JPH03258792A - 1―シロキシ―1―シリルメタン誘導体及びその製造方法 - Google Patents
1―シロキシ―1―シリルメタン誘導体及びその製造方法Info
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はヒドロシラン類とアルデヒド類を反応させるこ
とによる1−シロキシ−1−シリルメタン誘導体の製造
方法に関するものである。
とによる1−シロキシ−1−シリルメタン誘導体の製造
方法に関するものである。
1−シロキシ−1−シリルメタン誘導体は医農薬等ファ
インケミカルズの合成中間体として有用なものである。
インケミカルズの合成中間体として有用なものである。
[従来技術]
(但シ式中、R1,R”、 R’、 R’、 R”及び
Yはそれぞれ前述のとおり)で表される1−シロキシ−
1−シリルメタン誘導体の製造方法として工業的に有利
な方法は知られていない。
Yはそれぞれ前述のとおり)で表される1−シロキシ−
1−シリルメタン誘導体の製造方法として工業的に有利
な方法は知られていない。
[発明が解決しようとする問題点コ
本発明は、安価かつ大量に入手可能な原料を用い温和な
条件で、1−シロキシ−1−シリルメタン誘導体を工業
的に有利に製造し得る方法を提供することをその課題と
する。
条件で、1−シロキシ−1−シリルメタン誘導体を工業
的に有利に製造し得る方法を提供することをその課題と
する。
またそれによって得られる新規な1−シロキシ−1−シ
リルメタン誘導体を提供することをその課題とする。
リルメタン誘導体を提供することをその課題とする。
[問題点を解決するための手段]
本発明者らは前記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結
果、 (a)一般式 HR1R2Si−Y−5iR3R’H(
但し式中、R1,R”、 R’、 R’及びYはそれぞ
れ前述のとおり)で表されるヒドロシラン類と(b)一
般式 RsCHO (但し式中、R5は前述のとおり)で表されるアセチレ
ン類が、 (c)白金、パラジウム、ニッケルの中から選ばれる遷
移金属錯体の存在下に、温和な条件下に迅速に反応し1
−シロキシ−1−シリルメタン誘導体を与えるという新
規な事実を発見し、これに基づき本発明を完成するに至
った。
果、 (a)一般式 HR1R2Si−Y−5iR3R’H(
但し式中、R1,R”、 R’、 R’及びYはそれぞ
れ前述のとおり)で表されるヒドロシラン類と(b)一
般式 RsCHO (但し式中、R5は前述のとおり)で表されるアセチレ
ン類が、 (c)白金、パラジウム、ニッケルの中から選ばれる遷
移金属錯体の存在下に、温和な条件下に迅速に反応し1
−シロキシ−1−シリルメタン誘導体を与えるという新
規な事実を発見し、これに基づき本発明を完成するに至
った。
すなわち本発明によれば、
(但し式中、R1,R2,R3,R4,R5及びYはそ
れぞれ前述のとおり)で表される1−シロキシ−1−シ
リルメタン誘導体の製造方法が提供される。
れぞれ前述のとおり)で表される1−シロキシ−1−シ
リルメタン誘導体の製造方法が提供される。
本発明の方法は、次式で示される反応によって進行する
。
。
HRlR”5L−Y−5iR’R’)I + Rs
CHO→(但し式中、R1,R”、 R3,R’、 R
’及びYはそれぞれ前述のとおり) 本発明で用いる(a)のヒドロシラン類は、一般式 H
R1R2Si−Y−5iR3R’H(但し式中、R1,
R”、 R’、 R’及びYはそれぞれ前述のとおり)
で表される。R1,R’、 R’及びR4としては、ア
ルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基
、アシロキシ基、ビス(ヒドロカルビル)アミノ基、ハ
ロゲン原子、水素原子等があげられ、互いに同一であっ
ても、相異なっていてもよい。
CHO→(但し式中、R1,R”、 R3,R’、 R
’及びYはそれぞれ前述のとおり) 本発明で用いる(a)のヒドロシラン類は、一般式 H
R1R2Si−Y−5iR3R’H(但し式中、R1,
R”、 R’、 R’及びYはそれぞれ前述のとおり)
で表される。R1,R’、 R’及びR4としては、ア
ルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基
、アシロキシ基、ビス(ヒドロカルビル)アミノ基、ハ
ロゲン原子、水素原子等があげられ、互いに同一であっ
ても、相異なっていてもよい。
一般式中、Yは2価の有機基、酸素原子、窒素原子、硫
黄原子であり、2価の有機基として具体的には (A)芳香環構造を有する2価の有機基(B)アルキレ
ン基 (C)へテロ原子として典型元素を含む2価の有機基 (D)へテロ原子として遷移金属を含む2価の有機基等
があげられる。
黄原子であり、2価の有機基として具体的には (A)芳香環構造を有する2価の有機基(B)アルキレ
ン基 (C)へテロ原子として典型元素を含む2価の有機基 (D)へテロ原子として遷移金属を含む2価の有機基等
があげられる。
(A)としては、例えば、
等があげられ、
(B)としては、例えば、
等があげられ、
(C)としては、例えば、
−0−CI(2−、−CH,−0−CH2−、−CH2
−N(CFl、)−CH2−。
−N(CFl、)−CH2−。
等があげられ、
(D)としては、例えば、
o−0口
また、前記の2価の有機基の炭素原子上に置換基として
