JPH03258083A - 固体撮像素子 - Google Patents
固体撮像素子Info
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- JPH03258083A JPH03258083A JP2054932A JP5493290A JPH03258083A JP H03258083 A JPH03258083 A JP H03258083A JP 2054932 A JP2054932 A JP 2054932A JP 5493290 A JP5493290 A JP 5493290A JP H03258083 A JPH03258083 A JP H03258083A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transfer
- gate
- charge transfer
- horizontal
- sections
- Prior art date
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- Pending
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- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は複数の水平電荷転送部を有する固体撮像素子に
関する。
関する。
本発明は、マトリクス状に配列された受光部からの信号
電荷をそれぞれ複数の垂直電荷転送部。
電荷をそれぞれ複数の垂直電荷転送部。
水平電荷転送部を介して読み出すCCD固体撮像素子に
おいて、水平電荷転送部間の転送ゲートのゲート電圧の
遷移を段階的に行ったり或いは時間的に長く行うことに
より、転送効率の向上を図るものである。
おいて、水平電荷転送部間の転送ゲートのゲート電圧の
遷移を段階的に行ったり或いは時間的に長く行うことに
より、転送効率の向上を図るものである。
非常に多くの画素を有する固体撮像素子では、その水平
転送周波数が高くなるため、その転送が困難となる。そ
こで、その水平転送周波数を低くするために、水平電荷
転送部(水平レジスタ)を2本以上設け、これに信号電
荷を振り分けて転送することが行われている。
転送周波数が高くなるため、その転送が困難となる。そ
こで、その水平転送周波数を低くするために、水平電荷
転送部(水平レジスタ)を2本以上設け、これに信号電
荷を振り分けて転送することが行われている。
例えば、2つの互いに並行して設けられた水平電荷転送
部を有し、2相の転送信号ΦH1,ΦH2により各水平
電荷転送部で高速転送が行われる固体撮像素子では、2
つの水平電荷転送部の転送電極は、転送ゲートを挟んで
共通とされ、共通の転送信号ΦH1,ΦH2が与えられ
ている。転送ゲートの下部には、チャンネル領域がチャ
ンネルストップ領域に挟まれて設けられており、そのチ
ャンネル領域を介して水平電荷転送部間の転送が行われ
る。そのチャンネル領域は、一方の水平電荷転送部の転
送信号ΦH2が与えられる領域と、他方の水平電荷転送
部の転送信号ΦH1が与えられるM¥iに挟まれおり、
一方の水平電荷転送部の転送信号ΦH1が与えられる領
域は転送ゲートの下部のチャンネルストップ領域に隣接
する。
部を有し、2相の転送信号ΦH1,ΦH2により各水平
電荷転送部で高速転送が行われる固体撮像素子では、2
つの水平電荷転送部の転送電極は、転送ゲートを挟んで
共通とされ、共通の転送信号ΦH1,ΦH2が与えられ
ている。転送ゲートの下部には、チャンネル領域がチャ
ンネルストップ領域に挟まれて設けられており、そのチ
ャンネル領域を介して水平電荷転送部間の転送が行われ
る。そのチャンネル領域は、一方の水平電荷転送部の転
送信号ΦH2が与えられる領域と、他方の水平電荷転送
部の転送信号ΦH1が与えられるM¥iに挟まれおり、
一方の水平電荷転送部の転送信号ΦH1が与えられる領
域は転送ゲートの下部のチャンネルストップ領域に隣接
する。
第5図(a)〜(d)は水平電荷転送部間の電荷の転送
をそのポテンシャルから説明する図である。水平電荷転
送部の転送信号ΦH2の領域から、信号ΦHHGに制御
される転送ゲートを介して、水平電荷転送部の転送信号
ΦH1の領域に電荷の転送をする場合について説明する
と、まず、第5図(a)に示すように、信号ΦHHGの
レベルを高くして、転送ゲートを導通状態とし、転送信
号ΦH1,ΦH2を低レベルにする。すると、転送ゲー
トの下部のチャンネル領域に電荷が蓄積される0次に、
