JPH0324796B2 - - Google Patents
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- JPH0324796B2 JPH0324796B2 JP57102363A JP10236382A JPH0324796B2 JP H0324796 B2 JPH0324796 B2 JP H0324796B2 JP 57102363 A JP57102363 A JP 57102363A JP 10236382 A JP10236382 A JP 10236382A JP H0324796 B2 JPH0324796 B2 JP H0324796B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- screen printing
- printing paste
- pbo
- mol
- component
- Prior art date
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/09—Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
- H05K1/092—Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/24—Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions, i.e. for use as seals between dissimilar materials, e.g. glass and metal; Glass solders
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/24—Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions, i.e. for use as seals between dissimilar materials, e.g. glass and metal; Glass solders
- C03C8/245—Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions, i.e. for use as seals between dissimilar materials, e.g. glass and metal; Glass solders containing more than 50% lead oxide, by weight
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D11/00—Inks
- C09D11/02—Printing inks
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- Conductive Materials (AREA)
- Inorganic Insulating Materials (AREA)
- Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
- Insulated Metal Substrates For Printed Circuits (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は厚膜技術により設けられ、非酸化雰囲
気中で焼成されるべきスクリーン印刷ペーストに
関するものであり、このペーストは永久結合剤と
して受動的ガラス質成分、活性成分および一時結
合剤の混合物を含む。本発明はまた前記ペースト
によつて製造されたハイブリツド回路に関するも
のである。
気中で焼成されるべきスクリーン印刷ペーストに
関するものであり、このペーストは永久結合剤と
して受動的ガラス質成分、活性成分および一時結
合剤の混合物を含む。本発明はまた前記ペースト
によつて製造されたハイブリツド回路に関するも
のである。
本発明はミクロ電子の分野、さらに特に、ハイ
ブリツドミクロ回路の製造に用いられ、このため
に使用する種々の支持体に適応する全系列のスク
リーン印刷ペーストを調製する。
ブリツドミクロ回路の製造に用いられ、このため
に使用する種々の支持体に適応する全系列のスク
リーン印刷ペーストを調製する。