各種置換基を含むことができる。このような置換基の具
体例としては、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシロ
キシ基ジアルコキシカルボニル基、アシル基、ビス(ヒ
ドロカルビル)アミノ基、ハロゲン原子、水素原子等が
あげられる。
各種置換基を含むことができる。このような置換基の具
体例としては、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシロ
キシ基ジアルコキシカルボニル基、アシル基、ビス(ヒ
ドロカルビル)アミノ基、ハロゲン原子、水素原子等が
あげられる。
さらに具体的に本発明で用いるヒドロシラン類を例示す
ると、0−ビス(ジメチルシリル)ベンゼン、0−ビス
(ジフェニルシリル)ベンゼン、0−ビス(ジメトキシ
シリル)ベンゼン、0−ビス(ジフェノキシシリル)ベ
ンゼン、0−(ビス(ジメチルアミノ)シリル)(ジメ
チルシリル)ベンゼン、0−ビス(ジクロロシリル)ベ
ンゼン、3.4−ビス(ジメチルシリル)ピリジン、2
゜3−ビス(ジメチルシリル)チオフェン、2,3−ビ
ス(ジメチルシリル)フラン、1,2−ビス(ジメチル
シリル)ナフタレン、1,2−ビス(ジメチルシリル)
アントラセン、1,2−ビス(ジメチルシリル)−4−
メトキシベンゼン、3゜4−ビス(ジメチルシリル)フ
ェニルエチルエーテル、1,2−ビス(ジメチルシリル
)−4−クロロベンゼン、1,2−ビス(ジメチルシリ
ル)エタン、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサ
ン、1,1,3.3−テトラメチルジシラザン、ビス−
η5−((ジメチルシリル)シクロペンタジェニル)鉄
、ビス−η5−((ジメチルシリル)シクロペンタジェ
ニル)ルテニウム等があげられる。
ると、0−ビス(ジメチルシリル)ベンゼン、0−ビス
(ジフェニルシリル)ベンゼン、0−ビス(ジメトキシ
シリル)ベンゼン、0−ビス(ジフェノキシシリル)ベ
ンゼン、0−(ビス(ジメチルアミノ)シリル)(ジメ
チルシリル)ベンゼン、0−ビス(ジクロロシリル)ベ
ンゼン、3.4−ビス(ジメチルシリル)ピリジン、2
゜3−ビス(ジメチルシリル)チオフェン、2,3−ビ
ス(ジメチルシリル)フラン、1,2−ビス(ジメチル
シリル)ナフタレン、1,2−ビス(ジメチルシリル)
アントラセン、1,2−ビス(ジメチルシリル)−4−
メトキシベンゼン、3゜4−ビス(ジメチルシリル)フ
ェニルエチルエーテル、1,2−ビス(ジメチルシリル
)−4−クロロベンゼン、1,2−ビス(ジメチルシリ
ル)エタン、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサ
ン、1,1,3.3−テトラメチルジシラザン、ビス−
η5−((ジメチルシリル)シクロペンタジェニル)鉄
、ビス−η5−((ジメチルシリル)シクロペンタジェ
ニル)ルテニウム等があげられる。
本発明で用いる(b)のアルデヒド類は、一般式 R’
CHO (但し式中、R5はそれぞれ前述のとおり)で表される
。R5としては、アルキル基、アリール基、アルコキシ
メチル基、アリーロキシメチル基等があげられる。
CHO (但し式中、R5はそれぞれ前述のとおり)で表される
。R5としては、アルキル基、アリール基、アルコキシ
メチル基、アリーロキシメチル基等があげられる。
更に具体的に本発明で用いるアルデヒド類を例示すると
、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、n−ブチ
ルアルデヒド、イソブチルアルデヒド、n−バレルアル
デヒド、イソバレルアルデヒド、2−メチルブタナール
、2−メチルプロパナール、2−エチルヘキサナール、
1−ヘキサナール、1−ウンデカナール、シトロネラー
ル、2−エチルクロトンアルデヒド、3−アセトキシ−
1−ブタナール、2−メチル−3−アセトキシ−1−ペ
ンタナール、シクロヘキサンカルボアルデヒド、ベンズ
アルデヒド、0−1m−1またはp−トルアルデヒド、
0−1m−1またはp−クロロベンズアルデヒド、0−
1m−1またはP−アセトキシベンズアルデヒドo−1
m−1またはP−(N、N−ジメチルアミノ)ベンズア
ルデヒド。
、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、n−ブチ
ルアルデヒド、イソブチルアルデヒド、n−バレルアル
デヒド、イソバレルアルデヒド、2−メチルブタナール
、2−メチルプロパナール、2−エチルヘキサナール、
1−ヘキサナール、1−ウンデカナール、シトロネラー
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1−ブタナール、2−メチル−3−アセトキシ−1−ペ
ンタナール、シクロヘキサンカルボアルデヒド、ベンズ
アルデヒド、0−1m−1またはp−トルアルデヒド、
0−1m−1またはp−クロロベンズアルデヒド、0−
1m−1またはP−アセトキシベンズアルデヒドo−1
m−1またはP−(N、N−ジメチルアミノ)ベンズア
ルデヒド。
フルフラール等があげられる。
ヒドロシラン類とアルデヒド類の量関係は通常ヒドロシ
ラン類とアルデヒド類のモル比で1/100〜100の
範囲で実施され、好ましくは1/10〜10の範囲であ
る。
ラン類とアルデヒド類のモル比で1/100〜100の
範囲で実施され、好ましくは1/10〜10の範囲であ
