JPH03246236A - ジフェニルブタンの製造方法 - Google Patents
ジフェニルブタンの製造方法Info
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- JPH03246236A JPH03246236A JP2041447A JP4144790A JPH03246236A JP H03246236 A JPH03246236 A JP H03246236A JP 2041447 A JP2041447 A JP 2041447A JP 4144790 A JP4144790 A JP 4144790A JP H03246236 A JPH03246236 A JP H03246236A
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- Japan
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- sulfuric acid
- diphenylbutane
- benzene
- catalyst
- yield
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術分野
本発明はジフェニルブタンの製造方法に関し、さらに詳
しくは感圧複写紙用溶剤のほか、熱媒体油または電気絶
縁油などに用いられうるジフェニルブタンの製造方法に
関する。
しくは感圧複写紙用溶剤のほか、熱媒体油または電気絶
縁油などに用いられうるジフェニルブタンの製造方法に
関する。
発明の技術的背景
ジフェニルブタンは、感圧複写紙用溶剤、熱媒体油、あ
るいは電気絶縁油などとして有用な化合物であるが、ジ
フェニルブタンの製造方法としては、従来以下のような
方法が知られている。
るいは電気絶縁油などとして有用な化合物であるが、ジ
フェニルブタンの製造方法としては、従来以下のような
方法が知られている。
（イ）９６％硫酸あるいはフッ素水素を触媒として使用
し、ベンゼンとブタジェンからジフェニルブタンを一段
反応にて製造する方法（ジャーナル・オブ・アメリカン
・ケミカルラサイアティー１９４４年、第６６巻８１６
〜８１７頁）、（ロ）濃硫酸あるいは塩化アルミニウム
を触媒として使用し、ベンゼンとブタジェンからジフェ
ニルブタンを一段反応にて製造する方法（ジャーナル・
オブ・オーガニック・ケミストリー １９６６年、第３
１巻１１２４〜１１２７頁）。
し、ベンゼンとブタジェンからジフェニルブタンを一段
反応にて製造する方法（ジャーナル・オブ・アメリカン
・ケミカルラサイアティー１９４４年、第６６巻８１６
〜８１７頁）、（ロ）濃硫酸あるいは塩化アルミニウム
を触媒として使用し、ベンゼンとブタジェンからジフェ
ニルブタンを一段反応にて製造する方法（ジャーナル・
オブ・オーガニック・ケミストリー １９６６年、第３
１巻１１２４〜１１２７頁）。
しかしながら上記文献に開示されたジフェニルブタンの
製造方法では、ジフェニルブタンの収率は低（、ブタジ
ェン基準の収率は、たかだか１５％程度であり、かつブ
タジェン重合体などの副生物が極めて多いという問題点
があった。
製造方法では、ジフェニルブタンの収率は低（、ブタジ
ェン基準の収率は、たかだか１５％程度であり、かつブ
タジェン重合体などの副生物が極めて多いという問題点
があった。
（ハ）また、本出願人も、８９〜９６重量％の硫酸触媒
の存在下、１−フェニルブテンとベンゼンとを反応させ
るジフェニルブタンの製造方法を提案している（特開昭
６３−２３９２３９号公報）。
の存在下、１−フェニルブテンとベンゼンとを反応させ
るジフェニルブタンの製造方法を提案している（特開昭
６３−２３９２３９号公報）。
上記の方法はジフェニルブタンの収率が著しく改善され
る優れた製造方法ではあるが、反応原料であるベンゼン
が硫酸によりスルホン化される副反応が生じ、結果とし
て触媒である硫酸純度が低下し、硫酸を触媒として回収