この種のスクリーン印刷ペーストは、例えば英
国特許第1489031号明細書に開示されており、こ
のペーストは焼結酸化アルミニウムの支持体上に
設けられ、非酸化雰囲気、すなわち、酸素含量が
0.001％以下の雰囲気中で焼成される銅を主成分
とする導電性スクリーン印刷ペーストである。
国特許第1489031号明細書に開示されており、こ
のペーストは焼結酸化アルミニウムの支持体上に
設けられ、非酸化雰囲気、すなわち、酸素含量が
0.001％以下の雰囲気中で焼成される銅を主成分
とする導電性スクリーン印刷ペーストである。
この種の焼結酸化アルミニウムの支持体を用い
る場合、約850℃の温度にて非酸化雰囲気中で焼
成される全系列の適当なペーストを調製すること
ができる。
る場合、約850℃の温度にて非酸化雰囲気中で焼
成される全系列の適当なペーストを調製すること
ができる。
最近の新しい支持体、例えばアルフアメタルズ
社の黒色エナメル薄鋼板の市販品により、支持体
のエナメルを損じないように、約550℃の低温で
焼成すべき新しい系列の適当なペーストを調製す
ることが必要になつた。
社の黒色エナメル薄鋼板の市販品により、支持体
のエナメルを損じないように、約550℃の低温で
焼成すべき新しい系列の適当なペーストを調製す
ることが必要になつた。
PbO含有ガラスは融点は低いが、中性雰囲気、
例えば窒素中で450℃以上の温度にて焼成する際
に、PbOの還元により分解する欠点がある。
例えば窒素中で450℃以上の温度にて焼成する際
に、PbOの還元により分解する欠点がある。
さらに、スクリーン印刷ペーストの結合剤は、
特に中性焼成雰囲気を用いる場合、スクリーン層
から完全には消えず、結合剤の残渣が前記層の性
質を損じ、ガラスの分解の原因となる。
特に中性焼成雰囲気を用いる場合、スクリーン層
から完全には消えず、結合剤の残渣が前記層の性
質を損じ、ガラスの分解の原因となる。
ガラスの分解を防止するため、問題の焼成温度
にて還元する酸化物を含まないような組成物を選
択する。しかし、この種の組成物は融点が高く、
900℃程度であり、この焼成温度に耐えられる焼
成酸化アルミニウムの支持体が必要である。
にて還元する酸化物を含まないような組成物を選
択する。しかし、この種の組成物は融点が高く、
900℃程度であり、この焼成温度に耐えられる焼
成酸化アルミニウムの支持体が必要である。
有機ビヒクルをよりよく除去するために、本発
明者らは１以上の原子価の金属酸化物をスクリー
ン印刷ペーストに導入することに思い至つた。こ
れらの金属酸化物は、焼成中に１価に還元され、
有機ビヒクル中に少量で分散させることができ、
このような酸化物として例えばプラセオジム酸化
物（Pr6O11、PrO2）、セリウム酸化物（CeO2）、
またはコバルト酸化物（CO3O4）がある。一方こ
れらの酸化物は、下位の原子価に還元する場合、
スクリーン印刷層の性質を害することなくガラス
質層に変化する。この改良は英国特許第2037270
号明細書に開示した。
明者らは１以上の原子価の金属酸化物をスクリー
ン印刷ペーストに導入することに思い至つた。こ
れらの金属酸化物は、焼成中に１価に還元され、
有機ビヒクル中に少量で分散させることができ、
このような酸化物として例えばプラセオジム酸化
物（Pr6O11、PrO2）、セリウム酸化物（CeO2）、
またはコバルト酸化物（CO3O4）がある。一方こ
れらの酸化物は、下位の原子価に還元する場合、
スクリーン印刷層の性質を害することなくガラス
質層に変化する。この改良は英国特許第2037270
号明細書に開示した。
この英国特許明細書に用いたガラスの組成（モ
ル％）は次に示す通りである。
ル％）は次に示す通りである。
SiO2 ５〜20％
B2O3 15〜40％
Al2O3 ０〜５％
ZnO 25〜40％
CaO＋MgO ５〜30％
LiO2 ０〜10％
これは酸化鉛（PbO）を含まず、アニーリング
点が575゜と比較的高い。
点が575゜と比較的高い。
米国特許第3647532号明細書には、銅含有導電
性スクリーン印刷ペーストが開示されており、こ
のガラスはPbOを含む。これはガラスの分解を避
けるように、10-1〜10-4at.の酸素分圧の弱酸化雰
囲気中で焼成する必要がある。スクリーン印刷パ
ターンの焼成炉内に誘導する気体雰囲気を連続し
て精密に制御することが必要である。この種の雰
囲気中で焼成後ガラスは結合が弱くなる。
性スクリーン印刷ペーストが開示されており、こ