第5図(ハ)に示すように、転送先である転送信号ΦH
1のみを高レベルに変化させる。すると、転送ゲートの
下部のチャンネル領域に蓄積されていた電荷が他方の水
平電荷転送部の転送信号ΦH1にかかるfilJdiに
転送される。次に、転送ゲートと遮断状態にするために
、第5図(C)に示すように、信号ΦHHGのレベルを
高レベルから低レベルに遷移させる。そして、第5図(
d)に示すように、完全に信号ΦHHGのレベルが低レ
ベルとなったところで、2本の水平電荷転送部が電気的
に分離されたことになり、振り分は転送が完了したこと
になる。
をそのポテンシャルから説明する図である。水平電荷転
送部の転送信号ΦH2の領域から、信号ΦHHGに制御
される転送ゲートを介して、水平電荷転送部の転送信号
ΦH1の領域に電荷の転送をする場合について説明する
と、まず、第5図(a)に示すように、信号ΦHHGの
レベルを高くして、転送ゲートを導通状態とし、転送信
号ΦH1,ΦH2を低レベルにする。すると、転送ゲー
トの下部のチャンネル領域に電荷が蓄積される0次に、
第5図(ハ)に示すように、転送先である転送信号ΦH
1のみを高レベルに変化させる。すると、転送ゲートの
下部のチャンネル領域に蓄積されていた電荷が他方の水
平電荷転送部の転送信号ΦH1にかかるfilJdiに
転送される。次に、転送ゲートと遮断状態にするために
、第5図(C)に示すように、信号ΦHHGのレベルを
高レベルから低レベルに遷移させる。そして、第5図(
d)に示すように、完全に信号ΦHHGのレベルが低レ
ベルとなったところで、2本の水平電荷転送部が電気的
に分離されたことになり、振り分は転送が完了したこと
になる。
ところが、上述の水平電荷転送部間の電荷転送には、次
のような問題がある。
のような問題がある。
すなわち、水平電荷転送部間の電荷の転送の終了時には
、2つの水平電荷転送部の間の転送ゲートを遮断状態に
する必要があるが、その遮断状態にするためのレベル遷
移の時に、転送ゲートの下部のチャンネル領域に存在す
る電荷の一部が元の水平電荷転送部側にも戻されて、転
送効率が劣化する。
、2つの水平電荷転送部の間の転送ゲートを遮断状態に
する必要があるが、その遮断状態にするためのレベル遷
移の時に、転送ゲートの下部のチャンネル領域に存在す
る電荷の一部が元の水平電荷転送部側にも戻されて、転
送効率が劣化する。
そこで、本発明は上述の技術的な課題に鑑み、水平電荷
転送部の間の転送効率を向上させるような固体撮像素子
の提供を目的とする。
転送部の間の転送効率を向上させるような固体撮像素子
の提供を目的とする。
上述の目的を達成する本発明の固体撮像素子は、マトリ
クス状に配列された複数の受光部と、それら受光部の各
垂直列毎に設けられ該受光部からの電荷を垂直方向に転
送する複数の垂直電荷転送部と、それら垂直電荷転送部
からの電荷を水平方向に転送する複数の水平電荷転送部
を有している。
クス状に配列された複数の受光部と、それら受光部の各
垂直列毎に設けられ該受光部からの電荷を垂直方向に転
送する複数の垂直電荷転送部と、それら垂直電荷転送部
からの電荷を水平方向に転送する複数の水平電荷転送部
を有している。
上記受光部に隣接した垂直電荷転送部と上記水平電荷転
送部の間には、第2の垂直電荷転送部からなる蓄積部を
設けても良い。
送部の間には、第2の垂直電荷転送部からなる蓄積部を
設けても良い。
そして、本発明の固体撮像素子は、上記複数の水平電荷
転送部の間の転送を制御する転送ゲートのゲート電圧が
、水平電荷転送部間の電荷転送終了時に、該ゲート電圧
が遷移する途中の中間電圧に一時的に設定されたり、或
いは通常の上記ゲート電圧の遷移よりも遅く遷移するこ
とを特徴としている。
転送部の間の転送を制御する転送ゲートのゲート電圧が
、水平電荷転送部間の電荷転送終了時に、該ゲート電圧
が遷移する途中の中間電圧に一時的に設定されたり、或
いは通常の上記ゲート電圧の遷移よりも遅く遷移するこ
とを特徴としている。
ここで、上記中間電圧への一時的な設定は、例えば、2
値パルスであったものを中間レベルを増やして3値パル
スにすることで実現でき、上記遅い遷移はゲート電極の
充電の時定数を変化させ、例えばゲート容量を大きくす
ることで実現可能である。
値パルスであったものを中間レベルを増やして3値パル
スにすることで実現でき、上記遅い遷移はゲート電極の
充電の時定数を変化させ、例えばゲート容量を大きくす
ることで実現可能である。
水平電荷転送部間の電荷転送の終了時に、水平電荷転送
部の間の転送を制御する転送ゲートのゲート電圧を中間
電圧を介して遷移させたり、或いは通常より遅く遷移さ