および再使用できないという問題点があった。
る優れた製造方法ではあるが、反応原料であるベンゼン
が硫酸によりスルホン化される副反応が生じ、結果とし
て触媒である硫酸純度が低下し、硫酸を触媒として回収
および再使用できないという問題点があった。
発明の目的
本発明は、ジフェニルブタンを製造するに際し、上記の
ような従来技術に伴う問題点を解決しようとするもので
あり、ジフェニルブタンを収率よく製造し、かつ触媒で
ある硫酸が再使用できうるような経済的なジフェニルブ
タンの製造方法を提供することを目的としている。
ような従来技術に伴う問題点を解決しようとするもので
あり、ジフェニルブタンを収率よく製造し、かつ触媒で
ある硫酸が再使用できうるような経済的なジフェニルブ
タンの製造方法を提供することを目的としている。
発明の概要
本発明者らは、硫酸を触媒とするジフェニルブタンの製
造方法を種々検討した。
造方法を種々検討した。
その結果、１−フェニルブテンとベンゼンとを８９〜９
８重量％の硫酸触媒の存在下に反応させてジフェニルブ
タンを製造するに際して、特定量のベンゼンスルホン酸
を反応系に添加することにより、ジフェニルブタンが高
収率で得られるとともに、ベンゼンスルホン化物の生成
が抑制され、触媒である硫酸の回収、再使用が可能とな
ることを見出し本発明を完成するに至った。
８重量％の硫酸触媒の存在下に反応させてジフェニルブ
タンを製造するに際して、特定量のベンゼンスルホン酸
を反応系に添加することにより、ジフェニルブタンが高
収率で得られるとともに、ベンゼンスルホン化物の生成
が抑制され、触媒である硫酸の回収、再使用が可能とな
ることを見出し本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は１−フェニルブテンとベンゼンとを
８９〜９８重量％の硫酸触媒の存在下に反応させてジフ
ェニルブタンを製造するに際して、ベンゼンスルホン酸
を硫酸に対して７〜５０モル％の量で反応系に添加する
ことを特徴としている。
８９〜９８重量％の硫酸触媒の存在下に反応させてジフ
ェニルブタンを製造するに際して、ベンゼンスルホン酸
を硫酸に対して７〜５０モル％の量で反応系に添加する
ことを特徴としている。
発明の詳細な説明
以下、本発明に係るジフェニルブタンの製造方法につい
て具体的に説明する。
て具体的に説明する。
本発明において、ジフェニルブタンを製造する際に反応
原料として用いられる１−フェニルブテンは、ベンゼン
とブタジェンとから、既知の製造方法にて高収率で製造
することができる。
原料として用いられる１−フェニルブテンは、ベンゼン
とブタジェンとから、既知の製造方法にて高収率で製造
することができる。
既知の製造方法として、たとえば以下の方法が挙げられ
る。
る。
（ａ）ベンゼンとブタジェン（４７１モル比）とを、９
５％りん酸触媒存在下に、６０〜６５℃の反応温度で反
応させてフェニルブテンを得る方法。
５％りん酸触媒存在下に、６０〜６５℃の反応温度で反
応させてフェニルブテンを得る方法。
（収率６０％、うちＩ−フェニル−２−ブテンの選択率
：９４．４％）［ｒ’レンストツフ・ケミ−」（Ｂ＋ｅ
ｎｎｔｌｏｌｌ−Ｃｈｅｍｉｅ） １９６３年、第４４
巻６号１７５頁］、 （ｂ）ＢＦ −りん酸触媒存在下にベンゼンとブタジ
ェン（２／１モル比）とを、８５〜８８°Ｆの反応温度
で反応させてフェニルブテンを得る方法。（収率８０％
以上）（米国特許第２．４１２５９５号明細書、同第２
．４７１．９２２号明細書）等である。
：９４．４％）［ｒ’レンストツフ・ケミ−」（Ｂ＋ｅ
ｎｎｔｌｏｌｌ−Ｃｈｅｍｉｅ） １９６３年、第４４
巻６号１７５頁］、 （ｂ）ＢＦ −りん酸触媒存在下にベンゼンとブタジ
ェン（２／１モル比）とを、８５〜８８°Ｆの反応温度
で反応させてフェニルブテンを得る方法。（収率８０％
以上）（米国特許第２．４１２５９５号明細書、同第２
．４７１．９２２号明細書）等である。
上記のようなＩ−フェニルブテンとベンゼンとを反応さ
