型層との少なくとも転写時に剥離しない程
度の密着性、■印刷等の転写層形成工程や転写工程での
熱の印加による離型層と転写層との剥離不良の防止、■
転写層と離型層との剥離強度として、転写時には確実且
つ容易に剥離するが、転写箔の製造工程及び保管、運搬
時には剥離脱落しない程度の適性な値即ち、６〜２４ｇ
／ｃｍを有する。の従来同時には成り立たなかった３つ
の性能が鼎立するという固有の効果を奏する。

請求項（２）記載の転写箔は■基材シートと離型層との
少なくとも転写時に剥離しない程度の密着性、■印刷等
の転写層形成工程や転写工程での熱の印加による離型層
と転写層との剥離不良の防止、■転写層と離型層との剥
離強度として、転写時には確実且つ容易に剥離するが、
転写箔の製造工程及び保管、運搬時には剥離脱落しない
程度の適性な値即ち、６〜２４ｇ／ｃｍを有する。この
従来同時には戒り立たなかった３つの性能が鼎立すると
いう固有の効果を奏する。

請求項（３）記載の転写箔用剥離性基材シートは前記請
求項（１）記載の発明の効果に加え、その上に転写層を
形威して転写箔とした場合、転写層表面に部分的模様状
の光沢差を賦形する事ができるという効果を奏する。

請求項（４）記載の転写箔は前記請求項（２）記載の発
明の効果に加え、被転写体上へ転写層の他転写層表面上
に賦形された部分的模様状の光沢差を同時に転写できる
という効果を奏する。

請求項（５）記載の転写箔用剥離性基材シート及び請求
項（６）記載の転写箔は、前記請求項（１）乃至（４）
記載の発明の効果に加え、転写層表面に艶消し光沢を賦
形転写するのに際し、基材シートと剥離層との剥離強度
を最適値６〜２４　ｇ　／　ｃ　ｍに調整できる事、及
び艶消し転写層を転写する際転写圧力で艶消し剤が埋没
して艶消し効果が低減するのを防止できる事の効果を各
々奏する。

〔実施例］ 一実１Ｌ別−Ｌ 基材シートとして厚さ２６μｍのコロナ放電処理を施し
たポリエチレンテレフタレートのシート（東し■製、ル
ミラーｘ４５）を用意、次いでコロナ放電処理面に、離
型層としてアミノアルキッド樹脂／ブチル化メラミン／
艶消し用シリカ（粒径２０００ｎｍ）／剥離強度調整用
シリカ（粒径１５ｎｍ）＝　　８７．５／１２．５／６
．２５／６．　２５　（重量比）の組成のインキ（昭和
インク工業所■製）１００重量比に対し、塩酸の２０重
量％メタノール溶液を５重量比混合した物を用いて、膜
厚５μｍの部分的模様をグラビア印刷し、次いで１００
　’Ｃ雰囲気中で５秒間加熱処理し架橋硬化させて艶消
し離型層を部分的模様状に形威し、本発明の転写箔用剥
離性基材シートを得た。

［コ虹ｍ 実施例１で製造した剥離性基材シートの離型層面に剥離
層としてアクリル樹脂と塩化ゴムの混合体系のインキ（
昭和インク工業所■製）を全面に塗工し、次いで装飾層
として塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体とアクリル樹脂
との混合体系のインキ（昭和インク工業所■製）にて模
様をグラビア印刷し、次いで感熱型接着剤層としてアク
リル樹脂系のインキ（昭和インク工業所■製、Ｈ３ＥＳ
３）を塗工して本発明の転写箔を得た。

得られた転写箔は剥離層と基材シートとの剥離強度が２
０８／Ｃｍであり、印刷工程から転写工程迄の間剥離層
が自然に浮き上がったり脱落したり等の問題がなく、又
此の転写箔をホットスタンプの機械により、表面温度２
００″Ｃのゴムロールにてポリスチレン板の被転写体へ
熱転写した。転写工程で基材シートを剥離する時も転写
層の基材シートへの残留もなく全面安定して剥離するこ
とができた。