のガラスはPbOを含む。これはガラスの分解を避
けるように、10-1〜10-4at.の酸素分圧の弱酸化雰
囲気中で焼成する必要がある。スクリーン印刷パ
ターンの焼成炉内に誘導する気体雰囲気を連続し
て精密に制御することが必要である。この種の雰
囲気中で焼成後ガラスは結合が弱くなる。
本発明の目的はこの精密な制御を不要にすると
同時に、例えばエナメル薄鋼板のような、多くの
分野において焼成酸化アルミニウムに取つて代わ
る新しい支持体材料を導入して、600℃以下の温
度で焼成できるような全形列のスクリーン印刷ペ
ーストをペースト製造業者に採用させるようにす
ることである。
同時に、例えばエナメル薄鋼板のような、多くの
分野において焼成酸化アルミニウムに取つて代わ
る新しい支持体材料を導入して、600℃以下の温
度で焼成できるような全形列のスクリーン印刷ペ
ーストをペースト製造業者に採用させるようにす
ることである。
エナメル薄鋼板の支持体を用いる場合、鉛ガラ
スの分解と有機残渣の除去の問題に対し別の解決
が必要である。本発明によれば、PbO2、Pb2O3
及び／又はPb3O4をスクリーン印刷ペーストに混
入するので、これらの酸化鉛が焼成段階でPbOま
で還元される。そして、焼成段階でPbO2、
Pb2O3、Pb3O4から大量の酸素が遊離し、この酸
素が受動的ガラス質成分中のPbOの還元を防止
し、PbOの還元による受動的ガラス質成分の分解
を防止できる。これと同時に、上記の遊離酸素
が、スクリーン層中に残つた炭素残渣と結合し、
これを燃焼させる。
スの分解と有機残渣の除去の問題に対し別の解決
が必要である。本発明によれば、PbO2、Pb2O3
及び／又はPb3O4をスクリーン印刷ペーストに混
入するので、これらの酸化鉛が焼成段階でPbOま
で還元される。そして、焼成段階でPbO2、
Pb2O3、Pb3O4から大量の酸素が遊離し、この酸
素が受動的ガラス質成分中のPbOの還元を防止
し、PbOの還元による受動的ガラス質成分の分解
を防止できる。これと同時に、上記の遊離酸素
が、スクリーン層中に残つた炭素残渣と結合し、
これを燃焼させる。
本発明のスクリーン印刷ペーストは、PbO2、
Pb2O3、及びPb3O4からなる群より選ばれた一種
以上の酸化鉛を合計量で20容量％未満含有するこ
とに特徴がある。
Pb2O3、及びPb3O4からなる群より選ばれた一種
以上の酸化鉛を合計量で20容量％未満含有するこ
とに特徴がある。
このように、上記のペーストが含有する酸化鉛
は、410℃の温度から還元可能であり、この酸化
鉛によつてガラスの分解を防止することができ
る。また酸化鉛が一旦PbOへと還元されると、こ
うして生成したPbOがガラス中に包含されていく
ので、ガラス中のPbOの含有量が増加し、これに
よりガラスの軟化点が低下する。従つて、ガラス
のアニーリング点を引き下げることができる。
は、410℃の温度から還元可能であり、この酸化
鉛によつてガラスの分解を防止することができ
る。また酸化鉛が一旦PbOへと還元されると、こ
うして生成したPbOがガラス中に包含されていく
ので、ガラス中のPbOの含有量が増加し、これに
よりガラスの軟化点が低下する。従つて、ガラス
のアニーリング点を引き下げることができる。
本発明の好適例では、酸化鉛として５〜15容量
％の酸化鉛PbOを選択する。
％の酸化鉛PbOを選択する。
酸化剤として働くすべての酸化鉛、Pb2O3、
Pb3O4、PbO2のうち、最後のものが好ましい。
この酸化剤は410〜625℃の温度範囲で還元され、
比較的大量の酸素を遊離する。
Pb3O4、PbO2のうち、最後のものが好ましい。
この酸化剤は410〜625℃の温度範囲で還元され、
比較的大量の酸素を遊離する。
なお、ここで各用語について簡単に述べる。
「一時結合剤」とは、ペーストを焼成する際に
消失する有機化合物、例えば樹脂や溶媒のことを
言う。
消失する有機化合物、例えば樹脂や溶媒のことを
言う。
「厚膜技術」とは、基板上に導電体、抵抗体、
アイソレーターの網目、パターンを印刷する技術
をいう。
アイソレーターの網目、パターンを印刷する技術
をいう。
「受動的ガラス質成分」とは、焼成後にスクリ
ーン印刷層を基板へと主として結合させる作用を
有する成分をいう。ペースト中では、この受動的
ガラス質成分は、ガラスフリツトの形で存在す
る。
ーン印刷層を基板へと主として結合させる作用を
有する成分をいう。ペースト中では、この受動的
ガラス質成分は、ガラスフリツトの形で存在す