せることによりジフェニルブタンが得られるが、この際
８９〜９８重量％、さらに好ましくは９０〜９５重量％
の硫酸が触媒として用いて行われる。この８９〜９８重
量％の硫酸触媒は、反応原料としての１−フェニルブテ
ンおよびベンゼンに対して２〜２００容量％、さらに好
ましくは５〜１００容量％の量で用いられる。
せることによりジフェニルブタンが得られるが、この際
８９〜９８重量％、さらに好ましくは９０〜９５重量％
の硫酸が触媒として用いて行われる。この８９〜９８重
量％の硫酸触媒は、反応原料としての１−フェニルブテ
ンおよびベンゼンに対して２〜２００容量％、さらに好
ましくは５〜１００容量％の量で用いられる。
本発明において、上記のような硫酸触媒を用いて１−フ
ェニルブテンとベンゼンとを反応させるに際して、ベン
ゼンスルホン酸を上記の硫酸に対して７〜５０モル％好
ましくは２０〜３５モル％の量で反応系に添加する。ベ
ンゼンスルホン酸の添加量が硫酸に対して７モル％未満
であると、ベンゼンのスルホン化反応が進行し、触媒で
ある硫酸純度が低下し再使用できなくなり、一方、硫酸
に対して５０モル％を超えると、ジフェニルブタンの収
率が低下するのでいずれも好ましくない。
ェニルブテンとベンゼンとを反応させるに際して、ベン
ゼンスルホン酸を上記の硫酸に対して７〜５０モル％好
ましくは２０〜３５モル％の量で反応系に添加する。ベ
ンゼンスルホン酸の添加量が硫酸に対して７モル％未満
であると、ベンゼンのスルホン化反応が進行し、触媒で
ある硫酸純度が低下し再使用できなくなり、一方、硫酸
に対して５０モル％を超えると、ジフェニルブタンの収
率が低下するのでいずれも好ましくない。
また、本発明における、ベンゼン／１−フェニルブテン
のモル比は、３〜４０さらに好ましくは５〜３０である
。前記モル比が３未満であると、目的生成物の逐次反応
が進み収率が低下するため好ましくなく、一方モル比が
４０を超えると何ら好結果をもたらさないためいずれも
好ましくない。
のモル比は、３〜４０さらに好ましくは５〜３０である
。前記モル比が３未満であると、目的生成物の逐次反応
が進み収率が低下するため好ましくなく、一方モル比が
４０を超えると何ら好結果をもたらさないためいずれも
好ましくない。
本発明に係る１−フェニルブテンとベンゼンとの反応は
、回分式、半回分式、連続式のいずれでも実施できる。
、回分式、半回分式、連続式のいずれでも実施できる。
反応温度はスルホン化反応などの副反応を抑制するため
０〜７０℃、さらに好ましくは２０〜５０℃であり、ま
た反応時間は０．５〜３．０時間、さらに好ましくは１
．０〜２．５時間である。さらに重合反応を抑制するた
め、■−フェニルブテンの反応系中における濃度を５重
量％以下に保持することが好ましい。
０〜７０℃、さらに好ましくは２０〜５０℃であり、ま
た反応時間は０．５〜３．０時間、さらに好ましくは１
．０〜２．５時間である。さらに重合反応を抑制するた
め、■−フェニルブテンの反応系中における濃度を５重
量％以下に保持することが好ましい。
本発明に係る製造方法にて製造されるジフェニルブタン
は、通常、１．１−ジフェニルブタンが７０〜９０重量
％てあり、■、２−ジフェニルブタンが５〜１５重量％
てあり、１，３−ジフェニルブタンが５〜１５重量％程
度であるような異性体混合物である。
は、通常、１．１−ジフェニルブタンが７０〜９０重量
％てあり、■、２−ジフェニルブタンが５〜１５重量％
てあり、１，３−ジフェニルブタンが５〜１５重量％程
度であるような異性体混合物である。
発明の効果
本発明に係るジフェニルブタンの製造方法によれば、１
−フェニルブテンとベンゼンとを硫酸触媒の存在下に反
応させるに際して、ベンゼンスルホン酸を反応系に添加
しているので、ベンゼンのスルホン化あるいはフェニル
ブテンの重合反応などの副反応を抑制することができる
ため、ジフェニルブタンを収率よく製造することができ
る。
−フェニルブテンとベンゼンとを硫酸触媒の存在下に反
応させるに際して、ベンゼンスルホン酸を反応系に添加