る。
本発明によれば1次の一般式で表される新規な1−シロ
キシ−1−シリルメタン誘導体が提供される。
キシ−1−シリルメタン誘導体が提供される。
前記式中、R7,R’、 R’及びR”はアルキル基、
アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシロキ
シ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ビス(ヒド
ロカルビル)アミノ基、ハロゲン原子、水素原子等を示
し、R11,R12,R”及びR”はアルキル基、アリ
ール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシロキシ基
、ビス(ヒドロカルビル)アミノ基、ハロゲン原子、水
素原子等を示し、R”はアルキル基、アリール基、アル
コキシメチル基、アリーロキシメチル基等を示す。
アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシロキ
シ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ビス(ヒド
ロカルビル)アミノ基、ハロゲン原子、水素原子等を示
し、R11,R12,R”及びR”はアルキル基、アリ
ール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシロキシ基
、ビス(ヒドロカルビル)アミノ基、ハロゲン原子、水
素原子等を示し、R”はアルキル基、アリール基、アル
コキシメチル基、アリーロキシメチル基等を示す。
前記のアルキル基、アルコキシ基及びアシル基としては
、炭素数1〜10の低級アルキル基、アルコキシ基及び
アシル基があげられ、アリール基及びアリーロキシ基と
しては炭素数6〜15の例えばフェニル基、トリル基、
フェノキシ基等を示す。アシロキシ基、アルコキシカル
ボニル基、ビぐギ’(1:130カ2.ビ2.)ア、ッ
基、、−Cは、炭素数1〜10のアシロキシ基、アルコ
キシカルボニル基、ビス(ヒドロカルビル)アミノ基が
あげられる。ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭
素、ヨウ素原子があげられる。
、炭素数1〜10の低級アルキル基、アルコキシ基及び
アシル基があげられ、アリール基及びアリーロキシ基と
しては炭素数6〜15の例えばフェニル基、トリル基、
フェノキシ基等を示す。アシロキシ基、アルコキシカル
ボニル基、ビぐギ’(1:130カ2.ビ2.)ア、ッ
基、、−Cは、炭素数1〜10のアシロキシ基、アルコ
キシカルボニル基、ビス(ヒドロカルビル)アミノ基が
あげられる。ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭
素、ヨウ素原子があげられる。
本発明で用いる(C)の遷移金属錯体触媒において、そ
の遷移金属成分としては、白金、パラジウム、ニッケル
があげられるが、特に白金の使用が好適である。
の遷移金属成分としては、白金、パラジウム、ニッケル
があげられるが、特に白金の使用が好適である。
遷移金属錯体としては、従来公知の各種のものを使用す
ることができるが、反応系に少なくとも一部は可溶の化
合物を用いるのが反応速度的には好ましい。これらの化
合物としては有機配位子あるいは一酸化炭素を含む錯体
が特に好ましく用いられる。これらの具体例を示すと、
(η−エチレン)ビス(トリフェニルホスフィン)白金
、テトラキス(ジフェニルメチルホスフィン)白金、ジ
クロロビス(フエニルジメチルホスフィンクロロヒドリ
ドビス(トリブチルホスフィン)白金、ジクロロ(テト
ラメチルエチレンジアミン)%.ジブロモビス(トリエ
チルホスファイト)白金、ジクロロビス(ベンゾニトリ
ル)白金、ビス(ηー1,5ーシクロオクタジエン)白
金、ジクロロ(ηー1,5ーシクロオクタジエン)白金
、ジカルボニルビス(トリブチルホスフィン)白金、カ
ルボナトビス(トリシクロヘキシルホスフィン)白金、
ジフェニルアセチレンビス(トリフェニルホスフィン)
白金、ビス(ジベンジリデンアセトン)ビス(トリフェ
ニルホスフィン)白金、(ηーエチレン)ビス(トリフ
ェニルホスフィン)パラジウム、テトラキス(ジフェニ
ルメチルホスフィン)パラジウム、ジクロロビス(フエ
ニルジメチルホスフィン)パラジウム、トリス(ジベン
ジリデンアセトン)ニパラジウム、ジクロロ(η−1、
5−シクロオクタジエン)パラジウム、ビス(ηーアリ
ル)パラジウム、(ηーエチレン)ビス(トリフェニル
ホスフィン)ニッケル、トリカルボニル(ジフェニルメ
チルホスフィン)ニッケル、ジブロモビス(トリエチル
ホスフィン)ニッケル、テトラキス(フエニルジメチル
ポスフィン)ニッケル、ブロモトリス(トリブチルホス
フィン)ニッケル、ビス(η5ーシクロペンタジェニル
)ニッケル、ビス(アセチルアセトナト)ニッケル等が
あげられるが、これに制限されるものではない。
ることができるが、反応系に少なくとも一部は可溶の化
合物を用いるのが反応速度的には好ましい。これらの化
合物としては有機配位子あるいは一酸化炭素を含む錯体
が特に好ましく用いられる。これらの具体例を示すと、
(η−エチレン)ビス(トリフェニルホスフィン)白金
、テトラキス(ジフェニルメチルホスフィン)白金、ジ
クロロビス(フエニルジメチルホスフィンクロロヒドリ
ドビス(トリブチルホスフィン)白金、ジクロロ(テト