せることで、ゲート電極の下部のチャンネル領域の電荷
が十分に転送先の水平電荷転送部に転送された後に、転
送ゲートを遮断状態にすることができる。従って、転送
ゲートにかかる電荷が転送元の水平電荷転送部に逆に転
送されるような弊害が防止され、転送効率が向上するこ
とになる。
部の間の転送を制御する転送ゲートのゲート電圧を中間
電圧を介して遷移させたり、或いは通常より遅く遷移さ
せることで、ゲート電極の下部のチャンネル領域の電荷
が十分に転送先の水平電荷転送部に転送された後に、転
送ゲートを遮断状態にすることができる。従って、転送
ゲートにかかる電荷が転送元の水平電荷転送部に逆に転
送されるような弊害が防止され、転送効率が向上するこ
とになる。
本発明の好適な実施例を図面を参照しながら説明する。
本実施例は、FIT(フレームインターライントランス
ファ)型のCCDイメージセンサ−の例であり、水平電
荷転送周波数を低減させるために2本の水平電荷転送部
を有している。
ファ)型のCCDイメージセンサ−の例であり、水平電
荷転送周波数を低減させるために2本の水平電荷転送部
を有している。
第1図はその模式的な平面図である。第1図に示すよう
に、本実施例のCCDイメージセンサ−1は、信号電荷
を光電変換により発生させる撮像部2と、その信号電荷
を一時的に蓄積する蓄積部3と、水平電荷転送部である
第1の水平レジスタ4と、同しく水平電荷転送部である
第2の水平レジスタ5を主たる構成要素としており、こ
れらはシリコン基板上に半導体製造技術を以て形成され
ている。
に、本実施例のCCDイメージセンサ−1は、信号電荷
を光電変換により発生させる撮像部2と、その信号電荷
を一時的に蓄積する蓄積部3と、水平電荷転送部である
第1の水平レジスタ4と、同しく水平電荷転送部である
第2の水平レジスタ5を主たる構成要素としており、こ
れらはシリコン基板上に半導体製造技術を以て形成され
ている。
撮像部2は、マトリクス状に配列された受光部6を有し
ており、これら受光部6でそれぞれ入射光の光電変換が
行われる。これら受光部6は、−例として、n型のシリ
コン基板、pウェルに形成されるn型の不純物拡散領域
と、その表面のn型の正孔蓄積層からなり、表面から順
にpnpn構造とされる。各受光部6の各垂直列に沿っ
て、各垂直列毎に第1の垂直レジスタ7が設けられてい
る。これら第1の垂直レジスタ7は受光部6からの電荷
を垂直方向に転送する。これら第1の垂直レジスタ7に
は、それぞれ電荷を転送するための埋め込みチャンネル
層がシリコン基板に形成され、その埋め込みチャンネル
層上には絶縁膜を介して複数の転送電極が形成される。
ており、これら受光部6でそれぞれ入射光の光電変換が
行われる。これら受光部6は、−例として、n型のシリ
コン基板、pウェルに形成されるn型の不純物拡散領域
と、その表面のn型の正孔蓄積層からなり、表面から順
にpnpn構造とされる。各受光部6の各垂直列に沿っ
て、各垂直列毎に第1の垂直レジスタ7が設けられてい
る。これら第1の垂直レジスタ7は受光部6からの電荷
を垂直方向に転送する。これら第1の垂直レジスタ7に
は、それぞれ電荷を転送するための埋め込みチャンネル
層がシリコン基板に形成され、その埋め込みチャンネル
層上には絶縁膜を介して複数の転送電極が形成される。
この第1の垂直レジスタ7の転送電極には、転送信号Φ
IMI〜ΦIM4が供給される。
IMI〜ΦIM4が供給される。
蓄積部3には、第1の垂直レジスタ7に電気的に連続す
るように複数の第2の垂直レジスタ8が形成されており
、第1の垂直レジスタ7と第2の垂直レジスタ8の数は
一対一に対応する。第1の垂直レジスタ7から第2の垂
直レジスタ8に垂直ブランキング期間に高速に信号電荷
を転送することで、スメアの低減がなされる。これら第
2の垂直レジスタ8には、転送信号ΦSTI〜ΦST4
が供給される。
るように複数の第2の垂直レジスタ8が形成されており
、第1の垂直レジスタ7と第2の垂直レジスタ8の数は
一対一に対応する。第1の垂直レジスタ7から第2の垂
直レジスタ8に垂直ブランキング期間に高速に信号電荷
を転送することで、スメアの低減がなされる。これら第
2の垂直レジスタ8には、転送信号ΦSTI〜ΦST4
が供給される。
蓄積部3と第1の水平レジスタ4の間には、ゲート9が
設けられ、このゲート9は信号ΦVHにより制御される
。信号ΦVHが高レベルの時、ゲート9が導通状態とな
り、信号ΦVHが低しヘルの時、ゲート9が遮断状態と
なる。
設けられ、このゲート9は信号ΦVHにより制御される
。信号ΦVHが高レベルの時、ゲート9が導通状態とな