しているので、ベンゼンのスルホン化あるいはフェニル
ブテンの重合反応などの副反応を抑制することができる
ため、ジフェニルブタンを収率よく製造することができ
る。
また、本発明に係るジフェニルブタンの製造方法によれ
ば、ベンゼンスルホン化物の生成が抑１１されるため触
媒である硫酸純度の低下が起らず、従って回収して再使
用可能であり軽済性に優れる。
ば、ベンゼンスルホン化物の生成が抑１１されるため触
媒である硫酸純度の低下が起らず、従って回収して再使
用可能であり軽済性に優れる。
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれ
ら実施例に限定されるものではない。
ら実施例に限定されるものではない。
なお、実施例中の％は、とくに断りのない限り重量基準
である。
である。
実施例１
攪拌機および邪魔板つき容量７００ ｍｌのジャケット
つき耐酸金属製反応器に、触媒として９５％硫酸４０ｍ
ｌ（７２ｇ）、ベンゼンスルホン酸３９ｇ （硫酸に対
して３５モル％）およびベンゼン２３０ｍ１（２０２＋
ｒ）を導入し内部温度を５０℃とした。
つき耐酸金属製反応器に、触媒として９５％硫酸４０ｍ
ｌ（７２ｇ）、ベンゼンスルホン酸３９ｇ （硫酸に対
して３５モル％）およびベンゼン２３０ｍ１（２０２＋
ｒ）を導入し内部温度を５０℃とした。
その後、ベンゼンと１−フェニル−２−ブテンをモル比
て１２：１に混合した混合物を定量ポンプにて２時間に
亘り、５０℃に保持した反応器に供給した。供給したベ
ンゼンおよび１−フェニル−２−ブテンは、それぞれ３
４０ｍｌ（３００ｇ）および５０ｍｌ（４３ｇ）であっ
た。
て１２：１に混合した混合物を定量ポンプにて２時間に
亘り、５０℃に保持した反応器に供給した。供給したベ
ンゼンおよび１−フェニル−２−ブテンは、それぞれ３
４０ｍｌ（３００ｇ）および５０ｍｌ（４３ｇ）であっ
た。
混合物を供給後、撹拌下、５０℃にてさらに３０分間保
持し、その後撹拌を停止し１５分間静置した。反応器中
の硫酸層と有機層とを分離した後、有機層を２０９６カ
セイソーダ水溶液にて洗浄中和後、ガスクロマトグラフ
ィーにて生成物を骨杆〒しｔ二。
持し、その後撹拌を停止し１５分間静置した。反応器中
の硫酸層と有機層とを分離した後、有機層を２０９６カ
セイソーダ水溶液にて洗浄中和後、ガスクロマトグラフ
ィーにて生成物を骨杆〒しｔ二。
上記で回収したベンゼンスルホン酸を含む硫酸を用いて
再度上記と同一条件にて、ジフェニルブタンの製造を行
った。
再度上記と同一条件にて、ジフェニルブタンの製造を行
った。
反応条件およびジフェニルブタンの収率を第１表に示す
。
。
なお、使用した１−フェニル−２−ブテンは、ベンゼン
とブタジェンより、りん酸触媒存在下ブタジェン基準の
収率８０％で製造したものである。
とブタジェンより、りん酸触媒存在下ブタジェン基準の
収率８０％で製造したものである。
実施例２〜４および比較例１〜２
ベンゼンスルホン酸の添加量を第１表に示すように代え
た以外は実施例１と同様にして、ジフェニルブタンの製
造および回収した硫酸を用いたジフェニルブタンの製造
を行った。
た以外は実施例１と同様にして、ジフェニルブタンの製
造および回収した硫酸を用いたジフェニルブタンの製造
を行った。
反応条件およびジフェニルブタンの収率を第１表に示す
。
。
実施例５
実施例１と同様にしてジフェニルブタンの製造および硫
酸触媒の回収を行った。回収した１１５ｇのベンゼンス
ルホン酸を含む硫酸から２３ｇ−（回収硫酸に対し２０
％）を抜き出し、新たに９８％硫酸２３ｇを補給した。
酸触媒の回収を行った。回収した１１５ｇのベンゼンス
ルホン酸を含む硫酸から２３ｇ−（回収硫酸に対し２０
％）を抜き出し、新たに９８％硫酸２３ｇを補給した。
上記で調製した硫酸を用い同一条件にて再度ジフェニル
ブタンの製造を行った。上記の方法を計３回繰り返した
。
ブタンの製造を行った。上記の方法を計３回繰り返した
。
各反応毎のジフェニルブタンの収率を第２表に示す。