ラメチルエチレンジアミン)%.ジブロモビス(トリエ
チルホスファイト)白金、ジクロロビス(ベンゾニトリ
ル)白金、ビス(ηー1,5ーシクロオクタジエン)白
金、ジクロロ(ηー1,5ーシクロオクタジエン)白金
、ジカルボニルビス(トリブチルホスフィン)白金、カ
ルボナトビス(トリシクロヘキシルホスフィン)白金、
ジフェニルアセチレンビス(トリフェニルホスフィン)
白金、ビス(ジベンジリデンアセトン)ビス(トリフェ
ニルホスフィン)白金、(ηーエチレン)ビス(トリフ
ェニルホスフィン)パラジウム、テトラキス(ジフェニ
ルメチルホスフィン)パラジウム、ジクロロビス(フエ
ニルジメチルホスフィン)パラジウム、トリス(ジベン
ジリデンアセトン)ニパラジウム、ジクロロ(η−1、
5−シクロオクタジエン)パラジウム、ビス(ηーアリ
ル)パラジウム、(ηーエチレン)ビス(トリフェニル
ホスフィン)ニッケル、トリカルボニル(ジフェニルメ
チルホスフィン)ニッケル、ジブロモビス(トリエチル
ホスフィン)ニッケル、テトラキス(フエニルジメチル
ポスフィン)ニッケル、ブロモトリス(トリブチルホス
フィン)ニッケル、ビス(η5ーシクロペンタジェニル
)ニッケル、ビス(アセチルアセトナト)ニッケル等が
あげられるが、これに制限されるものではない。
またこれらの遷移金属化合物を単独でなく、2種以上を
共存させて実施してもよく、さらに遷移金属化合物と共
に該遷移金属化合物にふくまれるものと同一もしくは異
なる有機配位子を添加して実施することも本発明の有利
な態様に含まれる。
共存させて実施してもよく、さらに遷移金属化合物と共
に該遷移金属化合物にふくまれるものと同一もしくは異
なる有機配位子を添加して実施することも本発明の有利
な態様に含まれる。
このような有機配位子を例示すると、ホスフィン、ホス
ホナイト、ホスフィナイト、ホスファイト、オレフィン
、β−ジケトン、アミン、ニトリル等があげられる。こ
れらを例示すると、トリメチルホスフィン、トリブチル
ホスフィン、トリオクチルホスフィン、トリシクロヘキ
シルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリ (p
−トリル)ホスフィン、トリ (p−アニシル)ホスフ
ィン、ジフェニルメチルホスフィン、フエニルジメチル
ホスフィン等の鎖状ホスフィン、p−メチルホスホール
、p−メチルホスホール、9−メチル−9−ホスファビ
シクロ[4.2.11ノナン等の環状ホスフィン、1,
2−ビス(ジメチルホスフィノ)エタン、1,3−ビス
(ジメチルホスフィノ)プロパン、1,4−ビス(ジメ
チルホスフィノ)ブタン、1,2−ビス(ジフェニルホ
スフィノ)エタン、1,3−ビス(ジフェニルホスフィ
ノ)プロパン、1,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)
ブタン、1,1′−ビス(ジメチルホスフィノ)フェロ
セン、1,1′−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロ
セン、α,α′−ビス(ジメチルホスフィノ)−0−キ
シレン、1,2−ビス(ジメチルホスフィノ)ベンゼン
等のビスホスフィン、ジメチルメチルホスホナイト、ジ
メチルフェニルホスホナイト等のホスホナイト、メチル
ジメチルホスフィナイト、ジフェニルホスフィナイト等
のホスフィナイト及びトリエチルホスファイト、トリフ
ェニルホスファイト、トリメチロールプロパンホスファ
イト等のホスファイト、エチレン、プロペン、シクロオ
クテン、1,5−へキサジエン、1.5−シクロオクタ
ジエン、1,3−シクロペンタジェン、ノルボルナジェ
ン、1,3,5,7−シクロオクタジエンニン等のオレ
フィン、アセチルアセトン等のβ−ジケトン、2,2′
−ビピリジル、エチレンジアミン等のアミン、ベンゾニ
トリル等のニトリルがあげられる。
ホナイト、ホスフィナイト、ホスファイト、オレフィン
、β−ジケトン、アミン、ニトリル等があげられる。こ
れらを例示すると、トリメチルホスフィン、トリブチル
ホスフィン、トリオクチルホスフィン、トリシクロヘキ
シルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリ (p
−トリル)ホスフィン、トリ (p−アニシル)ホスフ
ィン、ジフェニルメチルホスフィン、フエニルジメチル
ホスフィン等の鎖状ホスフィン、p−メチルホスホール
、p−メチルホスホール、9−メチル−9−ホスファビ
シクロ[4.2.11ノナン等の環状ホスフィン、1,
2−ビス(ジメチルホスフィノ)エタン、1,3−ビス
(ジメチルホスフィノ)プロパン、1,4−ビス(ジメ
チルホスフィノ)ブタン、1,2−ビス(ジフェニルホ
スフィノ)エタン、1,3−ビス(ジフェニルホスフィ
ノ)プロパン、1,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)
ブタン、1,1′−ビス(ジメチルホスフィノ)フェロ
セン、1,1′−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロ
セン、α,α′−ビス(ジメチルホスフィノ)−0−キ
シレン、1,2−ビス(ジメチルホスフィノ)ベンゼン
等のビスホスフィン、ジメチルメチルホスホナイト、ジ
メチルフェニルホスホナイト等のホスホナイト、メチル
ジメチルホスフィナイト、ジフェニルホスフィナイト等
のホスフィナイト及びトリエチルホスファイト、トリフ