り、信号ΦVHが低しヘルの時、ゲート9が遮断状態と
なる。
第1の水平レジスタ4及び第2の水平レジスタ5は、互
いに並列に、蓄積部3の垂直方向の端部にゲート9を介
して設けられている。これら第1の水平レジスタ4及び
第2の水平レジスタ5には、転送電極が形成されており
、それら転送電極には高速転送時に互いに逆相の関係と
なる位相の転送信号ΦH1,ΦH2が供給される。これ
ら第1の水平レジスタ4及び第2の水平レジスタ5の間
には、転送ゲート10が設けられており、これら2つの
水平レジスタ間の転送を制御する。転送ゲート10には
、信号ΦHHGが供給されており、この信号ΦHHGの
レベルで、2つの水平レジスタ間の転送が制御される。
いに並列に、蓄積部3の垂直方向の端部にゲート9を介
して設けられている。これら第1の水平レジスタ4及び
第2の水平レジスタ5には、転送電極が形成されており
、それら転送電極には高速転送時に互いに逆相の関係と
なる位相の転送信号ΦH1,ΦH2が供給される。これ
ら第1の水平レジスタ4及び第2の水平レジスタ5の間
には、転送ゲート10が設けられており、これら2つの
水平レジスタ間の転送を制御する。転送ゲート10には
、信号ΦHHGが供給されており、この信号ΦHHGの
レベルで、2つの水平レジスタ間の転送が制御される。
各水平レジスタ4.5の終端部には、それぞれフローテ
ィングディフユージゴン領域21 22が設けられてい
る。各フローティングディフユージタンeMM21.2
2は各増幅器23.24に接続されており、信号電荷が
電圧に変換されて、それぞれ出力信号Vout+、
Vout−が出力される。また、各フローティングディ
フユージッン領域21゜22は、リセットゲー1−25
.25を介して電圧VRDI、VRD2が与えられてい
るリセットドレイン領域26.26に接続されている。
ィングディフユージゴン領域21 22が設けられてい
る。各フローティングディフユージタンeMM21.2
2は各増幅器23.24に接続されており、信号電荷が
電圧に変換されて、それぞれ出力信号Vout+、
Vout−が出力される。また、各フローティングディ
フユージッン領域21゜22は、リセットゲー1−25
.25を介して電圧VRDI、VRD2が与えられてい
るリセットドレイン領域26.26に接続されている。
従って、リセットゲート25,25!こ与えられている
信号ΦRGによって、フローティングディフユージッン
領域21.22はリセット(プリチャージ)される。
信号ΦRGによって、フローティングディフユージッン
領域21.22はリセット(プリチャージ)される。
また、上記水平レジスタ5の側部には、信号ΦSGが与
えられるス逅アゲート電極27が設けられ、さらに、そ
のス逅アゲート電極27に沿って電圧VSDが与えられ
たスミアドレイン領域28が形成される。これらスミア
ゲート電極27及びスミアドレイン領域28によって、
ス壽ア電荷の掃き出しが行われる。
えられるス逅アゲート電極27が設けられ、さらに、そ
のス逅アゲート電極27に沿って電圧VSDが与えられ
たスミアドレイン領域28が形成される。これらスミア
ゲート電極27及びスミアドレイン領域28によって、
ス壽ア電荷の掃き出しが行われる。
第2図は2本の水平レジスタ4.5の部分の平面図であ
る。これら2本の水平レジスタ4.5は、転送ゲート1
0を挾んで並列に設けられており、特に第1の水平レジ
スタ4はそれぞれ図中−点鎖線で示す第1層目のポリシ
リコン層からなるゲート9と転送ゲート10に挟まれて
設けられ、第2の水平レジスタ5はその転送ゲート10
と同じく第1層目のポリシリコン層からなるスミアゲー
ト電極27に挟まれて設けられている。各水平レジスタ
4,5には、それぞれ第2層目のポリシリコン層と第3
層目のポリシリコン層からなるそれぞれ複数の転送電極
11.12が配されている。転送電極11は図中実線で
示すように第2層目のポリシリコン層をパターニングし
て形成され、図中■方向を長手方向としているが、2つ
の水平レジスタ4,5に亘る電極が直線上にならないよ
うに転送ゲート10上で−H方向に線幅程度曲げられて
おり、各水平レジスタ4.5上では略矩形状とされてい
る。複数の転送電極11は、H方向で互いに一定の間隔
を以て離間しており、その離間した領域を覆い且つその
端部が転送電極11上に重なるようなパターンで図中破
線で示すように第3層目のポリシリコン層からなる転送
電極12が形成されている。これら転送電極12も転送
電極11と同様に、図中V方向を長手方向としているが
、2つの水平レジスタ4.5に亘る電極が直線上になら
