JPH03258976A - 真空装置における真空の再生方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野コ この発明は、真空装置における真空の再生方法に関する
ものである。

［従来の技術］ 従来は、低温トラップした分子を脱ガスするためには、
再生と呼ばれるトラップ部の温度を常温に戻した後、ト
ラップした分子を含むガスを大気中に排気し、その後に
再度真空引きしてクールダウンするという経過をたどっ
て行なわれていた。

次にその作用について説明する。

低温トラップされた分子は定期的に大気の常温に戻した
後、トラップされた分子を排気しなければならない、こ
のためには、低温化するための各機器の動作を一旦停止
させた後、トラップされた分子を含むガスを温度上昇さ
せて常温とし、このトラップされている分子を昇華させ
、この昇華した分子を含むガスを大気中に排気させるこ
とにより行なっている。

［発明が解決しようとする課題］ 従来の真空装置における真空の再生は、以上のようにし
て行なわれているので、常温まで温度の上昇及び再生後
の温度降下が必要となり、また、真空にされる装置内が
大気にされると共に再度真空引きしなければならず、従
って、再生時間も長時間を要し、更に、上記装置内が大
気に曝され°ることによって装置内が汚染されるという
問題点を有していた。

この発明は、上記のような問題点を解決することを課題
とするもので、装置内の温度を常温にまで上昇させるこ
となく、かつ、大気圧にする必要もなく、更に、大気に
曝されないようにして、再生時間を非常に少なくでき、
かつ、クリーンな真空状態を効率よく保つことのできる
真空装置における真空の再生方法を得ることを目的とす
る。

［課題を解決するための手段］ この発明に係る真空装置における真空の再生方法は、低
温分子トラップを生ずる部分を真空状態を維持した状態
で、内部の上記分子トラップが昇華する温度にまで温度
上昇させた後、昇華した分子トラップを含むガスを排気
することによって行なうようにしたものである。

［作　用］ この発明における真空装置における真空の再生方法は、
真空状態を保ちながら、分子トラップの昇華する温度ま
で昇温させた後、昇華した分子トラップを含むガスを排
気して、真空を再生しているので、温度を常温まで下げ
る必要がなく、また、大気圧に昇圧する必要もなく、更
に、大気状態にしないので装置内が汚染することもない
。

［実施例コ 以下、この発明をその一実施例を示す図に基づいて説明
する。

第１図において、符号（１）は分子トラ・ノブを生ずる
部分、例えば、高真空室（２）中に設けられているコー
ルドトラップ、（３）は高真空ポンプ例えばターボ分子
ポンプ、（４）は高真空室（２）とプロセスチャンバー
（５）とを分離しているアイソレーションバルブＡ、（
６）は、アイソレーションバルブＢ（７）を介して、プ
ロセスチャンバー（５）に接続しているロードチャンバ
ー、（８）はメカニカルブースタポンプ（８ａ〉及びロ
ータリポンプ（８ｂ）を備えているポンプ室、（９）は
バイパスバルブであり、（１０）はベントバルブである
。

次に上記実施例の作用を説明する。

従来のコールドトラップ再生方法では、高真空室（２）
、プロセスチャンバー（５）及びロードチャンバー（６
）を大気圧に戻すと共に、大気温度に昇温させた後、ト
ラップした分子を大気中に放出し、再度温度降下及び真
空引きして真空を再生しており、このために、真空室は
汚染されていた。

しかし、この発明の再生方法は、アイソレーションバル
ブＡ（４）を閉じたまま、高真空室（２）中の分子トラ
ップが気体となる昇華温度にまで、コールドトラップ（
１）の温度を徐々に上昇させた後、ターボ分子ポンプ（
３）を駆動して高真空室（２）中のガスを排気する。

このようにして、高真空室（２）中の分子トラップは除
去され、真空は再生される。

次いで、真空引きして高真空室（２）内を所定の真空に
すると共に、温度を低下させる。

なお、上記実施例では、低温分子ドラッグ形真空排気装
置におけるコールドトラップの再生方法を示したが、同
じ低温分子トラップ形真空排気装置であるクライオポン
プなとの再生に、上記実施例と同じように、ドライ形の
高真空ポンプを用いて行なうこともできる。

また、同じ装置あるいはチャンバーに、上記ドライ形の
高真空ポンプが設けられていれば、新設することもなく
、実施することができることもある。

また、第２図は再生専用ポンプとしてクライオポンプ（
１１）及びドラッグポンプ（１２）が設けられている場
合の一例を示し、第３図はチャンバーにターボ分子ポン
プ（３）とクライオポンプ（１１）とを接続して再生用
とプロセス用に共用させている場合の一例を示し、更に
、第４図はチャンバーをアイソレーションバルブを介し
て接続し、ターボ分子ポンプ（３）及びクライオポンプ
（１■）をそれぞれに配設している場合の一例を示した
もので、上記実施例と同様に構成し作用させることがで
きる。

［発明の効果］ 以上のように、この発明によれば、真空装置における真
空の再生方法を分子トラップを生ずる部分を真空状態に
維持した状態で、内部の上記分子トラップが昇華する温
度に昇温させた後、昇華した分子トラップを含むガスを
排気するように構成しているので、真空部分は大気に曝
されることがなく、従って、真空部分は汚染されること
もなく、また、常温まで温度を上げないので、再生時間
も短時間で実施することができると共に、はぼ完全にト
ラップした分子を出しきることができ、従って、再立上
がり時間が短く、更に、内部が大気により曝されないの
で、内部は汚染されない真空装置における真空の再生方
法が得られる効果を有している。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施要領を説明するための真空装
置の概略構成図、第２図〜第４図はこの発明が適用され
る３種類の要部構成図である。 （１）・・・コールドトラップ、（２）・・・高真空室
、（３）高真空ポンプ（ターボ分子ポンプ）　、（４）
・・・アイソレーションバルブ人、（８〉・・・ポンプ
室。 なお、各図中、同一符号は同−又は相当部分を示す６ −　　Ｎ（”ｌ　＼ＴＣＤ 代　理　人　　　曽　　我　　道　　照手 続 補 正 書 事件の表示 特願平２−５４９６５号 発明の名称 真空装置における真空の再生方法 補正をする者 ＄件との関係　　特許出願人 住　所　　　　　東京都千代田区丸の内二丁目２番３号
名　称　　（６０１）三Ｉ！電機株式会社代表者　志岐
守哉

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 真空装置における分子トラップを生ずる部分を、真空状
   態を維持した状態で、内部の上記分子トラップが昇華す
   る温度に昇温させた後、昇華した分子トラップを含むガ
   スを排気することを特徴とする真空装置における真空の
   再生方法。