る。
「活性成分」とは、電気的作用を有する部分を
いい、所望の電気的性質を基にして選択する。活
性成分を導電材料から選択すれば、スクリーン印
刷ペーストは導電性ペーストになり、活性成分と
してセラミツク充填材を選択すれば、スクリーン
印刷ペーストは絶縁性ペーストになる。
いい、所望の電気的性質を基にして選択する。活
性成分を導電材料から選択すれば、スクリーン印
刷ペーストは導電性ペーストになり、活性成分と
してセラミツク充填材を選択すれば、スクリーン
印刷ペーストは絶縁性ペーストになる。
本発明の実施例では、スクリーン印刷ペースト
のガラス質のいわゆる受動的部分が、次のモル％
で示される酸化物 PbO 40〜60％ SiO2 25〜45％ Al2O3 ５〜15％ B2O3 10％以下 又は PbO 40〜60％ SiO2 25〜45％ Al2O3 ５〜15％ の混合物を溶融摩砕して得られた低融点の鉛ガラ
スフリツトであることに特徴がある。
のガラス質のいわゆる受動的部分が、次のモル％
で示される酸化物 PbO 40〜60％ SiO2 25〜45％ Al2O3 ５〜15％ B2O3 10％以下 又は PbO 40〜60％ SiO2 25〜45％ Al2O3 ５〜15％ の混合物を溶融摩砕して得られた低融点の鉛ガラ
スフリツトであることに特徴がある。
このガラスフリツトはモル％で次の組成である
ことが好ましい。
ことが好ましい。
PbO 57％
SiO2 33％
Al2O3 10％
この組成では、ガラスのアニーリング点は約
440℃であり、従つて、このガラスを用いて、エ
ナメル薄鋼板の支持体上に設けるスクリーン印刷
ペーストを調製することができる。
440℃であり、従つて、このガラスを用いて、エ
ナメル薄鋼板の支持体上に設けるスクリーン印刷
ペーストを調製することができる。
通常の有機ビヒクル中、例えば適当な粘度と適
当な流動学的挙動を示す溶媒中に溶かした樹脂溶
液、例えばテルピネオールに溶かしたエチルセル
ロース中に分散する出発混合物は、一般に粉末状
で少なくともふたつの部分から成る。ひとつは主
としてスクリーン印刷層の組立体を支持体に結合
させる作用があるガラス質のいわゆる受動的部
分、もうひとつは基本作用が電気的性質によるい
わゆる活性部分である。
当な流動学的挙動を示す溶媒中に溶かした樹脂溶
液、例えばテルピネオールに溶かしたエチルセル
ロース中に分散する出発混合物は、一般に粉末状
で少なくともふたつの部分から成る。ひとつは主
としてスクリーン印刷層の組立体を支持体に結合
させる作用があるガラス質のいわゆる受動的部
分、もうひとつは基本作用が電気的性質によるい
わゆる活性部分である。
この出発混合物から成るスクリーン印刷ペース
トは、印刷中に、得るべき再生パターンの鮮明度
に従う一層細かな篩または細目網を通過しなけれ
ばならない。通常の網は2.54cm（１インチ）当た
り325メツシユであり、公称網目43μm（0.0017イ
ンチ）、最大網目は66μmであつて、一般に粒子の
大きさの少なくとも５倍である。用いる粉末の最
大の大きさは10μm程度であり、その形状はほぼ
球状または少なくとも円形であり完全に密である
（非多孔性表面を有し緻密である）。これらは数十
時間ボールミルで摩砕して得られる。
トは、印刷中に、得るべき再生パターンの鮮明度
に従う一層細かな篩または細目網を通過しなけれ
ばならない。通常の網は2.54cm（１インチ）当た
り325メツシユであり、公称網目43μm（0.0017イ
ンチ）、最大網目は66μmであつて、一般に粒子の
大きさの少なくとも５倍である。用いる粉末の最
大の大きさは10μm程度であり、その形状はほぼ
球状または少なくとも円形であり完全に密である
（非多孔性表面を有し緻密である）。これらは数十
時間ボールミルで摩砕して得られる。
スクリーン印刷ペーストの活性部分を所望の電
気的性質に基づいて選択する。導電性ペーストを
製造するには、この部分は例えば、金または銀で
あり、この場合ペーストを空気中で焼成する。こ
の部分は合金、例えばAu Pd、Ag Pd、Au Pt
および好ましくはAu Pt Pdから成り、合金は焼
成中に形成され、出発混合物は粉末状の構成金属
を含む。銅を用いることもできるが、５〜10×
10-4％の酸素分圧の非酸化雰囲気中で焼成処理す
る必要がある。
気的性質に基づいて選択する。導電性ペーストを
製造するには、この部分は例えば、金または銀で
あり、この場合ペーストを空気中で焼成する。こ