ないように転送ゲート10上で−H方向に線幅程度曲げ
られており、H,−H方向の側部が共に転送電極ll上
に重なりながら各水平レジスタ4.5上では略矩形状と
されている。これら転送電極11.12には、各転送電
極毎に交互に転送信号ΦH1,ΦH2が供給されている
。従って任意の転送電極11に対して隣接する転送電極
12の一方は、必ず同相の転送信号が与えられており、
本実施例では転送電極11の−H側に隣接する転送電極
12に同相の転送信号ΦH1又はΦH2が与えられてい
る。また、同じ電圧を与えた状態で転送電極11の下部
のチャンネル層が転送電極12の下部のチャンネル層よ
りもポテンシャル井戸が深くされており、転送電極11
側がストレージ部となり、転送電極12側がトランファ
一部として機能する。
る。これら2本の水平レジスタ4.5は、転送ゲート1
0を挾んで並列に設けられており、特に第1の水平レジ
スタ4はそれぞれ図中−点鎖線で示す第1層目のポリシ
リコン層からなるゲート9と転送ゲート10に挟まれて
設けられ、第2の水平レジスタ5はその転送ゲート10
と同じく第1層目のポリシリコン層からなるスミアゲー
ト電極27に挟まれて設けられている。各水平レジスタ
4,5には、それぞれ第2層目のポリシリコン層と第3
層目のポリシリコン層からなるそれぞれ複数の転送電極
11.12が配されている。転送電極11は図中実線で
示すように第2層目のポリシリコン層をパターニングし
て形成され、図中■方向を長手方向としているが、2つ
の水平レジスタ4,5に亘る電極が直線上にならないよ
うに転送ゲート10上で−H方向に線幅程度曲げられて
おり、各水平レジスタ4.5上では略矩形状とされてい
る。複数の転送電極11は、H方向で互いに一定の間隔
を以て離間しており、その離間した領域を覆い且つその
端部が転送電極11上に重なるようなパターンで図中破
線で示すように第3層目のポリシリコン層からなる転送
電極12が形成されている。これら転送電極12も転送
電極11と同様に、図中V方向を長手方向としているが
、2つの水平レジスタ4.5に亘る電極が直線上になら
ないように転送ゲート10上で−H方向に線幅程度曲げ
られており、H,−H方向の側部が共に転送電極ll上
に重なりながら各水平レジスタ4.5上では略矩形状と
されている。これら転送電極11.12には、各転送電
極毎に交互に転送信号ΦH1,ΦH2が供給されている
。従って任意の転送電極11に対して隣接する転送電極
12の一方は、必ず同相の転送信号が与えられており、
本実施例では転送電極11の−H側に隣接する転送電極
12に同相の転送信号ΦH1又はΦH2が与えられてい
る。また、同じ電圧を与えた状態で転送電極11の下部
のチャンネル層が転送電極12の下部のチャンネル層よ
りもポテンシャル井戸が深くされており、転送電極11
側がストレージ部となり、転送電極12側がトランファ
一部として機能する。
転送ゲート10の下部のシリコン基板の表面には、第2
図中、斜線領域で示すチャンネルストップflJi域1
3が設けられ、それらチャンネルストップ領域13に挾
まれた領域がチャンネル領域14とされる。このチャン
ネル領域14は、転送ゲート10の下部でH方向及び■
方向に対して共に斜めに設けられるパターンとされてお
り、転送電極11.12の曲げられた方向とはクロスす
るようになっている。このチャンネル領域14は、第1
の水平レジスタ4の転送信号ΦH2に制御される領域1
5と、水平レジスタ5の転送信号ΦH1に制御される領
域16をその両端に対向させるように設けられている。
図中、斜線領域で示すチャンネルストップflJi域1
3が設けられ、それらチャンネルストップ領域13に挾
まれた領域がチャンネル領域14とされる。このチャン
ネル領域14は、転送ゲート10の下部でH方向及び■
方向に対して共に斜めに設けられるパターンとされてお
り、転送電極11.12の曲げられた方向とはクロスす
るようになっている。このチャンネル領域14は、第1
の水平レジスタ4の転送信号ΦH2に制御される領域1
5と、水平レジスタ5の転送信号ΦH1に制御される領
域16をその両端に対向させるように設けられている。
チャンネル領域14が第1の水平レジスタ4の転送信号
ΦH2に制御される領域15に連続して設けられるため
、第1の水平レジスタ4の転送信号ΦH2に制御される
領域はチャンネルストップ領域13に連続する。従って
、転送ゲート10のゲート電圧が高くなっても、第1の
水平レジスタ4の転送信号ΦH1に制御される領域から
電荷が次の水平レジスタ5に転送されるようなことはな
い。なお、第1の水平レジスタ4の蓄積部3側のゲート