ェニルホスファイト、トリメチロールプロパンホスファ
イト等のホスファイト、エチレン、プロペン、シクロオ
クテン、1,5−へキサジエン、1.5−シクロオクタ
ジエン、1,3−シクロペンタジェン、ノルボルナジェ
ン、1,3,5,7−シクロオクタジエンニン等のオレ
フィン、アセチルアセトン等のβ−ジケトン、2,2′
−ビピリジル、エチレンジアミン等のアミン、ベンゾニ
トリル等のニトリルがあげられる。
遷移金属錯体触媒の使用量はいわゆる触媒量でよく、ヒ
ドロシランに対するモル比で。
ドロシランに対するモル比で。
0.00001〜0.5の範囲で使用される。
本発明の反応は特に溶媒を使用する事なく、反応に供す
べきヒドロシラン類とアルデヒド類の混合物を用いる事
により容易に実施される。しかし、溶媒を用いることは
本反応の生起にとって障害となるものでなく、必要に応
じ溶媒中で実施される。
べきヒドロシラン類とアルデヒド類の混合物を用いる事
により容易に実施される。しかし、溶媒を用いることは
本反応の生起にとって障害となるものでなく、必要に応
じ溶媒中で実施される。
これらの溶媒の選択は反応させるべきヒドロシラン類の
反応性や沸点及びアルデヒド類の沸点等を考慮して一般
に用いられる溶媒1例えば炭化水素系、またはエーテル
系の溶媒の中から選ぶのが好ましい。
反応性や沸点及びアルデヒド類の沸点等を考慮して一般
に用いられる溶媒1例えば炭化水素系、またはエーテル
系の溶媒の中から選ぶのが好ましい。
本発明の反応は0℃以下でも進行するが、好ましい速度
を達するためには250”Cまでの温度に加熱すること
もできる。原料物質の構造にもよるが、−船釣に好まし
い温度領域は0〜150℃である。
を達するためには250”Cまでの温度に加熱すること
もできる。原料物質の構造にもよるが、−船釣に好まし
い温度領域は0〜150℃である。
反応後め生成物の分離は未反応原料等を蒸留等で分離後
、精留、再結晶、クロマトグラフィー等に付すことで容
易に実施される。
、精留、再結晶、クロマトグラフィー等に付すことで容
易に実施される。
[発明の効果]
本発明によれば、ヒドロシラン類とアルデヒド類から容
易に1−シロキシ−1−シリルメタン誘導体が得られ、
その産業的意義は多大である。
易に1−シロキシ−1−シリルメタン誘導体が得られ、
その産業的意義は多大である。
[実施例]
次に本発明を実施例によって更に詳細に説明する。
実施例I
Pt (CH2=CH2) (PPh、 )、を0.0
05mモル及び〇−ビス(ジメチルシリル)ベンゼンを
0.25mモル含むベンゼン溶液2mQに80℃にて、
ベンズアルデヒドを0.25mモル含むベンゼン溶液2
mAを加え、80℃にて反応させた。40時間反応させ
た後濃縮し、蒸留すると1,1,4,4−テトラメチル
−3−フェニル−2,1,4−ベンゾオキサジシランが
収率40%で得られた。
05mモル及び〇−ビス(ジメチルシリル)ベンゼンを
0.25mモル含むベンゼン溶液2mQに80℃にて、
ベンズアルデヒドを0.25mモル含むベンゼン溶液2
mAを加え、80℃にて反応させた。40時間反応させ
た後濃縮し、蒸留すると1,1,4,4−テトラメチル
−3−フェニル−2,1,4−ベンゾオキサジシランが
収率40%で得られた。
本化合物は文献に未収載の新規化合物であり。
その物性値、スペクトルデータは以下の通りであった・
1H−NMR(CDCI、) :
6 7.6−7.1 (m、9H)。
(S 、IH)、 0.43 (S 、3H)t(s
、3H)、 0.29 (s 、3H)。
、3H)、 0.29 (s 、3H)。
(s 、3H)。
δ 144.6,143.7゜
133.4,132.5,128.64゜128.1
(2C)。
(2C)。
124.5 (2C)、 69.8゜
−0,62,−4,98,−5,03
298(M”、 39)。
283 (16)、 193 (100)IR(
第1図)
第1図)
第1図は、本発明の実施例により合成した1゜1.4,
4−テトラメチル−3−フェニル−2゜1.4−ベンゾ
オキサジシランの赤外吸収スペクトルをヌジョール法で
測定したものであり、縦軸は透過率(%)であり、横軸
は波数(all−1)である。 5.0 0.37 0.00 ”C−NMR(CDCI、) : 142.6゜ 128.60゜ 125.5゜ 0.21゜ GC−MS (EI、70eV) ;1、事件の表示 20発明の名称 手続補正書(句ん) 3化技研第605号 平成2年特許願第57276号 1−シロキシ−1−シリルメタン誘導体及びその製造方
法 3、補正をする者 事件との関係特許呂願人 住所 東京都千代田区霞が関1丁目3番1号氏名(1
14)工業技術院長 杉浦 賢8、補正の内容 本願明細書中において、以下のとおり補正を行います。 (1)第17頁第6行の「・・・・・・以下の通りであ
った。」の次の行に、「融点: 80.5〜81.0℃
」を挿入します。 (2)第18頁第2行のrIR(第1図)」の次の行に
、「元素分析値:実測値 C68,09%、 H7,4
8%理論値 C68,40%、 H7,43%実施例2 ベンゼンの代わりにトルエンを溶媒とし、温度を110
℃にして実施例1と同様に反応を行った。6時間後、1
,1,4,4−テトラメチル−3−フェニル−2,1,
4−ベンゾオキサジシランが77%の収率で得られた。 」を挿入します。 6、補正により増加する請求項の数 手続ネ甫正書(自発) 平成3年6月4日 1、事件の表示 平成2年特許願第57276号 2、発明の名称 1−シロキシ−1−シリルメタン誘導体及びその製造方