の部分は合金、例えばAu Pd、Ag Pd、Au Pt
および好ましくはAu Pt Pdから成り、合金は焼
成中に形成され、出発混合物は粉末状の構成金属
を含む。銅を用いることもできるが、５〜10×
10-4％の酸素分圧の非酸化雰囲気中で焼成処理す
る必要がある。
以下、本発明を実施例につき詳細に説明する。
まず、モル％で次の組成のガラスフリツトを調
製する。
製する。
PbO 57％
SiO2 33％
Al2O3 10％
この混合物を約1200℃の温度で溶融し、次いで
64時間ボールミル内で摩砕し、最大寸法が10ミク
ロン程度の粒子にする。
64時間ボールミル内で摩砕し、最大寸法が10ミク
ロン程度の粒子にする。
絶縁スクリーン印刷ペースト用の出発混合物を
調製するために、例えばセラミツク充填剤を粉末
形態で、例えば、酸化マグネシウム（MgO）、酸
化ランタン（La2O3）またはアルミン酸ランタン
（LaAlO3）を添加する。最後のものは特に、α
＝95×10-7℃-1（20〜700℃）の値を有するエナメ
ル薄鋼板の支持体に適応する線膨張係数により選
ばれる。
調製するために、例えばセラミツク充填剤を粉末
形態で、例えば、酸化マグネシウム（MgO）、酸
化ランタン（La2O3）またはアルミン酸ランタン
（LaAlO3）を添加する。最後のものは特に、α
＝95×10-7℃-1（20〜700℃）の値を有するエナメ
ル薄鋼板の支持体に適応する線膨張係数により選
ばれる。
アルミン酸ランタンは、市販の粉末酸化アルミ
ニウム（Al2O3）と酸化ランタン（La2O3）をボ
ールミル中で混合し、この混合物を最初1200℃で
４時間、次いで1600℃で15時間加熱して調製す
る。最終生成物を数時間ボールミルの水中で摩砕
し、適当な粒子組成物を得る。
ニウム（Al2O3）と酸化ランタン（La2O3）をボ
ールミル中で混合し、この混合物を最初1200℃で
４時間、次いで1600℃で15時間加熱して調製す
る。最終生成物を数時間ボールミルの水中で摩砕
し、適当な粒子組成物を得る。
前述のガラスフリツトとセラミツク充填剤を混
合する。この出発混合物中のガラス対セラミツク
充填剤の容量比が１を越える場合、例えば３／１
である場合、優れた緻密な絶縁手段が得られる。
合する。この出発混合物中のガラス対セラミツク
充填剤の容量比が１を越える場合、例えば３／１
である場合、優れた緻密な絶縁手段が得られる。
試験した種々のセラミツク充填剤のうち、アル
ミン酸ランタンが前述したガラス（PbO57％、
Al2O310％、SiO233％）と最も良く適合し、しか
もこのガラスは酸化ホウ素を含まないので提案し
た組成物の中で最も粘性なもののひとつである。
ミン酸ランタンが前述したガラス（PbO57％、
Al2O310％、SiO233％）と最も良く適合し、しか
もこのガラスは酸化ホウ素を含まないので提案し
た組成物の中で最も粘性なもののひとつである。
しかし、この種の出発混合物とこれにより構成
するスクリーン印刷ペーストは、空気中で焼成で
き従つて導電性ペーストAg−Pd（85−15）と適
合できる場合にも、これらは中性雰囲気中で焼成
すると分解し炭化し、従つて銅導電性ペーストと
適合できない。
するスクリーン印刷ペーストは、空気中で焼成で
き従つて導電性ペーストAg−Pd（85−15）と適
合できる場合にも、これらは中性雰囲気中で焼成
すると分解し炭化し、従つて銅導電性ペーストと
適合できない。
本発明の範囲内で酸化鉛を添加する有効性は、
ペーストをスクリーン印刷に用い600℃の温度に
焼成することにより、含有量を増加させながらペ
ーストを調製して証明した。
ペーストをスクリーン印刷に用い600℃の温度に
焼成することにより、含有量を増加させながらペ
ーストを調製して証明した。
金属鉛の生成を示す黒色が橙色状（Pb3O4）に
徐々に変化するので、はつきりとこの添加の利点
が示される。20％まで含量を代えて酸化鉛を試験
し、その結果、PbO2含有量を最適な結果になる
まで限定することができた。二酸化鉛PbO2の所
望量は約10容量％であり、一般に５〜15％で最適
な結果を示した。
徐々に変化するので、はつきりとこの添加の利点
が示される。20％まで含量を代えて酸化鉛を試験
し、その結果、PbO2含有量を最適な結果になる
まで限定することができた。二酸化鉛PbO2の所
望量は約10容量％であり、一般に５〜15％で最適
な結果を示した。
出発混合物に添加する場合、酸化鉛を還元後に
ガラス質相に混入することができ、その結果ガラ