9の下部にも図中斜線領域で示すチャンネルストップ領
域17が設けられる。
ΦH2に制御される領域15に連続して設けられるため
、第1の水平レジスタ4の転送信号ΦH2に制御される
領域はチャンネルストップ領域13に連続する。従って
、転送ゲート10のゲート電圧が高くなっても、第1の
水平レジスタ4の転送信号ΦH1に制御される領域から
電荷が次の水平レジスタ5に転送されるようなことはな
い。なお、第1の水平レジスタ4の蓄積部3側のゲート
9の下部にも図中斜線領域で示すチャンネルストップ領
域17が設けられる。
このような第1の水平レジスタ4と第2の水平レジスタ
5を有する本実施例のCCDイメージヤは、水平転送周
波数を低減するために水平レジスタ間の振り分は転送が
行われる。第2図中、丸印は第1の水平レジスタ4で転
送される電荷を表したものであり、第1の水平レジスタ
4の転送信号ΦH1に制御される領域に蓄積部3から転
送されて来るために、その第1の水平レジスタ4内に止
まる。一方、図中黒丸印で示す電荷は、第1の水平レジ
スタ4を介して第2の水平レジスタ5まで転送される電
荷を表したものであり、はじめに第1の水平レジスタ4
の転送信号ΦH1に制御される領域15へ蓄積部3から
転送されて来るために、チャンネル領域14を介して第
2の水平レジスタ5の領域16まで転送される。
5を有する本実施例のCCDイメージヤは、水平転送周
波数を低減するために水平レジスタ間の振り分は転送が
行われる。第2図中、丸印は第1の水平レジスタ4で転
送される電荷を表したものであり、第1の水平レジスタ
4の転送信号ΦH1に制御される領域に蓄積部3から転
送されて来るために、その第1の水平レジスタ4内に止
まる。一方、図中黒丸印で示す電荷は、第1の水平レジ
スタ4を介して第2の水平レジスタ5まで転送される電
荷を表したものであり、はじめに第1の水平レジスタ4
の転送信号ΦH1に制御される領域15へ蓄積部3から
転送されて来るために、チャンネル領域14を介して第
2の水平レジスタ5の領域16まで転送される。
次に、第3図及び第4図(a)〜(d)を参照して、そ
の第2図の黒丸にかかる水平レジスタ間の振り分は転送
について説明する。
の第2図の黒丸にかかる水平レジスタ間の振り分は転送
について説明する。
初めに、転送ゲートlOに供給されている信号ΦHHG
が高レベルになって、転送ゲー)10が導通状態となり
、続いて転送電極11.12に供給されている転送信号
ΦH1,ΦH2が共に低レベルとなることで、第1の水
平レジスタ4の’4M15の電荷が少なくともチャンネ
ル領域14まで転送される。この時のポテンシャルの状
態は、第4図(a)に示すように、信号ΦHHGにかか
る領域のポテンシャルだけが落ち込んだものとなる。
が高レベルになって、転送ゲー)10が導通状態となり
、続いて転送電極11.12に供給されている転送信号
ΦH1,ΦH2が共に低レベルとなることで、第1の水
平レジスタ4の’4M15の電荷が少なくともチャンネ
ル領域14まで転送される。この時のポテンシャルの状
態は、第4図(a)に示すように、信号ΦHHGにかか
る領域のポテンシャルだけが落ち込んだものとなる。
続いて、第3図の時刻t1で、転送先の第2の水平レジ
スタ5の領域16を制御する信号ΦH1のレベルが、低
レベルから高レベルに遷移スる。
スタ5の領域16を制御する信号ΦH1のレベルが、低
レベルから高レベルに遷移スる。
すると、第4図(ロ)に示すように、信号ΦH1にかか
る領域16のポテンシャルが深くなり、電荷が領域16
まで転送される。
る領域16のポテンシャルが深くなり、電荷が領域16
まで転送される。
次に、第3図の時刻t2で転送ゲー)10に与えられて
いる信号ΦHHGを高レベルから低レベルまで遷移させ
るのではなく、高レベルから中間レベルまで遷移させる
。すると、第4図(C)に示すように、第2の水平レジ
スタ5の領域16のポテンシャルの方がチャンネル領域
14のポテンシャルの深さよりも深くなり、その結果、
信号電荷が十分に第2の水平レジスタ5の領域16に転
送される。
いる信号ΦHHGを高レベルから低レベルまで遷移させ
るのではなく、高レベルから中間レベルまで遷移させる
。すると、第4図(C)に示すように、第2の水平レジ
スタ5の領域16のポテンシャルの方がチャンネル領域
14のポテンシャルの深さよりも深くなり、その結果、
信号電荷が十分に第2の水平レジスタ5の領域16に転
送される。
そして、第3図の時刻t、で、転送ゲー)10に与えて
いる信号ΦHHGのレベルを中間レベルから低レベルに
遷移させ、転送ゲー)10を遮断状態とする。この時、