比較例３
ベンゼンスルホン酸を添加しなかった以外は、実施例１
と同様にして、ジフェニルブタン’） 製造および硫酸
触媒の回収を行った。回収した副生物である各種スルホ
ン化物を含む８６ｇの硫酸がら３０ｇ（回収硫酸に対し
３５％）を抜き出し、新たに９８％硫酸３０ｓｒを補給
した。上記で調製した硫酸を用いて再度同一条件にて、
ジフェニルブタンの製造を行った。
と同様にして、ジフェニルブタン’） 製造および硫酸
触媒の回収を行った。回収した副生物である各種スルホ
ン化物を含む８６ｇの硫酸がら３０ｇ（回収硫酸に対し
３５％）を抜き出し、新たに９８％硫酸３０ｓｒを補給
した。上記で調製した硫酸を用いて再度同一条件にて、
ジフェニルブタンの製造を行った。
反応毎のジフェニルブタンの収率を第２表に示す。
参考例１
攪拌機つき容量３００ ｍｌの四つロフラスコにベンゼ
ン２００ｍｌ（１７６ｇ）および９５％硫酸５０ｍｌ（
９１ｇ）を導入し、内部温度を５０℃に保ち、１時間撹
拌した。撹拌停止後、静置して硫酸層とベンゼン層とを
分離し、回収した硫酸を１規定カセイソーダ水溶液にて
滴定することにより、ベンゼンのスルホン化により消費
された硫酸ロス量を求めた。
ン２００ｍｌ（１７６ｇ）および９５％硫酸５０ｍｌ（
９１ｇ）を導入し、内部温度を５０℃に保ち、１時間撹
拌した。撹拌停止後、静置して硫酸層とベンゼン層とを
分離し、回収した硫酸を１規定カセイソーダ水溶液にて
滴定することにより、ベンゼンのスルホン化により消費
された硫酸ロス量を求めた。
結果を第３表に示す。
参考例２〜４
ベンゼンスルホン酸を第３表に示すように添加した以外
は、参考例１と同様の実験を行い、硫酸ロス量を求めた
。
は、参考例１と同様の実験を行い、硫酸ロス量を求めた
。
結果を第３表に示す。
実施例６
触媒として用いた硫酸濃度を９５％から９８％に代えた
以外は、実施例１と同様にしてジフェニルブタンの製造
および回収した硫酸を用いたジフェニルブタンの製造を
行った。
以外は、実施例１と同様にしてジフェニルブタンの製造
および回収した硫酸を用いたジフェニルブタンの製造を
行った。
反応条件およびジフェニルブタンの収率を第１表に示す
。
。
Claims (1)
- （１）１−フェニルブテンとベンゼンとを８９〜９８重
量％の硫酸触媒の存在下に反応させてジフェニルブタン
を製造するに際して、ベンゼンスルホン酸を硫酸に対し
て７〜５０モル％の量で反応系に添加することを特徴と
するジフェニルブタンの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2041447A JPH03246236A (ja) | 1990-02-22 | 1990-02-22 | ジフェニルブタンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2041447A JPH03246236A (ja) | 1990-02-22 | 1990-02-22 | ジフェニルブタンの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03246236A true JPH03246236A (ja) | 1991-11-01 |
Family
ID=12608631
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2041447A Pending JPH03246236A (ja) | 1990-02-22 | 1990-02-22 | ジフェニルブタンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03246236A (ja) |
-
1990
- 1990-02-22 JP JP2041447A patent/JPH03246236A/ja active Pending
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