スの軟化温度を引き下げ、セラミツク材料上の流
動を促す。
ガラス質相に混入することができ、その結果ガラ
スの軟化温度を引き下げ、セラミツク材料上の流
動を促す。
酸化鉛をガラスに不十分に混入する場合セラミ
ツク相に残留することができる。
ツク相に残留することができる。
実験により、スクリーン印刷ペースト用出発混
合物の種々の部分間の最適の容量比は次の通りで
あることが判つた。
合物の種々の部分間の最適の容量比は次の通りで
あることが判つた。
ガラス（PbO／SiO2／Al2O3） 85容量％
LaAlO3 ３容量％
PbO2 12容量％
前記出発混合物により得られるスクリーン印刷
ペーストは、導体用スクリーン印刷ペースト、特
に銅ペーストに著しく適合する。
ペーストは、導体用スクリーン印刷ペースト、特
に銅ペーストに著しく適合する。
さらに、組立体の焼成を約550℃の温度で行う
ことができ、この種のスクリーン印刷ペーストは
エナメル薄鋼板の支持体上に用いるのに適してお
り、非酸化雰囲気中で低温にて、例えばハイブリ
ツド回路において導電性（銅ペースト）または絶
縁性（アルミン酸ランタンペースト）を有する単
一層または多層パターンに設けることができる他
のスクリーン印刷層と組み合わせて、設けること
ができる。
ことができ、この種のスクリーン印刷ペーストは
エナメル薄鋼板の支持体上に用いるのに適してお
り、非酸化雰囲気中で低温にて、例えばハイブリ
ツド回路において導電性（銅ペースト）または絶
縁性（アルミン酸ランタンペースト）を有する単
一層または多層パターンに設けることができる他
のスクリーン印刷層と組み合わせて、設けること
ができる。
支持体は特にアルフアメタルズ社のエナメル薄
鋼板または白色エナメルから構成することができ
る。白色エナメルは酸化チタンで不透明になり、
特に家庭器具設計者、例えばC.E.M.A社によつて
使用されており、スクリーン印刷ペーストを設け
るための支持体として適当である。
鋼板または白色エナメルから構成することができ
る。白色エナメルは酸化チタンで不透明になり、
特に家庭器具設計者、例えばC.E.M.A社によつて
使用されており、スクリーン印刷ペーストを設け
るための支持体として適当である。
この白色エナメルを脱カーボン薄鋼板上に設け
る。この薄鋼板は、まず１ｇ／m2の分量の薄層ニ
ツケル粉末で被覆した後、例えば硫酸で20〜30
ｇ／m2の重量に減少するまで少しエツチングす
る。不透明にする二酸化チタンと白色エナメルの
混合物の例を次に重量％で示す。
る。この薄鋼板は、まず１ｇ／m2の分量の薄層ニ
ツケル粉末で被覆した後、例えば硫酸で20〜30
ｇ／m2の重量に減少するまで少しエツチングす
る。不透明にする二酸化チタンと白色エナメルの
混合物の例を次に重量％で示す。
酸化亜鉛 1.70
ホウ酸 4.70
無水ホウ砂 19.00
ケイフツ化ナトリウム 6.00
石 英 33.80
炭酸カリウム 6.20
硝酸カリウム 5.60
第一リン酸アンモニウム 4.30
二酸化チタン 18.70
100.00
家庭電気器具、例えば洗濯機、冷蔵庫等に用い
るセンサの開発は、本発明のエナメル支持体上に
スクリーン印刷ペーストを製造することとなり、
その結果、機械的性質、例えば引張強さ、溶接性
等に関し、また、このようにして製造された層の
電気的性質に関して共に優れていることが証明さ
れた。
るセンサの開発は、本発明のエナメル支持体上に
スクリーン印刷ペーストを製造することとなり、
その結果、機械的性質、例えば引張強さ、溶接性
等に関し、また、このようにして製造された層の
電気的性質に関して共に優れていることが証明さ
れた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 永久結合剤としての受動的ガラス質成分、活
性成分および一時結合剤の混合物を含み、非酸化
雰囲気中で焼成されるべき厚膜技術用のスクリー
ン印刷ペーストにおいて、さらに、Pb2O3、
Pb3O4及びPbO2からなる群より選ばれた一種以
上の酸化鉛を合計量で20容量％未満含有すること
を特徴とするスクリーン印刷ペースト。 ２ 前記酸化鉛として５〜15容量％の間の量の二
酸化鉛PbO2を選択する、特許請求の範囲第１項
記載のスクリーン印刷ペースト。 ３ 受動的ガラス質成分が、次の酸化物 PbO 40〜60mol％ SiO2 25〜45mol％ Al2O3 ５〜15mol％ の混合物を溶融し摩砕して得られる低融点鉛ガラ