既に信号ΦHHGを中間レベルとした時点で電荷が十分
に第2の水平レジスタ5側に転送されているために、チ
ャンネル領域14の電荷が逆に転送されてしまうような
問題は生じない。
いる信号ΦHHGのレベルを中間レベルから低レベルに
遷移させ、転送ゲー)10を遮断状態とする。この時、
既に信号ΦHHGを中間レベルとした時点で電荷が十分
に第2の水平レジスタ5側に転送されているために、チ
ャンネル領域14の電荷が逆に転送されてしまうような
問題は生じない。
以上は、振り分は転送終了時において、信号ΦHHGの
高レベルから低レベルへの遷移を高レベルから一旦中間
レベルにし、その中間レベルから低レベルに遷移させる
ようにした例であり、段階的に信号ΦHHGのレベルを
遷移させるものである。このような手段によって、その
転送効率を向上させることが可能となるが、第3図の信
号ΦHHGに破線で示すように、通常の上記ゲート電圧
の遷移よりも遅く遷移させることでも、同様の効果を得
ることができる。例えば、このような遅い遷移は、転送
ゲート10を駆動するドライバーの駆動能力を切り換え
ることや、遅く遷移させる時のみ容量や抵抗を付加して
時定数を大きくさせる等の手段を講じれば良い。
高レベルから低レベルへの遷移を高レベルから一旦中間
レベルにし、その中間レベルから低レベルに遷移させる
ようにした例であり、段階的に信号ΦHHGのレベルを
遷移させるものである。このような手段によって、その
転送効率を向上させることが可能となるが、第3図の信
号ΦHHGに破線で示すように、通常の上記ゲート電圧
の遷移よりも遅く遷移させることでも、同様の効果を得
ることができる。例えば、このような遅い遷移は、転送
ゲート10を駆動するドライバーの駆動能力を切り換え
ることや、遅く遷移させる時のみ容量や抵抗を付加して
時定数を大きくさせる等の手段を講じれば良い。
なお、上述の実施例は、フレームインターライン転送型
のCCD固体撮像素子の例であるが、本発明の固体撮像
素子は、インターライン転送型のCCD固体撮像素子で
あっても良い。また、水平レジスタの数は2本に限定さ
れず、本発明の固体撮像素子は、それ以上の数を有して
いるものであっても良い。また、水平レジスタを駆動す
る転送信号も2相のものに限定されない。
のCCD固体撮像素子の例であるが、本発明の固体撮像
素子は、インターライン転送型のCCD固体撮像素子で
あっても良い。また、水平レジスタの数は2本に限定さ
れず、本発明の固体撮像素子は、それ以上の数を有して
いるものであっても良い。また、水平レジスタを駆動す
る転送信号も2相のものに限定されない。
本発明の固体撮像素子は、水平電荷転送部間の転送を制
御する転送ゲートの転送終了時の遷移が、中間電圧を介
したもの或いは時間的にゆっくり行われるものとされる
ため、その転送ゲートの下部のチャンネル領域から逆に
転送元の水平電荷転送部へ転送されるような問題が生し
ない、従って、水平電荷転送部間の転送の転送効率が向
上し、良質な画質の画像信号を各種の映像機器に供給す
ることができる。
御する転送ゲートの転送終了時の遷移が、中間電圧を介
したもの或いは時間的にゆっくり行われるものとされる
ため、その転送ゲートの下部のチャンネル領域から逆に
転送元の水平電荷転送部へ転送されるような問題が生し
ない、従って、水平電荷転送部間の転送の転送効率が向
上し、良質な画質の画像信号を各種の映像機器に供給す
ることができる。
第1図は本発明の固体撮像素子の一例の全体的な構造を
示す模式的な平面図、第2図はその一例の要部平面図、
第3図はその一例の水平レジスタ間の転送の終了時のタ
イミングチャート、第4図(a)〜(d)はその−例の
水平レジスタ間の転送の終了時のチャンネル領域付近に
おけるポテンシャル状態を示すポテンシャル図、第5図
(a)〜(d)は従来例の水平レジスタ間の転送の終了
時のチャンネル領域付近におけるポテンシャル状態を示
すポテンシャル図である。 l・・・CCDイメージ中 2・・・撮像部 3・・・蓄積部 4・・・第1の水平レジスタ 5・・・第2の水平レジスタ 6・・・受光部 7・・・第1の垂直レジスタ 8・・・第2の垂直レジスタ 10・・・転送ゲート 11.12・・・転送電極 13・・・チャンネルストップ領域 14・・・チャンネル領域 15.16・・・領域
示す模式的な平面図、第2図はその一例の要部平面図、
第3図はその一例の水平レジスタ間の転送の終了時のタ
イミングチャート、第4図(a)〜(d)はその−例の
水平レジスタ間の転送の終了時のチャンネル領域付近に
おけるポテンシャル状態を示すポテンシャル図、第5図