得られた転写製品は被転写体表面に印刷模様と、模様状
の艷有り部と艶消し部を有した１１Ｍな外観の物であっ
た。

、ｌＬ銖」− 基材シートとして厚さ５０／１ｍのポリエチレンテレフ
タレートのシート（ダイヤホイル■製ＤＨＨインライン
コロナＰＥＴ）を用意、次いで離型層としてアミノアル
キッド樹脂／ブチル化メラミン／艶消し開用シリカ（粒
径４０００ｎｍ）／剥離強度調整用シリカ（粒径１０ｎ
ｍ）＝　　８８゜５／１１．５／９．２１５．８　（重
量比）の＆ｇ戒のインキ（昭和インク工業所■製）１０
０重量比に対し、パラトルエンスルホン酸の２０重量％
メタノール溶液を１０重量比混合した物を用いて、グラ
ビアコータにて膜厚５μｍの全面ベタ塗工し、次いで９
０°Ｃ雰囲気中で５秒間加熱処理し架橋硬化させて艶消
し離型層を全面に形成した。次いで実施例２と同様にし
て装飾層、感熱接着剤層を形成し本発明の転写箔を得た
。

この転写箔を実施例２と同様のホントスタンプ転写層に
てポリスチレン板の被転写体へ熱転写し、実施例２と同
様良好な転写適性が得られた。

得られた転写製品は被転写体表面に印刷模様と全面艶消
し表面を有した綺麗な外観の物であった。

１墓員土 基材シートとして厚さ３８μｍのポリエチレンテレフタ
レートにアクリル樹脂系の成形離型層コートを施したシ
ート（ダイヤホイル■製、ＧＨａ８）を用意、次いで該
成形離型層の上に離型層としてアミノアルキッド樹脂／
ブチル化メラミン／艶消し開用シリカ（粒径４０００ｎ
ｍ）／剥離強度調整用シリカ（粒径１０ｎｍ）＝　　８
８．５／１１．５／９．２１５．８　（重量比）の組成
のインキ（昭和インク工業所■製）１００重量比に対し
、パラトルエンスルホン酸の２０重量％メタノール溶液
を１０重量比混合した物を用いて、グラビア印刷にて部
分的模様状に印刷し、次いで９゜°Ｃ雰囲気中で５秒間
加熱処理し架橋硬化させて艶消し離型層を部分的模様状
に形成した。次いで実施例２と同様にして装飾層、感熱
接着剤層を形成し本発明の転写箔を得た。

この転写箔を射出成形の雌金型内面形状に沿わせ、且つ
転写層がキャビティ側を向く様に予備成形した。次いで
＃雄金型を閉し型締めし、雄型側の注湯孔より熔融した
アクリロニトリルスチレン樹脂を注湯し射出成形を行い
、転写層をアクリロニトリルスチレ樹脂戒形体表面に熱
転写した。

実施例２と同様良好な転写適性が得られた。

得られた転写製品は被転写体表面に印刷模様と部分的模
様状の艶消し表面とを有した綺麗な外観の物であった。

一実」Ｌ銖ｊ− 実施例２と同様にして模様印刷層迄を形成し、次いでそ
の上に、蒸着用アンカーコート剤、蒸着ＡＣ３−８（昭
和インク工業所■製）を塗工し、次いで蒸着除去層とし
て水溶性樹脂（昭和インク工業所■製、水洗ブライマー
Ｎｏ４）を部分的模様状に印刷した。次いでその上にア
ルミニウムを全面に蒸着し、次いで水で洗滌し水溶性樹
脂部上のアルミニウム層のみ除去し、次いでその上に全
面に実施例２と同し感熱接着剤′層を形成し本発明の転
写箔を得た。