スフリツトであることを特徴とする、特許請求の
範囲第１項または第２項記載のスクリーン印刷ペ
ースト。 ４ 受動的ガラス質成分が、次の酸化物 PbO 40〜60mol％ SiO2 25〜45mol％ Al2O3 ５〜15mol％ B2O3 10mol％以下 の混合物を溶融し摩砕して得られる低融点鉛ガラ
スフリツトであることを特徴とする、特許請求の
範囲第１項または第２項記載のスクリーン印刷ペ
ースト。 ５ 受動的ガラス質成分が、モル％で次のガラ
ス：PbO57％、SiO233％およびAl2O310％のフリ
ツトである特許請求の範囲第３項記載のスクリー
ン印刷ペースト。 ６ 絶縁回路部分を得るためのスクリーン印刷ペ
ーストであつて、前記活性成分が３容量％の分量
で存在するアルミン酸ランタン（LaAlO3）を主
成分とするセラミツク材料であることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項〜第５項のうちいずれか
一つの項に記載のスクリーン印刷ペースト。 ７ 永久結合剤としての受動的ガラス質成分、活
性成分および一時結合剤の混合物を含み、非酸化
雰囲気中で焼成されるべき厚膜技術用のスクリー
ン印刷ペーストにおいて、さらに、Pb2O3、
Pb3O4及びPbO2からなる群より選ばれた一種以
上の酸化鉛を合計量で20容量％未満含有するスク
リーン印刷ペーストを使用し、 エナメル薄鋼板の支持体上に、非酸化雰囲気中
で焼成して得られた単一層または多層タイプのス
クリーン印刷層を組合わせた電子部材を有するハ
イブリツド回路。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8112123 | 1981-06-19 | ||
| FR8112123A FR2508054A1 (fr) | 1981-06-19 | 1981-06-19 | Melange de depart pour une encre serigraphiable contenant un verre au plomb a cuire en atmosphere non oxydante et encre serigraphiable obtenue |
Publications (2)
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|---|---|
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Country Status (6)
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| EP (1) | EP0068565B1 (ja) |
| JP (1) | JPS582093A (ja) |
| CA (1) | CA1192040A (ja) |
| DE (1) | DE3260541D1 (ja) |
| FR (1) | FR2508054A1 (ja) |
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-
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- 1981-06-19 FR FR8112123A patent/FR2508054A1/fr active Granted
-
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- 1982-06-14 US US06/388,385 patent/US4636257A/en not_active Expired - Fee Related
- 1982-06-16 JP JP57102363A patent/JPS582093A/ja active Granted
- 1982-06-17 EP EP82200748A patent/EP0068565B1/fr not_active Expired
- 1982-06-17 CA CA000405428A patent/CA1192040A/en not_active Expired
- 1982-06-17 DE DE8282200748T patent/DE3260541D1/de not_active Expired
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