法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都千代田区霞が関1丁目3番1号名称(11
4)工業技術院長 杉 浦 賢5、補正命令の日付
自発 6、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄、「図面の簡単7、
補正の内容 (1)明細書第4頁第5〜6行の「アセチレン」を「ア
ルデヒド」に補正する。 (2)同書第8頁第13行の「アルキル基、」の次に「
アルケニル基、jを加入する。 (3)同書第9頁第3行の「−エチルクロトンアルデヒ
ド、」の次に「シンナムアルデヒド、」を加入する。 (4)同書第10頁下から第8行の「アルキル基、」の
次に「アルケニル基、」を加入する。 (5)同書第12頁第8〜9行の「ビス(ジベンジリデ
ンアセトン)ビス(トリフェニルホスフィン)白金、」
の次に「ビス(ジベンジリデンアセトン)白金、」を加
入する。 (6)同書第18頁第2行の次の「実施例2」の記載(
平成3年4月4日提出の手続補正書で加入)の次に改行
して下記の記載を加入する。 「実施例3 Pt(CH2=CH*) (PPh3)2の代わりにP
t(dba)z (ビス(ジベンジリデンアセトン)白
金)を用いて実施例1と同様に80℃にて1時間反応を
行った。反応後1.l、4.4−テトラメチル−3−フ
ェニル−2,l、4−ベンゾオキサジシランが91%の
収率で得られた。 実施例4 ベンズアルデヒドの代わりにn−ヘプタナールを用い、
温度を80℃にして実施例1と同様に600時間反応行
った。反応後濃縮し、蒸留すると1,1,4.4−テト
ラメチル−3−へキシル−2,1,4−ベンゾオキサジ
シランが47%の収率で得られた。本化合物は文献に未
収載の新規化合物であり、そのスペクトルデータは以下
の通りであった。 1.1,4.4−テトラメチル−3−ヘキシル−21,
4−ベンゾオキサジシラン 沸点95−105℃/ 0.5mmHg (クーゲル
ロール)’H−NMR(CDCIm) :67.55−
7.34 (4H,ml、 3.80−3.70(1)
1.m)、 1.8−1.5 (4H,m)、 1.5
−1.15 (6H,br s)、0.9(3H,t
1ike)、 0.35 (3H,s)、 0.31
(3H,s)、 0.28(3H,s)、 0.2
5 (3H,s)13cmNMTh(cpcl、+ :
δ144.9.144.1.133.2.132.3
゜128.44.128.38.66.6.33.2.
31.9.29.1.26.6゜22.7.14.1.
0.2.−0.7.−4.1.−4.8GC−MS:3
06(M′″0.1)、 291(M−15,0,1
)、 193(100)工R:第2図 実施例5 Pt(CH2=CH−) (PPh−) 2の代わりに
Pt(dba)2を用いて実施例4と同様に80℃にて
1時間反応を行った。反応後1.1,4.4−テトラメ
チル−3−ヘキシル−2゜1.4−ベンゾオキサジシラ
ンが91%の収率で得られた。 実施例6 ベンズアルデヒドの代わりにn−ヘキサナールを用い、
温度を80℃にして実施例1と同様に17時間反応を行
った。反応後濃縮し、蒸留すると1.1,4.4−テト
ラメチル−3−ベンチルー2.1.4−ベンゾオキサジ
シランが52%の収率で得られた。本化合物は文献に未
収載の新規化合物であり、そのスペクトルデータは以下
の通りであった。 1.1,4.4−テトラメチル−3−ベンチルー2゜1
.4−ベンゾオキサジシラン ’H−NMR(CDC1a) :δ 7.55−7.3
4 (4H,m)、 3.80−3.70(LH,m)
、 1.8−1.5 (4N、m)、 1.5−1.1
5 (4H,br s)0.9 (3H,t 1ik
e)、 0.35 (3H,s)、 0.31
(3H,s)0.28 (3H,s)、 0.2
5 (3H,s)実施例7 Pt(CH2=CHi) (PPhs)zの代わりにP
t(dba)zを用いて実施例6と同様に80℃にて1
6時間反応を行った。反応後1.1,4.4−テトラメ
チル−3−へキシル−2゜1.4−ベンゾオキサジシラ
ンが71%の収率で得られた。 実施例8 ベンズアルデヒドの代わりにトランス−シンナムアルデ
ヒドを用い、温度を110℃にして実施例1と同様に1
2時間反応を行った。反応後濃縮し、蒸留すると1゜1
.4.4−テトラメチル−3−(トランス−2−フェニ
ルエチニル)−2,1,4−ベンゾオキサジシランが8
0%の収率で得られた。本化合物は文献に未収載の新規
化合物であり、そのスペクトルデータは以下の通りであ
った。 1.1,4.4−テトラメチル−3−(トランス−2−
フェニルエチニル)−2,1,4−ベンゾオキサジシラ
ン 沸点145−150℃70.4mmHg (クーゲル
ロール)H−NMR((:DC13) :67.46−
7.11 (9H,m)、 6.53 (IH,
dd。 J=15.8. 1.4Hz)、 6.25(LH,
dd、 J:15.8. 5.5Hz)4.56(I
H,dd、J=5.5. 1.4Hz)、 0.34
(3H,s)、 0.30(3H,s)、 0.
27 (3H,s)、 0.13 (3H,s)3
C−NMR(CDC1g ) : 6144.5.
143.5. 137.7゜133.2. 132.5
. 129.7. 128.7. 128.6. 12
8.4126.7. 126、l、 126.0.