(a)〜(d)は従来例の水平レジスタ間の転送の終了
時のチャンネル領域付近におけるポテンシャル状態を示
すポテンシャル図である。 l・・・CCDイメージ中 2・・・撮像部 3・・・蓄積部 4・・・第1の水平レジスタ 5・・・第2の水平レジスタ 6・・・受光部 7・・・第1の垂直レジスタ 8・・・第2の垂直レジスタ 10・・・転送ゲート 11.12・・・転送電極 13・・・チャンネルストップ領域 14・・・チャンネル領域 15.16・・・領域
Claims (2)
- (1)マトリクス状に配列された複数の受光部と、それ
ら受光部の各垂直列毎に設けられ該受光部からの電荷を
垂直方向に転送する複数の垂直電荷転送部と、それら垂
直電荷転送部からの電荷を水平方向に転送する複数の水
平電荷転送部を有する固体撮像素子であって、 上記複数の水平電荷転送部の間の転送を制御する転送ゲ
ートのゲート電圧は、水平電荷転送部間の電荷転送終了
時に、該ゲート電圧が遷移する途中の中間電圧に一時的
に設定されることを特徴とする固体撮像素子。 - (2)マトリクス状に配列された複数の受光部と、それ
ら受光部の各垂直列毎に設けられ該受光部からの電荷を
垂直方向に転送する複数の垂直電荷転送部と、それら垂
直電荷転送部からの電荷を水平方向に転送する複数の水
平電荷転送部を有する固体撮像素子であって、 上記複数の水平電荷転送部の間の転送を制御する転送ゲ
ートのゲート電圧は、水平電荷転送部間の電荷転送終了
時に、通常の上記ゲート電圧の遷移よりも遅く遷移する
ことを特徴とする固体撮像素子。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2054932A JPH03258083A (ja) | 1990-03-08 | 1990-03-08 | 固体撮像素子 |
| DE69119624T DE69119624T2 (de) | 1990-03-02 | 1991-03-01 | Festkörperbildabtaster |
| EP91103097A EP0444696B1 (en) | 1990-03-02 | 1991-03-01 | Solid state image sensor |
| US07/663,428 US5216489A (en) | 1990-03-02 | 1991-03-01 | Solid state image sensor |
| SG1996008145A SG63628A1 (en) | 1990-03-02 | 1991-03-01 | Solid state image sensor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2054932A JPH03258083A (ja) | 1990-03-08 | 1990-03-08 | 固体撮像素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03258083A true JPH03258083A (ja) | 1991-11-18 |
Family
ID=12984403
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2054932A Pending JPH03258083A (ja) | 1990-03-02 | 1990-03-08 | 固体撮像素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03258083A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5173840A (ja) * | 1974-11-18 | 1976-06-26 | Rca Corp | |
| JPS5913369A (ja) * | 1982-07-13 | 1984-01-24 | Sony Corp | 固体撮像素子 |
-
1990
- 1990-03-08 JP JP2054932A patent/JPH03258083A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5173840A (ja) * | 1974-11-18 | 1976-06-26 | Rca Corp | |
| JPS5913369A (ja) * | 1982-07-13 | 1984-01-24 | Sony Corp | 固体撮像素子 |
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