この転写箔を用いて実施例２と同様の転写を行ったとこ
ろ、実施例２と同様の良好な転写適性を得た。

１コ虻迩１ｉ 基材シートとして厚さ２６μｍのコロナ放電処理を施し
た艶消し表面ポリエチレンテレフタレートのシート（東
し■製、ルミラーＸ４２）を用意、次いでコロナ放電処
理面に、離型層としてア果ノアルキンド樹脂／ブチル化
メラ、ミソ／剥離強度調整用シリカ（粒径１５ｎｍ）＝
　　６６．７／３３．３／１０．０　（重量比）の組成
のインキ（昭和インク工業所■製）１００重量比に対し
、パラトルエンスルホン酸の２０重量％メタノール溶液
を１０重量比混合した物を用いて、膜厚４μｍの部分的
模様をグラビア印刷し、次いで１０５°Ｃ雰囲気中で５
秒間加熱処理し架橋硬化させて艷有り離型層を部分的模
様状に形成し、艶消し部分が該部分的模様の陰画パター
ン状に形成された本発明の転写箔用剥離性基材シートを
得た。

その後、実施例２と同様に各転写層を形成して得られた
転写箔は離型層及び基材シートと剥離層との剥離強度が
１５　ｇ　／　ｃ　ｍと云う良好な値を有し、実施例２
と同様良好な転写適性を有するものであった。

又得られた転写製品は表面に印刷模様と部分的模様状の
艷有り部と艶消し部とを有する物であった。

止且立 実施例２に於いて離型層をアミノアルキッド樹脂／ブチ
ル化メラミン／艶消し用シリカ（粒径２０００ｎｍ）／
＝　　８７．５／１２．５／６．２５（重量比）の組成
のインキ（昭和インク工業所■製）に置換したものを用
い、その他は実施例２と同様の転写箔を作った。

得られた転写箔は、基材シートと剥離層との剥離強度が
４　ｇ　／　ｃ　ｍと小さく、印刷工程から転写工程迄
の間に剥離層が自然に浮き上がったり、脱落したり等の
問題が生した。

【図面の簡単な説明】 第１図は本発明の態様のうち離型層が部分的な模様状に
形成されている剥離性基材シートの縦断面図、第２図は
本発明の態様のうち離型層が部分的な模様状に形成され
ている転写箔の縦断面図、第３図は本発明の態様のうち
離型層が全面ベタ状に形成されている転写箔の縦断面図
である。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. （１）基材シート上に、単体での剥離層との剥離強度６
   ｇ／ｃｍ未満の３次元架橋硬化性樹脂と粒径が５ｎｍ以
   上５０ｎｍ以下の粒状シリカを含有する離型層を形成し
   た事を特徴とする転写箔用剥離性基材シート。
2. （２）基材シート上に、離型層、少なくとも剥離層を有
   する転写層を、この順に有する転写箔に於いて、該離型
   層が単体での剥離層との剥離強度６ｇ／ｃｍ未満の３次
   元架橋硬化性樹脂と粒径が５ｎｍ以上５０ｎｍ以下の粒
   状シリカを含有する事を特徴とする転写箔。
3. （３）基材シートと離型層との光沢が異なり、且つ該離
   型層が部分的模様状である事を特徴とする請求項（１）
   記載の転写箔用剥離性基材シート。
4. （４）基材シートと離型層との光沢が異なり、且つ該離
   型層が部分的模様状である事を特徴とする請求項（２）
   記載の転写箔。
5. （５）該離型層が単体での剥離層との剥離強度６ｇ／ｃ
   ｍ未満の３次元架橋硬化性樹脂と粒径が５ｎｍ以上５０
   ｎｍ以下の粒状シリカと粒径が５００ｎｍ以上の艶消し
   剤を含有する事を特徴とする請求項（１）及び（３）記
   載の転写箔用剥離性基材シート。
6. （６）該離型層が単体での剥離層との剥離強度６ｇ／ｃ
   ｍ未満の３次元架橋硬化性樹脂と粒径が５ｎｍ以上５０
   ｎｍ以下の粒状シリカと粒径が５００ｎｍ以上の艶消し
   剤を含有する事を特徴とする請求項（２）及び（４）記
   載の転写箔。