68.9. 0.2. −0.5. −4.8GC−M
S; 324(M”、51)、 193(37)、
115(100)工R;第3図 実施例9 Pt(C:H*=CH2) (PPhs) 2の代わり
にPt(dba)zを用いて実施例6と同様に110℃
にて12時間反応を行った。反応後1,1,4.4−テ
トラメチル−3−(トランス−2−フェニルエチニル)
−2,1,4−ベンゾオキサジシランが8%の収率で得
られた。」 (7)同書第18頁第9行目の次に改行して下記の記載
を加入する。 「第2図は、本発明の実施例により合成した。1,14
.4−テトラメチル−3−へキシル−2,1,4−ベン
ゾオキサジシランの赤外吸収スペクトルを液膜法で測定
したものであり、縦軸は透過率(%)であり、横軸は波
数(cm−’)である。 第3図は、本発明の実施例により合成した1、1゜4.
4−テトラメチル−3−(トランス−2−フェニルエチ
ニル)−2,1,4−ベンゾオキサジシランの赤外吸収
スペクトルを液膜法で測定したものであり、縦軸は透過
率(%)であり、横軸は波数(cm−’)である。](
8)図面として第2図、第3図を追加する。
4−テトラメチル−3−フェニル−2゜1.4−ベンゾ
オキサジシランの赤外吸収スペクトルをヌジョール法で
測定したものであり、縦軸は透過率(%)であり、横軸
は波数(all−1)である。 5.0 0.37 0.00 ”C−NMR(CDCI、) : 142.6゜ 128.60゜ 125.5゜ 0.21゜ GC−MS (EI、70eV) ;1、事件の表示 20発明の名称 手続補正書(句ん) 3化技研第605号 平成2年特許願第57276号 1−シロキシ−1−シリルメタン誘導体及びその製造方
法 3、補正をする者 事件との関係特許呂願人 住所 東京都千代田区霞が関1丁目3番1号氏名(1
14)工業技術院長 杉浦 賢8、補正の内容 本願明細書中において、以下のとおり補正を行います。 (1)第17頁第6行の「・・・・・・以下の通りであ
った。」の次の行に、「融点: 80.5〜81.0℃
」を挿入します。 (2)第18頁第2行のrIR(第1図)」の次の行に
、「元素分析値:実測値 C68,09%、 H7,4
8%理論値 C68,40%、 H7,43%実施例2 ベンゼンの代わりにトルエンを溶媒とし、温度を110
℃にして実施例1と同様に反応を行った。6時間後、1
,1,4,4−テトラメチル−3−フェニル−2,1,
4−ベンゾオキサジシランが77%の収率で得られた。 」を挿入します。 6、補正により増加する請求項の数 手続ネ甫正書(自発) 平成3年6月4日 1、事件の表示 平成2年特許願第57276号 2、発明の名称 1−シロキシ−1−シリルメタン誘導体及びその製造方
法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都千代田区霞が関1丁目3番1号名称(11
4)工業技術院長 杉 浦 賢5、補正命令の日付
自発 6、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄、「図面の簡単7、
補正の内容 (1)明細書第4頁第5〜6行の「アセチレン」を「ア
ルデヒド」に補正する。 (2)同書第8頁第13行の「アルキル基、」の次に「
アルケニル基、jを加入する。 (3)同書第9頁第3行の「−エチルクロトンアルデヒ
ド、」の次に「シンナムアルデヒド、」を加入する。 (4)同書第10頁下から第8行の「アルキル基、」の
次に「アルケニル基、」を加入する。 (5)同書第12頁第8〜9行の「ビス(ジベンジリデ
ンアセトン)ビス(トリフェニルホスフィン)白金、」
の次に「ビス(ジベンジリデンアセトン)白金、」を加
入する。 (6)同書第18頁第2行の次の「実施例2」の記載(
平成3年4月4日提出の手続補正書で加入)の次に改行
して下記の記載を加入する。 「実施例3 Pt(CH2=CH*) (PPh3)2の代わりにP
t(dba)z (ビス(ジベンジリデンアセトン)白
金)を用いて実施例1と同様に80℃にて1時間反応を
行った。反応後1.l、4.4−テトラメチル−3−フ
ェニル−2,l、4−ベンゾオキサジシランが91%の
収率で得られた。 実施例4 ベンズアルデヒドの代わりにn−ヘプタナールを用い、
温度を80℃にして実施例1と同様に600時間反応行
った。反応後濃縮し、蒸留すると1,1,4.4−テト
ラメチル−3−へキシル−2,1,4−ベンゾオキサジ
シランが47%の収率で得られた。本化合物は文献に未
収載の新規化合物であり、そのスペクトルデータは以下
の通りであった。 1.1,4.4−テトラメチル−3−ヘキシル−21,
4−ベンゾオキサジシラン 沸点95−105℃/ 0.5mmHg (クーゲル
ロール)’H−NMR(CDCIm) :67.55−
7.34 (4H,ml、 3.80−3.70(1)
1.m)、 1.8−1.5 (4H,m)、 1.5
−1.15 (6H,br s)、0.9(3H,t
1ike)、 0.35 (3H,s)、 0.31
(3H,s)、 0.28(3H,s)、 0.2
5 (3H,s)13cmNMTh(cpcl、+ :
δ144.9.144.1.133.2.132.3
゜128.44.128.38.66.6.33.2.
31.9.29.1.26.6゜22.7.14.1.
0.2.−0.7.−4.1.−4.8GC−MS:3
06(M′″0.1)、 291(M−15,0,1
)、 193(100)工R:第2図 実施例5 Pt(CH2=CH−) (PPh−) 2の代わりに
Pt(dba)2を用いて実施例4と同様に80℃にて
1時間反応を行った。反応後1.1,4.4−テトラメ
チル−3−ヘキシル−2゜1.4−ベンゾオキサジシラ
ンが91%の収率で得られた。 実施例6 ベンズアルデヒドの代わりにn−ヘキサナールを用い、
温度を80℃にして実施例1と同様に17時間反応を行
った。反応後濃縮し、蒸留すると1.1,4.4−テト
ラメチル−3−ベンチルー2.1.4−ベンゾオキサジ
シランが52%の収率で得られた。本化合物は文献に未
収載の新規化合物であり、そのスペクトルデータは以下
の通りであった。 1.1,4.4−テトラメチル−3−ベンチルー2゜1
.4−ベンゾオキサジシラン ’H−NMR(CDC1a) :δ 7.55−7.3
4 (4H,m)、 3.80−3.70(LH,m)
、 1.8−1.5 (4N、m)、 1.5−1.1
5 (4H,br s)0.9 (3H,t 1ik
e)、 0.35 (3H,s)、 0.31
(3H,s)0.28 (3H,s)、 0.2
5 (3H,s)実施例7 Pt(CH2=CHi) (PPhs)zの代わりにP
t(dba)zを用いて実施例6と同様に80℃にて1
6時間反応を行った。反応後1.1,4.4−テトラメ
チル−3−へキシル−2゜1.4−ベンゾオキサジシラ
ンが71%の収率で得られた。 実施例8 ベンズアルデヒドの代わりにトランス−シンナムアルデ
ヒドを用い、温度を110℃にして実施例1と同様に1
2時間反応を行った。反応後濃縮し、蒸留すると1゜1
.4.4−テトラメチル−3−(トランス−2−フェニ
ルエチニル)−2,1,4−ベンゾオキサジシランが8
0%の収率で得られた。本化合物は文献に未収載の新規
化合物であり、そのスペクトルデータは以下の通りであ
った。 1.1,4.4−テトラメチル−3−(トランス−2−
フェニルエチニル)−2,1,4−ベンゾオキサジシラ
ン 沸点145−150℃70.4mmHg (クーゲル
ロール)H−NMR((:DC13) :67.46−
7.11 (9H,m)、 6.53 (IH,
dd。 J=15.8. 1.4Hz)、 6.25(LH,
dd、 J:15.8. 5.5Hz)4.56(I
H,dd、J=5.5. 1.4Hz)、 0.34
(3H,s)、 0.30(3H,s)、 0.
27 (3H,s)、 0.13 (3H,s)3
C−NMR(CDC1g ) : 6144.5.
143.5. 137.7゜133.2. 132.5
. 129.7. 128.7. 128.6. 12
8.4126.7. 126、l、 126.0.
68.9. 0.2. −0.5. −4.8GC−M
S; 324(M”、51)、 193(37)、
115(100)工R;第3図 実施例9 Pt(C:H*=CH2) (PPhs) 2の代わり
にPt(dba)zを用いて実施例6と同様に110℃
にて12時間反応を行った。反応後1,1,4.4−テ
トラメチル−3−(トランス−2−フェニルエチニル)
−2,1,4−ベンゾオキサジシランが8%の収率で得
られた。」 (7)同書第18頁第9行目の次に改行して下記の記載
を加入する。 「第2図は、本発明の実施例により合成した。1,14
.4−テトラメチル−3−へキシル−2,1,4−ベン
ゾオキサジシランの赤外吸収スペクトルを液膜法で測定
したものであり、縦軸は透過率(%)であり、横軸は波
数(cm−’)である。 第3図は、本発明の実施例により合成した1、1゜4.
4−テトラメチル−3−(トランス−2−フェニルエチ
ニル)−2,1,4−ベンゾオキサジシランの赤外吸収
スペクトルを液膜法で測定したものであり、縦軸は透過
率(%)であり、横軸は波数(cm−’)である。](
8)図面として第2図、第3図を追加する。
Claims (2)
- (1)(a)一般式HR^1R^2Si−Y−SiR^
3R^4H(但し式中、Yは2価の有機基、酸素原子、
窒素原子、硫黄原子を表し、R^1、R^2、R^3及
びR^4は1価の有機基、またはハロゲン原子、または
水素原子を表す)で表されるヒドロシラン類と (b)一般式R^5CHO (但し式中、R^5は1価の有機基を表す)で表される
アルデヒド類を、 (c)白金、パラジウム、ニッケルの中から選ばれる遷
移金属錯体の存在下に、反応させることを特徴とする、 一般式R^1R^2Si−R^5CH−O−SiR^3
R^4−Y(但し式中、R^1、R^2、R^3、R^
4、R^5及びYはそれぞれ前述のとおり)で表される
1−シロキシ−1−シリルメタン誘導体の製造方法。 - (2)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (但し式中、R^7、R^8、R^9、R^1^0、R
^1^1、R^1^2、R^1^3及びR^1^4は炭
素数1〜15の有機基、水素原子、ハロゲン原子の中か
ら、 R^1^5は炭素数1〜15の有機基の中から選ぶこと
ができる)で表される1−シロキシ−1−シリルメタン
誘導体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2057276A JPH07113035B2 (ja) | 1990-03-08 | 1990-03-08 | 1―シロキシ―1―シリルメタン誘導体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2057276A JPH07113035B2 (ja) | 1990-03-08 | 1990-03-08 | 1―シロキシ―1―シリルメタン誘導体及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03258792A true JPH03258792A (ja) | 1991-11-19 |
| JPH07113035B2 JPH07113035B2 (ja) | 1995-12-06 |
Family
ID=13051016
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2057276A Expired - Lifetime JPH07113035B2 (ja) | 1990-03-08 | 1990-03-08 | 1―シロキシ―1―シリルメタン誘導体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07113035B2 (ja) |
-
1990
- 1990-03-08 JP JP2057276A patent/JPH07113035B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07113035B2 (ja) | 1995-12-06 |
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